JPH0581954A - ガス絶縁コンデンサ形ブツシングの製造方法 - Google Patents

ガス絶縁コンデンサ形ブツシングの製造方法

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Publication number
JPH0581954A
JPH0581954A JP24082291A JP24082291A JPH0581954A JP H0581954 A JPH0581954 A JP H0581954A JP 24082291 A JP24082291 A JP 24082291A JP 24082291 A JP24082291 A JP 24082291A JP H0581954 A JPH0581954 A JP H0581954A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
plastic film
wound
gas
type bushing
capacitor type
Prior art date
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Pending
Application number
JP24082291A
Other languages
English (en)
Inventor
Masaaki Mizutani
昌昭 水谷
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Toshiba Corp
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Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【目的】コンデンサコアの絶縁層内部の水分を確実に除
去し、長期的絶縁信頼性の向上を計った製造方法を得
る。 【構成】プラスチックフィルムを相対湿度60%以下で
プラスチックフィルムが巻回される時点で周囲温度が4
0〜80℃の範囲内の一定温度に成るような環境のもと
でイコライザ電極を巻き込みながら巻回する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は変圧器やガス絶縁密閉形
開閉装置等の比較的電圧の高い電気機器の口出しに用い
られるガス絶縁コンデンサ形ブッシング製造方法に関す
るものである。
【0002】
【従来の技術】電力用の変圧器やガス絶縁密閉形開閉装
置等の高電圧電気機器の口出しには中心導体の周囲にコ
ンデンサコアを形成したガス絶縁コンデンサ形ブッシン
グが用いられる場合がある。このガス絶縁コンデンサ形
ブッシングの一般的な構成としては通電々流を流す中心
導体と、この中心導体の周囲に被覆され、中心導体を大
地に対して絶縁する絶縁層、およびこれらを絶縁ガス等
の絶縁媒体と共に収納する碍管等の容器から成ってい
る。
【0003】このガス絶縁コンデンサ形ブッシングの具
体的な構造を図3に示す。中心導体1の周囲に絶縁紙、
またプラスチックフィルム等の比較的薄い絶縁物を巻回
して絶縁層2を形成し、この絶縁層2内にはフルミ箔等
の薄い金属箔を同時に巻き込み、イコライザ電極として
コンデンサコア4を構成する。このコンデンサコア4の
軸方向中間部の外周にはフランジ5aを備えた支持金具
5が嵌装される。この支持金具5の上部側には中心導体
1及びコンデンサコア4を覆うように上部碍管6が固定
され、この上部碍管6の上端部には蓋板7が固定されて
いる。同時に支持金具5の下端部側にも中心導体1及び
コンデンサコア4を覆うように下部碍管8が固定され、
この下部碍管8の下端部には下部クランプが取り付けら
れ、この下部クランプ9に中心導体1の一端が固定され
る。中心導体1の他端部はガスケット(図示せず)を介
して蓋板7を貫通し大気に引き出されている。これら支
持金具5、上部、下部碍管6,8のの構成部品の接合に
はガスケット(図示せず)が介在されていて密閉容器1
1を構成しており、この容器11の内部にSF6ガス等
の絶縁媒体10が充填される。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところで、このような
構成のガス絶縁コンデンサ形ブッシングは、絶縁体力を
長期的に保持させるためには十分に乾燥させ、絶縁層2
内部の水分を完全に除去させる必要がある。このことか
ら例えば特開昭60−138808号公報に示されるよ
うに、このようなブッシングを完全に組み立てた後にブ
ッシング全体を乾燥タンク内に入れて、真空引きにより
絶縁層2内部の水分を除去した後絶縁ガスを封入し、絶
縁層2内部に絶縁ガス10を含浸させる手段がとられて
いる。
【0005】しかしながら、このようなブッシングが更
