JPH0568744B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、透明基板の表面上に形成された透明
導電膜パターンの画像認識方法に関するものであ
る。

〔従来の技術〕

液晶、エレクトロルミネセンス（EL）を使用
した表示デバイス等においては、ガラス基板等の
透明基板の表面に透明電極を形成した基板が使用
される。この透明電極としてITO膜（インジウ
ム・テイン・オキサイド膜）等の透明導電膜をフ
オトリソグラフイーによつてパターン形成したも
のが使用されている。このフオトリソグラフイー
における露光工程では、マスクフイルムまたはガ
ラスマスク等の原稿画像パターンとITO膜を形成
しフオトレジストをコートしたガラス基板との位
置合せの際に、いわゆるトンボ合せ（位置合せマ
ークの照合）が行われ、このとき予めガラス基板
表面上に透明導電膜によつて位置合せ用のアライ
メントマークを形成しておいて、これを電気信号
的に画像認識することにより、トンボ合せを行う
方法が行われている。

従来における画像認識方法としては、第３図に
示すように透明基板２の表面側、即ち原稿画像パ
ターン１１の上から照明をしその反射光によつて
行つていた。第４図はその電気的に変換された識
別画像のコントラストを示すグラフである。

さらに、他の従来の画像認識方法としては、
ITO膜とガラス基板表面に断差があり、フオトレ
ジストをコートしてもその断差に変わりないこと
を利用して、コヒレントな単色光（可干渉光）を
照射することによりこの断差部分による光の位相
ズレ等からITO膜のパターンの画像認識を行つて
いた。

〔発明が解決しようとする問題点〕

しかしながら、上記透明基板の表面側から照明
し画像認識する方法においては、透明基板、特に
透明ガラス基板２と透明導電膜、特にITO膜１と
は、透過特性、反射特性、屈折特性が非常に類似
し透明に見えるため、透明導電膜面と透明ガラス
基板表面の区別が限界状態にあるところに加え
て、基板表面のほぼ全面にコートされたフオトレ
ジスト３の光吸収特性とフオトレジスト表面が平
坦でないことから来る反射光の散乱のために、第
４図のグラフに示すように明暗レベルを64階調で
示した場合においてITO膜パターンとガラス基板
の明暗差が１ビツト程度というようにノイズ成分
レベルとなつてしまい、画像認識が極めて困難で
あるという問題点があつた。

さらに、従来の可干渉光を使用する透明導電膜
パターンの画像認識方法では、やや認識の信頼性
は向上するものの、コヒレントな単色光を使用
し、位相ズレを検出するなど装置が複雑化し高価
であるという問題点や、その検出にも長い時間を
要するという問題点があつた。

本発明は上記の問題点を解決するためのもので
あり、安価に、高速に、かつ安定に透明基板上の
透明導電膜パターンの認識ができる画像認識方法
を提供することを目的とする。

〔問題点を解決するための手段〕

本発明の上記目的を達成するための手段は、透
明基板の表面に形成された透明導電膜パターンを
画像認識する方法において、前記透明基板の裏面
から照明を行いその照明の反射光により画像認識
を行うことである。

上記画像認識において、透明導電膜パターンと
ともに、露光に使用する原稿画像パターンを同時
に画像認識することも可能である。

〔作用〕

本発明は透明基板の裏面から照明を行い、その
反射光によつて画像認識を行うので、表面のフオ
トレジストの影響を受けずに安定に画像認識を行
うことができる。前述のように透明基板と透明導
電膜とは反射特性等が近似しているが、フオトレ
ジストの影響がなければ必要十分な画像認識が可
能であり、また原稿画像パターンとの識別もその
コントラストが大きいので可能である。従つて、
用いる照明は通常の可視光で十分であり、イメー
ジセンサ等による普通の画像認識ができるので、
安価でかつ高速な画像認識方法を提供できる。

