JPH06157514A - [(アリールスルホニルアミノ)オキソエチル]ピペリジン誘導体 - Google Patents
[(アリールスルホニルアミノ)オキソエチル]ピペリジン誘導体Info
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- JPH06157514A JPH06157514A JP5069846A JP6984693A JPH06157514A JP H06157514 A JPH06157514 A JP H06157514A JP 5069846 A JP5069846 A JP 5069846A JP 6984693 A JP6984693 A JP 6984693A JP H06157514 A JPH06157514 A JP H06157514A
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【構成】 式(I)で示される化合物およびその薬学的に
許容される有機塩類もしくは無機塩類、それらの製造方
法ならびに式(I)の化合物またはその塩を含む医薬品。 [式中、Rは式: で示される基、R1は水素原子または(C1〜C4)アルキ
ル基、Xは硫黄原子、酸素原子またはメチレン基、nは
1または2、およびArはジ(C1〜C4)アルキルアミノ
基で置換されたナフタレン−1−イル基、または6,7
−ジ(C1〜C4)アルコキシナフタレン−1−イル基、ま
たは3位が(C1〜C4)アルキル基で置換されたキノリン
−8−イル基、または3位が(C1〜C4)アルキル基で置
換された1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イ
ル基、または1H−インダゾール−7−イル基のいずれ
かを表わす] 【効果】 血栓症の処置に有用である。
許容される有機塩類もしくは無機塩類、それらの製造方
法ならびに式(I)の化合物またはその塩を含む医薬品。 [式中、Rは式: で示される基、R1は水素原子または(C1〜C4)アルキ
ル基、Xは硫黄原子、酸素原子またはメチレン基、nは
1または2、およびArはジ(C1〜C4)アルキルアミノ
基で置換されたナフタレン−1−イル基、または6,7
−ジ(C1〜C4)アルコキシナフタレン−1−イル基、ま
たは3位が(C1〜C4)アルキル基で置換されたキノリン
−8−イル基、または3位が(C1〜C4)アルキル基で置
換された1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イ
ル基、または1H−インダゾール−7−イル基のいずれ
かを表わす] 【効果】 血栓症の処置に有用である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は[(アリールスルホニルア
ミノ)オキソエチル]ピペリジン誘導体、更に詳しくは1
−[2−(アリールスルホニルアミノ)−1−オキソエチ
ル]ピペリジン誘導体、その製造法およびその薬学的使
用に関する。
ミノ)オキソエチル]ピペリジン誘導体、更に詳しくは1
−[2−(アリールスルホニルアミノ)−1−オキソエチ
ル]ピペリジン誘導体、その製造法およびその薬学的使
用に関する。
【0002】
【発明の構成】本発明化合物は式:
【化38】 で示される化合物(I)である[式中、Rは式:
【化39】 で示される基(基中、R2は水素原子、(C1〜C4)アルコ
キシカルボニル基、カルボニル基、カルボン酸ナトリウ
ム基、式:−CH2OR4で示される基(R4は水素原子、
(C1〜C4)アルキル基、または(C1〜C4)アシル基であ
る)、式:−CONR5R6で示されるアミド基、または
式:−CN4R5で示される基(R5は水素原子もしくは
(C1〜C4)アルキル基、R6は水素原子、(C1〜C4)ア
ルキル基、ヒドロキシ基もしくは(C1〜C4)アルコキシ
基)、およびR3は(C1〜C4)アルキル基)、R1は水素原
子または(C1〜C4)アルキル基、Xは硫黄原子または酸
素原子のいずれかまたはメチレン基、nは1または2、
およびArはジ(C1〜C4)アルキルアミノ基で置換され
たナフタレン−1−イル基、または6,7−ジ(C1〜
C4)アルコキシナフタレン−1−イル基、または3位が
(C1〜C4)アルキル基で置換されたキノリン−8−イル
基、または3位が(C1〜C4)アルキル基で置換された
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル基、ま
たは1H−インダゾール−7−イル基のいずれかを表わ
す]。
キシカルボニル基、カルボニル基、カルボン酸ナトリウ
ム基、式:−CH2OR4で示される基(R4は水素原子、
(C1〜C4)アルキル基、または(C1〜C4)アシル基であ
る)、式:−CONR5R6で示されるアミド基、または
式:−CN4R5で示される基(R5は水素原子もしくは
(C1〜C4)アルキル基、R6は水素原子、(C1〜C4)ア
ルキル基、ヒドロキシ基もしくは(C1〜C4)アルコキシ
基)、およびR3は(C1〜C4)アルキル基)、R1は水素原
子または(C1〜C4)アルキル基、Xは硫黄原子または酸
素原子のいずれかまたはメチレン基、nは1または2、
およびArはジ(C1〜C4)アルキルアミノ基で置換され
たナフタレン−1−イル基、または6,7−ジ(C1〜
C4)アルコキシナフタレン−1−イル基、または3位が
(C1〜C4)アルキル基で置換されたキノリン−8−イル
基、または3位が(C1〜C4)アルキル基で置換された
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル基、ま
たは1H−インダゾール−7−イル基のいずれかを表わ
す]。
【0003】本発明の化合物のうち、Rが式:
【化40】 で示される基(基中、R2が水素原子、(C1〜C4)アルコ
キシカルボニル基、カルボキシル基、カルボン酸ナトリ
ウム基、式:−CH2OR4で示される基(R4は水素原
子、(C1〜C4)アルキル基、または(C1〜C4)アシ
ル基である)、式:−CONR5R6で示されるアミド
基、または式:−CN4R5で示される基(R5が水素原
子もしくは(C1〜C4)アルキル基、R6が水素原子、(C
1〜C4)アルキル基、ヒドロキシ基もしくは(C1〜C4)
アルコキシ基)、およびR3が(C1〜C4)アルキル基)、
R1が水素原子または(C1〜C4)アルキル基、Xが硫黄
原子、酸素原子またはメチレン基、nが1または2、お
よびArが5−(ジメチルアミノ)ナフタレン−1−イル
基、6,7−ジメトキシナフタレン−1−イル基、3−
メチルキノリン−8−イル基または3−メチル−1,2,
3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル基である化合
物が好ましい。
キシカルボニル基、カルボキシル基、カルボン酸ナトリ
ウム基、式:−CH2OR4で示される基(R4は水素原
子、(C1〜C4)アルキル基、または(C1〜C4)アシ
ル基である)、式:−CONR5R6で示されるアミド
基、または式:−CN4R5で示される基(R5が水素原
子もしくは(C1〜C4)アルキル基、R6が水素原子、(C
1〜C4)アルキル基、ヒドロキシ基もしくは(C1〜C4)
アルコキシ基)、およびR3が(C1〜C4)アルキル基)、
R1が水素原子または(C1〜C4)アルキル基、Xが硫黄
原子、酸素原子またはメチレン基、nが1または2、お
よびArが5−(ジメチルアミノ)ナフタレン−1−イル
基、6,7−ジメトキシナフタレン−1−イル基、3−
メチルキノリン−8−イル基または3−メチル−1,2,
3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル基である化合
物が好ましい。
【0004】本発明のこれらの化合物のうち、Rが式:
【化41】 で示される基(基中、R2がカルボキシル基、エトキシ
カルボニル基、ヒドロキシカルボキサミド基、ヒドロキ
シメチル基または1H−テトラゾリル基、およびR3が
メチル基またはエチル基)、R1が水素原子またはメチル
基、Xがメチレン基、nが1、およびArが3−メチル−
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル基であ
る化合物が好ましい。
カルボニル基、ヒドロキシカルボキサミド基、ヒドロキ
シメチル基または1H−テトラゾリル基、およびR3が
メチル基またはエチル基)、R1が水素原子またはメチル
基、Xがメチレン基、nが1、およびArが3−メチル−
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル基であ
る化合物が好ましい。
【0005】本発明化合物は置換基の意義により3個の
不斉中心を有する。ピペリジニル基の好ましい配置は
[2R,4R]である。式:
不斉中心を有する。ピペリジニル基の好ましい配置は
[2R,4R]である。式:
【化42】 で示される中心アミノ酸部分中の不斉炭素の好ましい配
置は[S]である。またArが3位に(C1〜C4)アルキル
置換基を有する1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−
8−イル基であるとき、第四の不斉中心が存在する。こ
の場合の化合物はジアステレオマー混合物型である。本
発明化合物は遊離塩基型または薬学的に許容される酸付
加塩型であることができる。
置は[S]である。またArが3位に(C1〜C4)アルキル
置換基を有する1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−
8−イル基であるとき、第四の不斉中心が存在する。こ
の場合の化合物はジアステレオマー混合物型である。本
発明化合物は遊離塩基型または薬学的に許容される酸付
加塩型であることができる。
【0006】後記合成工程表1〜4において、R1、
R2、R3、R4、R5およびArは前記と同意義、Tsは4
−(メチルフェニル)スルホニル基を表わす。Xがメチレ
ン基である本発明化合物は、式:
R2、R3、R4、R5およびArは前記と同意義、Tsは4
−(メチルフェニル)スルホニル基を表わす。Xがメチレ
ン基である本発明化合物は、式:
【化43】 [式中、nは1または2、R1、R2、R3およびArは前記
と同意義]で示される化合物(Ia)であって、これらの化
合物は次に示す合成工程表1のように合成することがで
きる。
と同意義]で示される化合物(Ia)であって、これらの化
合物は次に示す合成工程表1のように合成することがで
きる。
【化44】
【化45】
【0007】第1段階において、アルコール(II)と塩
化チオニルを、ジメチルホルムアミドとジクロロメタン
の混合物中で反応させ、得られた化合物とトリフェニル
ホスフィンを、ジメチルホルムアミドまたはベンゼンの
ような溶媒中、80℃で反応させてトリフェニルメチル
ホスホニウムクロリド(III)を得る。
化チオニルを、ジメチルホルムアミドとジクロロメタン
の混合物中で反応させ、得られた化合物とトリフェニル
ホスフィンを、ジメチルホルムアミドまたはベンゼンの
ような溶媒中、80℃で反応させてトリフェニルメチル
ホスホニウムクロリド(III)を得る。
【0008】第2段階において、化合物(III)と化合
物(IV)を反応させる。この反応はテトラヒドロフラン
中、n−ブチルリチウムの存在下、−70℃で行ない、
二重結合におけるシス/トランス混合物型として化合物
(V)を得る。
物(IV)を反応させる。この反応はテトラヒドロフラン
中、n−ブチルリチウムの存在下、−70℃で行ない、
二重結合におけるシス/トランス混合物型として化合物
(V)を得る。
【0009】第3段階において、上記化合物(V)を接触
水素化して化合物(VI)を得る。
水素化して化合物(VI)を得る。
【0010】第4段階において、この化合物と式:ArS
O2Cl(Arは前記と同意義)で示されるアリールスルホ
ニルクロリドと反応させて化合物(VII)を得る。この
反応はクロロホルムまたはジクロロメタンのような溶媒
中、トリエチルアミンのような塩基の存在下で行なう。
O2Cl(Arは前記と同意義)で示されるアリールスルホ
ニルクロリドと反応させて化合物(VII)を得る。この
反応はクロロホルムまたはジクロロメタンのような溶媒
中、トリエチルアミンのような塩基の存在下で行なう。
【0011】第5段階において、化合物(VII)をベン
ゼンのような溶媒中、ガス状塩酸媒質中で脱保護処理し
て化合物(VIII)を得る。
ゼンのような溶媒中、ガス状塩酸媒質中で脱保護処理し
て化合物(VIII)を得る。
【0012】第6段階において、化合物(VIII)と化
合物(IX)を縮合して化合物(X)を得る。この反応は4
−メチルモルホリンまたはN,N−ジイソプロピルエチ
ルアミン(“フニヒ"(Hunig)塩基のような塩基および
[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメ
チルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩、
ジフェニルホスホリルアジドまたは1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾールとカップリングした1−(3−ジメチル
アミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩の
ようなカップリング剤の存在下に行なう。
合物(IX)を縮合して化合物(X)を得る。この反応は4
−メチルモルホリンまたはN,N−ジイソプロピルエチ
ルアミン(“フニヒ"(Hunig)塩基のような塩基および
[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメ
チルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩、
ジフェニルホスホリルアジドまたは1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾールとカップリングした1−(3−ジメチル
アミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩の
ようなカップリング剤の存在下に行なう。
【0013】第7段階において、化合物(X)を水素化ま
たはテトラヒドロフランと水の混合物中酢酸の作用によ
り、イミダゾール核上の脱保護処理を行ない、化合物
(Ia)を得る。Arが3−メチルキノリン−8−イル基で
ある化合物(X)を加熱により水素化するとき、Arが3
−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−
イル基である化合物(Ia)が得られる。R2が(C1〜C4)
アルコキシカルボニル基である化合物(Ia)を水酸化ナ
トリウムの1N水溶液と反応させるとき、対応する酸の
塩を得ることができる。
たはテトラヒドロフランと水の混合物中酢酸の作用によ
り、イミダゾール核上の脱保護処理を行ない、化合物
(Ia)を得る。Arが3−メチルキノリン−8−イル基で
ある化合物(X)を加熱により水素化するとき、Arが3
−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−
イル基である化合物(Ia)が得られる。R2が(C1〜C4)
アルコキシカルボニル基である化合物(Ia)を水酸化ナ
トリウムの1N水溶液と反応させるとき、対応する酸の
塩を得ることができる。
【0014】Xが硫黄原子である本発明化合物は、式:
【化46】 [式中、nは1または2、R1、R2、R3およびArは前記
と同意義]で示される化合物(Ib)である。nが1である
化合物(Ib)は次に示す合成工程表2のように合成する
ことができる。
と同意義]で示される化合物(Ib)である。nが1である
化合物(Ib)は次に示す合成工程表2のように合成する
ことができる。
【化47】
【化48】
【0015】第1段階において、アルコール(II)と塩
化チオニルを、ジメチルホルムアミドとジクロロメタン
の混合物中で反応させ、得られた化合物とL−システイ
ン(XI)を反応させて化合物(XII)を得る。この反応
を水酸化ナトリウムの1N水溶液中で行なう。
化チオニルを、ジメチルホルムアミドとジクロロメタン
の混合物中で反応させ、得られた化合物とL−システイ
ン(XI)を反応させて化合物(XII)を得る。この反応
を水酸化ナトリウムの1N水溶液中で行なう。
【0016】第2段階において、化合物(XII)と式:
ArSO2Cl(Arは前記と同意義)で示されるアリールス
ルホニルクロリドと反応させて化合物(XIII)を得
る。この反応をクロロホルムのような溶媒中、トリエチ
ルアミンのような塩基の存在下で行なう。
ArSO2Cl(Arは前記と同意義)で示されるアリールス
ルホニルクロリドと反応させて化合物(XIII)を得
る。この反応をクロロホルムのような溶媒中、トリエチ
ルアミンのような塩基の存在下で行なう。
【0017】第3段階において、上記化合物と化合物
(IX)を縮合させて化合物(XIV)を得る。この反応を
4−メチルモルホリンまたはN,N−ジイソプロピルエ
チルアミン(フニヒ塩基)のような塩基および[(ベンゾト
リアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメチルアミノ)
ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩、ジフェニルホ
スホリルアジドまたは1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ルとカップリングした1−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩のようなカップ
リング剤の存在下で行なう。
(IX)を縮合させて化合物(XIV)を得る。この反応を
4−メチルモルホリンまたはN,N−ジイソプロピルエ
チルアミン(フニヒ塩基)のような塩基および[(ベンゾト
リアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメチルアミノ)
ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩、ジフェニルホ
スホリルアジドまたは1−ヒドロキシベンゾトリアゾー
ルとカップリングした1−(3−ジメチルアミノプロピ
ル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩のようなカップ
リング剤の存在下で行なう。
【0018】第4段階において、化合物(XIV)を水素
化するか、またはテトラヒドロフランと水の混合物中酢
酸の作用によりイミダゾール核上の脱保護処理を行な
い、化合物(Ib)を得る。Arが3−メチルキノリン−8
−イル基である化合物(XIV)を加熱により水素化する
とき、Arが3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ノリン−8−イル基である化合物(Ib)が得られる。
化するか、またはテトラヒドロフランと水の混合物中酢
酸の作用によりイミダゾール核上の脱保護処理を行な
い、化合物(Ib)を得る。Arが3−メチルキノリン−8
−イル基である化合物(XIV)を加熱により水素化する
とき、Arが3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ノリン−8−イル基である化合物(Ib)が得られる。
【0019】nが2である化合物(Ib)は次に示す合成工
程表3のように合成することができる。
程表3のように合成することができる。
【化49】
【化50】
【0020】第1段階において、アルコール(II)と塩
化チオニルを、ジメチルホルムアミドとジクロロメタン
の混合物中で反応させ、得られた化合物とチオ酢酸カリ
ウムを反応させて化合物(XV)を得る。
化チオニルを、ジメチルホルムアミドとジクロロメタン
の混合物中で反応させ、得られた化合物とチオ酢酸カリ
ウムを反応させて化合物(XV)を得る。
【0021】第2段階において、化合物(XV)とトシラ
ート(XVI)を反応させて化合物(XVII)を得る。こ
の反応をナトリウムメチラートのような塩基の存在下に
行なう。トシラート(XVI)は、塩基の存在下、化合物
(IV)の前駆体であるアルコール体に対するパラトルエ
ンスルホニルクロリドの作用により得られる。この合成
法はバレリオ(Valerio R.M.)ら[シンセシス(Synth
esis)1988年786]により開示されている。
ート(XVI)を反応させて化合物(XVII)を得る。こ
の反応をナトリウムメチラートのような塩基の存在下に
行なう。トシラート(XVI)は、塩基の存在下、化合物
(IV)の前駆体であるアルコール体に対するパラトルエ
ンスルホニルクロリドの作用により得られる。この合成
法はバレリオ(Valerio R.M.)ら[シンセシス(Synth
esis)1988年786]により開示されている。
【0022】第3段階において、化合物(XVII)をベ
ンゼン中ガス状塩酸で脱保護処理し、化合物(XVII
I)を得る。
ンゼン中ガス状塩酸で脱保護処理し、化合物(XVII
I)を得る。
【0023】第4段階において、化合物(XVIII)と
化合物(IX)を縮合させて化合物(XIX)を得る。この
反応を、4−メチルモルホリンまたはN,N−ジイソプ
ロピルエチルアミン(フニヒ塩基)のような塩基および
[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメ
チルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩、
ジフェニルホスホリルアジドまたは1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾールとカップリングした1−(3−ジメチル
−アミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩
のようなカップリング剤の存在下に行なわれる。
化合物(IX)を縮合させて化合物(XIX)を得る。この
反応を、4−メチルモルホリンまたはN,N−ジイソプ
ロピルエチルアミン(フニヒ塩基)のような塩基および
[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメ
チルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩、
ジフェニルホスホリルアジドまたは1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾールとカップリングした1−(3−ジメチル
−アミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩
のようなカップリング剤の存在下に行なわれる。
【0024】第5段階において、化合物(XIX)を好ま
しくは酸媒体中、そのアミノ保護基を脱保護処理して化
合物(XX)を得る。
しくは酸媒体中、そのアミノ保護基を脱保護処理して化
合物(XX)を得る。
【0025】第6段階において、化合物(XX)を式:Ar
SO2Cl(Arは前記と同意義)で示されるアリールスル
ホニルクロリドと反応させて化合物(XXI)を得る。こ
の反応をクロロホルムのような溶媒中、トリエチルアミ
ンのような塩基の存在下で行なう。
SO2Cl(Arは前記と同意義)で示されるアリールスル
ホニルクロリドと反応させて化合物(XXI)を得る。こ
の反応をクロロホルムのような溶媒中、トリエチルアミ
ンのような塩基の存在下で行なう。
【0026】第7段階において、化合物(XXI)を水素
化するか、またはテトラヒドロフランと水の混合物中酢
酸の作用によりイミダゾール核上の脱保護処理を行な
い、化合物(Ib)を得る。Arが3−メチルキノリン−8
−イル基である化合物(XXI)を加熱により水素化する
とき、Arが3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ノリン−8−イル基である化合物(Ib)が得られる。化
合物(Ib)のR2が(C1〜C4)アルコキシカルボニル基で
あるとき、この化合物を水酸化ナトリウム溶液と反応さ
せて対応する酸の塩を得ることができる。
化するか、またはテトラヒドロフランと水の混合物中酢
酸の作用によりイミダゾール核上の脱保護処理を行な
い、化合物(Ib)を得る。Arが3−メチルキノリン−8
−イル基である化合物(XXI)を加熱により水素化する
とき、Arが3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキ
ノリン−8−イル基である化合物(Ib)が得られる。化
合物(Ib)のR2が(C1〜C4)アルコキシカルボニル基で
あるとき、この化合物を水酸化ナトリウム溶液と反応さ
せて対応する酸の塩を得ることができる。
【0027】Xが酸素原子である本発明化合物は、式:
【化51】 [式中、nは1または2、R1、R2、R3およびArは前記
と同意義]で示される化合物「Ic]である。これらの化合
物は次に示す合成工程表4のように合成することができ
る。
と同意義]で示される化合物「Ic]である。これらの化合
物は次に示す合成工程表4のように合成することができ
る。
【化52】
【0028】第1段階において、アルコール(II)と塩
化チオニルをジメチルホルムアミドとジクロロメタンの
混合物中で反応させ、得られた化合物を化合物(XXI
I)(あらかじめテトラヒドロフラン中、過剰量の水素化
ナトリウムの存在下で処理したもの)と反応させて化合
物(XXIII)を得る。
化チオニルをジメチルホルムアミドとジクロロメタンの
混合物中で反応させ、得られた化合物を化合物(XXI
I)(あらかじめテトラヒドロフラン中、過剰量の水素化
ナトリウムの存在下で処理したもの)と反応させて化合
物(XXIII)を得る。
【0029】第2段階において、化合物(XXIII)と
化合物(IX)を縮合させて化合物(XXIV)を得る。こ
の反応は、4−メチルモルホリンまたはN,N−ジイソ
プロピルエチルアミン(フニヒ塩基)のような塩基および
[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメ
チルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩、
ジフェニルホスホリルアジドまたは1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾールとカップリングした1−(3−ジメチル
アミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩の
ようなカップリング剤の存在下に行なわれる。
化合物(IX)を縮合させて化合物(XXIV)を得る。こ
の反応は、4−メチルモルホリンまたはN,N−ジイソ
プロピルエチルアミン(フニヒ塩基)のような塩基および
[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメ
チルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩、
ジフェニルホスホリルアジドまたは1−ヒドロキシベン
ゾトリアゾールとカップリングした1−(3−ジメチル
アミノプロピル)−3−エチルカルボジイミド塩酸塩の
ようなカップリング剤の存在下に行なわれる。
【0030】第3段階において、上記化合物をジクロロ
エタンとメタノールの混合物中、トリフルオロ酢酸の作
用によりアミノ保護基を脱離して官能性第一級アミノ基
とし、次いでクロロホルムまたはジクロロメタンのよう
な溶媒中、トリエチルアミンのような塩基の存在下、
式:ArSO2Cl(Arは前記と同意義)で示されるアリー
ルスルホニルクロリドと反応させる。最終段階におい
て、化合物(XXIV)をテトラヒドロフランと水の混合
物中、酢酸の作用によりイミダゾール核上の保護基を脱
離して化合物(Ic)を得る。
エタンとメタノールの混合物中、トリフルオロ酢酸の作
用によりアミノ保護基を脱離して官能性第一級アミノ基
とし、次いでクロロホルムまたはジクロロメタンのよう
な溶媒中、トリエチルアミンのような塩基の存在下、
式:ArSO2Cl(Arは前記と同意義)で示されるアリー
ルスルホニルクロリドと反応させる。最終段階におい
て、化合物(XXIV)をテトラヒドロフランと水の混合
物中、酢酸の作用によりイミダゾール核上の保護基を脱
離して化合物(Ic)を得る。
【0031】欧州特許第0008746号にN2−アリ
ールスルホニル−L−アルギニンアミドの誘導体が開示
されている。
ールスルホニル−L−アルギニンアミドの誘導体が開示
されている。
【0032】本発明を合成するための出発化合物は商業
的に入手しうるかまたは文献に記載されており、あるい
は文献に記載された方法もしくはこの技術分野で知られ
た方法により製造することができる。
的に入手しうるかまたは文献に記載されており、あるい
は文献に記載された方法もしくはこの技術分野で知られ
た方法により製造することができる。
【0033】このように化合物(II)は欧州特許第02
42973号およびグリフイス(Griffith R.K.)ら
[シンセシス(Synthesis)1983年576]により記載
された方法と同様の方法により製せられる。ある種の化
合物(IV)はバレリオ(Valerio R.M.)ら[シンセシ
ス(Synthesis)1988年786]により記載されてい
る。8−(クロロスルホニル)−3−メチルキノリンの製
造は日本国特許第59184161号に開示されてい
る。
42973号およびグリフイス(Griffith R.K.)ら
[シンセシス(Synthesis)1983年576]により記載
された方法と同様の方法により製せられる。ある種の化
合物(IV)はバレリオ(Valerio R.M.)ら[シンセシ
ス(Synthesis)1988年786]により記載されてい
る。8−(クロロスルホニル)−3−メチルキノリンの製
造は日本国特許第59184161号に開示されてい
る。
【0034】8−(クロロスルホニル)−3−メチル−
1,2,3,4−テトラヒドロキノリンは8−(クロロスル
ホニル)−3−メチルキノリンから次のように製造する
ことができる。8−(クロロスルホニル)−3−メチルキ
ノリンをまず水酸化ナトリウム水溶液で加水分解し、得
られたスルホン酸ナトリウムを酸性にした後、ロジウム
触媒の存在下に接触水素化する。得られた化合物をトリ
エチルアンモニウム塩型としてジクロロメタンのような
溶媒中、トリフェニルホスフィノスルフリルクロリド錯
体で処理する。
1,2,3,4−テトラヒドロキノリンは8−(クロロスル
ホニル)−3−メチルキノリンから次のように製造する
ことができる。8−(クロロスルホニル)−3−メチルキ
ノリンをまず水酸化ナトリウム水溶液で加水分解し、得
られたスルホン酸ナトリウムを酸性にした後、ロジウム
触媒の存在下に接触水素化する。得られた化合物をトリ
エチルアンモニウム塩型としてジクロロメタンのような
溶媒中、トリフェニルホスフィノスルフリルクロリド錯
体で処理する。
【0035】R2がカルボキシル基またはエトキシカル
ボニル基、R3がメチル基またはエチル基である化合物
(IX)の製造は欧州特許第00087746号に開示さ
れている。この化合物を酒石酸で化学的に分割し、[2
R,4R]型化合物を製し、この型の化合物を用いて他の
化合物(IX)を製造する。
ボニル基、R3がメチル基またはエチル基である化合物
(IX)の製造は欧州特許第00087746号に開示さ
れている。この化合物を酒石酸で化学的に分割し、[2
R,4R]型化合物を製し、この型の化合物を用いて他の
化合物(IX)を製造する。
【0036】同様にR2が−CH2OR4基(R4が水素原
子)である化合物(IX)は次のようにして製造すること
ができる。R2がエトキシカルボニル基である化合物(I
X)を、ジクロロメタンのような溶媒中、常套の条件
下、二炭酸ビス(1,1−ジメチルエチル)エステルで処
理する。このようにして得られた化合物のカルボキシル
機能を、R.M.ValerioらのSynthesis,1988,786に記載さ
れている混合無水物法、またはテトラヒドロフランなど
の溶媒中におけるボラン−ジメチルスルフィド錯体の作
用のいずれかによって還元する。次いで、得られた化合
物のアミン官能基をトリフルオロ酢酸の作用によって直
接脱保護し、R2が−CH2OR4(ここに、R4は水素原
子)である式(IX)で示される化合物を塩形態で得、これ
は次工程で使用するように利用できる。
子)である化合物(IX)は次のようにして製造すること
ができる。R2がエトキシカルボニル基である化合物(I
X)を、ジクロロメタンのような溶媒中、常套の条件
下、二炭酸ビス(1,1−ジメチルエチル)エステルで処
理する。このようにして得られた化合物のカルボキシル
機能を、R.M.ValerioらのSynthesis,1988,786に記載さ
れている混合無水物法、またはテトラヒドロフランなど
の溶媒中におけるボラン−ジメチルスルフィド錯体の作
用のいずれかによって還元する。次いで、得られた化合
物のアミン官能基をトリフルオロ酢酸の作用によって直
接脱保護し、R2が−CH2OR4(ここに、R4は水素原
子)である式(IX)で示される化合物を塩形態で得、これ
は次工程で使用するように利用できる。
【0037】R2が−CH2OR4(ここに、R4はC1−C
4アルキル基)である式(IX)で示される化合物は以下のよ
うにして合成できる: R2が−CH2OR4基(ここに、
R4は水素原子)である式(IX)で示される化合物を水素化
ナトリウムなどの塩基の存在下、式:R4−X(ここに、
R4はC1−C4アルキル基、Xはハロゲン原子、好まし
くはヨウ素)で示されるアルキル・ハライドと反応させ
る。アミン機能の脱保護はジクロロメタン中、トリフル
オロ酢酸の作用によって行い、これによりR2が−CH2
OR4(ここに、R4はC1−C4アルキル基)である式(IX)
の化合物が塩形態で得られる。従って、R2が−CH2O
R4基(ここに、R4はC1−C4アシル基)である式(IX)の
化合物は、R2が−CH2OR4基(ここに、R4は水素原
子)である式(IX)の化合物から次のようにして直接的に
製造することができる: トリス−チラミンなどの塩基
の存在下、C1−C4アシル・クロライドと反応させ;
得られた化合物のアミン官能基の脱保護をトリフルオロ
酢酸の作用によって行い、R4がC1−C4アシル基であ
る式(IX)の化合物が塩形態で得られ、これは直接に使用
できる。
4アルキル基)である式(IX)で示される化合物は以下のよ
