JPH06100574A - アミド基含有ポリジオルガノシロキサンおよびその製造方法 - Google Patents
アミド基含有ポリジオルガノシロキサンおよびその製造方法Info
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- JPH06100574A JPH06100574A JP25284692A JP25284692A JPH06100574A JP H06100574 A JPH06100574 A JP H06100574A JP 25284692 A JP25284692 A JP 25284692A JP 25284692 A JP25284692 A JP 25284692A JP H06100574 A JPH06100574 A JP H06100574A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 片末端にのみケイ素原子に結合したアミド基
を有する反応性ポリジオルガノシロキサンとその製法を
提供する。 【構成】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 は同種又は異種
の一価の炭化水素基であり、Ｒ6 は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、ハロゲン化炭化水素基より選択され
る基であり、ｎは３〜１０００の整数であり、ａおよび
ｂは０以上３以下の整数であり、ａ＋ｂは３である。）
で示されるアミド基含有ポリジオルガノシロキサン。こ
の化合物は一般式 【化２】 （式中、Ｒ3 〜Ｒ6 ，ｎ，ａ，ｂは前記と同じ意味であ
り、Ｘはハロゲン原子または水素原子である。）で示さ
れるポリジオルガノシロキサンと、式 【化３】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前記と同じ意味であり、Ｍは水素
原子、アルカリ金属またはトリアルキルシリル基であ
る。）で示される化合物とを反応させて得られる。
を有する反応性ポリジオルガノシロキサンとその製法を
提供する。 【構成】 一般式 【化１】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 は同種又は異種
の一価の炭化水素基であり、Ｒ6 は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、ハロゲン化炭化水素基より選択され
る基であり、ｎは３〜１０００の整数であり、ａおよび
ｂは０以上３以下の整数であり、ａ＋ｂは３である。）
で示されるアミド基含有ポリジオルガノシロキサン。こ
の化合物は一般式 【化２】 （式中、Ｒ3 〜Ｒ6 ，ｎ，ａ，ｂは前記と同じ意味であ
り、Ｘはハロゲン原子または水素原子である。）で示さ
れるポリジオルガノシロキサンと、式 【化３】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前記と同じ意味であり、Ｍは水素
原子、アルカリ金属またはトリアルキルシリル基であ
る。）で示される化合物とを反応させて得られる。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は片方の末端のみにケイ素
原子に結合したアミド基を含有するポリジオルガノシロ
キサンおよびその製造方法に関する。
原子に結合したアミド基を含有するポリジオルガノシロ
キサンおよびその製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、アミドシリル基を含有するポリオ
ルガノシロキサンについては多くの化合物および製造方
法が提案されている。例えば、特開平１−１２５３８８
号公報には、Ｓｉ−Ｈ基を有する化合物と有機アミドと
を白金触媒存在化反応させ、アミドシランおよびアミド
シロキサンを合成する方法が開示されている。また、米
国特許第３，４８８，３７１号には、ジハロシリコン化
合物と有機アミドとを特殊な第三アミン存在下で反応さ
せることにより、ジアミドシランを合成できることが記
載されている。
ルガノシロキサンについては多くの化合物および製造方
法が提案されている。例えば、特開平１−１２５３８８
号公報には、Ｓｉ−Ｈ基を有する化合物と有機アミドと
