JPS58105143A - ポジ型フオトレジスト組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 物に関するものである。さらに詳しく言えば、本発明は
、０−キノンジアジド系感元剤とアルカリ可溶性フェノ
ール樹脂とを、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、
エチルセロソルブおよびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド
がら選はれた少くとも１つを溶剤として用い、さらにフ
ッ素系界面活性剤を配合してなることを特徴とする新規
な０−キノンジアジＦ糸ボジ型フォトレンスト組成物を
提供するものである。

ボン型フォトレジヌトはネガ型フォトレンヌトに比べ畠
解像度である為ＩＣ，Ｔ．ＳＩ等の微細加工を必賛とす
る部分のフオトエソチングプロセスの耐エツチング皮膜
として使用されており、さらに今後の超ＬＳＩ製造工程
におけるフォトエツチング用レジストとして期待されて
いる。

“　しかしながら、従来のポ゛ジ型フォトレジストは、
スピンナーによる塗膜形成時に塗膜表面に放射線状の縞
が発生するという問題点があった。

この塗膜表面の放射線状の縞はストリエーショ／と呼ば
れているが、このストリエーションを顕微鏡およびタリ
ステップ等で鈎べると、レジスト膜表面は小さな塗布ム
ラとなっており、レジスト膜厚にして４００〜６００λ
の差が生じていることがわかる。

また、このストリエーションは現＋ｓ後，いっそう大き
くなり、そのためボ′ジ型フォトレジストのパターンの
直線性およびパターンの再現性は悪くなる。

本発明者らは、ストリエーションの発生の極めて少ない
ポジ型フォトレジストヲ提供することを目的として研死
を重ねた結果、特定の溶剤とフッ素系界面活性剤との組
合せ使用によりストリエーションが改善される事実を見
い出した。

本発明はかかる知見に基づくものである。

ボン型フォトレンスト組成物の溶剤としては通常、酢酸
セロソルブ、６酸−ｎ−ブチル、メチルセロソルブ、エ
チルセロソルブ、ジオキサン、Ｎ、Ｎ−ンメチルホルム
アミド、キシレン、メチルエチルケトン、テトラヒドロ
フランなどが混合使用されているか、本発明の組成物に
用いられる溶剤は、／クロヘキサノン、メチルセロソル
ブ、エチルセロソルブ、Ｎ、Ｎ　−）メチルホルムアミ
ドの中から選ばれる少なくとも１つ剤の例としては、Ｆ
ｃ−４３０、Ｆｃ−４３１（フロロケミカル−庄友スリ
ーエム製）などがあり、これら界面活性剤の使用量は広
範囲にわたって使用可能であるが、過剰に使用するとか
えってレジスト表１ｆＩｉ全不均一にするので、固型分
に灯して００１〜１．０ｗｔ％程度の量で加えるのが望
ましい。

これらフッ素系界面活性剤の添加により、ボン型フォト
レジストの特性および基板との密着性は何ら変化しない
事実が見出された。

次に、実施例をあげて本発明の詳細な説明するが本発明
はこれのみに限定されるものではない。

実施例　１ ０−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとｍ−
クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂との縮合物
１０２、ｍ−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹
脂３０ｆＩ′ｆｒ：メチルセロソルブ６０２に溶解し、
さらにＨｃ−４３０（フロロケミカル−住友スリーエム
Ｖ）ｋｏ２ｒ（固型分に対して０．５ｗｔ％）添加した
感光液を調製し、５ｉｏ２／ｓｉウエハー上にスピンナ
ーにより塗膜を形成した。塗膜形成後ホットプレート上
で８５０．１０分間プレベークして、レジスト膜表面を
調べたところ、放射線状の縞すなわちストリエーション
は見られなかった。

さらに露光、現像後のレジスト膜表面のストリエーショ
ンも見られなかった。

実施ＩＰｉｌ　　２ ０−ナフトキノンジアジドスルホニルクロライドとｍ−
クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂との縮合物
１０９．ｍ−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹
脂３０ｆ’ｔメチルセロツルー１ｂｏｙに溶解し、さら
にＦｃ−４３０（フロロケミカル−住友スリーエム製）
　ｔ−０，０２ｆ（固型分に対してｏ０５　ｗｔチ）添
加した感光液をｗ４裂し、実施例１と同様の操作を行な
いストリエーションを−ベた結果、現像前後ともにスト
リエーションは見られなかった。

実施例　３ ５．５′−メチレン−ヒス−サリチルアルデヒドとｏ−
フェニレンジアミンのｌ縮合物と。−ナ　５− フトキノンシアジドスルホニルクロライドとの縮合物５
２、ｍ−クレゾールホルムアルデヒドノボラック樹脂１
０　ｆ　’ｉ　］）ＭＦ　２５　ｆ　、エチルセロソル
ブ２５２、キシレン５ｆの混合溶剤に溶解し、さらＶＣ
Ｆｃ−４３０ｋ　０．０１５　？　（固型分に対して０
．１　ｗｔ％）添加した感″Ｊｔ、液を調製し、実施例
１と同様の操作後ス）　ＩＪエニーョンを調べた結果、
ストリエーションは、はとんど見られなかった。

実施例　４ ５．５′−メチレン−ビス−サリチルアルデヒドとＯ−
フェニレンジアミンの重縮合物と０−ナフトキノンジア
ジドスルホニルクロライドとの縮合物５１．ｍ−クレゾ
ールホルムアルデヒドノボラック樹脂１０りｉＤＭＦ２
！Ｍ、エチルセロソルブ２５ｔ、キシレン５ｆの混合溶
剤に溶解し、さらにＦｃ−４３１ｋ　０．０７５ｆ　（
固型分に対して０．５　ｗｔ％）添加した感光液を＃ｌ
製し、実施例１と同様の操作後ス）　ＩＪエーションヲ
調べた結果、ストリエーションは、はとんど見られなか
　６− つた。

本発明の組成物により得られるレジスト膜表面を、タリ
ステップ（テーラーホブンン社製）で走査した結果、比
較対照品（市販品）を用いて得られるボ、；型フォトレ
ジスト膜の場合と比べ、市販品の場合がス）　ＩＪエニ
ーョンが著シく見られるのに対し、本発明の組成物によ
って得られるレジスト膜表面には、ストリニルジョンが
見られないことが確認された。

特許出願人　関東化学株式会社 代理人　弁理土用　孝夫 　７−

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. ０−キノンジアンド系感光剤とアルカリ可溶性フェノー
   ル樹脂とを、シクロヘキサノン、メチルセロソルブ、エ
   チルセロソルブおよ０：Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド
   から選ばれた少くとも１つを溶剤の主成分として用い、
   さらにフッ素系界面活性剤を配合してなること全特徴と
   する０−キノンジアジＦ糸ポジ型フォトレジスト利成物
   。