うにして合成できる: R2が−CH2OR4基(ここに、
R4は水素原子)である式(IX)で示される化合物を水素化
ナトリウムなどの塩基の存在下、式:R4−X(ここに、
R4はC1−C4アルキル基、Xはハロゲン原子、好まし
くはヨウ素)で示されるアルキル・ハライドと反応させ
る。アミン機能の脱保護はジクロロメタン中、トリフル
オロ酢酸の作用によって行い、これによりR2が−CH2
OR4(ここに、R4はC1−C4アルキル基)である式(IX)
の化合物が塩形態で得られる。従って、R2が−CH2O
R4基(ここに、R4はC1−C4アシル基)である式(IX)の
化合物は、R2が−CH2OR4基(ここに、R4は水素原
子)である式(IX)の化合物から次のようにして直接的に
製造することができる: トリス−チラミンなどの塩基
の存在下、C1−C4アシル・クロライドと反応させ;
得られた化合物のアミン官能基の脱保護をトリフルオロ
酢酸の作用によって行い、R4がC1−C4アシル基であ
る式(IX)の化合物が塩形態で得られ、これは直接に使用
できる。
【0038】また、R2が−CONR5R6基(ここに、R
5は水素原子又はC1−C4アルキル基、R6は水素原子、
C1−C4アルキル基、ヒドロキシ基又はC1−C4アルコ
キシ基)である式(IX)の化合物は以下のようにして製造
できる: R2がエトキシ−カルボニル基である式(IX)
の化合物をジクロロメタンなどの溶媒中、通常の条件下
においてビス(1,1−ジメチルエチル)ジカーボネイト
で処理する。このようにして得られた化合物を水酸化ナ
トリウム水溶液でケン化し、次いで式:HNR5R6(こ
こに、R5及びR6は前記の定義と同意義)で示されるア
ミンと反応させてアミドを得る。この反応は、N−メチ
ルモルホリン又はN,N−ジイソプロピルエチルアミン
[Hunig塩基]などの塩基、及び[(ベンゾトリアゾール−
1−イル)オキシ]トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム
・ヘキサフルオロホスフェイト又はイソブチルクロロホ
ルメートなどのカップリング剤の存在下に行う。このア
ミノ基は可能ならばアニソールを存在させ、ジクロロメ
タン中、トリフルオロ酢酸の作用によって脱保護する。
このようにして得られた化合物はトリフルオロ酢酸塩の
形態であり、これは次工程のようにして使用する。
5は水素原子又はC1−C4アルキル基、R6は水素原子、
C1−C4アルキル基、ヒドロキシ基又はC1−C4アルコ
キシ基)である式(IX)の化合物は以下のようにして製造
できる: R2がエトキシ−カルボニル基である式(IX)
の化合物をジクロロメタンなどの溶媒中、通常の条件下
においてビス(1,1−ジメチルエチル)ジカーボネイト
で処理する。このようにして得られた化合物を水酸化ナ
トリウム水溶液でケン化し、次いで式:HNR5R6(こ
こに、R5及びR6は前記の定義と同意義)で示されるア
ミンと反応させてアミドを得る。この反応は、N−メチ
ルモルホリン又はN,N−ジイソプロピルエチルアミン
[Hunig塩基]などの塩基、及び[(ベンゾトリアゾール−
1−イル)オキシ]トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム
・ヘキサフルオロホスフェイト又はイソブチルクロロホ
ルメートなどのカップリング剤の存在下に行う。このア
ミノ基は可能ならばアニソールを存在させ、ジクロロメ
タン中、トリフルオロ酢酸の作用によって脱保護する。
このようにして得られた化合物はトリフルオロ酢酸塩の
形態であり、これは次工程のようにして使用する。
【0039】R2が−CN4R5(R5が水素原子)である化
合物(IX)は次のように合成することができる。R2が
エトキシカルボニル基である化合物(IX)を、ジクロロ
メタンのような溶媒中、常套の条件下、二炭酸ビス(1,
1−ジメチルエチル)エステルで処理する。得られた化
合物をN−メチルモルホリンの様な塩基の存在下、アン
モニアで縮合する。この反応は、テトラヒドロフランの
ような溶媒中、4−メチルモルホリンのような塩基およ
びクロロギ酸イソブチルエステルのようなカップリング
剤の存在下に行なわれる。得られたカルボキサミド体を
オキシ三塩化リンで脱水し、得られた相当するニトリル
体をジメチルホルムアミドのような溶媒中、窒化ナトリ
ウムと塩化アンモニウムの存在下に加熱して相当するテ
トラゾリル誘導体を得る。得られたテトラゾリル誘導体
をトリフルオロ酢酸で処理し、R2が−CN4R5基(R5
は水素原子)である化合物(IX)を得る。
合物(IX)は次のように合成することができる。R2が
エトキシカルボニル基である化合物(IX)を、ジクロロ
メタンのような溶媒中、常套の条件下、二炭酸ビス(1,
1−ジメチルエチル)エステルで処理する。得られた化
合物をN−メチルモルホリンの様な塩基の存在下、アン
モニアで縮合する。この反応は、テトラヒドロフランの
ような溶媒中、4−メチルモルホリンのような塩基およ
びクロロギ酸イソブチルエステルのようなカップリング
剤の存在下に行なわれる。得られたカルボキサミド体を
オキシ三塩化リンで脱水し、得られた相当するニトリル
体をジメチルホルムアミドのような溶媒中、窒化ナトリ
ウムと塩化アンモニウムの存在下に加熱して相当するテ
トラゾリル誘導体を得る。得られたテトラゾリル誘導体
をトリフルオロ酢酸で処理し、R2が−CN4R5基(R5
は水素原子)である化合物(IX)を得る。
【0040】R2が−CN4R5(R5が(C1〜C4)アルキ
ル基である化合物(IX)は次のように合成することがで
きる。R2が−CN4R5基(R5が水素原子)である化合物
(IX)と式:R5−X(R5が(C1〜C4)アルキル基、Xが
ハロゲン原子、好ましくはヨウ素原子)で示されるハロ
ゲン化アルキルを縮合させる。ジクロロメタン中、トリ
フルオロ酢酸の作用によりアミン機能の脱保護を行う。
ル基である化合物(IX)は次のように合成することがで
きる。R2が−CN4R5基(R5が水素原子)である化合物
(IX)と式:R5−X(R5が(C1〜C4)アルキル基、Xが
ハロゲン原子、好ましくはヨウ素原子)で示されるハロ
ゲン化アルキルを縮合させる。ジクロロメタン中、トリ
フルオロ酢酸の作用によりアミン機能の脱保護を行う。
【0041】化合物(XXII)はバーロス(Barlos)ら
(ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J.
Org.Chem.)1982年47巻1324]により記載さ
れており、バーロス(Barlos)ら[テトラヘドロン(Tetr
ahedron)1983年39巻475]により記載されてい
るように処理する。
(ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー(J.
Org.Chem.)1982年47巻1324]により記載さ
れており、バーロス(Barlos)ら[テトラヘドロン(Tetr
ahedron)1983年39巻475]により記載されてい
るように処理する。
【0042】次に実施例により本発明化合物の製造法を
述べる。元素微量分析および1HNMRスペクトルによ
り生成物の構造を確認した。
述べる。元素微量分析および1HNMRスペクトルによ
り生成物の構造を確認した。
【0043】実施例1 [2R−[1(S),2α,4β]]−4−メチル−1−[2−
[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−
8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソ−5(1H−
イミダゾール−4−イル)ペンチル]ピペリジン−2−カ
ルボン酸エチルエステルの製造 1.1.トリフェニル[[(1−トリフェニルメチル)−1H
−イミダゾール−4−イル)メチル]ホスホニウムクロリ
ドの製造 トリフェニルホスフィン77.7g(296ミリモル)を、
4−(クロロメチル)−1−(トリフェニルメチル)−1H
−イミダゾール105.5g(294ミリモル)をジメチル
ホルムアミド670mlに入れた溶液に加える。この混合
物を80℃で3時間加熱する。溶媒を蒸発させ、粗残留
物をエーテルに溶解して摩砕処理する。沈殿を濾過して
五酸化リン上、減圧下に乾燥する。黄色結晶形として生
成物162gを得る。融点=210℃、収率=89%。
[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−
8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソ−5(1H−
イミダゾール−4−イル)ペンチル]ピペリジン−2−カ
ルボン酸エチルエステルの製造 1.1.トリフェニル[[(1−トリフェニルメチル)−1H
−イミダゾール−4−イル)メチル]ホスホニウムクロリ
ドの製造 トリフェニルホスフィン77.7g(296ミリモル)を、
4−(クロロメチル)−1−(トリフェニルメチル)−1H
−イミダゾール105.5g(294ミリモル)をジメチル
ホルムアミド670mlに入れた溶液に加える。この混合
物を80℃で3時間加熱する。溶媒を蒸発させ、粗残留
物をエーテルに溶解して摩砕処理する。沈殿を濾過して
五酸化リン上、減圧下に乾燥する。黄色結晶形として生
成物162gを得る。融点=210℃、収率=89%。
【0044】1.2.(S,E)−2−[[フェニルメトキシ)
カルボニル]アミノ]−5−[1−(トリフェニルメチル)
−1H−イミダゾール−4−イル]ペント−4−エン酸
1,1−ジメチルエチルエステルの製造 アルゴン雰囲気下、三頚フラスコに−70℃でトリフェ
ニル[[1−トリフェニルメチル)−1H−イミダゾール
−4−イル]メチル]ホスホニウムクロリド50.93g
(820ミリモル)のテトラヒドロフラン333ml溶液を
入れる。ヘキサン中n−ブチルリチウムの1.6M溶液5
1.2ml(820ミリモル)を滴加する。−70℃で30
分間攪拌後、反応媒体を、テトラヒドロフラン中(S)−
4−オキソ−2−[[(フェニルメトキシ)カルボニル]ア
ミノ]ブタン酸1,1−ジメチルエチルエステルの0.2
53M溶液270ml(683ミリモル)(−70℃そのま
ま冷却)にすみやかに注ぐ。混合物が室温となるまで一
夜放置する。塩化ナトリウムの飽和水溶液280mlで加
水分解する。有機層から水層を分離し、酢酸エチル14
0mlで2回抽出する。有機層を合して硫酸マグネシウム
で乾燥し、蒸発乾固する。これをシリカゲルカラム上、
クロマトグラフィーによりヘキサン−酢酸エチル勾配溶
離剤で溶離することにより精製する。シスおよびトラン
スオレフィン体の混合物を得る。シス型として、融点=
66℃。 Rf=0.30[ヘキサン−酢酸エチル(60/40)] トランス型として、 Rf=0.15[ヘキサン−酢酸エチル(60/40)] 収率=40%。
カルボニル]アミノ]−5−[1−(トリフェニルメチル)
−1H−イミダゾール−4−イル]ペント−4−エン酸
1,1−ジメチルエチルエステルの製造 アルゴン雰囲気下、三頚フラスコに−70℃でトリフェ
ニル[[1−トリフェニルメチル)−1H−イミダゾール
−4−イル]メチル]ホスホニウムクロリド50.93g
(820ミリモル)のテトラヒドロフラン333ml溶液を
入れる。ヘキサン中n−ブチルリチウムの1.6M溶液5
1.2ml(820ミリモル)を滴加する。−70℃で30
分間攪拌後、反応媒体を、テトラヒドロフラン中(S)−
4−オキソ−2−[[(フェニルメトキシ)カルボニル]ア
ミノ]ブタン酸1,1−ジメチルエチルエステルの0.2
53M溶液270ml(683ミリモル)(−70℃そのま
ま冷却)にすみやかに注ぐ。混合物が室温となるまで一
夜放置する。塩化ナトリウムの飽和水溶液280mlで加
水分解する。有機層から水層を分離し、酢酸エチル14
0mlで2回抽出する。有機層を合して硫酸マグネシウム
で乾燥し、蒸発乾固する。これをシリカゲルカラム上、
クロマトグラフィーによりヘキサン−酢酸エチル勾配溶
離剤で溶離することにより精製する。シスおよびトラン
スオレフィン体の混合物を得る。シス型として、融点=
66℃。 Rf=0.30[ヘキサン−酢酸エチル(60/40)] トランス型として、 Rf=0.15[ヘキサン−酢酸エチル(60/40)] 収率=40%。
【0045】1.3.(S)−2−アミノ−5−[1−(トリ
フェニルメチル)−1H−イミダゾール−4−イル]ペン
タン酸1,1−ジメチルエチルエステル塩酸塩の製造 前項1.2.で得られたシス化合物5.83g(9.50ミリ
モル)をエタノール120mlに溶解する。触媒としてパ
ラジウム/炭の存在下、50psiで5時間接触水素化す
る。セライトとシリカの混合物に通して触媒を濾別し、
溶媒を蒸発させる。生成物は4.32gを集め、熱“塩酸
性"(HCl=0.1N)イソプロピルアルコール90mlに
溶解する。溶媒に蒸発させ、エーテルで生成物を沈殿さ
せ、減圧下に乾燥する。生成物3.62gを得る。融点=
73℃、収率=73%。
フェニルメチル)−1H−イミダゾール−4−イル]ペン
タン酸1,1−ジメチルエチルエステル塩酸塩の製造 前項1.2.で得られたシス化合物5.83g(9.50ミリ
モル)をエタノール120mlに溶解する。触媒としてパ
ラジウム/炭の存在下、50psiで5時間接触水素化す
る。セライトとシリカの混合物に通して触媒を濾別し、
溶媒を蒸発させる。生成物は4.32gを集め、熱“塩酸
性"(HCl=0.1N)イソプロピルアルコール90mlに
溶解する。溶媒に蒸発させ、エーテルで生成物を沈殿さ
せ、減圧下に乾燥する。生成物3.62gを得る。融点=
73℃、収率=73%。
【0046】1.4.(S)−2−[[(3−メチルキノリン
−8−イル)スルホニル]アミノ]−5−[1−(トリフェ
ニルメチル)−1H−イミダゾール−4−イル]ペンタン
酸1,1−ジメチルエチルエステルの製造 トリエチルアミン2.1ml(14.5ミリモル)(5℃)の存
在下、前項1.3.で得られた化合物3.8g(7.26ミリ
モル)に、8−(クロロスルホニル)−3−メチルキノリ
ン1.76g(7.28ミリモル)のクロロホルム50ml溶
液を加える。これを3時間攪拌後、有機層を分離して塩
酸0.1N溶液で洗い、蒸発させる。粗残留物をシリカ
ゲルカラム上、クロマトグラフィーによりエタノールと
ジクロロメタンの(5−95)混合物で溶離して精製す
る。生成物3.6gを得る。 融点=56℃、収率=72%。
−8−イル)スルホニル]アミノ]−5−[1−(トリフェ
ニルメチル)−1H−イミダゾール−4−イル]ペンタン
酸1,1−ジメチルエチルエステルの製造 トリエチルアミン2.1ml(14.5ミリモル)(5℃)の存
在下、前項1.3.で得られた化合物3.8g(7.26ミリ
モル)に、8−(クロロスルホニル)−3−メチルキノリ
ン1.76g(7.28ミリモル)のクロロホルム50ml溶
液を加える。これを3時間攪拌後、有機層を分離して塩
酸0.1N溶液で洗い、蒸発させる。粗残留物をシリカ
ゲルカラム上、クロマトグラフィーによりエタノールと
ジクロロメタンの(5−95)混合物で溶離して精製す
る。生成物3.6gを得る。 融点=56℃、収率=72%。
【0047】1.5.(S)−2−[[3−メチルキノリン−
8−イル)スルホニル]アミノ]−5−[1−(トリフェニ
ルメチル)−1H−イミダゾール−4−イル]ペンタン酸
の製造 窒素雰囲気下、ベンゼン34ml中前項1.4.で得られた
化合物2.33g(3.39ミリモル)の溶液(0℃に冷や
す)に、ガス状塩酸を15分間通して発泡させる。反応
媒体を室温に戻し、この温度で2時間攪拌する。減圧下
に溶媒を蒸発させ、残留物をシリカゲルカラム上、クロ
マトグラフィーによりエタノールとジクロロメタン(2
0−80)の混合物で溶離することにより精製する。白
色に近い粉末型として生成物1.42gを得る。融点=1
70℃、収率=66%。
8−イル)スルホニル]アミノ]−5−[1−(トリフェニ
ルメチル)−1H−イミダゾール−4−イル]ペンタン酸
の製造 窒素雰囲気下、ベンゼン34ml中前項1.4.で得られた
化合物2.33g(3.39ミリモル)の溶液(0℃に冷や
す)に、ガス状塩酸を15分間通して発泡させる。反応
媒体を室温に戻し、この温度で2時間攪拌する。減圧下
に溶媒を蒸発させ、残留物をシリカゲルカラム上、クロ
マトグラフィーによりエタノールとジクロロメタン(2
0−80)の混合物で溶離することにより精製する。白
色に近い粉末型として生成物1.42gを得る。融点=1
70℃、収率=66%。
【0048】1.6.[2R−[1(S),2α,4β]−4−
メチル−1−[2−[[3−メチルキノリン−8−イル)ス
ルホニル]アミノ]−1−オキソ−5−[1−(トリフェニ
ルメチル)−1H−イミダゾール−4−イル]ペンチル]
ピペリジン−2−カルボン酸エチルエステルの製造 窒素雰囲気下、アセトニトリル50ml中、前項1.5.で
得られた化合物2.23g(3.53ミリモル)の懸濁液(0
℃)に、[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリ
ス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン
酸塩1.56g(3.53ミリモル)、4−メチルモルホリ
ン0.78ml(7.06ミリモル)、(2R−trans)−4−
メチルピペリジン−2−カルボン酸エチルエステル0.