を白金触媒存在化反応させ、アミドシランおよびアミド
シロキサンを合成する方法が開示されている。また、米
国特許第３，４８８，３７１号には、ジハロシリコン化
合物と有機アミドとを特殊な第三アミン存在下で反応さ
せることにより、ジアミドシランを合成できることが記
載されている。
【０００３】しかしながら、これまでに報告されている
ケイ素原子結合アミド基含有ポリシロキサンは、１分子
中少なくとも２個のアミド基を有するものである。この
ため、これらのポリシロキサンを、活性水酸基を２個以
上有する化合物や水と反応させた場合、ゲル化や粘度の
異常な増大が起きてしまうという欠点があった。この欠
点を克服するためには、分子の片方の末端のみにケイ素
原子に結合したアミド基を有するポリジオルガノシロキ
サンが必要であるが、このようなポリマーはこれまで知
られていない。
ケイ素原子結合アミド基含有ポリシロキサンは、１分子
中少なくとも２個のアミド基を有するものである。この
ため、これらのポリシロキサンを、活性水酸基を２個以
上有する化合物や水と反応させた場合、ゲル化や粘度の
異常な増大が起きてしまうという欠点があった。この欠
点を克服するためには、分子の片方の末端のみにケイ素
原子に結合したアミド基を有するポリジオルガノシロキ
サンが必要であるが、このようなポリマーはこれまで知
られていない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、分子
の片方の末端のみにケイ素原子に結合したアミド基を有
するポリジオルガノシロキサン、およびその製造方法を
提供することである。
の片方の末端のみにケイ素原子に結合したアミド基を有
するポリジオルガノシロキサン、およびその製造方法を
提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明者らは上記課題を
解決すべく検討を重ねた結果、一般式
解決すべく検討を重ねた結果、一般式
【０００６】
【化５】
【０００７】で示されるアミド基含有ポリジオルガノシ
ロキサンの合成に成功した。ここで、Ｒ1 〜Ｒ5 は同種
又は異種の一価の炭化水素基であり、Ｒ6 は水素原子、
アルキル基、アルケニル基、ハロゲン化炭化水素基より
選択される基であり、ｎは３〜１０００の整数であり、
ａおよびｂは０以上３以下の整数であり、ａ＋ｂは３で
ある。
ロキサンの合成に成功した。ここで、Ｒ1 〜Ｒ5 は同種
又は異種の一価の炭化水素基であり、Ｒ6 は水素原子、
アルキル基、アルケニル基、ハロゲン化炭化水素基より
選択される基であり、ｎは３〜１０００の整数であり、
ａおよびｂは０以上３以下の整数であり、ａ＋ｂは３で
ある。
【０００８】本発明によるポリジオルガノシロキサン
は、式（１）で示される構造を有する直鎖状ポリマーで
ある。ここにおいて、Ｒ1 ＣＯＮ（Ｒ2 ）−で示される
アミド基が分子の片方の末端のみに結合していることが
特徴となる。この構造のために、活性水酸基を２個以上
有する化合物や水と反応した際に、ゲル化や粘度の異常
な増大を起こすことがない。
は、式（１）で示される構造を有する直鎖状ポリマーで
ある。ここにおいて、Ｒ1 ＣＯＮ（Ｒ2 ）−で示される
アミド基が分子の片方の末端のみに結合していることが
特徴となる。この構造のために、活性水酸基を２個以上
有する化合物や水と反応した際に、ゲル化や粘度の異常
な増大を起こすことがない。
【０００９】この式中、Ｒ1 〜Ｒ5 は同種又は異種の一
価炭化水素基であるが、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのアルキル
基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基な
どのアリール基；ビニル基、アリル基、プロペニル基、
ブテニル基などのアルケニル基；から選ばれる基などで
あるが、経済性の観点からはメチル基またはフェニル基
であることが好ましく、分子構造の制御の容易さの観点
からはこれらの基の大部分がメチル基であることが好ま
しい。
価炭化水素基であるが、メチル基、エチル基、プロピル
基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基などのアルキル
基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基な
