JPH0592958A

JPH0592958A - （＋）−ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフエニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法

Info

Publication number: JPH0592958A
Application number: JP3286090A
Authority: JP
Inventors: Noboru Sayo; 昇佐用; Toshiro Takemasa; 俊郎武政; Hidenori Kumobayashi; 秀徳雲林
Original assignee: Takasago International Corp; Takasago Perfumery Industry Co
Current assignee: Takasago International Corp
Priority date: 1991-10-31
Filing date: 1991-10-31
Publication date: 1993-04-16
Anticipated expiration: 2009-09-07
Also published as: JPH0670016B2

Abstract

(57)【要約】【構成】以下の反応式に従って、式（２）で表わされ
る化合物を、一般式（３）で表わされるルテニウム−ホ
スフィン錯体の存在下、不斉水素化する式（１）で表わ
される（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェ
ニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オ
クタヒドロイソキノリンの製造方法。【化１】【効果】本発明の製造方法によれば、高選択率かつ高
収率で（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェ
ニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８−オ
クタヒドロイソキノリンを得ることができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、各種有機合成反応、特
に不斉水素化反応などの触媒として用いられるルテニウ
ム−ホスフィン錯体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、多くの遷移金属錯体が有機合成反
応の触媒として使用されている。特に貴金属錯体は高価
ではあるが、安定で取扱いが容易であるため、これを触
媒として使用する多くの合成研究がなされており、特
に、不斉合成すなわち不斉異性化反応、不斉水素化反応
などに用いられる不斉触媒について多くの報告がなされ
ている。特にロジウム金属と光学活性な第三級ホスフィ
ンによる金属錯体は不斉水素化反応の触媒として良く知
られており、たとえば、２，２′−ビス（ジフエニルホ
スフィノ）−１，１′−ビナフチル（以下、ＢＩＮＡＰ
という）を配位子としたロジウム−ホスフィン触媒が報
告されている（特開昭５５−６１９３７号公報）。

【０００３】また、ロジウム錯体に比べて、ルテニウム
錯体に関する報告は少ないが、ＢＩＮＡＰ及び２，２′
−ビス（ジ−ｐ−トリルホスフィノ）−１，１′−ビナ
フチル（以下、Ｔ−ＢＩＮＡＰという）を配位子とした
Ｒｕ₂Ｃｌ₄（ＢＩＮＡＰ）₂（ＮＥｔ₃）（以下、Ｅｔは
エチル基を表わす）、Ｒｕ₂Ｃｌ₄（Ｔ−ＢＩＮＡＰ）₂
（ＮＥｔ₃）のルテニウム錯体が発表されている（Ikari
yaら；J. Chem.Soc., Chem. Commun.,（１９８５）ｐ．
９２２）。また、Ｒｕ（Ｏ₂ＣＨ₃）₂（ＢＩＮＡＰ）の
ルテニウム錯体を用いたアリルアルコールの不斉水素化
反応（Noyoriら；J.Am.Chem. Soc.,１０９（１９８７）
ｐ．１５９６）及びイソキノリン型アルカロイドの不斉
水素化反応（Noyoriら；J.Am.Chem. Soc.,１０８（１９
８６）ｐ．７１１７）が発表されている。また、［Ｒｕ
（ＢＩＮＡＰ）］Ｘ₂（ここにおけるＸは、ＣｌＯ₄，Ｂ
Ｆ₆またはＰＦ₆を表わす）は、H.TakayaらによりJ. Or
g. Chem.,５２（１９８７）ｐ．３１７４−３１７６に
発表されている。しかしながら、これらのルテニウム錯
体は、触媒活性及びその持続性について充分であるとは
言えない。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ロジウム金属はすぐれ
た錯体触媒用の金属であるが、生産地及び生産量が限ら
れており、その価格も高価なものであり、これを触媒と
して用いる場合にはその製品価格中に占めるロジウムの
価格の割合が大きくなり、商品の製造原価に影響を与え
る。これに対しルテニウム金属はロジウム金属に比して
安価であり、工業的に有利な触媒として期待されるが、
反応の精密化及び応用の点で問題が残されている。従っ
て、安価で、活性度が高く、かつ持続性があり、しかも
不斉反応における高い不斉収率、すなわち生成物の光学
純度の高いものを得ることのできる触媒が要求されてい
た。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者はこのような工
業界の要請にこたえるべく研究を重ねた結果、錯体中の
配位子に光学活性をもたないものを用いれば一般合成触
媒として用いることができ、またこの配位子に光学活性
を有するものを用いれば不斉合成触媒として用いること
ができ、しかも触媒活性度が高い新規なルテニウム錯体
を見出し、ここに本発明を完成した。