61g(3.57ミリモル)およびジクロロメタン30mlを
加える。これを室温で5時間攪拌する。反応媒体を塩化
ナトリウム飽和溶液で加水分解し、クロロホルムで抽出
する。有機層を塩酸0.1N溶液、炭酸水素ナトリウム
飽和溶液、次いで水、最後に塩化ナトリウム溶液で洗
う。得られた粗残留物をシリカゲルカラム上、クロマト
グラフィーによりエタノールとジクロロメタン(5−9
5)混合物で溶離して精製する。生成物1.94gを得
る。Rf=0.68(ジクロロメタン−エタノール(95−
5))。収率=70%。
メチル−1−[2−[[3−メチルキノリン−8−イル)ス
ルホニル]アミノ]−1−オキソ−5−[1−(トリフェニ
ルメチル)−1H−イミダゾール−4−イル]ペンチル]
ピペリジン−2−カルボン酸エチルエステルの製造 窒素雰囲気下、アセトニトリル50ml中、前項1.5.で
得られた化合物2.23g(3.53ミリモル)の懸濁液(0
℃)に、[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリ
ス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン
酸塩1.56g(3.53ミリモル)、4−メチルモルホリ
ン0.78ml(7.06ミリモル)、(2R−trans)−4−
メチルピペリジン−2−カルボン酸エチルエステル0.
61g(3.57ミリモル)およびジクロロメタン30mlを
加える。これを室温で5時間攪拌する。反応媒体を塩化
ナトリウム飽和溶液で加水分解し、クロロホルムで抽出
する。有機層を塩酸0.1N溶液、炭酸水素ナトリウム
飽和溶液、次いで水、最後に塩化ナトリウム溶液で洗
う。得られた粗残留物をシリカゲルカラム上、クロマト
グラフィーによりエタノールとジクロロメタン(5−9
5)混合物で溶離して精製する。生成物1.94gを得
る。Rf=0.68(ジクロロメタン−エタノール(95−
5))。収率=70%。
【0049】1.7.[2R−[1(S),2α,4β]]−4−
メチル−1−[2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テト
ラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]Z−
1−オキソ−5−(1H−イミダゾール−4−イル)ペン
チル]ピペリジン−2−カルボン酸エチルエステルの製
造 前項1.6.で得られたエステル体1.94g(2.47ミリ
モル)に、エタノール70mlと酢酸17mlを加える。パ
ラジウム/炭の存在下、80℃で6時間接触水素化す
る。混合物を濾過し、溶媒を蒸発させる。残留生成物を
1N塩酸に溶解し、エーテルで洗って酢酸エチルで抽出
する。生成物1.05gを得る。融点=104℃(塩酸塩) 収率=78℃、[α]20 D=+101゜(c=0.2,メタノー
ル)。
メチル−1−[2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テト
ラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]Z−
1−オキソ−5−(1H−イミダゾール−4−イル)ペン
チル]ピペリジン−2−カルボン酸エチルエステルの製
造 前項1.6.で得られたエステル体1.94g(2.47ミリ
モル)に、エタノール70mlと酢酸17mlを加える。パ
ラジウム/炭の存在下、80℃で6時間接触水素化す
る。混合物を濾過し、溶媒を蒸発させる。残留生成物を
1N塩酸に溶解し、エーテルで洗って酢酸エチルで抽出
する。生成物1.05gを得る。融点=104℃(塩酸塩) 収率=78℃、[α]20 D=+101゜(c=0.2,メタノー
ル)。
【0050】実施例2 [2R−[1(S),2α,4β]]−4−メチル−1−[2−
[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−
8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソ−5−(1H
−イミダゾール−4−イル)ペンチル]ピペリジン−2−
カルボン酸ナトリウム塩のナトリウム錯塩の製造 アルゴン雰囲気下、前記実施例1で得られたエステル体
0.201g(0.360ミリモル)の溶液に、水酸化ナト
リウム標準1N溶液0.4mlを室温で加える。これを室
温で36時間攪拌し、反応混合物を薄層クロマトグラフ
ィーに付す。反応が終ったとき反応媒体を55℃に7時
間加温する。これを冷やしてエタノール1mlとエーテル
50mlを加える。かき混ぜた後、生成した白色に近い沈
殿を濾集し、乾燥する。白色粉末形として生成物170
mgを得る。融点=215℃、収率=86%、[α]20 D=
+67.2゜(c=0.1,メタノール)。
[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−
8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソ−5−(1H
−イミダゾール−4−イル)ペンチル]ピペリジン−2−
カルボン酸ナトリウム塩のナトリウム錯塩の製造 アルゴン雰囲気下、前記実施例1で得られたエステル体
0.201g(0.360ミリモル)の溶液に、水酸化ナト
リウム標準1N溶液0.4mlを室温で加える。これを室
温で36時間攪拌し、反応混合物を薄層クロマトグラフ
ィーに付す。反応が終ったとき反応媒体を55℃に7時
間加温する。これを冷やしてエタノール1mlとエーテル
50mlを加える。かき混ぜた後、生成した白色に近い沈
殿を濾集し、乾燥する。白色粉末形として生成物170
mgを得る。融点=215℃、収率=86%、[α]20 D=
+67.2゜(c=0.1,メタノール)。
【0051】実施例3 (R)−1−[2−[[[5−(ジメチルアミノ)ナフタレン−
1−イル]スルホニル]アミノ]−1−オキソ−3−[[(1
H−イミダゾール−4−イル)メチル]チオ]プロピル]−
4−エチル−ピペリジン塩酸塩の製造 3.1.2−アミノ−3−[[[1−(トリフェニルメチル)
−1H−イミダゾール−4−イル]メチル]チオ]プロパ
ン酸の製造 L−システイン2.66gを、水酸化ナトリウムの1N水
溶液40ml(40ミリモル)に加える。これを攪拌し、エ
タノール50mlとテトラヒドロフラン20ml中4−(ク
ロロメチル)−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミ
ダゾール7.2g(20ミリモル)の溶液を、0℃で攪拌し
ながら加える。室温に昇温するのを許容し、反応媒体を
1時間攪拌する。減圧下にエタノールとテトラヒドロフ
ランを蒸発させる。残留物を水100mlおよび1N塩酸
20mlに溶解する。生成した沈澱を濾取、水洗し、乾燥
する。生成物8gを得る。融点=162〜164℃(分
解)。収率=90%。
1−イル]スルホニル]アミノ]−1−オキソ−3−[[(1
H−イミダゾール−4−イル)メチル]チオ]プロピル]−
4−エチル−ピペリジン塩酸塩の製造 3.1.2−アミノ−3−[[[1−(トリフェニルメチル)
−1H−イミダゾール−4−イル]メチル]チオ]プロパ
ン酸の製造 L−システイン2.66gを、水酸化ナトリウムの1N水
溶液40ml(40ミリモル)に加える。これを攪拌し、エ
タノール50mlとテトラヒドロフラン20ml中4−(ク
ロロメチル)−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミ
ダゾール7.2g(20ミリモル)の溶液を、0℃で攪拌し
ながら加える。室温に昇温するのを許容し、反応媒体を
1時間攪拌する。減圧下にエタノールとテトラヒドロフ
ランを蒸発させる。残留物を水100mlおよび1N塩酸
20mlに溶解する。生成した沈澱を濾取、水洗し、乾燥
する。生成物8gを得る。融点=162〜164℃(分
解)。収率=90%。
【0052】3.2.(R)−2−[[[5−(ジメチルアミ
ノ)ナフタレン−1−イル]スルホニル]アミノ]−3−
[[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾール−
4−イル]メチル]チオ]プロパン酸の製造 前項3.1.で得られた化合物1.77g(4ミリモル)の
0.2N水酸化ナトリウム20ml溶液を氷浴上で冷や
す。これに5−(ジメチルアミノ)ナフタレン−1−スル
ホニルクロリド1.08g(4ミリモル)を、強く撹拌し
ながら全部一度に加え、30分間撹拌を続ける。水10
0mlを加えて1N塩酸溶液でpH2.5に調節する。粘
性のある沈澱生成物の水気を切り、ジクロロメタンに再
溶解する。硫酸マグネシウムで乾燥し、生成物をシリカ
ゲルカラム上、クロマトグラフィーによりジクロロメタ
ンとメタノールの(95−5)混合物で溶離して精製す
る。生成物1.2gを得る。融点=128〜130℃、
収率=50%。
ノ)ナフタレン−1−イル]スルホニル]アミノ]−3−
[[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾール−
4−イル]メチル]チオ]プロパン酸の製造 前項3.1.で得られた化合物1.77g(4ミリモル)の
0.2N水酸化ナトリウム20ml溶液を氷浴上で冷や
す。これに5−(ジメチルアミノ)ナフタレン−1−スル
ホニルクロリド1.08g(4ミリモル)を、強く撹拌し
ながら全部一度に加え、30分間撹拌を続ける。水10
0mlを加えて1N塩酸溶液でpH2.5に調節する。粘
性のある沈澱生成物の水気を切り、ジクロロメタンに再
溶解する。硫酸マグネシウムで乾燥し、生成物をシリカ
ゲルカラム上、クロマトグラフィーによりジクロロメタ
ンとメタノールの(95−5)混合物で溶離して精製す
る。生成物1.2gを得る。融点=128〜130℃、
収率=50%。
【0053】3.3.(R)−1−[2−[[[5−(ジメチ
ルアミノ)ナフタレン−1−イル]スルホニル]アミノ]−
1−オキソ−3−[[[1−(トリフェニルメチル)−1H
−イミダゾール−4−イル]メチル]チオ]プロピル]−4
−エチルピペリジンの製造 前項3.2.で得られた化合物1g(1.5ミリモル)、
4−エチルピペリジン塩酸塩0.22g(1.5ミリモ
ル)および[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]ト
リス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリ
ン酸塩0.663g(1.5ミリモル)を、湿気から保護
しながら0℃でアセトニトリル15mlに加える。これを
撹拌し、4−メチルモルホリン0.34ml(3.1ミ
リモル)を加える。一夜撹拌を続け、塩化ナトリウム飽
和溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出する。有機層を順
次、1N塩酸溶液、水、炭酸水素ナトリウム飽和溶液、
塩化ナトリウム飽和溶液で洗う。これを硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させる。得られた生成
物1gをそのままの形態で次の反応工程に使用する。 融点=99〜100℃、収率=87%。
ルアミノ)ナフタレン−1−イル]スルホニル]アミノ]−
1−オキソ−3−[[[1−(トリフェニルメチル)−1H
−イミダゾール−4−イル]メチル]チオ]プロピル]−4
−エチルピペリジンの製造 前項3.2.で得られた化合物1g(1.5ミリモル)、
4−エチルピペリジン塩酸塩0.22g(1.5ミリモ
ル)および[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]ト
リス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリ
ン酸塩0.663g(1.5ミリモル)を、湿気から保護
しながら0℃でアセトニトリル15mlに加える。これを
撹拌し、4−メチルモルホリン0.34ml(3.1ミ
リモル)を加える。一夜撹拌を続け、塩化ナトリウム飽
和溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出する。有機層を順
次、1N塩酸溶液、水、炭酸水素ナトリウム飽和溶液、
塩化ナトリウム飽和溶液で洗う。これを硫酸マグネシウ
ムで乾燥し、溶媒を減圧下に蒸発させる。得られた生成
物1gをそのままの形態で次の反応工程に使用する。 融点=99〜100℃、収率=87%。
【0054】3.4.(R)−1−[2−[[[5−(ジメチ
ルアミノ)ナフタレン−1−イル]スルホニル]アミノ]−
1−オキソ−3−[[(1H−イミダゾール−4−イル)メ
チル]チオ]プロピル]−4−エチルピペリジン塩酸塩の
製造 窒素雰囲気下、前項3.3.で得られた化合物0.9g
(1.21ミリモル)を、80%酢酸20mlに溶解する。
これを窒素雰囲気下、還流温度に20分間加熱し、減圧
下に蒸発させる。残留物をシリカゲルカラム上、クロマ
トグラフィーによりジクロロメタンとメタノールの(9
0−10)混合物で溶離して精製する。塩基物質0.4g
を得る。塩化水素性イソプロパノールとエチルエーテル
の混合物中で結晶化することにより塩酸塩を製する。生
成物0.15gを得る。融点=105℃(分解)、収率=
25%。 [α]20 D=+99°(c=0.1, メタノール)。
ルアミノ)ナフタレン−1−イル]スルホニル]アミノ]−
1−オキソ−3−[[(1H−イミダゾール−4−イル)メ
チル]チオ]プロピル]−4−エチルピペリジン塩酸塩の
製造 窒素雰囲気下、前項3.3.で得られた化合物0.9g
(1.21ミリモル)を、80%酢酸20mlに溶解する。
これを窒素雰囲気下、還流温度に20分間加熱し、減圧
下に蒸発させる。残留物をシリカゲルカラム上、クロマ
トグラフィーによりジクロロメタンとメタノールの(9
0−10)混合物で溶離して精製する。塩基物質0.4g
を得る。塩化水素性イソプロパノールとエチルエーテル
の混合物中で結晶化することにより塩酸塩を製する。生
成物0.15gを得る。融点=105℃(分解)、収率=
25%。 [α]20 D=+99°(c=0.1, メタノール)。
【0055】実施例4 (S)−4−エチル−1−[4−[[(1H−イミダゾール−
4−イル)メチル]チオ]−2−[[(3−メチルキノリン−
8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソブチル]ピペ
リジン塩酸塩の製造 4.1.(S)−2−[[(フェニルメトキシ)カルボニル]
アミノ]−4−[[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イ
ミダゾール−4−イル]メチル]チオ]ブタン酸1,1−ジ
メチルエチルエステルの製造 窒素雰囲気下、チオ酢酸カリウム6gを、4−(クロロメ
チル)−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾー
ル3.58g(10ミリモル)のエタノール40ml溶液に
加える。反応混合物を15分間超音波処理することによ
り揺り動かし、エーテルに注ぐ。有機層を順次、水、炭
酸水素ナトリウムの飽和溶液、塩化ナトリウム飽和溶液
で洗う。これを硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を蒸発させる。残留物を、窒素でガス抜きしてナトリ
ウムメチラートの5.3N溶液1.9ml(10ミリモル)
を含有させたメタノール100mlに溶解する。これを1
5分間撹拌し、脱ガスメタノール40ml中(S)−4−
[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オキシ]−2−
[[(フェニルメトキシ)カルボニル]アミノ]ブタンカルボ
ン酸1,1−ジメチルエチルエステル4.63g(10ミ
リモル)を加える。混合物を室温で24時間撹拌する。
生成した沈澱の湿気を切り、メタノールおよび水で洗
う。硫酸マグネシウムで乾燥し、生成物3gを得る。 融点=183〜185°、収率=50%。