に高電圧化、大形化するに伴い絶縁層2の巻厚が厚く、
巻幅も長くなるため絶縁層中の水分を完全に除去するに
は長時間を要し、製造が面倒で、かつ高価に成る欠点が
あった。
【0006】一方、コンデンサコア4の絶縁層2を構成
する薄い絶縁物としてはそれ自体の含有水分が少ない方
が望ましいことから、例えば特開昭59−23410号
公報に示されるようにプラスチックフィルムを用いてい
る。しかしながら、ブッシングに加わる外力や振動等の
機械力に対し絶縁層2が中心導体1の軸方向にずれるの
を防ぐためには摩擦抵抗の少ないプラスチックフィルム
では過大な張力を加えて巻く必要があり、過大な張力を
加えるためフィルム表面に付着した水分の除去が充分に
行われないという欠点があった。
【0007】本発明は上記の点を考慮して成されたもの
で、その目的とするところは絶縁層内部の水分が確実に
除去でき、長期的絶縁信頼性の高いガス絶縁コンデンサ
形ブッシングの製造方法を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】かかる目的を達成するた
めに、本発明はプラスチックフィルムを相対湿度60%
以下の環境のもとでプラスチックフィルムが巻回される
時点で周囲温度が40〜80℃の範囲内の一定温度に成
るようにしながら巻回する。
【0009】
【作用】このようにするとプラスチックフィルムは湿度
と温度を十分に管理された環境のもとで巻回されるので
付着水分が完全に除去され、長期的絶縁信頼性が向上す
る。
【0010】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面を参照して説
明する。ガス絶縁コンデンサ形ブッシングのコンデンサ
コアを形成する絶縁層の巻回状態を図1に示す。図1に
おいて、中心導体1の外周にプラスチックフィルム12
を巻回するときは相対湿度60%以下に保たれた環境の
もとで、前記プラスチックフィルム12を加熱装置13
を介して巻回される時点でのプラスチックフィルム12
の周囲温度が40〜80℃の範囲の一定温度に成るよう
に加熱管理しながら連結して巻回し、規定の寸法ごとに
イコライザ電極3を挿入しながらコンデンサコア4を構
成する。
【0011】このような構成のコンデンサコア4である
とブッシングが高電圧化、大形化してプラスチックフィ
ルム12の巻幅が長くなっても、もともと含有水分の少
ないプラスチックフィルムであるためフィルム表面に付
着した分子の大きさ数十オングストローム程度の水分は
低湿度環境のもとで加熱することにより完全に除去され
た状態で巻回する。そのため乾燥工程が削減できブッシ
ングの製造が容易と成る。一方、プラスチックフィルム
12を巻回する時に周囲の雰囲気が相対湿度60%以下
で周囲温度が40〜80℃の範囲の一定の温度に管理さ
れた環境のもとで自動成形機等を用いてコンデンサコア
を形成することにより更に同様の効果を奏する。
【0012】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、コ
ンデンサコアの絶縁層を構成するプラスチックフィルム
を巻回する時に湿度と温度を十分に管理した環境のもと
で巻回することによりプラスチックフィルムの表面の付
着水分が完全に除去され、長期的絶縁信頼性を大幅に向
上することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明により形成されるコンデンサコアの絶縁
層の巻回状態を示す斜視図。
【図2】従来の一般的なガス絶縁コンデンサ形ブッシン
グの要部断面図。
【符号の説明】
1…中心導体 2…絶縁層 3…イコライザ電極 4…コンデンサコア 6…上部碍管 8…下部碍管 10…絶縁媒体 11…容器 12…プラスチックフィルム 13…加熱装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 中心導体の外周に薄い絶縁物と金属箔を
    巻回してコンデンサコアを形成し、このコンデンサコア
    を絶縁媒体と共に容器内に収容してなるガス絶縁コンデ
    ンサ形ブッシングの製造方法において、前記コンデンサ
    コアを形成する薄い絶縁物にプラスチックフィルムを使
    用し、このプラスチックフィルムを相対湿度60%以下
    の環境のもとでプラスチックフィルムが巻回される時点
    で周囲温度が40〜80℃範囲内の一定温度に成るよう
    にしながら巻回することを特徴とするガス絶縁コンデン
    サ形ブッシングの製造方法。
JP24082291A 1991-09-20 1991-09-20 ガス絶縁コンデンサ形ブツシングの製造方法 Pending JPH0581954A (ja)

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