【０００６】すなわち、本発明は、一般式（３）［Ｒｕ（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）ＭＣｌ_k］_lＸ_m （３）〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰは式（４）

【０００７】

【化４】

【０００８】で表わされる三級ホスフィンを意味し、Ｒ
は水素原子またはメチル基を意味し、ＭはＺｎ，Ａｌ，
ＴｉまたはＳｎを意味し、ＸはＮ（Ｃ₂Ｈ₅）₃またはＣ
Ｈ₃ＣＯ ₂を意味し、ＸがＮ（Ｃ₂Ｈ₅）₃の場合、ｌが
２、ｍが１であり、かつＭがＺｎのときはｋが４、Ａｌ
のときはｋが５、ＴｉまたはＳｎのときはｋが６であ
り、ＸがＣＨ₃ＣＯ₂の場合、ｌが１、ｍが２であり、か
つＭがＺｎのときはｋが２、Ａｌのときはｋが３、Ｔｉ
またはＳｎのときはｋが４である〕で表わされるルテニ
ウム−ホスフィン錯体を提供するものである。

【０００９】本発明の新規なルテニウム−ホスフィン錯
体（３）は、Ｒｕ₂Ｃｌ₄（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）₂ＮＥｔ₃あ
るいはＲｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）₂（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）を原料
として製造することができる。

【００１０】原料のＲｕ₂Ｃｌ₄（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）₂Ｎ
Ｅｔ₃は、Ikariya ら；J. Chem.Soc., Chem. Commun.,
（１９８５）ｐ．９２２、及び特開昭６１−６３６９０
号で開示されている方法により得ることができる。すな
わち、ルテニウムクロライドとシクロオクタ−１，５−
ジエン（以下、ＣＯＤと略す）をエタノール溶液中で反
応させることにより得られる［ＲｕＣｌ₂（ＣＯＤ）］_n
１モルと、Ｒ−ＢＩＮＡＰ１．２モルをトリエチル
アミン４モルの存在下、トルエン、エタノール等の溶媒
中で加熱反応させることにより得られる。

【００１１】得られたＲｕ₂Ｃｌ₄（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）₂
ＮＥｔ₃と、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、四塩化チタ
ン、四塩化スズのうちより選ばれたルイス酸の１種と
を、塩化メチレンのごとき溶媒中で、１０〜２５℃の温
度で２〜２０時間反応せしめた後、溶媒を留去し、乾固
すれば本発明のルテニウム−ホスフィン錯体が得られ
る。

【００１２】もう一つの原料のＲｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）
₂（Ｒ−ＢＩＮＡＰ）は、さきに本発明者らが出願した
特願昭６１−１０８８８８号の方法により得られる。す
なわち、上記方法により得られるＲｕ₂Ｃｌ₄（Ｒ−ＢＩ
ＮＡＰ）₂ＮＥｔ₃を原料とし、これと酢酸ソーダをメタ
ノール、エタノール、ｔ−ブタノール等のアルコール溶
媒中で、約２０〜１１０℃の温度で３〜１５時間反応さ
せた後、溶媒を留去して、エーテル、エタノール等の溶
媒で目的の錯体を抽出した後、乾固すれば粗製の錯体が
得られる。更に酢酸エチル等で再結晶して精製品を得る
ことができる。

【００１３】得られたＲｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）₂（Ｒ−ＢＩ
ＮＡＰ）と、上記のルイス酸の１種を、塩化メチレンの
ごとき溶媒中で、１０〜２５℃の温度で２〜２０時間反
応せしめた後、溶媒を留去し、乾固すれば本発明のルテ
ニウム−ホスフィン錯体が得られる。

【００１４】以上の製造法において、光学活性なＲ−Ｂ
ＩＮＡＰを使用することにより、これに対応する光学活
性な性質を有するルテニウム−ホスフィン錯体を得るこ
とが出来る。