4−イル)メチル]チオ]−2−[[(3−メチルキノリン−
8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソブチル]ピペ
リジン塩酸塩の製造 4.1.(S)−2−[[(フェニルメトキシ)カルボニル]
アミノ]−4−[[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イ
ミダゾール−4−イル]メチル]チオ]ブタン酸1,1−ジ
メチルエチルエステルの製造 窒素雰囲気下、チオ酢酸カリウム6gを、4−(クロロメ
チル)−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾー
ル3.58g(10ミリモル)のエタノール40ml溶液に
加える。反応混合物を15分間超音波処理することによ
り揺り動かし、エーテルに注ぐ。有機層を順次、水、炭
酸水素ナトリウムの飽和溶液、塩化ナトリウム飽和溶液
で洗う。これを硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶
媒を蒸発させる。残留物を、窒素でガス抜きしてナトリ
ウムメチラートの5.3N溶液1.9ml(10ミリモル)
を含有させたメタノール100mlに溶解する。これを1
5分間撹拌し、脱ガスメタノール40ml中(S)−4−
[[(4−メチルフェニル)スルホニル]オキシ]−2−
[[(フェニルメトキシ)カルボニル]アミノ]ブタンカルボ
ン酸1,1−ジメチルエチルエステル4.63g(10ミ
リモル)を加える。混合物を室温で24時間撹拌する。
生成した沈澱の湿気を切り、メタノールおよび水で洗
う。硫酸マグネシウムで乾燥し、生成物3gを得る。 融点=183〜185°、収率=50%。
【0056】4.2.(S)−2−[[(フェニルメトキシ)
カルボニル]アミノ]−4−[[[1−(トリフェニルメチ
ル)−1H−イミダゾール−4−イル]メチル]チオ]ブタ
ン酸塩酸塩の製造 前項4.1.で得られた化合物2.5g(3.86ミリモ
ル)をベンゼン50mlに入れる。この溶液を湿気から保
護して0℃で10分間ガス状塩酸で飽和させる。反応媒
体を0℃で2時間撹拌する。減圧下に蒸発させ、得られ
た生成物2.2gをそのままの形態で次の反応工程に使
用する。 融点=78〜82℃、収率=91%。
カルボニル]アミノ]−4−[[[1−(トリフェニルメチ
ル)−1H−イミダゾール−4−イル]メチル]チオ]ブタ
ン酸塩酸塩の製造 前項4.1.で得られた化合物2.5g(3.86ミリモ
ル)をベンゼン50mlに入れる。この溶液を湿気から保
護して0℃で10分間ガス状塩酸で飽和させる。反応媒
体を0℃で2時間撹拌する。減圧下に蒸発させ、得られ
た生成物2.2gをそのままの形態で次の反応工程に使
用する。 融点=78〜82℃、収率=91%。
【0057】4.3.(S)−4−エチル−1−[1−オ
キソ−2−[[(フェニルメトキシ)カルボニル]アミノ]−
4−[[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾー
ル−4−イル]メチル]チオ]ブチル]ピペリジンの製造 前項4.2.で得られた化合物0.627g(1ミリモ
ル)、4−エチルピペリジン塩酸塩0.149g(1ミリ
モル)および[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]
トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロ
リン酸塩0.442g(1ミリモル)を、湿気から保護し
ながらアセトニトリル15mlに入れる。これを撹拌し、
4−メチルモルホリン0.33ml(3ミリモル)を撹拌し
ながら加える。室温で5時間撹拌を続ける。塩化ナトリ
ウム飽和溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出する。有機
層を合して順次、水、炭酸水素ナトリウム飽和溶液、塩
化ナトリウム飽和溶液で洗う。これを硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を蒸発させる。油状形態で得ら
れた生成物0.7gは結晶化する。融点=80〜82
℃、収率=100%。
キソ−2−[[(フェニルメトキシ)カルボニル]アミノ]−
4−[[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾー
ル−4−イル]メチル]チオ]ブチル]ピペリジンの製造 前項4.2.で得られた化合物0.627g(1ミリモ
ル)、4−エチルピペリジン塩酸塩0.149g(1ミリ
モル)および[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]
トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロ
リン酸塩0.442g(1ミリモル)を、湿気から保護し
ながらアセトニトリル15mlに入れる。これを撹拌し、
4−メチルモルホリン0.33ml(3ミリモル)を撹拌し
ながら加える。室温で5時間撹拌を続ける。塩化ナトリ
ウム飽和溶液を加え、酢酸エチルで2回抽出する。有機
層を合して順次、水、炭酸水素ナトリウム飽和溶液、塩
化ナトリウム飽和溶液で洗う。これを硫酸マグネシウム
で乾燥し、減圧下に溶媒を蒸発させる。油状形態で得ら
れた生成物0.7gは結晶化する。融点=80〜82
℃、収率=100%。
【0058】4.4.(S)−1−[2−アミノ−1−オ
キソ−4−[[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミ
ダゾール−4−イル]メチル]チオ]ブチル]−4−エチル
ピペリジンの製造 窒素雰囲気中、氷酢酸1.2mlに、前項4.3.で得ら
れた化合物0.7g(1ミリモル)を10℃で入れる。湿
気から保護しながら酢酸中臭化水素酸の4N溶液3mlを
加える。反応媒体を湿気から保護しながら室温で1時間
放置後、エーテル中に注ぐ。これを傾斜して得られた固
体をエーテルで数回洗い、ジクロロメタンとメタノール
の混合物5mlに溶解する。この混合物を濃アンモニア水
数滴で塩基性pHにする。これをシリカゲルカラム上、
クロマトグラフィーによりジクロロメタンとエタノール
の(90−10)混合物で溶離し、精製する。生成物24
0mgを得る。 融点=115〜120℃、収率=44%。
キソ−4−[[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミ
ダゾール−4−イル]メチル]チオ]ブチル]−4−エチル
ピペリジンの製造 窒素雰囲気中、氷酢酸1.2mlに、前項4.3.で得ら
れた化合物0.7g(1ミリモル)を10℃で入れる。湿
気から保護しながら酢酸中臭化水素酸の4N溶液3mlを
加える。反応媒体を湿気から保護しながら室温で1時間
放置後、エーテル中に注ぐ。これを傾斜して得られた固
体をエーテルで数回洗い、ジクロロメタンとメタノール
の混合物5mlに溶解する。この混合物を濃アンモニア水
数滴で塩基性pHにする。これをシリカゲルカラム上、
クロマトグラフィーによりジクロロメタンとエタノール
の(90−10)混合物で溶離し、精製する。生成物24
0mgを得る。 融点=115〜120℃、収率=44%。
【0059】4.5.(S)−4−エチル−1−[2−
[[(3−メチルキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]
−1−オキソ−4−[[[1−(トリフェニルメチル)−1
H−イミダゾール−4−イル)メチル]チオ]ブチル]ピペ
リジンの製造 前項4.4.で得られた化合物0.23g(0.418ミ
リモル)をジクロロメタン6mlに入れる。トリエチルア
ミン70μl(0.5ミリモル)、次いで8−(クロロスル
ホニル)−3−メチルキノリン110mg(0.6ミリモ
ル)を、湿気から保護して撹拌しながら加える。室温で
30分間撹拌を続ける。反応媒体を酢酸エチルで希釈す
る。これを1N塩酸溶液、水、炭酸水素ナトリウム飽和
溶液、水、次いで塩化ナトリウム飽和溶液で洗う。これ
を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を蒸発させ
る。得られた生成物0.29gをそのままの形態で次反
応工程に使用する。 融点=84〜86℃、収率=92%。
[[(3−メチルキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]
−1−オキソ−4−[[[1−(トリフェニルメチル)−1
H−イミダゾール−4−イル)メチル]チオ]ブチル]ピペ
リジンの製造 前項4.4.で得られた化合物0.23g(0.418ミ
リモル)をジクロロメタン6mlに入れる。トリエチルア
ミン70μl(0.5ミリモル)、次いで8−(クロロスル
ホニル)−3−メチルキノリン110mg(0.6ミリモ
ル)を、湿気から保護して撹拌しながら加える。室温で
30分間撹拌を続ける。反応媒体を酢酸エチルで希釈す
る。これを1N塩酸溶液、水、炭酸水素ナトリウム飽和
溶液、水、次いで塩化ナトリウム飽和溶液で洗う。これ
を硫酸マグネシウムで乾燥し、減圧下に溶媒を蒸発させ
る。得られた生成物0.29gをそのままの形態で次反
応工程に使用する。 融点=84〜86℃、収率=92%。
【0060】4.6.(S)−4−エチル−1−[4−
[[1H−イミダゾール−4−イル)メチル]チオ]−2−
[[(3−メチルキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]
−1−オキソブチル]ピペリジン塩酸塩の製造 前項4.5.で得られた化合物0.28g(0.37ミリ
モル)を酢酸80%水溶液10mlに入れ、テトラヒドロ
フラン5mlを加える。反応媒体を窒素雰囲気下、還流温
度に15分間加熱する。減圧下に蒸発させ、残留物をシ
リカゲルカラム上、クロマトグラフィーによりジクロロ
メタンとメタノールの混合物で溶離して精製する。塩基
型として生成物0.16gを得る。イソプロパノールと
エチルエーテル混合物中で結晶化することにより塩酸塩
0.14gを得る。融点=70〜80℃(分解)。収率=
66%、[α]20 D=+127°(c=0.1, メタノー
ル)。
[[1H−イミダゾール−4−イル)メチル]チオ]−2−
[[(3−メチルキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]
−1−オキソブチル]ピペリジン塩酸塩の製造 前項4.5.で得られた化合物0.28g(0.37ミリ
モル)を酢酸80%水溶液10mlに入れ、テトラヒドロ
フラン5mlを加える。反応媒体を窒素雰囲気下、還流温
度に15分間加熱する。減圧下に蒸発させ、残留物をシ
リカゲルカラム上、クロマトグラフィーによりジクロロ
メタンとメタノールの混合物で溶離して精製する。塩基
型として生成物0.16gを得る。イソプロパノールと
エチルエーテル混合物中で結晶化することにより塩酸塩
0.14gを得る。融点=70〜80℃(分解)。収率=
66%、[α]20 D=+127°(c=0.1, メタノー
ル)。
【0061】実施例5 [2R−[1(S),2α,4β]]−1−[3−[(1H−イミ
ダゾール−4−イル)メトキシ]−2−[[(3−メチル−
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホ
ニル]アミノ]−1−オキソプロピル]−4−メチルピペ
リジン−2−カルボン酸エチルエステルの製造 5.1.(N)−(トリフェニルメチル)−(O)−[[1−ト
リフェニルメチル]−1H−イミダゾール−4−イル]メ
チル−(L)セリン酸の製造 4−(クロロメチル)−1−(トリフェニルメチル)−1H
−イミダゾール0.39g(5.7ミリモル)、次いで
(N)−(トリフェニルメチル)−(L)−セリン10.01
g(28.83ミリモル)を、テトラヒドロフラン112m
l中60%水素化ナトリウム5.8g(144.2ミリモ
ル)の懸濁液(−15℃)に加える。これを−15℃で4
5分間放置し、4−(クロロメチル)−1−(トリフェニ
ルメチル)−1H−イミダゾール12g(34.6ミリモ
ル)を加える。反応媒体を0℃で2時間、次いで室温で
5時間撹拌する。これを0℃に冷やし、水200mlで希
釈し、酢酸6.59ml(115ミリモル)を加えて中和す
る。これを傾斜し、水層を集めて酢酸エチル200mlで
2回抽出する。有機層を合して水約300mlで洗い、硫
酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、残留物を
シリカゲルカラム上、クロマトグラフィーによりエタノ
ールジクロロメタン(2/98〜4/96)勾配溶離剤で
溶離し、精製する。生成物12.82gを得る。融点=
104〜106℃。収率=68%。
ダゾール−4−イル)メトキシ]−2−[[(3−メチル−
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホ
ニル]アミノ]−1−オキソプロピル]−4−メチルピペ
リジン−2−カルボン酸エチルエステルの製造 5.1.(N)−(トリフェニルメチル)−(O)−[[1−ト
リフェニルメチル]−1H−イミダゾール−4−イル]メ
チル−(L)セリン酸の製造 4−(クロロメチル)−1−(トリフェニルメチル)−1H
−イミダゾール0.39g(5.7ミリモル)、次いで
(N)−(トリフェニルメチル)−(L)−セリン10.01
g(28.83ミリモル)を、テトラヒドロフラン112m
l中60%水素化ナトリウム5.8g(144.2ミリモ
ル)の懸濁液(−15℃)に加える。これを−15℃で4
5分間放置し、4−(クロロメチル)−1−(トリフェニ
ルメチル)−1H−イミダゾール12g(34.6ミリモ
ル)を加える。反応媒体を0℃で2時間、次いで室温で
5時間撹拌する。これを0℃に冷やし、水200mlで希
釈し、酢酸6.59ml(115ミリモル)を加えて中和す
る。これを傾斜し、水層を集めて酢酸エチル200mlで
2回抽出する。有機層を合して水約300mlで洗い、硫
酸マグネシウムで乾燥する。溶媒を蒸発させ、残留物を
シリカゲルカラム上、クロマトグラフィーによりエタノ
ールジクロロメタン(2/98〜4/96)勾配溶離剤で
溶離し、精製する。生成物12.82gを得る。融点=
104〜106℃。収率=68%。
【0062】5.2.2−[[(3−メチル−1,2,3,4
−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ
−(O)−[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾ
ール−4−イル]メチル]−(L)−セリン酸の製造 窒素雰囲気下、室温で前項5.1.で得られた化合物
1.34g(2ミリモル)を、1,2−ジクロロエタン9
5.5%、メタノール3%およびトリフルオロ酢酸1.
5%含有混合物26mlに入れる。混合物を数分間放置
し、トリエチルアミン0.84ml(6ミリモル)と3−メ
チル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−スル
ホニルクロリド739mg(3ミリモル)のクロロホルム1
0ml溶液を、0℃で加える。これを1時間撹拌後、トリ
フルオロ酢酸でpH3に調節する。反応媒体をシリカゲ
ルカラム上、クロマトグラフィーによりクロロホルムと
メタノールの(95−5)混合物で溶離して精製する。生
成物1.14gを得る。融点=145〜150℃。収率
=91%。
−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ
−(O)−[[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾ
ール−4−イル]メチル]−(L)−セリン酸の製造 窒素雰囲気下、室温で前項5.1.で得られた化合物
1.34g(2ミリモル)を、1,2−ジクロロエタン9
5.5%、メタノール3%およびトリフルオロ酢酸1.