どのアリール基；ビニル基、アリル基、プロペニル基、
ブテニル基などのアルケニル基；から選ばれる基などで
あるが、経済性の観点からはメチル基またはフェニル基
であることが好ましく、分子構造の制御の容易さの観点
からはこれらの基の大部分がメチル基であることが好ま
しい。
【００１０】Ｒ6 は水素原子、アルキル基、アルケニル
基、ハロゲン化炭化水素基より選択される基であるが、
アルキル基とアルケニル基には上記の基が例示される。
ハロゲン化炭化水素基としては、クロロメチル基、クロ
ロプロピル基、トリフロロプロピル基が例示される。原
料となるポリシロキサンの合成の容易さの観点からは、
Ｒ6 が水素分子、アルキル基またはアルケニル基である
ことが好ましい。
基、ハロゲン化炭化水素基より選択される基であるが、
アルキル基とアルケニル基には上記の基が例示される。
ハロゲン化炭化水素基としては、クロロメチル基、クロ
ロプロピル基、トリフロロプロピル基が例示される。原
料となるポリシロキサンの合成の容易さの観点からは、
Ｒ6 が水素分子、アルキル基またはアルケニル基である
ことが好ましい。
【００１１】式（１）で示される化合物の重合度を示す
ｎは３以上１０００以下の数であるが、これはｎが２以
下であると沸点が低すぎて揮発性であり環境を汚染する
可能性があるからであり、１０００以上であると分子量
が大きくなり過ぎて粘度が高くなり過ぎ、取り扱いが困
難になるからである。ｎは好ましくは３以上５００以下
であり、さらに好ましくは３以上２００以下である。
ｎは３以上１０００以下の数であるが、これはｎが２以
下であると沸点が低すぎて揮発性であり環境を汚染する
可能性があるからであり、１０００以上であると分子量
が大きくなり過ぎて粘度が高くなり過ぎ、取り扱いが困
難になるからである。ｎは好ましくは３以上５００以下
であり、さらに好ましくは３以上２００以下である。
【００１２】また、本発明によれば式（１）で示される
アミド基含有ポリジオルガノシロキサンの製造方法が提
供され、この方法では、一般式
アミド基含有ポリジオルガノシロキサンの製造方法が提
供され、この方法では、一般式
【化６】
【００１３】で示されるポリジオルガノシロキサンと、
式
式
【００１４】
【化７】
【００１５】で示される化合物とを反応させる。
【００１６】上記式（２）、（３）中、Ｒ1 〜Ｒ6 は上
に詳述したとうりである。式（２）におけるＸは水素原
子または塩素、臭素、ヨウ素、フッ素などのハロゲン原
子である。式（３）におけるＭは水素原子またはリチウ
ム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、または
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルエ
チルシリル基などのトリアルキルシリル基である。ここ
で、Ｘが水素原子の場合は、Ｍが水素原子またはトリア
ルキルシリル基であることが好ましく、Ｘがハロゲン原
子の場合はＭは上に例示したいずれでもよい。
に詳述したとうりである。式（２）におけるＸは水素原
子または塩素、臭素、ヨウ素、フッ素などのハロゲン原
子である。式（３）におけるＭは水素原子またはリチウ
ム、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、または
トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチルエ
チルシリル基などのトリアルキルシリル基である。ここ
で、Ｘが水素原子の場合は、Ｍが水素原子またはトリア
ルキルシリル基であることが好ましく、Ｘがハロゲン原
子の場合はＭは上に例示したいずれでもよい。
【００１７】式（２）で示されるポリジオルガノシロキ
サンの製造方法に特に限定はない。例えば、分子の片方
の末端のみに硅素原子に結合した塩素原子を有する低分
子量ポリジオルガノシロキサンの製造方法は、Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ第３０巻３３３頁（１９８９年）に記載されてい
る。また、分子の片方の末端のみにＳｉ−Ｈを有するポ
リジオルガノシロキサンの製造方法は、Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｊ．第１９巻１０９１頁（１９８７年）に記載されて