【００１５】かくして得られる本発明のルテニウム−ホ
スフィン錯体は不斉水素化反応等の触媒として優れた性
能を有するものである。

【００１６】例えば、（Ｚ）−Ｎ−アシル−１−（４−
メトキシフェニルメチレン）−３，４，５，６，７，８
−ヘキサヒドロイソキノリンなどのエナミドの不斉水素
化において、日本化学会春季年会昭和６１年４月２日Ｚ
１１１Ｌ４３に発表されているＲｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）
₂（ＢＩＮＡＰ）錯体では、不斉収率は高い（９８％ｅ
ｅ）が、触媒活性は基質／触媒＝１００である。これに
対して、本発明のルテニウム−ホスフィン錯体は非常に
高い触媒活性を示し、基質に対し１／３００〜１／２０
００モル濃度の錯体で反応が速やかに進行し、生成する
水素化物は、ほぼ１００％の選択性で目的物を与えると
いう優れた点を有する。また生成する光学活性アミドの
光学純度は、９０〜９５％となり工業的触媒として非常
に優れた成績を示す。

【００１７】

【実施例】次に実施例及び使用例によって、本発明を詳
しく説明する。

【００１８】実施例１［Ｒｕ（（−）−Ｔ−ＢＩＮＡＰ）ＳｎＣｌ₆］₂ＮＥｔ
₃（ビス〔ルテニウム（２，２′−ビス（ジ−ｐ−トリ
ルホスフィノ）−１，１′−ビナフチル）ヘキサクロロ
チン〕トリエチルアミン）の合成：Ｒｕ₂Ｃｌ₄（（−）
−Ｔ−ＢＩＮＡＰ）₂ＮＥｔ₃０．５２ｇ（０．３ミリモ
ル）を８０mlのシュレンク管に入れ、充分窒素置換を行
ってから、塩化メチレン２０mlと、ＳｎＣｌ₄ ０．１
６ｇ（０．６ミリモル）を加え、室温にて１５時間かき
混ぜた。反応終了後、減圧下で塩化メチレンを留去し
て、乾固したところ、濃褐色の［Ｒｕ（（−）−Ｔ−Ｂ
ＩＮＡＰ）ＳｎＣｌ₆］₂ＮＥｔ₃ ０．６８ｇを得た。
収率１００％。元素分析値：Ｃ₁₀₂Ｈ₉₅Ｃｌ₁₂ＮＰ₄Ｓｎ₂Ｒｕ₂ ＰＣＨＣｌ実測値（％）５．９１５３．４８４．３６１７．５６理論値（％）５．３３５２．７２４．１２１８．３１機器分析値は次の通りである。すなわち、³¹Ｐ核磁気共
鳴スペクトル（以下、 ³¹ＰＮＭＲと略す）は、ブルッカ
ー社製ＡＭ４００型装置（１６１MHz ）を用いて測定
し、化学シフトは８５％リン酸を外部標準として測定し
た。³¹ ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δｐｐｍ：１４．１４（ｄ，
Ｊ＝４１．７Hz）６２．５７（ｄ，Ｊ＝４１．７Hz）

【００１９】実施例２［Ｒｕ（（−）−ＢＩＮＡＰ）ＡｌＣｌ₃］（ＣＨ₃ＣＯ
₂）₂（〔ルテニウム（２，２′−ビス（ジフェニルホス
フィノ）−１，１′−ビナフチル）トリクロロアルミニ
ウム〕ジアセテート）の合成：Ｒｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）
₂（（−）−ＢＩＮＡＰ）０．６３ｇ（０．７５ミリモ
ル）を８０mlのシュレンク管に入れ、充分窒素置換を行
ってから、塩化メチレン１０mlを加え溶解させた。Ａｌ
Ｃｌ₃ ０．１ｇ（０．７５ミリモル）を８０mlのシュ
レンク管に入れ、充分窒素置換を行ってから、塩化メチ
レン２０mlを加え、さらに上記で調製した、Ｒｕ（ＣＨ
₃ＣＯ₂）₂（（−）−ＢＩＮＡＰ）の塩化メチレン溶液
を加え、１５時間かき混ぜた。反応終了後、減圧下で塩
化メチレンを留去して、乾固したところ、濃褐色［Ｒｕ
（（−）−ＢＩＮＡＰ）ＡｌＣｌ₃］（ＣＨ₃ＣＯ₂）₂
０．７３ｇを得た。収率１００％。元素分析値：Ｃ₄₈Ｈ₃₈Ｏ₄Ｐ₂Ｃｌ₃ＡｌＲｕＰＣＨＣｌ実測値（％）６．１７６０．０７４．３８１１．１６理論値（％）６．３５５９．１２３．９３１０．６０³¹ ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δｐｐｍ：１４．１６（ｄ，
Ｊ＝４１．５Hz）６２．５６（ｄ，Ｊ＝４１．５Hz）