5%含有混合物26mlに入れる。混合物を数分間放置
し、トリエチルアミン0.84ml(6ミリモル)と3−メ
チル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−スル
ホニルクロリド739mg(3ミリモル)のクロロホルム1
0ml溶液を、0℃で加える。これを1時間撹拌後、トリ
フルオロ酢酸でpH3に調節する。反応媒体をシリカゲ
ルカラム上、クロマトグラフィーによりクロロホルムと
メタノールの(95−5)混合物で溶離して精製する。生
成物1.14gを得る。融点=145〜150℃。収率
=91%。
【0063】5.3.[2R−[1(S),2α,4β]]−4
−メチル−1−[2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テ
トラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−
1−オキソ−3−[[1−(トリフェニルメチル)−1H−
イミダゾール−4−イル]メトキシ]プロピル]ピペリジ
ン−2−カルボン酸エチルエステルの製造 窒素雰囲気下、0℃で前項5.2.で得られた化合物
1.2g(1.94ミリモル)、(2R−trans)−4−メチ
ルピペリジン−2−カルボン酸エチルエステル0.36
5g(2.13ミリモル)および[(ベンゾトリアゾール−
1−イル)オキシ]トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム
ヘキサフルオロホスファート0.950g(2.15ミリ
モル)をジクロロメタン15ml中に入れ、N,N−ジイソ
プロピルエチルアミン0.5ml(2.87ミリモル)を加
え、室温で一夜撹拌する。反応媒体を酢酸エチル100
mlで希釈し、順次1N塩酸、水、炭酸水素ナトリウム飽
和溶液、終わりに塩化ナトリウム飽和溶液で洗う。これ
を硫酸マグネシウムで乾燥する。生成物1.2gを回収
し、そのままの形態で次反応工程に使用する。収率=8
0%。
−メチル−1−[2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テ
トラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−
1−オキソ−3−[[1−(トリフェニルメチル)−1H−
イミダゾール−4−イル]メトキシ]プロピル]ピペリジ
ン−2−カルボン酸エチルエステルの製造 窒素雰囲気下、0℃で前項5.2.で得られた化合物
1.2g(1.94ミリモル)、(2R−trans)−4−メチ
ルピペリジン−2−カルボン酸エチルエステル0.36
5g(2.13ミリモル)および[(ベンゾトリアゾール−
1−イル)オキシ]トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム
ヘキサフルオロホスファート0.950g(2.15ミリ
モル)をジクロロメタン15ml中に入れ、N,N−ジイソ
プロピルエチルアミン0.5ml(2.87ミリモル)を加
え、室温で一夜撹拌する。反応媒体を酢酸エチル100
mlで希釈し、順次1N塩酸、水、炭酸水素ナトリウム飽
和溶液、終わりに塩化ナトリウム飽和溶液で洗う。これ
を硫酸マグネシウムで乾燥する。生成物1.2gを回収
し、そのままの形態で次反応工程に使用する。収率=8
0%。
【0064】5.4.[2R−[1−(S),2α,4β]]−
1−[3−[(1H−イミダゾール−4−イル)メトキシ
ル]−2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソ
プロピル]−4−メチルピペリジン−2−カルボン酸エ
チルエステル塩酸塩の製造 酢酸、水およびテトラヒドロフラン(50/10/40)
混合物20ml中、前項5.3.で得られた化合物1.2
g(1.55ミリモル)を45分間おだやかに還流する。
これを蒸発させ、混合物をシリカゲルカラム上、クロマ
トグラフィーによりメタノールとジクロロメタンの(5
/95)〜(10/90)混合物で溶離して精製する。塩
基型として生成物0.6gを得る。この塩基300ml
を、イソプロピルアルコールとジエチルエーテル中塩酸
0.1N混合物に入れて塩酸塩を製造する。反応媒体の
湿気を切り、傾斜して塩酸塩180mgを得る。融点=6
2〜64℃。収率=56%。[α]20 D=+71°(c=
0.1, メタノール)。
1−[3−[(1H−イミダゾール−4−イル)メトキシ
ル]−2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソ
プロピル]−4−メチルピペリジン−2−カルボン酸エ
チルエステル塩酸塩の製造 酢酸、水およびテトラヒドロフラン(50/10/40)
混合物20ml中、前項5.3.で得られた化合物1.2
g(1.55ミリモル)を45分間おだやかに還流する。
これを蒸発させ、混合物をシリカゲルカラム上、クロマ
トグラフィーによりメタノールとジクロロメタンの(5
/95)〜(10/90)混合物で溶離して精製する。塩
基型として生成物0.6gを得る。この塩基300ml
を、イソプロピルアルコールとジエチルエーテル中塩酸
0.1N混合物に入れて塩酸塩を製造する。反応媒体の
湿気を切り、傾斜して塩酸塩180mgを得る。融点=6
2〜64℃。収率=56%。[α]20 D=+71°(c=
0.1, メタノール)。
【0065】実施例6 (2R−trans)−N−エチル−1−[5−(1H−イミダ
ゾール−4−イル)−2−[[(3−メチル−1,2,3,4
−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミ
ノ]−1−オキソペンチル]−4−メチルピペリジン−2
−カルボキサミド塩酸塩の製造 6.1.(2R−trans)−N−エチル−4−メチルピペ
リジン−2−カルボキサミド・トリフルオロ酢酸塩の製
造 6.1.1.(2R−trans)−2−[(エチルアミノ)カル
ボニル]−4−メチルピペリジン−1−カルボン酸1,1
−ジメチルエチルエステルの製造 (2R−trans)−4−メチルピペリジン−1,2−ジカル
ボン酸1−(1,1−ジメチルエチル)エステル1g(4.
11ミリモル)を、テトラヒドロフラン15mlに溶解す
る。アルゴン雰囲気下、室温で4−メチルモルホリン
0.45ml(4ミリモル)を加え、反応媒体を−10℃−
15℃に冷やす。クロロギ酸2−メチルプロピルエステ
ル0.53ml(4ミリモル)、次いでエタンアミン0.2
78g(6ミリモル)のテトラヒドロフラン3ml溶液を加
える。反応媒体を室温に昇温した後、テトラヒドロフラ
ンを蒸発させる。残留物をエーテル100mlに溶解し、
1N塩酸50ml、水50mlおよび最後に炭酸水素ナトリ
ウム飽和溶液50mlで順次洗浄する。これを硫酸マグネ
シウムで乾燥する。生成物1.06gを得る。収率=9
5%。
ゾール−4−イル)−2−[[(3−メチル−1,2,3,4
−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミ
ノ]−1−オキソペンチル]−4−メチルピペリジン−2
−カルボキサミド塩酸塩の製造 6.1.(2R−trans)−N−エチル−4−メチルピペ
リジン−2−カルボキサミド・トリフルオロ酢酸塩の製
造 6.1.1.(2R−trans)−2−[(エチルアミノ)カル
ボニル]−4−メチルピペリジン−1−カルボン酸1,1
−ジメチルエチルエステルの製造 (2R−trans)−4−メチルピペリジン−1,2−ジカル
ボン酸1−(1,1−ジメチルエチル)エステル1g(4.
11ミリモル)を、テトラヒドロフラン15mlに溶解す
る。アルゴン雰囲気下、室温で4−メチルモルホリン
0.45ml(4ミリモル)を加え、反応媒体を−10℃−
15℃に冷やす。クロロギ酸2−メチルプロピルエステ
ル0.53ml(4ミリモル)、次いでエタンアミン0.2
78g(6ミリモル)のテトラヒドロフラン3ml溶液を加
える。反応媒体を室温に昇温した後、テトラヒドロフラ
ンを蒸発させる。残留物をエーテル100mlに溶解し、
1N塩酸50ml、水50mlおよび最後に炭酸水素ナトリ
ウム飽和溶液50mlで順次洗浄する。これを硫酸マグネ
シウムで乾燥する。生成物1.06gを得る。収率=9
5%。
【0066】6.1.2.(2R−trans)−N−エチル
−4−メチルピペリジン−2−カルボキサミド・トリフ
ルオロ酢酸塩の製造 前項6.1.で得られた化合物0.352g(1.3ミリ
モル)をジクロロメタン5.4mlに溶解する。アルゴン
雰囲気下、0℃でトリフルオロ酢酸5.4mlを加える。
反応媒体を室温に昇温し、蒸発させる。残留物をジクロ
ロメタン50mlに溶解し、再び蒸発させる。粗生成物
0.686gを得る。
−4−メチルピペリジン−2−カルボキサミド・トリフ
ルオロ酢酸塩の製造 前項6.1.で得られた化合物0.352g(1.3ミリ
モル)をジクロロメタン5.4mlに溶解する。アルゴン
雰囲気下、0℃でトリフルオロ酢酸5.4mlを加える。
反応媒体を室温に昇温し、蒸発させる。残留物をジクロ
ロメタン50mlに溶解し、再び蒸発させる。粗生成物
0.686gを得る。
【0067】6.2.(S)−α−[[(3−メチル−1,
2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホニ
ル]アミノ]−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダ
ゾール−4−ペンタン酸の製造 6.2.1.3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−8−スルホン酸の製造 3−メチルキノリン−8−スルホン酸20g(90ミリモ
ル)を、水200mlと12N塩酸25ml含有混合物に入
れる。5%ロジウム触媒6gを加え、反応媒体を70℃
で16時間加熱する。触媒を熱水ですすぎ、蒸発させ
る。残留物をエタノール50mlに溶解し、五酸化リンを
用い50℃で乾燥し、生成物14gを得る。融点=25
5℃(分解)。
2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホニ
ル]アミノ]−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダ
ゾール−4−ペンタン酸の製造 6.2.1.3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−8−スルホン酸の製造 3−メチルキノリン−8−スルホン酸20g(90ミリモ
ル)を、水200mlと12N塩酸25ml含有混合物に入
れる。5%ロジウム触媒6gを加え、反応媒体を70℃
で16時間加熱する。触媒を熱水ですすぎ、蒸発させ
る。残留物をエタノール50mlに溶解し、五酸化リンを
用い50℃で乾燥し、生成物14gを得る。融点=25
5℃(分解)。
【0068】6.2.2.(S)−α−[[(3−メチル−
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホ
ニル]アミノ]−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミ
ダゾール−4−ペンタン酸エチルエステルの製造 トリフェニルホスフィン10.46g(40ミリモル)を
0℃でジクロロメタン60mlに溶解する。窒素雰囲気
下、塩化スルフリル3.56ml(44ミリモル)を0℃で
滴加する。室温に昇温し、前項6.2.1.で得られた
化合物4.56g(20ミリモル)をジクロロメタン10
0mlとトリエチルアミン2.78ml含有混合物に溶解し
てこの溶液を、10分で加える。反応媒体を室温で約1
時間撹拌後、ペンタン500mlに注ぐ。これを濾過し、
濾液を蒸発させて残留物をペンタン約500mlに溶解す
る。油状形態で得られた生成物5gをジクロロメタン5
0mlに溶解する。この溶液35mlを、窒素雰囲気下、0
℃で(S)−α−アミノ−1−(トリフェニルメチル)−1
H−イミダゾール−4−ペンタン酸エチルエステル塩酸
塩4g(7.72ミリモル)のジクロロメタン50ml溶液
に加える。反応媒体を1時間撹拌後、1N塩酸50ml、
水50ml、炭酸水素ナトリウム飽和溶液50ml、水50
ml、最後に塩化ナトリウム飽和溶液50mlで順次洗浄す
る。これを硫酸マグネシウムで乾燥し、残留物をシリカ
ゲルカラム上、クロマトグラフィーによりジクロロメタ
ンとメタノールの(97−3)混合物で溶離して精製し、
生成物4.7gを得る。融点=70〜80℃、収率=8
8%(アミン体に比較)。
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホ
ニル]アミノ]−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミ
ダゾール−4−ペンタン酸エチルエステルの製造 トリフェニルホスフィン10.46g(40ミリモル)を
0℃でジクロロメタン60mlに溶解する。窒素雰囲気
下、塩化スルフリル3.56ml(44ミリモル)を0℃で
滴加する。室温に昇温し、前項6.2.1.で得られた
化合物4.56g(20ミリモル)をジクロロメタン10
0mlとトリエチルアミン2.78ml含有混合物に溶解し
てこの溶液を、10分で加える。反応媒体を室温で約1
時間撹拌後、ペンタン500mlに注ぐ。これを濾過し、
濾液を蒸発させて残留物をペンタン約500mlに溶解す
る。油状形態で得られた生成物5gをジクロロメタン5
0mlに溶解する。この溶液35mlを、窒素雰囲気下、0
℃で(S)−α−アミノ−1−(トリフェニルメチル)−1
H−イミダゾール−4−ペンタン酸エチルエステル塩酸
塩4g(7.72ミリモル)のジクロロメタン50ml溶液
に加える。反応媒体を1時間撹拌後、1N塩酸50ml、
水50ml、炭酸水素ナトリウム飽和溶液50ml、水50
ml、最後に塩化ナトリウム飽和溶液50mlで順次洗浄す
る。これを硫酸マグネシウムで乾燥し、残留物をシリカ
ゲルカラム上、クロマトグラフィーによりジクロロメタ
ンとメタノールの(97−3)混合物で溶離して精製し、
生成物4.7gを得る。融点=70〜80℃、収率=8
8%(アミン体に比較)。
【0069】6.2.3.(S)−α−[[(3−メチル−
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホ
ニル]アミノ]−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミ
ダゾール−4−ペンタン酸の製造 前項6.2.2.で得られた化合物4.5g(6.5ミリ
モル)をベンゼン80ml中に入れて0℃に冷やし、1時
間ガス状塩酸を通して発泡させる。0℃で更に30分間
放置し、蒸発させる。残留物をクロロホルム10mlに溶
解し、ジクロロメタン中アンモニア溶液でpH8〜9に
調節する。反応媒体をシリカゲルカラム上、クロマトグ
ラフィーによりジクロロメタン/メタノールの(95/
5〜90/10)勾配溶離剤で溶離して精製する。得ら
れた生成物3.5gをそのままの形態で次の反応工程に
使用する。融点=125〜145℃、収率=85%。
1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホ
ニル]アミノ]−1−(トリフェニルメチル)−1H−イミ
ダゾール−4−ペンタン酸の製造 前項6.2.2.で得られた化合物4.5g(6.5ミリ
モル)をベンゼン80ml中に入れて0℃に冷やし、1時
間ガス状塩酸を通して発泡させる。0℃で更に30分間
放置し、蒸発させる。残留物をクロロホルム10mlに溶
解し、ジクロロメタン中アンモニア溶液でpH8〜9に
調節する。反応媒体をシリカゲルカラム上、クロマトグ
ラフィーによりジクロロメタン/メタノールの(95/
5〜90/10)勾配溶離剤で溶離して精製する。得ら
れた生成物3.5gをそのままの形態で次の反応工程に
使用する。融点=125〜145℃、収率=85%。
【0070】6.3.(2R−trans)−N−エチル−4
−メチル−1−[2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テ
トラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−
1−オキソ−5−]1−(トリフェニルメチル)−1H−
イミダゾール−4−イル]ペンチルピペリジン−2−カ
ルボキサミドの製造 アルゴン雰囲気下、0℃で前項6.1.で得られた化合
物0.221g(1.3ミリモル)をジクロロメタン10m
lに溶解する。前項6.2.で得られた化合物0.63
5g(1ミリモル)、[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オ