〔実施例〕

以下に本発明の一実施例を図面に基づいて詳細
に説明する。

第１図は、本発明の一実施例の説明図である。
位置合せのため画像認識すべきITO膜パターン１
が透明なガラス基板２の表面に形成されており、
フオトリソグラフイーにおける露光のため紫外線
露光に対し感光硬化性を有するフオトレジスト３
がITO膜の上から一様にコートされている。ガラ
ス基板２はその露光のためにその裏面をワーク定
盤４に真空吸着等によつて固定される。このワー
ク定盤４において、前記の位置合せ用のITO膜パ
ターン１の下方には顕微鏡カメラ５による撮像の
ために開口部４ａが設けられる。顕微鏡カメラ５
は対物レンズ５ａと接眼レンズ５ｂ間にハーフミ
ラー６を有し、側方の照明光源７から観測皮光軸
と同軸に観測面に可視光の照明を与える（同軸落
射照明方式）。観測面からの反射光は直進して撮
像素子８に結像し、電気信号に変換される。この
電気信号はアンプ９で増幅等の処理がなされた
後、Ａ／Ｄコンバータ１０によつて画像の明暗レ
ベルを示すデジタル値（例えば64階調）に変換さ
れる。ガラス基板２の上方には露光に使用するガ
ラスマスク１１があり、原稿画像パターンがアラ
イメントマークとともにクロム膜１１ａとして蒸
着され形成されている。

第２図は上記実施例において得られた画像の明
暗レベルを示すグラフである。照明の明るさを適
切に調整することにより、ガラス基板２からの反
射光の明暗レベルとITO膜パターン１からの反
射光の明暗レベルとはフオトレジスト３を通さ
ないので、上記のデジタル値において２〜３ビツ
ト以上のコントラストが得られる。ノイズ成分の
レベルは通常１ビツト以下に押えられので、ITO
膜パターン１の画像認識は充分可能となる。ま
た、ガラスマスクのパターンの明暗レベルはガ
ラス基板２およびフオトレジスト３を通して観測
することになるが、そもそもガラスマスクのパタ
ーンはコントラストが大きいため問題なく同時認
識が可能である。

本発明は上記実施例に限るものではなく、本発
明の主旨に沿つて種々の応用と実施態様を取り得
るものである。例えば透明基板はガラス基板に限
るものではなく透明樹脂などであつても良いし、
透明導電膜もITO膜に限らず他の材料によるもの
でも良いことはもちろんのことである。また、本
発明の用途もいわゆるトンボ合せに限らず、製品
の検査などにも応用できる。

〔発明の効果〕

以上述べたように本発明によれば、フオトレジ
ストを通すことなく透明基板裏面から照明しその
表面上の透明導電膜パターンの画像認識を行うの
で、フオトレジスト中の光の吸収や散乱の影響
や、フオトレジストによる反射光と直接光の干渉
による撮像素子面上の結像の不安定性やコントラ
ストの低下を避けることができ、また可干渉光を
用いて画像認識を行う必要がなくなるので、安価
かつ高速に透明基板上の透明導電膜パターンの画
像認識を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の説明図、第２図は
実施例において得られた画像の明暗レベルを示す
グラフ、第３図は従来例の説明図、第４図は従来
例の画像の明暗レベルを示すグラフである。 １……ITO膜パターン（透明導電膜パターン）、
２……ガラス基板（透明基板）、５……顕微鏡カ
メラ、７……照明用光源、８……撮像素子、１１
……ガラスマスク（原稿画像パターン）。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 透明基板の表面に形成された透明導電膜パタ
   ーンを画像認識する方法において、 前記透明基板の裏面から照明を行い、 その照明の反射光により画像認識を行うことを
   特徴とする透明導電膜パターンの画像認識方法。 ２ 前記画像認識は透明導電膜パターンとともに
   露光に使用する原稿画像パターンとを同時に画像
   認識するものであることを特徴とする前記特許請
   求の範囲第１項に記載の透明導電膜パターンの画
   像認識方法。