【００２０】実施例３〜１６原料のＲ−ＢＩＮＡＰ及びルイス酸の種類を変えたほか
は、実施例３〜９は上記実施例１の方法に従い、実施例
１０〜１６は実施例２の方法に従い、それぞれの錯体を
合成した。得られた錯体の分析値を表１、表２及び表３
に示す

【００２１】

【表１】

【００２２】

【表２】

【００２３】

【表３】

【００２４】使用例１（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメ
チレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソ
キノリンの不斉水素化：

【００２５】

【化５】

【００２６】あらかじめ乾燥し、アルゴン置換した枝付
ナスフラスコに、触媒として［Ｒｕ（（−）−Ｔ−ＢＩ
ＮＡＰ）ＳｎＣｌ₆］₂ＮＥｔ₃ １８．８mg（０．００
８１ミリモル）を計りとり、脱気した無水メタノール４
０mlを加えた溶液を、室温で水素下２時間撹拌した。一
方、（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニ
ルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ
イソキノリン５１６mg（１．８２ミリモル）を脱気した
無水メタノール２０mlに加えた溶液を別途調製した。触
媒溶液から４．３０ml（基質（モル）／触媒（モル）＝
１０００／１）を取り、基質溶液に混ぜオートクレーブ
に移し、水素気圧３５kg／cm²、７５℃で４７時間撹拌
した。撹拌終了後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して、（＋）−Ｎ−ホルミル−１
−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，
４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリン５２０
mgを得た。収率１００％。このものの旋光度は〔α〕_D
²⁵＋２２．６（ｃ＝１．１７、メタノール）であった。
光学純度は、脱ホルミル化後、生成物を２，３，４，６
−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｏ−グリコピラノシルイ
ソシアネートと反応させ、逆相ＨＰＬＣ分析を行って不
斉収率を決定した結果、９８％ｅｅであった。各スペク
トルデータを次に示す。¹ HNMR(400MH_Z, CDCl₃) δppm:1.68(m, 4H), 1.90(m,4
H), 2.20(m, 2H),2.64(dd, J=10.4, 13.9Hz, 0.6H), 2.
90(m, 2.4H),3.31(dd, J=6.6, 12.9Hz,0.4H), 3.58(d,
J=9.9Hz, 0.6H),3.77(s, 3H), 4.37(dd, J=6.7, 12.9H
z,0.6H), 4.68(broad s, 0.4H),6.80(m,2H), 6.99(m,
0.6H), 7.05(m, 0.4H),7.39(s, 0.6H),7.92(s, 0.4H)¹³ CNMR(100MHz, CDCl₃)δppm:22.7, 22.8, 22.9, 27.7,
29.7, 30.0,30.8, 33.4, 36.3, 37.6, 40.4, 53.2, 5
5.2, 60.4, 60.8, 113.6,114.1, 127.77, 127.84, 128.
9, 129.8, 130.0, 130.2, 130.4, 158.2,158.4, 160.8,
161.1 UV(CH₃OH)nm : 220, 277, 284 MS : m/e 285

【００２７】使用例２〜１６使用例１と同様な反応操作により、実施例２〜１６で得
られたルテニウム−ホスフィン錯体を用いて（Ｚ）−Ｎ
−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−
３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソキノリンの
不斉水素化反応を行い、（＋）−Ｎ−ホルミル−１−
（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，
５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造を行
った結果を表４に示す。

【００２８】

【表４】

【００２９】

【発明の効果】本発明は、新規なルテニウム−ホスフィ
ン錯体を提供するものであり、この錯体は、各種有機合
成反応、特に不斉水素化反応などの触媒としてすぐれた
性能を示し、オレフィンの選択的水素化ならびに触媒活
性についても工業的にすぐれた成績を示し、且つ従来の
ロジウム系触媒などに比し、安価に作られ、製品の価格
引下げに貢献することのできる工業的価値の高いもので
ある。

