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ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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富士フイルム株式会社 |
ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物に用いられる高分子化合物、該高分子化合物の製造方法及びポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法
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富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられる多重現像用ポジ型レジスト組成物、該パターン形成方法に用いられるネガ現像用現像液及び該パターン形成方法に用いられるネガ現像用リンス液
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(ja)
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レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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Positive resist composition and pattern forming method using the same
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Positive resist composition and pattern forming method
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富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
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2007-03-30 |
2012-10-03 |
富士フイルム株式会社 |
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
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(de)
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2007-04-13 |
2009-06-24 |
FUJIFILM Corporation |
Strukturformungsverfahren, in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende Harzzusammensetzung, in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende negative Entwicklungslösung und in dem Strukturformungsverfahren zu verwendende Spüllösung
|
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JP4562784B2
(ja)
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2007-04-13 |
2010-10-13 |
富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法、該パターン形成方法に用いられるレジスト組成物、現像液及びリンス液
|
|
JP4617337B2
(ja)
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2007-06-12 |
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富士フイルム株式会社 |
パターン形成方法
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パターン形成方法
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パターン形成用表面処理剤、及び該処理剤を用いたパターン形成方法
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ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
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電子線、x線又はeuv用レジスト組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法
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含新穎化合物之光阻組成物、使用該光阻組成物之圖案形成方法、及新穎化合物
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Positiv arbeitende resistzusammensetzung und strukturbildungsverfahren mit der positiv arbeitenden resistzusammensetzung
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(ja)
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2007-09-21 |
2014-03-19 |
富士フイルム株式会社 |
感光性組成物、該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び該感光性組成物に用いられる化合物
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JP4911469B2
(ja)
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2007-09-28 |
2012-04-04 |
富士フイルム株式会社 |
レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
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2007-11-14 |
2009-06-04 |
Fujifilm Corp |
トップコート組成物、それを用いたアルカリ現像液可溶性トップコート膜及びそれを用いたパターン形成方法
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JP5150296B2
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電子線、x線またはeuv用ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法
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Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, pattern forming method using the same, polymerizable compound and polymer compound obtained by polymerizing the polymerizable compound
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感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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2008-06-30 |
2013-07-24 |
富士フイルム株式会社 |
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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(ja)
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富士フイルム株式会社 |
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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JP5106285B2
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2012-12-26 |
富士フイルム株式会社 |
光硬化性組成物、インク組成物、及び該インク組成物を用いたインクジェット記録方法
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JP5277128B2
(ja)
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2008-09-26 |
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液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法
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후지필름 가부시키가이샤 |
감활성광선성 또는 감방사선성 수지 조성물 및 그 조성물을 이용한 패턴 형성 방법
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2008-12-12 |
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Polymerisierbare Verbindung, lactonhaltige Verbindung, Verfahren zur Herstellung der lactonhaltigen Verbindung und durch Polymerisierung der polymerisierbaren Verbindung erhaltene Polymerverbindung
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JP5377172B2
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2009-03-31 |
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富士フイルム株式会社 |
感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物及びそれを用いたパターン形成方法
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EP2447773B1
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Musterherstellungsverfahren, Verfahren zur Herstellung einer MEMS-Struktur, Verwendung eines gehärteten Films aus lichtempfindlicher Harzzusammensetzung als Opferschicht oder als Komponente einer MEMS-Struktur
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樹脂パターン及びその製造方法、mems構造体の製造方法、半導体素子の製造方法、並びに、メッキパターン製造方法
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미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 |
레지스트 조성물, 레지스트 패턴 형성방법, 이에 이용되는 폴리페놀 화합물 및 이로부터 유도될 수 있는 알코올 화합물
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KR102004692B1
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미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 |
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环状化合物、其制造方法、辐射敏感组合物及抗蚀图案形成方法
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化学増幅型レジスト膜のパターニング用有機系処理液の収容容器、並びに、これらを使用したパターン形成方法及び電子デバイスの製造方法
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三菱瓦斯化学株式会社 |
抗蚀剂组合物、抗蚀图案形成方法和用于其的多元酚衍生物
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2013-06-07 |
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미쯔비시 가스 케미칼 컴파니, 인코포레이티드 |
레지스트 조성물
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ポリイミド
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후지필름 일렉트로닉 머티리얼스 유.에스.에이., 아이엔씨. |
스트리핑 공정
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学校法人关西大学 |
化合物、包含化合物的抗蚀剂组合物和使用其的图案形成方法
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(zh)
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2017-03-31 |
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學校法人關西大學 |
阻劑組成物及使用其之圖型形成方法,以及化合物及樹脂
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膜形成材料、リソグラフィー用膜形成用組成物、光学部品形成用材料、レジスト組成物、レジストパターン形成方法、レジスト用永久膜、感放射線性組成物、アモルファス膜の製造方法、リソグラフィー用下層膜形成材料、リソグラフィー用下層膜形成用組成物、リソグラフィー用下層膜の製造方法及び回路パターン形成方法
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(ja)
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2017-09-11 |
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フジフイルム エレクトロニック マテリアルズ ユー.エス.エー., インコーポレイテッド |
誘電フィルム形成用組成物
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2017-09-29 |
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学校法人 関西大学 |
リソグラフィー用組成物、パターン形成方法、及び化合物
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感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、感活性光線性又は感放射線性膜、パターン形成方法、電子デバイスの製造方法、フォトマスク製造用感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物、及びフォトマスクの製造方法
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2023-09-13 |
FUJIFILM Corporation |
Gegenüber aktinischen strahlen oder strahlung empfindliche harzzusammensetzung, gegenüber aktinischen strahlen oder strahlung empfindlicher film, verfahren zur formung eines musters und verfahren zur herstellung einer elektronischen vorrichtung
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TW202209548A
(zh)
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2020-08-27 |
2022-03-01 |
日商富士軟片股份有限公司 |
經加工的基材的製造方法、半導體元件的製造方法、及暫時黏合劑層形成用組成物
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WO2022050313A1
(ja)
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2020-09-04 |
2022-03-10 |
富士フイルム株式会社 |
有機層パターンの製造方法、及び、半導体デバイスの製造方法
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