いる。
サンの製造方法に特に限定はない。例えば、分子の片方
の末端のみに硅素原子に結合した塩素原子を有する低分
子量ポリジオルガノシロキサンの製造方法は、Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ第３０巻３３３頁（１９８９年）に記載されてい
る。また、分子の片方の末端のみにＳｉ−Ｈを有するポ
リジオルガノシロキサンの製造方法は、Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｊ．第１９巻１０９１頁（１９８７年）に記載されて
いる。
【００１８】式（２）で示されるポリジオルガノシロキ
サンと、式（３）で示される化合物との反応の際、適当
な触媒を用いることはしばしば良好な収率をもたらす。
例えば、式（２）におけるＸが水素原子、式（３）にお
けるＭも水素原子の場合、白金やロジウム等の遷移金属
触媒を用いるとよい。また、Ｘがハロゲン原子、Ｍが水
素原子の場合、副生するハロゲン化水素をトラップする
ための３級アミン等を添加することが推奨さる。Ｍがト
リアルキルシリル基の場合、特にトリメチルシリル基の
場合、副生するトリメチルシラン（Ｘが水素原子）やト
リメチルクロロシラン（Ｘが塩素原子）は低沸点の化合
物なので、蒸留により簡単に除去できる。
サンと、式（３）で示される化合物との反応の際、適当
な触媒を用いることはしばしば良好な収率をもたらす。
例えば、式（２）におけるＸが水素原子、式（３）にお
けるＭも水素原子の場合、白金やロジウム等の遷移金属
触媒を用いるとよい。また、Ｘがハロゲン原子、Ｍが水
素原子の場合、副生するハロゲン化水素をトラップする
ための３級アミン等を添加することが推奨さる。Ｍがト
リアルキルシリル基の場合、特にトリメチルシリル基の
場合、副生するトリメチルシラン（Ｘが水素原子）やト
リメチルクロロシラン（Ｘが塩素原子）は低沸点の化合
物なので、蒸留により簡単に除去できる。
【００１９】これらの反応の際の反応温度は、室温、冷
却下、加温下のいずれでもよく、反応圧力も常圧、減
圧、加圧下のいずれで行なってもよい。反応温度に関し
ては、通常は−８０℃から２００℃の範囲で反応が行な
われ、好ましくは−２５℃から１５０℃の範囲である。
特に副生する化合物を除去しながら反応させる場合に
は、副生する化合物の沸点以上で反応させるのが好まし
い。
却下、加温下のいずれでもよく、反応圧力も常圧、減
圧、加圧下のいずれで行なってもよい。反応温度に関し
ては、通常は−８０℃から２００℃の範囲で反応が行な
われ、好ましくは−２５℃から１５０℃の範囲である。
特に副生する化合物を除去しながら反応させる場合に
は、副生する化合物の沸点以上で反応させるのが好まし
い。
【００２０】これらの合成反応は適当な溶媒中、あるい
無溶媒で行うことができる。溶媒としては原料化合物と
生成ポリマーを良好に溶解し、反応に悪影響を与えない
溶媒であればなんら制限はない。溶媒としては次のもの
が例示される。ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ンなどの脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、ジフェニルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブ
チルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルブチルケトンなどのケトン系溶媒；四塩化
炭素、クロロフォルム、トリクロロエタン、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化溶
媒；ジメチルフォルムアミド；ジメチルスルフォキシ
ド；燐酸ヘキサメチルトリアミド。
無溶媒で行うことができる。溶媒としては原料化合物と
生成ポリマーを良好に溶解し、反応に悪影響を与えない
溶媒であればなんら制限はない。溶媒としては次のもの
が例示される。ペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタ
ンなどの脂肪族炭化水素；ベンゼン、トルエン、キシレ
ンなどの芳香族炭化水素；ジエチルエーテル、ジブチル
エーテル、ジフェニルエーテル、ジオキサン、テトラヒ
ドロフランなどのエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブ
チルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケ
トン、メチルブチルケトンなどのケトン系溶媒；四塩化
炭素、クロロフォルム、トリクロロエタン、トリクロロ
エチレン、テトラクロロエチレンなどのハロゲン化溶
媒；ジメチルフォルムアミド；ジメチルスルフォキシ
ド；燐酸ヘキサメチルトリアミド。
【００２１】
【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を説明する。例
中、平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー（ＧＰＣ）により、標準ポリジメチルシロキサンを
用いて得られた値を示す。 1ＨＮＭＲとあるのは、プロ
トン核磁気共鳴分光法のことであり、29ＳｉＮＭＲとあ
るのは、シリコン２９核磁気共鳴分光法のことである
（双方ともテトラメチルシランを標準とし、０ppm とす
る）。Ｍｅとあるのはメチル基、Ｖｉとあるのはビニル
基、Ｂｕとあるのはブチル基のことである。
中、平均分子量はゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー（ＧＰＣ）により、標準ポリジメチルシロキサンを
用いて得られた値を示す。 1ＨＮＭＲとあるのは、プロ
トン核磁気共鳴分光法のことであり、29ＳｉＮＭＲとあ
るのは、シリコン２９核磁気共鳴分光法のことである
（双方ともテトラメチルシランを標準とし、０ppm とす
る）。Ｍｅとあるのはメチル基、Ｖｉとあるのはビニル
基、Ｂｕとあるのはブチル基のことである。
【００２２】実施例１ フラスコに式Ｖｉ（Ｍｅ2 ＳｉＯ)3ＳｉＭｅ2 Ｃｌで示
されるテトラシロキサン４２ｇ（０．１２モル）、Ｎ−
トリメチルシリル−Ｎ−メチルアセトアミド２２ｇ
（０．１５モル）を投入し、室温で攪拌した。穏やかな
発熱反応がおさまった後、反応混合物を６０℃で１時間
加熱攪拌した。減圧蒸留により副生するトリメチルクロ
ロシランおよび未反応のアミドを除去すると、透明な液
体が得られた。
されるテトラシロキサン４２ｇ（０．１２モル）、Ｎ−
トリメチルシリル−Ｎ−メチルアセトアミド２２ｇ
（０．１５モル）を投入し、室温で攪拌した。穏やかな
発熱反応がおさまった後、反応混合物を６０℃で１時間
加熱攪拌した。減圧蒸留により副生するトリメチルクロ
ロシランおよび未反応のアミドを除去すると、透明な液
体が得られた。
【００２３】1ＨＮＭＲ分析によれば、得られた化合物
はビニル基（６．１〜５．８ppm ）、Ｎ−メチルアセト
アミド基（２．７ppm と２．０ppm ）およびケイ素に結
合したメチル基（０．２〜０．０ppm ）を有し、29Ｓｉ
ＮＭＲ分析によれば、ジメチルビニルシリル基（−３．
８ppm ）、ジメチルシロキサン単位（−２０．８pp
m）、Ｎ−メチルアセトアミドジメチルシリル基（−
７．２ppm ）を有することが判明した。さらにガスクロ
マトグラフィーや質量分析の結果から、得られた化合物
は式Ｖｉ（Ｍｅ2 ＳｉＯ)3ＳｉＭｅ2 Ｎ（Ｍｅ）ＣＯＭ
ｅで示される、片方の末端にアミド基を有するテトラシ
ロキサンであることが判明した。
はビニル基（６．１〜５．８ppm ）、Ｎ−メチルアセト
アミド基（２．７ppm と２．０ppm ）およびケイ素に結
合したメチル基（０．２〜０．０ppm ）を有し、29Ｓｉ
ＮＭＲ分析によれば、ジメチルビニルシリル基（−３．
８ppm ）、ジメチルシロキサン単位（−２０．８pp
m）、Ｎ−メチルアセトアミドジメチルシリル基（−
７．２ppm ）を有することが判明した。さらにガスクロ
マトグラフィーや質量分析の結果から、得られた化合物
は式Ｖｉ（Ｍｅ2 ＳｉＯ)3ＳｉＭｅ2 Ｎ（Ｍｅ）ＣＯＭ
ｅで示される、片方の末端にアミド基を有するテトラシ
ロキサンであることが判明した。
【００２４】実施例２ フラスコにヘキサメチルシクロトリシロキサン５２ｇ
（０．２３モル）とテトラヒドロフラン５２ｇを投入
し、室温で攪拌した。この溶液にブチルリチウムのヘキ
サン溶液（２．６Ｍ）を８．６ml（０．０２２モル）を
投入し、室温で反応させた。１時間４０分経過した時点
でヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が８６％
になったので、この反応溶液をジメチルジクロロシラン
１３ｇ（０．１モル）とテトラヒドロフラン１０ｇの入
ったフラスコに攪拌しながら５分間かけて投入した。減
圧蒸留により溶媒および未反応物を除去し、塩化リチウ
ムを濾過により除去すると、透明な液体が得られた。Ｇ
ＰＣおよび29ＳｉＮＭＲ分析により、得られたポリマー
は平均式Ｂｕ（Ｍｅ2 ＳｉＯ)27 ＳｉＭｅ2 Ｃｌで示さ
れるポリジメチルシロキサンであることが判明した。
（０．２３モル）とテトラヒドロフラン５２ｇを投入
し、室温で攪拌した。この溶液にブチルリチウムのヘキ
サン溶液（２．６Ｍ）を８．６ml（０．０２２モル）を
投入し、室温で反応させた。１時間４０分経過した時点
でヘキサメチルシクロトリシロキサンの転化率が８６％
になったので、この反応溶液をジメチルジクロロシラン
１３ｇ（０．１モル）とテトラヒドロフラン１０ｇの入
ったフラスコに攪拌しながら５分間かけて投入した。減
圧蒸留により溶媒および未反応物を除去し、塩化リチウ
ムを濾過により除去すると、透明な液体が得られた。Ｇ
ＰＣおよび29ＳｉＮＭＲ分析により、得られたポリマー
は平均式Ｂｕ（Ｍｅ2 ＳｉＯ)27 ＳｉＭｅ2 Ｃｌで示さ
れるポリジメチルシロキサンであることが判明した。
【００２５】このポリジメチルシロキサン３０ｇ（０．
０１４モル）、Ｎ−トリメチルシリル−Ｎ−メチルアセ
トアミド４．６ｇ（０．０３モル）を投入し、５０℃で
２時間加熱攪拌した。減圧蒸留により副生するトリメチ
ルクロロシランおよび未反応アミドを除去すると、透明
な液体が得られた。
０１４モル）、Ｎ−トリメチルシリル−Ｎ−メチルアセ
トアミド４．６ｇ（０．０３モル）を投入し、５０℃で
２時間加熱攪拌した。減圧蒸留により副生するトリメチ
ルクロロシランおよび未反応アミドを除去すると、透明
な液体が得られた。
【００２６】1ＨＮＭＲ分析によれば、得られた化合物
はブチル基（１．３〜０．５ppm ）、Ｎ−メチルアセト
アミド基（２．８ppm と２．０ppm ）およびケイ素に結
合したメチル基（０．３〜０．０ppm ）を有し、29Ｓｉ
ＮＭＲ分析によれば、ジメチルブチルシリル基（７．６
ppm ）、ジメチルシロキサン単位（−２１．１ppm ）、
Ｎ−メチルアセトアミドジメチルシリル基（−７．２pp
m ）を有することが判明した。さらにＧＰＣ分析の結果
（Ｍｎ：２１００、Ｍｗ：２６００）から、得られたポ
リマーは式Ｂｕ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）27ＳｉＭｅ2 Ｎ（Ｍ
ｅ）ＣＯＭｅで示されるポリジメチルシロキサンである
ことが判明した。
はブチル基（１．３〜０．５ppm ）、Ｎ−メチルアセト
アミド基（２．８ppm と２．０ppm ）およびケイ素に結
合したメチル基（０．３〜０．０ppm ）を有し、29Ｓｉ
ＮＭＲ分析によれば、ジメチルブチルシリル基（７．６
ppm ）、ジメチルシロキサン単位（−２１．１ppm ）、
Ｎ−メチルアセトアミドジメチルシリル基（−７．２pp
m ）を有することが判明した。さらにＧＰＣ分析の結果
（Ｍｎ：２１００、Ｍｗ：２６００）から、得られたポ
リマーは式Ｂｕ（Ｍｅ2 ＳｉＯ）27ＳｉＭｅ2 Ｎ（Ｍ
ｅ）ＣＯＭｅで示されるポリジメチルシロキサンである
ことが判明した。
【００２７】実施例３ フラスコに実施例２における中間体である平均式Ｂｕ
（Ｍｅ2 ＳｉＯ）27Ｍｅ 2 ＳｉＣｌで示されるポリジメ
チルシロキサンを３０ｇ（０．０１４モル）、テトラヒ
ドロフラン５０ｇ、Ｎ−メチルアセトアミドのナトリウ
ム塩１．４ｇ（０．０１４モル）を投入し、２４時間リ
フラックスさせた。蒸留により溶媒を除去、濾過により
塩化ナトリウムを除去すると、透明な液体が得られた。
1Ｈ、29ＳｉＮＭＲおよびＧＰＣ分析によれば、得られ
たポリマーは実施例２で得られたものと全く同一である
ことが判明した。
（Ｍｅ2 ＳｉＯ）27Ｍｅ 2 ＳｉＣｌで示されるポリジメ
チルシロキサンを３０ｇ（０．０１４モル）、テトラヒ
ドロフラン５０ｇ、Ｎ−メチルアセトアミドのナトリウ
ム塩１．４ｇ（０．０１４モル）を投入し、２４時間リ
フラックスさせた。蒸留により溶媒を除去、濾過により
塩化ナトリウムを除去すると、透明な液体が得られた。