─────────────────────────────────────────────────────

【手続補正書】

【提出日】平成３年１１月６日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】発明の詳細な説明

【補正方法】変更

【補正内容】

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、鎮咳薬デキストロメト
ルファンの合成中間体として有用な（＋）−Ｎ−ホルミ
ル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，
３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの
製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、多くの遷移金属錯体が有機合成反
応の触媒として使用されている。特に貴金属錯体は高価
ではあるが、安定で取扱いが容易であるため、これを触
媒として使用する多くの合成研究がなされており、特
に、不斉合成すなわち不斉異性化反応、不斉水素化反応
などに用いられる不斉触媒について多くの報告がなされ
ている。特にロジウム金属と光学活性な第三級ホスフィ
ンによる金属錯体は不斉水素化反応の触媒として良く知
られており、たとえば、２，２′−ビス（ジフェニルホ
スフィノ）−１，１′−ビナフチル（以下、ＢＩＮＡＰ
という）を配位子としたロジウム−ホスフィン触媒が報
告されている（特開昭５５−６１９３７号公報）。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】ロジウム金属はすぐれ
た錯体触媒用の金属であるが、生産地及び生産量が限ら
れており、その価格も高価なものであり、これを触媒と
して用いる場合にはその製品価格中に占めるロジウムの
価格の割合が大きくなり、商品の製造原価に影響を与え
る。これに対しルテニウム金属はロジウム金属に比して
安価であり、工業的に有利な触媒として期待されるが、
反応の精密化及び応用の点で問題が残されている。従っ
て、安価で、活性度が高く、かつ持続性があり、しかも
不斉反応における高い不斉収率、すなわち生成物の光学
純度の高いものを得ることのできる触媒が要求されてい
た。一方、（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシ
フェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，８
−オクタヒドロイソキノリンは、鎮咳薬として用いられ
るデキストロメトルファンの合成中間体として有用であ
り、これは一般に（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メ
トキシフェニルメチレン）−３，４，５，６，７，８−
ヘキサヒドロイソキノリンを不斉水素化して合成されて
いる。しかし、従来の不斉水素化反応の不斉収率、得ら
れた生成物の光学純度は未だ充分満足できるものではな
かった。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明者はこのような工
業界の要請にこたえるべく研究を重ねた結果、触媒活性
度が高い新規なルテニウム錯体を用いて不斉水素化を行
えば、高選択率かつ高純度で（＋）−Ｎ−ホルミル−１
−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，
４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンを製造
することができることを見出し、ここに本発明を完成し
た。本発明の製造方法は次の反応式で示される。

【０００６】

【化４】

【０００７】

【化５】

【０００８】で表わされる三級ホスフィンを意味し、Ｒ
は水素原子またはメチル基を意味し、ＭはＺｎ，Ａｌ，
ＴｉまたはＳｎを意味し、ＸはＮ（Ｃ₂Ｈ₅）₃またはＣ
Ｈ₃ＣＯ ₂を意味し、ＸがＮ（Ｃ₂Ｈ₅）₃の場合、ｌが
２、ｍが１であり、かつＭがＺｎのときはｋが４、Ａｌ
のときはｋが５、ＴｉまたはＳｎのときはｋが６であ
り、ＸがＣＨ₃ＣＯ₂の場合、ｌが１、ｍが２であり、か
つＭがＺｎのときはｋが２、Ａｌのときはｋが３、Ｔｉ
またはＳｎのときはｋが４である〕すなわち、本発明は
式（２）で表わされる（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４
−メトキシフェニルメチレン）−３，４，５，６，７，
８−ヘキサヒドロイソキノリンを、一般式（３）で表わ
されるルテニウム−ホスフィン錯体の存在下、不斉水素
化することを特徴とする式（１）で表わされる（＋）−
Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）
−１，２，３，４，５，６，７，８−オクタヒドロイソ
キノリンの製造方法を提供するものである。

【０００９】本発明において用いられるルテニウム−ホ
スフィン錯体（３）は、Ｒｕ₂Ｃｌ₄（（−）−Ｒ−ＢＩ
ＮＡＰ）₂ＮＥｔ₃あるいはＲｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）
₂（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）を原料として製造するこ
とができる。

【００１０】原料のＲｕ₂Ｃｌ₄（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡ
Ｐ）₂ＮＥｔ₃は、Ikariya ら；J. Chem.Soc., Chem. Co
mmun.,（１９８５）ｐ．９２２、及び特開昭６１−６３
６９０号で開示されている方法により得ることができ
る。すなわち、ルテニウムクロライドとシクロオクタ−
１，５−ジエン（以下、ＣＯＤと略す）をエタノール溶
液中で反応させることにより得られる［ＲｕＣｌ₂（Ｃ
ＯＤ）］_n １モルと、（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ１．
２モルをトリエチルアミン４モルの存在下、トルエン、
エタノール等の溶媒中で加熱反応させることにより得ら
れる。

【００１１】得られたＲｕ₂Ｃｌ₄（（−）−Ｒ−ＢＩＮ
ＡＰ）₂ＮＥｔ₃と、塩化亜鉛、塩化アルミニウム、四塩
化チタン、四塩化スズのうちより選ばれたルイス酸の１
種とを、塩化メチレンのごとき溶媒中で、１０〜２５℃
の温度で２〜２０時間反応せしめた後、溶媒を留去し、
乾固すればルテニウム−ホスフィン錯体（３）が得られ
る。

