JPH0579939U - 基板洗浄具 - Google Patents
基板洗浄具Info
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 基板に対して、その端面のみならず端面に近
い裏面に付着した塗布液の洗浄除去を一挙に行うことが
できる基板洗浄具を提供する。 【構成】 回転体24に大径のツバ部25を一体回転可
能に設け、ツバ部25の一方の面に基板裏面用摺接部2
6を設けるとともに、回転体24の基板裏面用摺接部2
6に近い外表面に基板端面用摺接部27を設け、角型基
板Wの端面に近い裏面に基板裏面用摺接部26を、か
つ、角型基板Wの端面に基板端面用摺接部27をそれぞ
れを摺接させ、角型基板Wの端面およびそれに近い裏面
に付着した塗布液を一挙に洗浄除去する。
い裏面に付着した塗布液の洗浄除去を一挙に行うことが
できる基板洗浄具を提供する。 【構成】 回転体24に大径のツバ部25を一体回転可
能に設け、ツバ部25の一方の面に基板裏面用摺接部2
6を設けるとともに、回転体24の基板裏面用摺接部2
6に近い外表面に基板端面用摺接部27を設け、角型基
板Wの端面に近い裏面に基板裏面用摺接部26を、か
つ、角型基板Wの端面に基板端面用摺接部27をそれぞ
れを摺接させ、角型基板Wの端面およびそれに近い裏面
に付着した塗布液を一挙に洗浄除去する。
Description
【0001】
本考案は、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板等の角 型基板や光ディスク基板のような丸型基板、オリエンテーションフラットが形成 されている半導体ウエハのような略丸型基板に対して、その端面側に付着したフ ォトレジストとかポリイミド樹脂とかカラーフィルタ材などの塗布液を洗浄除去 するために使用する基板洗浄具に関する。
【0002】
上述のような基板の表面に、基板を回転しながらフォトレジストとかポリイミ ド樹脂とかカラーフィルタ材などの各種塗布液を塗布する場合に、余剰の塗布液 は基板の回転によりその周端縁から振り切られるのであるが、塗布液が端面に付 着した状態で残存する問題があった。
【0003】 そこで、従来から、基板の端面に付着した塗布液を洗浄除去することが考えら れている。
【0004】 例えば、特公昭58−19350号公報には、回転塗布が終了した角型基板を 低速で回転させながら、その角型基板の端縁の下方から角型基板の裏面へ向けて 溶剤を吐出すると、遠心力により角型基板の端縁側に流れると、表面張力によっ て端面に回り込む作用によって、角型基板裏面と端面に付着の余剰塗布液を溶解 除去するように構成した装置が記載されている。
【0005】 また、特公平3−29474号公報には、角型基板をいわゆる立てた状態、つ まり、角型基板の面方向が鉛直方向になる状態で鉛直方向に搬送する第1の搬送 路と、その第1の搬送路の搬送方向に直交するとともに角型基板の面方向と平行 な方向に搬送する第2の搬送路それぞれに、それぞれの搬送路の両側に沿うよう な配置で、対向する端面を洗浄する円筒型ブラシを設け、角型基板の搬送に伴っ てその4辺の端面を洗浄するとともに、基板の表裏両面をブラシで挟んで基板の 表裏両面を洗浄するように構成した装置が記載されている。
【0006】
しかしながら、前者の特公昭58−19350号公報に記載の装置では、基板 表面にも溶剤が回り込む現象が見られ、基板表面の端縁寄りにて塗布液の膜が溶 剤を含んで膨潤し、膜質を損なう虞がある。また、角型基板に適用した場合、特 に縦横比の大きな角型基板の場合に、角型基板のコーナ部に到達する溶剤の量が 他端縁部分よりも少なくなり、そのコーナ部では溶剤が端面へ回り込みにくく、 コーナ部では余剰塗布液を十分に溶解除去できない欠点があった。
【0007】 また、後者の特公平3−29474号公報に記載の装置は、研磨工程の仕上げ 工程として基板を洗浄するのに使用する装置であるため、基板の全面を洗浄する べくブラシで基板を両側から挟むようにして構成してあるので、表面に塗布液の 薄膜が形成された基板に対するように、基板表面を摺接することなく、裏面に付 着の余剰塗布液を除去することは困難であった。
【0008】 本考案は、このような事情に鑑みてなされたものであって、角型基板に対して 、その端面のみならず端面に近い端縁寄りの裏面に付着した塗布液の洗浄除去を 一挙に行うことができる基板洗浄具を提供することを目的とする。
【0009】
本考案は、上述のような目的を達成するために、表面に塗布液の薄膜が形成さ れ、水平に支持された基板端縁に対し、自転しながら摺接することによって、基 板の端縁を洗浄する基板洗浄具において、回転体に大径のツバ部を一体回転可能 に設け、ツバ部の一方の面に基板裏面用摺接部を設けるとともに、回転体の基板 裏面用摺接部に近い外表面に基板端面用摺接部を設けて構成した基板洗浄具であ る。