キシ]トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフ
ルオロリン酸塩0.486g(1.10ミリモル)および
N,N−ジイソプロピルエチルアミン1.04ml(6ミリ
モル)を加える。混合物を一夜室温に昇温し、1N塩酸
10mlおよび炭酸水素ナトリウム飽和溶液10mlで順次
洗う。硫酸マグネシウムで乾燥して生成物0.337g
を得る。 融点=30〜40℃、収率=43%。
−メチル−1−[2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テ
トラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−
1−オキソ−5−]1−(トリフェニルメチル)−1H−
イミダゾール−4−イル]ペンチルピペリジン−2−カ
ルボキサミドの製造 アルゴン雰囲気下、0℃で前項6.1.で得られた化合
物0.221g(1.3ミリモル)をジクロロメタン10m
lに溶解する。前項6.2.で得られた化合物0.63
5g(1ミリモル)、[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オ
キシ]トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフ
ルオロリン酸塩0.486g(1.10ミリモル)および
N,N−ジイソプロピルエチルアミン1.04ml(6ミリ
モル)を加える。混合物を一夜室温に昇温し、1N塩酸
10mlおよび炭酸水素ナトリウム飽和溶液10mlで順次
洗う。硫酸マグネシウムで乾燥して生成物0.337g
を得る。 融点=30〜40℃、収率=43%。
【0071】6.4.(2R−trans)−N−エチル−1
−[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2−[[(3−
メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イ
ル)スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]−4−メ
チルピペリジン−2−カルボキサミド塩酸塩の製造 前項6.3.で得られた化合物0.332g(0.422
ミリモル)を酢酸3.7mlに溶解し、次に水0.7mlと
テトラヒドロフラン3mlを加える。混合物を1時間加熱
還流する。これを蒸発乾固し、シリカゲルカラム上、ク
ロマトグラフィーによりジクロロメタン/エタノール
(90/10)〜(85/15)勾配溶離剤で溶離して精製
する。塩基型として生成物0.225gを得る。この塩
基0.225gを、イソプロピルアルコール中0.1N
塩酸4.1mlに溶解することにより塩酸塩を製する。蒸
発させて残留物をエーテルで溶解する。この物質を濾過
し、乾燥して塩酸塩0.200gを得る。 融点=105〜110℃(分解)、[α]20 D=+33.2
°(c=0.2, メタノール)。
−[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2−[[(3−
メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イ
ル)スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]−4−メ
チルピペリジン−2−カルボキサミド塩酸塩の製造 前項6.3.で得られた化合物0.332g(0.422
ミリモル)を酢酸3.7mlに溶解し、次に水0.7mlと
テトラヒドロフラン3mlを加える。混合物を1時間加熱
還流する。これを蒸発乾固し、シリカゲルカラム上、ク
ロマトグラフィーによりジクロロメタン/エタノール
(90/10)〜(85/15)勾配溶離剤で溶離して精製
する。塩基型として生成物0.225gを得る。この塩
基0.225gを、イソプロピルアルコール中0.1N
塩酸4.1mlに溶解することにより塩酸塩を製する。蒸
発させて残留物をエーテルで溶解する。この物質を濾過
し、乾燥して塩酸塩0.200gを得る。 融点=105〜110℃(分解)、[α]20 D=+33.2
°(c=0.2, メタノール)。
【0072】[2R−[1(S),2α,4β]]−N−ヒドロ
キシ−1−[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2
−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン
−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]
−4−メチルピペリジン−2−カルボキサミド塩酸塩の
製造 7.1.(2R−trans)−4−メチル−N−(フェニルメ
トキシ)ピペリジン−2−カルボキサミド・トリフルオ
ロ酢酸塩の製造
キシ−1−[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2
−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン
−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]
−4−メチルピペリジン−2−カルボキサミド塩酸塩の
製造 7.1.(2R−trans)−4−メチル−N−(フェニルメ
トキシ)ピペリジン−2−カルボキサミド・トリフルオ
ロ酢酸塩の製造
【0073】7.1.1.(2R−trans)−1−(2,2
−ジメチル−1−オキソプロピル)−4−メチルピペリ
ジン−2−カルボン酸の製造 窒素雰囲気下、0℃で(2R−trans)−4−メチルピペ
リジン−2−カルボン酸エチルエステル0.51g(3ミ
リモル)をジクロロメタン10ml中に入れ、二炭酸ビス
(1,1−ジメチルエチル)エステル654mg(3ミリモ
ル)を加える。一夜室温に昇温する。蒸発後、残留物を
エタノール4mlおよび水酸化ナトリウム1N溶液3mlに
溶解する。これを一夜室温で放置し、更に水酸化ナトリ
ウム1N溶液3mlを加える。これを蒸発させ、残留物を
水に溶解し、エーテルで洗う。媒体を1N塩酸で酸性に
した後、エーテルで2回抽出する。有機層を塩化ナトリ
ウム飽和溶液10mlですすぎ、硫酸マグネシウムで乾燥
し、生成物0.68gを得る。 融点=87〜90℃、収率=97%。
−ジメチル−1−オキソプロピル)−4−メチルピペリ
ジン−2−カルボン酸の製造 窒素雰囲気下、0℃で(2R−trans)−4−メチルピペ
リジン−2−カルボン酸エチルエステル0.51g(3ミ
リモル)をジクロロメタン10ml中に入れ、二炭酸ビス
(1,1−ジメチルエチル)エステル654mg(3ミリモ
ル)を加える。一夜室温に昇温する。蒸発後、残留物を
エタノール4mlおよび水酸化ナトリウム1N溶液3mlに
溶解する。これを一夜室温で放置し、更に水酸化ナトリ
ウム1N溶液3mlを加える。これを蒸発させ、残留物を
水に溶解し、エーテルで洗う。媒体を1N塩酸で酸性に
した後、エーテルで2回抽出する。有機層を塩化ナトリ
ウム飽和溶液10mlですすぎ、硫酸マグネシウムで乾燥
し、生成物0.68gを得る。 融点=87〜90℃、収率=97%。
【0074】7.1.2.(2R−trans)−1−(2,2
−ジメチル−1−オキソプロピル)−4−メチル−N−
(フェニルメトキシ)ピペリジン−2−カルボキサミドの
製造 窒素雰囲気下、前項7.1.1.で得られた化合物1g
(4.03ミリモル)をテトラヒドロフラン15mlに入れ
る。これを−15℃に冷やし、4−メチルモルホリン
0.47ml(4ミリモル)とクロロギ酸2−メチルプロピ
ルエステル0.56ml(4ミリモル)を加える。これを5
分間撹拌し、テトラヒドロフラン5mlと4−メチルモル
ホリン0.52mlの混合物中O−(フェニルメチル)ヒド
ロキシルアミン塩酸塩0.755g(4.7ミリモル)の
溶液を加える。反応媒体を室温で一夜撹拌し、酢酸エチ
ル3容中に注ぐ。これを順次、0.1N塩酸50ml、水
50ml、炭酸水素ナトリウム50ml、水50ml、最後に
塩化ナトリウム飽和溶液50mlで洗浄する。これを硫酸
マグネシウムで乾燥し、残留物をエーテル中でかきまぜ
て再結晶し、生成物0.95gを得る。融点=107〜
108℃。
−ジメチル−1−オキソプロピル)−4−メチル−N−
(フェニルメトキシ)ピペリジン−2−カルボキサミドの
製造 窒素雰囲気下、前項7.1.1.で得られた化合物1g
(4.03ミリモル)をテトラヒドロフラン15mlに入れ
る。これを−15℃に冷やし、4−メチルモルホリン
0.47ml(4ミリモル)とクロロギ酸2−メチルプロピ
ルエステル0.56ml(4ミリモル)を加える。これを5
分間撹拌し、テトラヒドロフラン5mlと4−メチルモル
ホリン0.52mlの混合物中O−(フェニルメチル)ヒド
ロキシルアミン塩酸塩0.755g(4.7ミリモル)の
溶液を加える。反応媒体を室温で一夜撹拌し、酢酸エチ
ル3容中に注ぐ。これを順次、0.1N塩酸50ml、水
50ml、炭酸水素ナトリウム50ml、水50ml、最後に
塩化ナトリウム飽和溶液50mlで洗浄する。これを硫酸
マグネシウムで乾燥し、残留物をエーテル中でかきまぜ
て再結晶し、生成物0.95gを得る。融点=107〜
108℃。
【0075】7.1.3.(2R−trans)−4−メチル
−N−(フェニルメトキシ)ピペリジン−2−カルボキサ
ミド・トリフルオロ酢酸塩の製造 トリフルオロ酢酸5mlとジクロロメタン5mlの混合物
中、前項7.1.2.で得られた化合物450mg(1.
4ミリモル)の溶液を0℃で15分間撹拌する。蒸発
後、残留物をベンゼン10mlに溶解し、再び蒸発させ
る。油状形態で得られた生成物700mgを次工程のよう
に使用する。
−N−(フェニルメトキシ)ピペリジン−2−カルボキサ
ミド・トリフルオロ酢酸塩の製造 トリフルオロ酢酸5mlとジクロロメタン5mlの混合物
中、前項7.1.2.で得られた化合物450mg(1.
4ミリモル)の溶液を0℃で15分間撹拌する。蒸発
後、残留物をベンゼン10mlに溶解し、再び蒸発させ
る。油状形態で得られた生成物700mgを次工程のよう
に使用する。
【0076】7.2.[2R−[1−(S),2α,4β]]−
N−ヒドロキシ−1−[5−(1H−イミダゾール−4−
イル)−2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒド
ロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキ
ソペンチル]−4−メチルピペリジン−2−カルボキサ
ミド塩酸塩の製造 7.2.1.[2R−[1(S),2α,4β]]−4−メチル
−1−[2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒド
ロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキ
ソ−5−[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾ
ール−4−イル]ペンチル]−N−(フェニルメトキシ)ピ
ペリジン−2−カルボキサミドの製造 前項7.1.で得られた化合物700mg(1.4ミリモ
ル)をジクロロメタン10mlに溶解し、この混合物を0
℃に冷やす。窒素雰囲気下、前項6.2.で得られた化
合物630mg(1ミリモル)、[(ベンゾトリアゾール−1
−イル)オキシ]トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・
ヘキサフルオロリン酸塩500mg(1.13ミリモル)お
よびN,N−ジイソプロピルエチルアミン0.875(5
ミリモル)を加える。反応媒体を撹拌しながら室温で一
夜置いた後、酢酸エチル80mlに注ぐ。これを順次、
0.1N塩酸80ml、水80ml、炭酸水素ナトリウム溶
液80mlおよび最後に塩化ナトリウム飽和溶液80mlで
洗う。硫酸マグネシウムで乾燥し、残留物をシリカゲル
カラム上、クロマトグラフィーによりジクロロメタンと
メタノールの(97−3)混合物で溶離して精製し、生成
物0.8gを得る。 融点=90〜100℃、収率=93%。
N−ヒドロキシ−1−[5−(1H−イミダゾール−4−
イル)−2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒド
ロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキ
ソペンチル]−4−メチルピペリジン−2−カルボキサ
ミド塩酸塩の製造 7.2.1.[2R−[1(S),2α,4β]]−4−メチル
−1−[2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒド
ロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキ
ソ−5−[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾ
ール−4−イル]ペンチル]−N−(フェニルメトキシ)ピ
ペリジン−2−カルボキサミドの製造 前項7.1.で得られた化合物700mg(1.4ミリモ
ル)をジクロロメタン10mlに溶解し、この混合物を0
℃に冷やす。窒素雰囲気下、前項6.2.で得られた化
合物630mg(1ミリモル)、[(ベンゾトリアゾール−1
−イル)オキシ]トリス(ジメチルアミノ)ホスホニウム・
ヘキサフルオロリン酸塩500mg(1.13ミリモル)お
よびN,N−ジイソプロピルエチルアミン0.875(5
ミリモル)を加える。反応媒体を撹拌しながら室温で一
夜置いた後、酢酸エチル80mlに注ぐ。これを順次、
0.1N塩酸80ml、水80ml、炭酸水素ナトリウム溶
液80mlおよび最後に塩化ナトリウム飽和溶液80mlで
洗う。硫酸マグネシウムで乾燥し、残留物をシリカゲル
カラム上、クロマトグラフィーによりジクロロメタンと
メタノールの(97−3)混合物で溶離して精製し、生成
物0.8gを得る。 融点=90〜100℃、収率=93%。
【0077】7.2.2.[2R−[(S),2α,4β]]−
1−[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2−[[(3
−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−
イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]−4−
メチル−N−(フェニルメトキシ)ピペリジン−2−カル
ボキサミドの製造 窒素雰囲気下、テトラヒドロフラン10mlと80%酢酸
10ml中、前項7.2.1.で得られた化合物0.8g
(0.93ミリモル)を加熱還流する。蒸発後、残留物を
ジクロロメタン10mlに溶解し、シリカゲルカラム上、
クロマトグラフィーによりジクロロメタンとメタノール
の(90−10)混合物で溶離して精製し、生成物0.5
gを得る。 融点=75〜95℃、収率=88%。
1−[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2−[[(3
−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−
イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]−4−
メチル−N−(フェニルメトキシ)ピペリジン−2−カル
ボキサミドの製造 窒素雰囲気下、テトラヒドロフラン10mlと80%酢酸
10ml中、前項7.2.1.で得られた化合物0.8g
(0.93ミリモル)を加熱還流する。蒸発後、残留物を
ジクロロメタン10mlに溶解し、シリカゲルカラム上、
クロマトグラフィーによりジクロロメタンとメタノール
の(90−10)混合物で溶離して精製し、生成物0.5
gを得る。 融点=75〜95℃、収率=88%。
【0078】7.2.3.[2R−[1(S),2α,4β]]
−N−ヒドロキシ−1−[5−(1H−イミダゾール−4
−イル)−2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒ
ドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オ
キソペンチル]−4−メチルピペリジン−2−カルボキ
サミド塩酸塩の製造 前項7.2.2.で得られた化合物0.45g(0.73
ミリモル)をパル(Parr)フラスコ中メタノール30mlに
入れる。10%パラジウム触媒0.1gを加え、40psi
で10時間水素化する。触媒から液滴を分離する。蒸発
させて残留物をシリカゲルカラム上、クロマトグラフィ
ーによりジクロロメタンとメタノールの(90−10)混