【００１２】もう一つの原料のＲｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）
₂（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）は、さきに本発明者らが
出願した特願昭６１−１０８８８８号の方法により得ら
れる。すなわち、上記方法により得られるＲｕ₂Ｃｌ
₄（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）₂ＮＥｔ₃を原料とし、こ
れと酢酸ソーダをメタノール、エタノール、ｔ−ブタノ
ール等のアルコール溶媒中で、約２０〜１１０℃の温度
で３〜１５時間反応させた後、溶媒を留去して、エーテ
ル、エタノール等の溶媒で目的の錯体を抽出した後、乾
固すれば粗製の錯体が得られる。更に酢酸エチル等で再
結晶して精製品を得ることができる。

【００１３】得られたＲｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）₂（（−）−
Ｒ−ＢＩＮＡＰ）と、上記のルイス酸の１種を、塩化メ
チレンのごとき溶媒中で、１０〜２５℃の温度で２〜２
０時間反応せしめた後、溶媒を留去し、乾固すればルテ
ニウム−ホスフィン錯体（３）が得られる。

【００１４】かくして得られるルテニウム−ホスフィン
錯体（３）は不斉水素化反応等の触媒として優れた性能
を有するものである。

【００１５】ルテニウム−ホスフィン錯体（３）を触媒
として用いる化合物（２）の不斉水素化反応は、後記実
施例に示すように通常の不斉水素化反応と同様にして実
施することができる。すなわち、例えば無水メタノール
等の溶媒中、化合物（２）に対し１／３００〜１／２０
００モル程度のルテニウム−ホスフィン錯体（３）を加
え水素化すればよい。

【００１６】（Ｚ）−Ｎ−アシル−１−（４−メトキシ
フェニルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサ
ヒドロイソキノリンなどのエナミドの不斉水素化におい
て、日本化学会春季年会昭和６１年４月２日Ｚ１１１Ｌ
４３に発表されているＲｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）₂（ＢＩＮＡ
Ｐ）錯体では、不斉収率は高い（９８％ｅｅ）が、触媒
活性は基質／触媒＝１００である。これに対して、本発
明に用いられるルテニウム−ホスフィン錯体（３）は非
常に高い触媒活性を示し、基質に対し１／３００〜１／
２０００モル濃度の錯体で反応が速やかに進行し、生成
する水素化物は、ほぼ１００％の選択性で目的物を与え
るという優れた点を有する。また生成する光学活性アミ
ドの光学純度は、９０〜９５％となり工業的触媒として
非常に優れた成績を示す。尚、本発明において用いられ
るルテニウム−ホスフィン錯体（３）の配位子である
（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰのかわりに、その光学異性体で
ある（＋）−Ｒ−ＢＩＮＡＰを配位子とする一般式
（５）［Ｒｕ（（＋）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）ＭＣｌ_k］_lＸ_m （５）〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰ，Ｍ，Ｘ，ｋ，ｌ及びｍは前記
と同じ意味を示す〕で表わされるルテニウム−ホスフィ
ン錯体を用いて、本発明と同様の方法で（Ｚ）−Ｎ−ホ
ルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−３，
４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソキノリンを不斉
水素化すれば、（−）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メト
キシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，
７，８−オクタヒドロイソキノリンを得ることができる
が、この化合物を合成中間体として得ることができるレ
ボメトルファンは、鎮痛、呼吸抑制及び鎮咳作用を有す
る麻薬である。