【0010】
本考案の基板洗浄具の構成によれば、基板の端面に基板端面用摺接部を摺接さ せるとともに、端面に近い端縁寄りの裏面に基板裏面用摺接部を摺接させ、その 状態で回転体を回転させ、基板の端面および裏面それぞれに付着した塗布液を一 挙に洗浄除去することができる。
【0011】
次に、本考案の実施例を図面に基づいて詳細に説明する。
【0012】 図1は、本考案の第1実施例の基板洗浄具を用いた角型基板洗浄装置を示す一 部切欠側面図、図2は要部の斜視図であり、これらの図において、1は昇降可能 な基板保持手段を示し、角型基板Wを水平姿勢に載置するとともに真空吸着によ り保持する基板載置プレート1aと、その基板載置プレート1aを鉛直方向の第 1の軸芯P1周りで駆動回転する第1の電動モータ1bとから構成されている。
【0013】 角型基板Wの横側の下方に設けた支持台2に、一対のガイド3,3とエアーシ リンダ4とを介して、第1の軸芯P1に遠近する方向に移動可能に可動台5が設 けられ、その可動台5に、1本のガイド6と、正逆転可能な第2の電動モータ7 によって駆動されるベルト8とを介して、角型基板Wの外周端面に沿う方向に直 線的に移動可能に支持台9が設けられている。
【0014】 支持台9には、図3の要部の断面図に示すように、中空筒状の支柱10が立設 され、その支柱10に第1の支持部材11aが鉛直方向の第2の軸芯P2周りで 回転可能に内嵌されるとともに、第1の支持部材11aの上端に水平方向に張り 出すように第2の支持部材11bが一体連接され、その第2の支持部材11bの 先端側に、前記第2の軸芯P2とは偏位した鉛直方向の第3の軸芯P3周りで回 転可能に、基板洗浄具12の駆動軸13が設けられている。
【0015】 第1の支持部材11a内に回転可能に回転軸14が設けられ、この回転軸14 の上下それぞれに伝動プーリー15a,15bが一体的に取り付けられ、下側の 伝動プーリー15bと、可動台5に設けた第3の電動モータ16によって駆動回 転される主動プーリー17と、従動プーリー18とにわたって、張力を付与する ための第1のテンションプーリー19,19を介して第1の伝動ベルト20が巻 回され、一方、上側の伝動プーリー15aと、駆動軸13に一体回転可能に取り 付けた伝動プーリー21とにわたって、張力を付与するための第2のテンション プーリー22を介して第2の伝動ベルト23が巻回され、第2の電動モータ16 の動力伝達により基板洗浄具12を駆動回転するように構成されている。
【0016】 基板洗浄具12は、図3に示すように、駆動軸13に一体回転可能に取り付け られた回転体24に、大径のツバ部25を一体回転可能に設け、そのツバ部25 の上面に基板裏面用摺接部26を設けるとともに、ツバ部25の基板裏面用摺接 部26に近い位置で、回転体24の外表面に基板端面用摺接部27を設けて構成 されている。基板裏面用摺接部26および基板端面用摺接部27それぞれの表面 には耐溶剤製のフェルトが貼り付けられていて、そこに溶剤を滲み込ませた状態 で、図3、および図4の要部の平面図に示すように、角型基板Wの端面に基板端 面用摺接部27を、かつ、角型基板Wの端縁寄りの裏面に基板裏面用摺接部26 をそれぞれ摺接することにより、角型基板Wの端面およびそれに近い裏面それぞ れに付着した塗布液を一挙に洗浄除去できるようになっている。
【0017】 第1の支持部材11aの下端側に、図3、および、図5の要部の拡大断面図に 示すように、アーム部材28が一体的に取り付けられるとともにそのアーム部材 28に第1の支持ピン29が取り付けられ、一方、支持台9に一体的に取り付け られた支持ブラケット30の2箇所に第2の支持ピン31が取り付けられ、第1 の支持ピン29と第2の支持ピン31,31それぞれとにわたって付勢手段とし ての引っ張りスプリング32が取り付けられ、基板洗浄具12を第3の回転軸芯 P3周りで駆動自転しながら、角型基板Wの端面に沿わせて直線的に移動してい くときに、基板端面用摺接部27が角型基板Wの端面に摺接しない状態では、図 5の概略平面図に示すように、両引っ張りスプリング32,32の付勢力により 、第2の支持部材11bを移動方向に直交する姿勢になりながら、基板端面用摺 接部27が角型基板Wの端面に摺接するに伴い、図6の概略平面図に二点鎖線で 示すように、第1の支持部材11aの回転により第2の支持部材11bが基板洗 浄具12の移動方向後方側に揺動し、基板端面用摺接部27を一方の引っ張りス プリング32の付勢力により角型基板Wの端面に押圧しながら、基板端面用摺接 部27を第2の支持部材11bの移動方向において揺動軸芯P2よりも後方側で 角型基板Wの端面に摺接するようにならい機構が構成されている。逆方向に移動 するときには、第2の支持部材11bが図示の場合と逆方向に揺動しながら摺接 する。