1Ｈ、29ＳｉＮＭＲおよびＧＰＣ分析によれば、得られ
たポリマーは実施例２で得られたものと全く同一である
ことが判明した。
【００２８】
【発明の効果】以上説明したように、式（１）で示され
るポリジオルガノシロキサンは新規な化合物であり、末
端のアミドシリル基の活性水酸基に対する反応性を利用
した、反応性ポリマー、例えば親水性化合物の疎水化
剤、ポリオール化合物へのポリシロキサンのグラフト剤
として非常に有用なものである。また、本発明の製造方
法により、式（１）に示される新規なポリジオルガノシ
ロキサンが合成される。
るポリジオルガノシロキサンは新規な化合物であり、末
端のアミドシリル基の活性水酸基に対する反応性を利用
した、反応性ポリマー、例えば親水性化合物の疎水化
剤、ポリオール化合物へのポリシロキサンのグラフト剤
として非常に有用なものである。また、本発明の製造方
法により、式（１）に示される新規なポリジオルガノシ
ロキサンが合成される。
Claims (4)
- 【請求項１】 一般式： 【化１】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 ，Ｒ3 ，Ｒ4 ，Ｒ5 は同種又は異種
の一価の炭化水素基であり、Ｒ6 は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、ハロゲン化炭化水素基より選択され
る基であり、ｎは３〜１０００の整数であり、ａおよび
ｂは０以上３以下の整数であり、ａ＋ｂは３である。）
で示されるアミド基含有ポリジオルガノシロキサン。 - 【請求項２】Ｒ1 〜Ｒ5 がメチル基であり、Ｒ6 がビニ
ル基またはブチル基であることを特徴とする、請求項１
に記載のアミド基含有ポリジオルガノシロキサン。 - 【請求項３】一般式 【化２】 （式中、Ｒ3 〜Ｒ6 ，ｎ，ａ，ｂは前記と同じ意味であ
り、Ｘはハロゲン原子または水素原子である。）で示さ
れるポリジオルガノシロキサンと、式 【化３】 （式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は前記と同じ意味であり、Ｍは水素
原子、アルカリ金属またはトリアルキルシリル基であ
る。）で示される化合物とを反応させることを特徴とす
る、一般式 【化４】 （式中、Ｒ1 〜Ｒ6 ，ｎ，ａ，ｂは前記と同じ意味であ
る。）で示されるアミド基含有ポリジオルガノシロキサ
ンの製造方法。 - 【請求項４】Ｘが塩素原子、Ｍがトリメチルシリル基ま
たはナトリウムであることを特徴とする、請求項３に記
載のアミド基含有ポリジオルガノシロキサンの製造方
法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25284692A JPH06100574A (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | アミド基含有ポリジオルガノシロキサンおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP25284692A JPH06100574A (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | アミド基含有ポリジオルガノシロキサンおよびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06100574A true JPH06100574A (ja) | 1994-04-12 |
Family
ID=17243001
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP25284692A Withdrawn JPH06100574A (ja) | 1992-09-22 | 1992-09-22 | アミド基含有ポリジオルガノシロキサンおよびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06100574A (ja) |
-
1992
- 1992-09-22 JP JP25284692A patent/JPH06100574A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19991130 |