【００１７】

【実施例】次に参考例及び実施例によって、本発明を詳
しく説明する。

【００１８】参考例１［Ｒｕ（（−）−Ｔ−ＢＩＮＡＰ）ＳｎＣｌ₆］₂ＮＥｔ
₃（ビス〔ルテニウム（２，２′−ビス（ジ−ｐ−トリ
ルホスフィノ）−１，１′−ビナフチル）ヘキサクロロ
チン〕トリエチルアミン）の合成：Ｒｕ₂Ｃｌ₄（（−）
−Ｔ−ＢＩＮＡＰ）₂ＮＥｔ₃０．５２ｇ（０．３ミリモ
ル）を８０mlのシュレンク管に入れ、充分窒素置換を行
ってから、塩化メチレン２０mlと、ＳｎＣｌ₄ ０．１
６ｇ（０．６ミリモル）を加え、室温にて１５時間かき
混ぜた。反応終了後、減圧下で塩化メチレンを留去し
て、乾固したところ、濃褐色の［Ｒｕ（（−）−Ｔ−Ｂ
ＩＮＡＰ）ＳｎＣｌ₆］₂ＮＥｔ₃ ０．６８ｇを得た。
収率１００％。元素分析値：Ｃ₁₀₂Ｈ₉₅Ｃｌ₁₂ＮＰ₄Ｓｎ₂Ｒｕ₂ ＰＣＨＣｌ実測値（％）５．９１５３．４８４．３６１７．５６理論値（％）５．３３５２．７２４．１２１８．３１機器分析値は次の通りである。すなわち、³¹Ｐ核磁気共
鳴スペクトル（以下、 ³¹ＰＮＭＲと略す）は、ブルッカ
ー社製ＡＭ４００型装置（１６１MHz ）を用いて測定
し、化学シフトは８５％リン酸を外部標準として測定し
た。³¹ ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δｐｐｍ：１４．１４（ｄ，
Ｊ＝４１．７Hz）６２．５７（ｄ，Ｊ＝４１．７Hz）

【００１９】参考例２［Ｒｕ（（−）−ＢＩＮＡＰ）ＡｌＣｌ₃］（ＣＨ₃ＣＯ
₂）₂（〔ルテニウム（２，２′−ビス（ジフェニルホス
フィノ）−１，１′−ビナフチル）トリクロロアルミニ
ウム〕ジアセテート）の合成：Ｒｕ（ＣＨ₃ＣＯ₂）
₂（（−）−ＢＩＮＡＰ）０．６３ｇ（０．７５ミリモ
ル）を８０mlのシュレンク管に入れ、充分窒素置換を行
ってから、塩化メチレン１０mlを加え溶解させた。Ａｌ
Ｃｌ₃ ０．１ｇ（０．７５ミリモル）を８０mlのシュ
レンク管に入れ、充分窒素置換を行ってから、塩化メチ
レン２０mlを加え、さらに上記で調製した、Ｒｕ（ＣＨ
₃ＣＯ₂）₂（（−）−ＢＩＮＡＰ）の塩化メチレン溶液
を加え、１５時間かき混ぜた。反応終了後、減圧下で塩
化メチレンを留去して、乾固したところ、濃褐色［Ｒｕ
（（−）−ＢＩＮＡＰ）ＡｌＣｌ₃］（ＣＨ₃ＣＯ₂）₂
０．７３ｇを得た。収率１００％。元素分析値：Ｃ₄₈Ｈ₃₈Ｏ₄Ｐ₂Ｃｌ₃ＡｌＲｕＰＣＨＣｌ実測値（％）６．１７６０．０７４．３８１１．１６理論値（％）６．３５５９．１２３．９３１０．６０³¹ ＰＮＭＲ（ＣＤＣｌ₃）δｐｐｍ：１４．１６（ｄ，
Ｊ＝４１．５Hz）６２．５６（ｄ，Ｊ＝４１．５Hz）

【００２０】参考例３〜１６原料のＲ−ＢＩＮＡＰ及びルイス酸の種類を変えたほか
は、参考例３〜９は上記参考例１の方法に従い、参考例
１０〜１６は参考例２の方法に従い、それぞれの錯体を
合成した。得られた錯体の分析値を表１、表２及び表３
に示す

【００２１】

【表１】

【００２２】

【表２】

【００２３】

【表３】

【００２４】実施例１（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメ
チレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソ
キノリンの不斉水素化：