【0018】 図中33は、基板洗浄具12の移動域の下方に設けた付着物回収容器を示し、 また、34は、基板洗浄具12を洗浄して新たに溶剤を滲み込ませる洗浄容器を 示している。
【0019】 以上の構成により、角型基板Wを搬入して基板保持手段1に所定の姿勢で保持 させた後、基板洗浄具12を角型基板Wのひとつの端面に沿わせて基板洗浄具1 2を回転(自転)させつつ直線的に往復移動し、角型基板Wの端面に基板端面用 摺接部27を、端縁寄りの裏面に基板裏面用摺接部26を、それぞれ摺接して角 型基板Wのひとつの端面とそれに近い裏面の付着物を洗浄除去する。
【0020】 その後に、基板保持手段1を90°回転するとともに、エアーシリンダ4を作動 して基板洗浄具12と角型基板Wの端面との相対距離を調整し、前述同様にして 角型基板Wの別のひとつの端面とそれに近い裏面の付着物を洗浄除去する。これ らの動作を繰り返すことにより、角型基板Wの4辺すべての端面とそれに近い裏 面の付着物を洗浄除去する。
【0021】 図7は、本考案の基板洗浄具の第2実施例を示す一部切欠側面図であり、ツバ 部25の上面に凹部35が形成され、その凹部35の小径側下端部から上方の回 転体24の外表面に基板端面用摺接部27を設け、一方、凹部35の大径側端部 から外方の上端面に基板裏面用摺接部26を設けて基板洗浄具が構成されている 。基板裏面用摺接部26および基板端面用摺接部27それぞれの表面には、前述 第1実施例と同様にフェルトが貼り付けられていて、角型基板Wの端面に基板端 面用摺接部27を、かつ、角型基板Wの端面側の裏面に基板裏面用摺接部26を それぞれ摺接することにより、角型基板Wの端面およびそれに近い裏面それぞれ に付着した塗布液を一挙に洗浄除去できるようになっている。
【0022】 図8は、本考案の基板洗浄具の第3実施例を示す一部切欠側面図であり、第1 実施例と異なるところは次の通りである。 すなわち、基板裏面用摺接部26および基板端面用摺接部27それぞれを構成 するのに、フェルトに代えて、ナイロン、モヘア等を材質とする毛36…が植設 されている。他の構成は第1実施例と同じであり、同一図番を付すことによって 説明は省略する。
【0023】 上記第1および第2実施例のフェルトや第3実施例の毛36…の植設構成に代 えて、例えば、多孔質のスポンジとか布を巻付けた物を用いても良い。
【0024】 上記実施例では、角型基板Wを回転する第1の軸芯P1に遠近する方向に基板 洗浄具12を移動可能に構成し、サイズの異なる角型基板Wや矩形状の角型基板 Wとか、更に、基板保持手段1による保持位置にズレがあったような場合にも良 好に対応できるように構成しているが、例えば、常に一定サイズの正方形の角型 基板Wを対象にする場合であれば、角型基板Wを回転する第1の軸芯P1に遠近 する方向に基板洗浄具12を移動させないものでも良い。
【0025】 また、上述実施例では、本考案に係る基板洗浄具を組み付けた角型基板洗浄装 置を、フォトレジスト等の塗布液の回転塗布装置とは別に専用に構成し、先に回 転塗布処理を終えた角型基板に対する洗浄処理をしている最中に、次の角型基板 を回転塗布処理できてスループットが向上できるように構成しているが、本考案 としては、回転塗布装置内に組み込み、回転塗布装置の基板保持手段を角型基板 洗浄装置の基板保持手段1に兼用するものでも良い。
【0026】 また、上述実施例では、本考案に係る基板洗浄具を使用する装置として、基板 洗浄具を角型基板の端縁に沿って直進移動するように構成した基板洗浄装置を使 用したが、それとは別の構成の基板洗浄装置に、本考案に係る基板洗浄具を使用 してもよい。 例えば、角型基板を水平回転可能に支持し、基板の回転軸に平行な軸を中心に 水平面内で揺動するアームの先端に、自転可能に、本考案に係る基板洗浄具を取 り付け、基板を回転させるに伴って、基板洗浄具が基板端縁をなぞるようにして 、基板端面および基板端縁寄りの基板裏面を摺接する構成の基板洗浄装置に使用 してもよく、表面に塗布液の薄膜が形成され、水平に支持された基板端縁に対し 、自転しながら摺接することによって、基板の端縁を洗浄する基板洗浄装置に使 用してもよく、本考案に係る基板洗浄具を使用する装置は、表面に塗布液の薄膜 が形成され基板を水平に支持し、その基板端縁に、基板洗浄具を自転しながら摺 接する装置であれば上述実施例の基板洗浄装置に限定しない。
【0027】 本考案としては、長方形状の角型基板Wに限らず、正方形状の角型基板を洗浄 する角型基板洗浄装置の基板洗浄具にも適用できる。
