JPH0582528A - 試料加熱用フレーム - Google Patents

試料加熱用フレーム

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Publication number
JPH0582528A
JPH0582528A JP23933091A JP23933091A JPH0582528A JP H0582528 A JPH0582528 A JP H0582528A JP 23933091 A JP23933091 A JP 23933091A JP 23933091 A JP23933091 A JP 23933091A JP H0582528 A JPH0582528 A JP H0582528A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heater
heating frame
heating
tapered
retainer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP23933091A
Other languages
English (en)
Inventor
Hirofumi Sumiya
裕文 角谷
Katsuyoshi Kudo
勝義 工藤
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi Kasado Mechanics Co Ld
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Kasado Engineering Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Kasado Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Publication of JPH0582528A publication Critical patent/JPH0582528A/ja
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】テーパ状にした加熱フレーム2に螺旋状の溝5
をつけ、これにヒータ4を巻き付け、ヒータ押え3によ
りヒータ4を密着させる。 【効果】加熱フレームの昇温時間短縮を図ると同時に、
ヒータ負荷の軽減を図ることができ、かつ、ヒータ交換
作業におけるコスト低下と着脱作業時間の短縮を図るこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、真空中、もしくは低圧
ガス中にてウェハ等を加熱し、各種加工処理を行なう時
に使用される試料加熱用フレームの構造に関するもので
ある。
【0002】
【従来の技術】従来の装置は、加熱フレームにヒータを
巻き付けるだけのもので、ヒータと加熱フレームとの密
着性や密着面積はあまり考慮されておらず、ヒータの熱
伝達性が悪く、ヒータ負荷が増大する問題があり、ま
た、特開昭57−9761号に記載のようなものでは、
ヒータの交換作業においても、ヒータを加熱フレームの
溝に収納したあとに、上から蓋をして溶接するという密
封構造にしてあるため、交換部品が加熱フレームとヒー
タの両方となり、価格的にも考慮されていなかった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】上記従来技術は、ヒー
タ負荷が増大し、また、価格が高いという問題があっ
た。
【0004】本発明の目的は、ヒータの熱を加熱フレー
ムへ有効に伝達させることによりヒータの負荷を軽減
し、かつ、メンテナンス時における価格の低下と着脱作
業時間の短縮が可能な試料加熱用フレームを提供するこ
とにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、加熱フレーム外周をテーパ構造にして、そのテーパ
部分にヒータ用の溝を螺旋状に設け、ヒータを溝に添っ
て巻き付ける。さらに、この外周へ加熱フレームと同様
なテーパ構造としたリング状のヒータ押えを取付けてヒ
ータを押える構造としたものである。
【0006】
【作用】加熱フレームとヒータ押えをテーパ構造にした
ことにより、ヒータを加熱フレームに押え付けることが
できて加熱フレームとヒータの密着性が高まり、熱伝達
性を向上させる働きがある。また、ヒータ押えを外せ
ば、ヒータ単品で交換できて価格面での向上が図れ、な
おかつ、加熱フレームとヒータ押えが共にテーパ構造で
あるため、ヒータの着脱作業が容易である。
【0007】
【実施例】本発明の一実施例を図1,2により説明す
る。
【0008】図において、1は加熱されるべきウェハ等
の試料、2はこの試料1を加熱する加熱フレームで、そ
の外周はテーパ状に加工され、そのテーパ部分へヒータ
用の溝5が螺旋状に設けられる。4はこの溝5に添って
巻き付けたヒータ、3は加熱フレーム2と同様なテーパ
構造としたヒータ押えであり、図のように加熱フレーム
2に取付けることにより、ヒータ4は加熱フレーム2に
押し付けられて加熱フレーム2との密着性が高まる。
【0009】例えば、半導体エッチング装置において
は、内部は真空状態かもしくは低圧ガス雰囲気であるた
め、ヒータからの対流による伝達はほとんど期待でき
ず、接触部からの伝導による熱伝達に頼らざるを得な
い。しかるに、本実施例によれば、真空中や低圧ガス中
においても、ヒータの発生する熱を有効に加熱フレーム
に伝達することができ、試料への熱伝達性を向上するこ
とができる。
【0010】
【発明の効果】本発明によれば、ヒータの巻き付け部を
テーパ状にしたことにより、加熱フレームやヒータ押え
などの製造上における加工公差を吸収してヒータを加熱
フレームに密着させることができ、ヒータの熱を加熱フ
レームへ有効に伝達し、加熱フレームの昇温の為のヒー
タ負荷を軽減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による試料加熱フレームの断面図であ
る。
【図2】加熱フレームの外形図である。
【符号の説明】
1…試料、2…加熱フレーム、3…ヒータ押え、4…ヒ
ータ、5…溝。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】加熱フレームをテーパ構造とし、そのテー
    パ部にヒータを収納する溝を設け、この溝の中にヒータ
    を収納し、ヒータ外部よりテーパ状に成形したヒータ押
    えを取り付けたことを特徴とする試料加熱用フレーム。
JP23933091A 1991-09-19 1991-09-19 試料加熱用フレーム Pending JPH0582528A (ja)

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JP23933091A JPH0582528A (ja) 1991-09-19 1991-09-19 試料加熱用フレーム

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JPH0582528A true JPH0582528A (ja) 1993-04-02

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014163785A1 (en) * 2013-04-01 2014-10-09 Fm Industries, Inc. Heated electrostatic chuck and semiconductor wafer heater and methods for manufacturing same

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2014163785A1 (en) * 2013-04-01 2014-10-09 Fm Industries, Inc. Heated electrostatic chuck and semiconductor wafer heater and methods for manufacturing same
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