【００２５】

【化６】

【００２６】あらかじめ乾燥し、アルゴン置換した枝付
ナスフラスコに、触媒として［Ｒｕ（（−）−Ｔ−ＢＩ
ＮＡＰ）ＳｎＣｌ₆］₂ＮＥｔ₃ １８．８mg（０．００
８１ミリモル）を計りとり、脱気した無水メタノール４
０mlを加えた溶液を、室温で水素下２時間撹拌した。一
方、（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキシフェニ
ルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロ
イソキノリン５１６mg（１．８２ミリモル）を脱気した
無水メタノール２０mlに加えた溶液を別途調製した。触
媒溶液から４．３０ml（基質（モル）／触媒（モル）＝
１０００／１）を取り、基質溶液に混ぜオートクレーブ
に移し、水素気圧３５kg／cm²、７５℃で４７時間撹拌
した。撹拌終了後、減圧濃縮し、シリカゲルカラムクロ
マトグラフィーで精製して、（＋）−Ｎ−ホルミル−１
−（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，
４，５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリン５２０
mgを得た。収率１００％。このものの旋光度は〔α〕_D
²⁵ ＋２２．６（ｃ＝１．１７、メタノール）であっ
た。光学純度は、脱ホルミル化後、生成物を２，３，
４，６−テトラ−Ｏ−アセチル−β−Ｏ−グリコピラノ
シルイソシアネートと反応させ、逆相ＨＰＬＣ分析を行
って不斉収率を決定した結果、９８％ｅｅであった。各
スペクトルデータを次に示す。¹ HNMR(400MH_Z, CDCl₃) δppm:1.68(m, 4H), 1.90(m,4
H), 2.20(m, 2H),2.64(dd, J=10.4, 13.9Hz, 0.6H), 2.
90(m, 2.4H),3.31(dd, J=6.6, 12.9Hz,0.4H), 3.58(d,
J=9.9Hz, 0.6H),3.77(s, 3H), 4.37(dd, J=6.7, 12.9H
z,0.6H), 4.68(broad s, 0.4H),6.80(m,2H), 6.99(m,
0.6H), 7.05(m, 0.4H),7.39(s, 0.6H),7.92(s, 0.4H)¹³ CNMR(100MHz, CDCl₃)δppm:22.7, 22.8, 22.9, 27.7,
29.7, 30.0,30.8, 33.4, 36.3, 37.6, 40.4, 53.2, 5
5.2, 60.4, 60.8, 113.6,114.1, 127.77, 127.84, 128.
9, 129.8, 130.0, 130.2, 130.4, 158.2,158.4, 160.8,
161.1 UV(CH₃OH)nm : 220, 277, 284 MS : m/e 285

【００２７】実施例２〜１６実施例１と同様な反応操作により、参考例２〜１６で得
られたルテニウム−ホスフィン錯体を用いて（Ｚ）−Ｎ
−ホルミル−１−（４−メトキシフェニルメチレン）−
３，４，５，６，７，８−ヘキサヒドロイソキノリンの
不斉水素化反応を行い、（＋）−Ｎ−ホルミル−１−
（４−メトキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，
５，６，７，８−オクタヒドロイソキノリンの製造を行
った結果を表４に示す。

【００２８】

【表４】

【００２９】

【発明の効果】本発明の製造方法に用いられる新規なル
テニウム−ホスフィン錯体は、各種有機合成反応、特に
不斉水素化反応などの触媒としてすぐれた性能を示し、
オレフィンの選択的水素化ならびに触媒活性についても
工業的にすぐれた成績を示し、且つ従来のロジウム系触
媒などに比し、安価に作られ、製品の価格引下げに貢献
することのできる工業的価値の高いものである。従っ
て、このルテニウム−ホスフィン錯体を用いれば、高選
択率かつ高収率で（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メ
トキシフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，
７，８−オクタヒドロイソキノリンを製造することがで
きる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号庁内整理番号ＦＩ技術表示箇所Ｃ０７Ｆ 15/00 Ａ 9049−4Ｈ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】次の式（２）【化１】で表わされる（Ｚ）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキ
シフェニルメチレン）−３，４，５，６，７，８−ヘキ
サヒドロイソキノリンを、次の一般式（３）［Ｒｕ（（−）−Ｒ−ＢＩＮＡＰ）ＭＣｌ_k］_lＸ_m （３）〔式中、Ｒ−ＢＩＮＡＰは式（４）【化２】で表わされる三級ホスフィンを意味し、Ｒは水素原子ま
たはメチル基を意味し、ＭはＺｎ，Ａｌ，ＴｉまたはＳ
ｎを意味し、ＸはＮ（Ｃ₂Ｈ₅）₃またはＣＨ₃ＣＯ ₂を意
味し、ＸがＮ（Ｃ₂Ｈ₅）₃の場合、ｌが２、ｍが１であ
り、かつＭがＺｎのときはｋが４、Ａｌのときはｋが
５、ＴｉまたはＳｎのときはｋが６であり、ＸがＣＨ₃
ＣＯ₂の場合、ｌが１、ｍが２であり、かつＭがＺｎの
ときはｋが２、Ａｌのときはｋが３、ＴｉまたはＳｎの
ときはｋが４である〕で表わされるルテニウム−ホスフ
ィン錯体の存在下、不斉水素化することを特徴とする次
の式（１）【化３】で表わされる（＋）−Ｎ−ホルミル−１−（４−メトキ
シフェニルメチレン）−１，２，３，４，５，６，７，
８−オクタヒドロイソキノリンの製造方法。