【0028】 また、本考案に係る基板洗浄具は、前記実施例のような角型基板だけでなく、 光ディスク基板のような丸型基板、オリエンテーションフラットが形成されてい る半導体ウエハのような略丸型の基板に対して、その基板端面および端縁よりの 基板裏面の洗浄にも使用できる。
【0029】
以上説明したように、本考案の基板洗浄具によれば、基板の端面および端縁寄 りの裏面それぞれに付着した塗布液を一挙に洗浄除去できるから、塗布液の洗浄 除去作業を極めて効率良く行うことができて生産性を向上できるようになった。
【提出日】平成4年5月11日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【0008】 本考案は、このような事情に鑑みてなされたものであって、基板に対して、そ の端面のみならず端面に近い端縁寄りの裏面に付着した塗布液の洗浄除去を一挙 に行うことができる基板洗浄具を提供することを目的とする。
【図1】本発明の第1実施例の基板洗浄具を用いた角型
基板洗浄装置を示す一部切欠側面図である。
基板洗浄装置を示す一部切欠側面図である。
【図2】要部の斜視図である。
【図3】要部の断面図である。
【図4】要部の平面図である。
【図5】要部の拡大断面図である。
【図6】要部の概略平面図である。
【図7】第2実施例の一部切欠側面図である。
【図8】第3実施例の一部切欠側面図である。
24…回転体 25…ツバ部 26…基板裏面用摺接部 27…基板端面用摺接部 W…基板
Claims (1)
- 【請求項1】 表面に塗布液の薄膜が形成され、水平に
支持された基板端縁に対し、自転しながら摺接すること
によって、基板の端縁を洗浄する基板洗浄具において、
回転体に大径のツバ部を一体回転可能に設け、前記ツバ
部の一方の面に基板裏面用摺接部を設けるとともに、前
記回転体の前記基板裏面用摺接部に近い外表面に基板端
面用摺接部を設けたことを特徴とする基板洗浄具。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2714492U JPH0579939U (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | 基板洗浄具 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2714492U JPH0579939U (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | 基板洗浄具 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0579939U true JPH0579939U (ja) | 1993-10-29 |
Family
ID=12212866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2714492U Pending JPH0579939U (ja) | 1992-03-30 | 1992-03-30 | 基板洗浄具 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0579939U (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006332185A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、及び基板処理方法 |
| US8356376B2 (en) | 2008-06-18 | 2013-01-22 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, and storage medium |
-
1992
- 1992-03-30 JP JP2714492U patent/JPH0579939U/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006332185A (ja) * | 2005-05-24 | 2006-12-07 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、及び基板処理方法 |
| US8356376B2 (en) | 2008-06-18 | 2013-01-22 | Tokyo Electron Limited | Substrate cleaning apparatus, substrate cleaning method, and storage medium |
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