合物で溶離して精製し、塩基型として生成物0.2gを
得る。塩基型生成物をイソプロパノールとエタノールの
混合物中で沈澱させることにより塩酸塩0.15gを得
る。融点=140℃(分解)。[α]20 D=+85°(c=
0.1, メタノール)。
−N−ヒドロキシ−1−[5−(1H−イミダゾール−4
−イル)−2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒ
ドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オ
キソペンチル]−4−メチルピペリジン−2−カルボキ
サミド塩酸塩の製造 前項7.2.2.で得られた化合物0.45g(0.73
ミリモル)をパル(Parr)フラスコ中メタノール30mlに
入れる。10%パラジウム触媒0.1gを加え、40psi
で10時間水素化する。触媒から液滴を分離する。蒸発
させて残留物をシリカゲルカラム上、クロマトグラフィ
ーによりジクロロメタンとメタノールの(90−10)混
合物で溶離して精製し、塩基型として生成物0.2gを
得る。塩基型生成物をイソプロパノールとエタノールの
混合物中で沈澱させることにより塩酸塩0.15gを得
る。融点=140℃(分解)。[α]20 D=+85°(c=
0.1, メタノール)。
【0079】実施例8 [2R−[1(S),2α,4β]]−1−[5−(1H−イミダ
ゾール−4−イル)−2−[[(3−メチル−1,2,3,4
−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミ
ノ]−1−オキソペンチル]−4−メチル−2−(1H−
テトラゾール−4−イル)ピペリジン塩酸塩の製造 8.1.(2R−trans)−4−メチル−2−(1H−テト
ラゾール−4−イル)ピペリジン・トリフルオロ酢酸塩
の製造 8.1.1.(2R−trans)−1−(2,2−ジメチル−
1−オキソプロピル)−4−メチルピペリジン−2−カ
ルボキサミドの製造 窒素雰囲気下、前項7.1.1.で得られた化合物1g
(4.03ミリモル)をテトラヒドロフラン15mlに入れ
る。反応媒体を−15℃に冷やし、4−メチルモルホリ
ン0.47ml(4ミリモル)、次いでクロロギ酸2−メチ
ルプロピルエステル0.56ml(4ミリモル)を加える。
混合物を5分間撹拌後、過剰量のアンモニアを加え。反
応媒体を室温に昇温し、1時間撹拌する。これを3容の
酢酸エチルに注ぎ、これを順次、0.1N塩酸50ml、
水50ml、炭酸水素ナトリウム溶液50ml、水50ml、
最後に塩化ナトリウム飽和溶液50mlで洗う。硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、蒸発させる。不透明な油状物形態で
得られた生成物1gをこのままの形態で次工程に使用す
る。
ゾール−4−イル)−2−[[(3−メチル−1,2,3,4
−テトラヒドロキノリン−8−イル)スルホニル]アミ
ノ]−1−オキソペンチル]−4−メチル−2−(1H−
テトラゾール−4−イル)ピペリジン塩酸塩の製造 8.1.(2R−trans)−4−メチル−2−(1H−テト
ラゾール−4−イル)ピペリジン・トリフルオロ酢酸塩
の製造 8.1.1.(2R−trans)−1−(2,2−ジメチル−
1−オキソプロピル)−4−メチルピペリジン−2−カ
ルボキサミドの製造 窒素雰囲気下、前項7.1.1.で得られた化合物1g
(4.03ミリモル)をテトラヒドロフラン15mlに入れ
る。反応媒体を−15℃に冷やし、4−メチルモルホリ
ン0.47ml(4ミリモル)、次いでクロロギ酸2−メチ
ルプロピルエステル0.56ml(4ミリモル)を加える。
混合物を5分間撹拌後、過剰量のアンモニアを加え。反
応媒体を室温に昇温し、1時間撹拌する。これを3容の
酢酸エチルに注ぎ、これを順次、0.1N塩酸50ml、
水50ml、炭酸水素ナトリウム溶液50ml、水50ml、
最後に塩化ナトリウム飽和溶液50mlで洗う。硫酸マグ
ネシウムで乾燥し、蒸発させる。不透明な油状物形態で
得られた生成物1gをこのままの形態で次工程に使用す
る。
【0080】8.1.2.(2R−trans)−1−(2,2
−ジメチル−1−オキソプロピル)−4−メチルピペリ
ジン−2−カルボニトリルの製造 前項8.1.1.で得られた化合物1g(4ミリモル)を
ピリジン5mlに溶解して−5℃に冷やす。ジクロロメタ
ン1ml中ホスホリンクロリド0.52mlを滴加する。反
応媒体を1時間撹拌後、氷中に注ぎ、ジエチルエーテル
100mlで抽出する。蒸発後、残留物をシリカゲルカラ
ム上、クロマトグラフィーによりジクロロメタンで溶離
して精製する。油状物形態で得られた生成物0.7gを
そのままの形態で次工程に使用する。
−ジメチル−1−オキソプロピル)−4−メチルピペリ
ジン−2−カルボニトリルの製造 前項8.1.1.で得られた化合物1g(4ミリモル)を
ピリジン5mlに溶解して−5℃に冷やす。ジクロロメタ
ン1ml中ホスホリンクロリド0.52mlを滴加する。反
応媒体を1時間撹拌後、氷中に注ぎ、ジエチルエーテル
100mlで抽出する。蒸発後、残留物をシリカゲルカラ
ム上、クロマトグラフィーによりジクロロメタンで溶離
して精製する。油状物形態で得られた生成物0.7gを
そのままの形態で次工程に使用する。
【0081】8.1.3.(2R−trans)−4−メチル
−2−(1H−テトラゾール−4−イル)ピペリジンの製
造 前項8.1.2.で得られた化合物0.7g(3.1ミリ
モル)を封管に入れ、ジメチルホルムアミド1.5ml、
窒化ナトリウム212mg(3ミリモル)および塩化アンモ
ニウム180mg(4ミリモル)を加える。これを100℃
に24時間加熱後、蒸発させる。残留物を炭酸ナトリウ
ムとジエチルエーテルの混合物に溶解し、有機層を集め
て1N塩酸でpH2に調節し、ジエチルエーテルで抽出
する。有機層を回収して硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸
発させる。油状物形として得られた生成物0.3gをそ
のままの形態で次工程に使用する。
−2−(1H−テトラゾール−4−イル)ピペリジンの製
造 前項8.1.2.で得られた化合物0.7g(3.1ミリ
モル)を封管に入れ、ジメチルホルムアミド1.5ml、
窒化ナトリウム212mg(3ミリモル)および塩化アンモ
ニウム180mg(4ミリモル)を加える。これを100℃
に24時間加熱後、蒸発させる。残留物を炭酸ナトリウ
ムとジエチルエーテルの混合物に溶解し、有機層を集め
て1N塩酸でpH2に調節し、ジエチルエーテルで抽出
する。有機層を回収して硫酸マグネシウムで乾燥し、蒸
発させる。油状物形として得られた生成物0.3gをそ
のままの形態で次工程に使用する。
【0082】8.1.4.(2R−trans)−4−メチル
−2−(1H−テトラゾール−4−イル)ピペリジン・ト
リフルオロ酢酸塩の製造 窒素雰囲気下、前項8.1.3.で得られた化合物24
2mg(0.9ミリモル)をジクロロメタン2mlに溶解し、
トリフルオロ酢酸2mlを加える。混合物を室温で1時間
撹拌し、蒸発後、残留物をジクロロメタンに溶解する。
再び蒸発させる。油状物形として得られた生成物355
mgをそのまま形態で次工程に使用する。
−2−(1H−テトラゾール−4−イル)ピペリジン・ト
リフルオロ酢酸塩の製造 窒素雰囲気下、前項8.1.3.で得られた化合物24
2mg(0.9ミリモル)をジクロロメタン2mlに溶解し、
トリフルオロ酢酸2mlを加える。混合物を室温で1時間
撹拌し、蒸発後、残留物をジクロロメタンに溶解する。
再び蒸発させる。油状物形として得られた生成物355
mgをそのまま形態で次工程に使用する。
【0083】8.2.[2R−[1(S),2α,4β]]1−
[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2−[[(3−メ
チル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)
スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]−4−メチ
ル−2−(1H−テトラゾール−4−イル)ピペリジン塩
酸塩の製造 8.2.1.[2R−[1(S),2α,4β]]−4−メチル
−1−2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソ
−5−[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾー
ル−4−イル]ペンチル]−2−(1H−テトラゾール−
4−イル)ピペリジンの製造 窒素雰囲気下、前項8.1.で得られた化合物355mg
(0.9ミリモル)をジクロロメタン6mlに溶解する。
[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメ
チルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩4
35mg(0.98ミリモル)、N,N−ジイソプロピルエ
チルアミン0.7ml(5.64ミリモル)および前項6.
2.で得られた化合物570mgを加える。反応媒体を室
温で一夜放置後、酢酸エチル50mlに注ぐ。これを順
次、1N塩酸50ml、水50ml、最後に塩化ナトリウム
飽和溶液50mlで洗う。これを硫酸マグネシウムで乾
燥、蒸発し、残留物をジクロロメタン3mlに溶解し、ア
ンモニアでpH5で調節する。これをシリカゲルカラム
上、クロマトグラフィーによりジクロロメタンとメタノ
ールの(97−3)混合物で溶離して精製する。生成物4
50mgを得る。融点=120〜130℃、収率=63
%。
[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2−[[(3−メ
チル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−8−イル)
スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]−4−メチ
ル−2−(1H−テトラゾール−4−イル)ピペリジン塩
酸塩の製造 8.2.1.[2R−[1(S),2α,4β]]−4−メチル
−1−2−[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソ
−5−[1−(トリフェニルメチル)−1H−イミダゾー
ル−4−イル]ペンチル]−2−(1H−テトラゾール−
4−イル)ピペリジンの製造 窒素雰囲気下、前項8.1.で得られた化合物355mg
(0.9ミリモル)をジクロロメタン6mlに溶解する。
[(ベンゾトリアゾール−1−イル)オキシ]トリス(ジメ
チルアミノ)ホスホニウム・ヘキサフルオロリン酸塩4
35mg(0.98ミリモル)、N,N−ジイソプロピルエ
チルアミン0.7ml(5.64ミリモル)および前項6.
2.で得られた化合物570mgを加える。反応媒体を室
温で一夜放置後、酢酸エチル50mlに注ぐ。これを順
次、1N塩酸50ml、水50ml、最後に塩化ナトリウム
飽和溶液50mlで洗う。これを硫酸マグネシウムで乾
燥、蒸発し、残留物をジクロロメタン3mlに溶解し、ア
ンモニアでpH5で調節する。これをシリカゲルカラム
上、クロマトグラフィーによりジクロロメタンとメタノ
ールの(97−3)混合物で溶離して精製する。生成物4
50mgを得る。融点=120〜130℃、収率=63
%。
【0084】8.2.2.[2R−[1(S),2α,4β]]
−1−[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2−
[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−
8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]−
4−メチル−2−(1H−テトラゾール−4−イル)ピペ
リジン塩酸塩の製造 窒素雰囲気下、先に得られた化合物450mg(0.5ミ
リモル)を、酢酸5ml、水1mlおよびテトラヒドロフラ
ン4ml含有混合物中、45分間加熱還流する。蒸発さ
せ、残留物をシリカゲルカラム上、クロマトグラフィー
によりジクロロメタンとメタノールの(90/10)〜
(80/20)混合物で溶離して精製し、塩基型生成物2
00mgを得る。塩基から次のようにその塩酸塩を製造す
る。塩基をシリカゲルカラム上、クロマトグラフィーに
より水−0.1%トリフルオロ酢酸/アセトニトリルの
(95/5)〜(5/95)勾配溶離剤で溶離して精製す
る。所望の分画を合して蒸発する。残留物をイソプロパ
ノール中0.1N塩酸に溶解し、再び蒸発する。残留物
をエーテルに溶解し、かき混ぜる。塩酸塩型として生成
物0.15gを得る。融点=140〜150℃、収率=
49%。[α]20 D=+115°(c=0.2, メタノー
ル)。本発明化合物の化学的構造および物性を表1〜7
に示す。
−1−[5−(1H−イミダゾール−4−イル)−2−
[[(3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロキノリン−
8−イル)スルホニル]アミノ]−1−オキソペンチル]−
4−メチル−2−(1H−テトラゾール−4−イル)ピペ
リジン塩酸塩の製造 窒素雰囲気下、先に得られた化合物450mg(0.5ミ
リモル)を、酢酸5ml、水1mlおよびテトラヒドロフラ
ン4ml含有混合物中、45分間加熱還流する。蒸発さ
せ、残留物をシリカゲルカラム上、クロマトグラフィー
によりジクロロメタンとメタノールの(90/10)〜
(80/20)混合物で溶離して精製し、塩基型生成物2
00mgを得る。塩基から次のようにその塩酸塩を製造す
る。塩基をシリカゲルカラム上、クロマトグラフィーに
より水−0.1%トリフルオロ酢酸/アセトニトリルの
(95/5)〜(5/95)勾配溶離剤で溶離して精製す
る。所望の分画を合して蒸発する。残留物をイソプロパ
ノール中0.1N塩酸に溶解し、再び蒸発する。残留物
をエーテルに溶解し、かき混ぜる。塩酸塩型として生成
物0.15gを得る。融点=140〜150℃、収率=
49%。[α]20 D=+115°(c=0.2, メタノー
ル)。本発明化合物の化学的構造および物性を表1〜7
に示す。
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【表6】
【表7】
【0085】本発明化合物のトロンビンおよびトリプシ
ンに関する試験管内試験を次のように行なった。 1.牛トロンビンによるヒトフィブリノーゲンの沈降 ヒトフィブリノーゲン溶液(200μl、2mg/ml(生理
血清))中、試験化合物またはその媒体(10μl)を37
℃で2分間熟成する。次いで牛トロンビン200μlの
蒸留水溶液を加える。トロンビン最終濃度を0.5NI
H単位/mlとする。これを撹拌し、目に見えるフィブリ
ン網状物の形成に要する時間(秒)を記録する。沈降時間
を100%増大させる化合物濃度(CA100)を計算する
ことによりフィブリン形成の抑制率を定量する。結果と
して、少なくとも3回の試験の平均値±s.e.m.をCA
100として表わす。
ンに関する試験管内試験を次のように行なった。 1.牛トロンビンによるヒトフィブリノーゲンの沈降 ヒトフィブリノーゲン溶液(200μl、2mg/ml(生理
血清))中、試験化合物またはその媒体(10μl)を37
℃で2分間熟成する。次いで牛トロンビン200μlの
蒸留水溶液を加える。トロンビン最終濃度を0.5NI
H単位/mlとする。これを撹拌し、目に見えるフィブリ
ン網状物の形成に要する時間(秒)を記録する。沈降時間
を100%増大させる化合物濃度(CA100)を計算する
ことによりフィブリン形成の抑制率を定量する。結果と
して、少なくとも3回の試験の平均値±s.e.m.をCA
100として表わす。
【0086】2.ヒトトロンビンによるヒトフィブリノ
ーゲンの沈降 ヒトフィブリノーゲン溶液(200μl、2mg/ml(生理
血清))中、試験化合物またはその媒体(10μl)を37
℃で2分間熟成する。次いでヒトトロンビン200μl
の蒸留水溶液を加える。トロンビン最終濃度を0.5N
IH単位/mlとする。これを撹拌し、目に見えるフィブ
リン網状物の形成に要する時間(秒)を記録する。沈降時
間を100%増大させる化合物濃度(CA100)を計算す
ることによりフィブリン形成の抑制率を定量する。結果
として、少なくとも3回の試験の平均値±s.e.m.をCA
100として表わす。
ーゲンの沈降 ヒトフィブリノーゲン溶液(200μl、2mg/ml(生理
血清))中、試験化合物またはその媒体(10μl)を37
℃で2分間熟成する。次いでヒトトロンビン200μl
の蒸留水溶液を加える。トロンビン最終濃度を0.5N
IH単位/mlとする。これを撹拌し、目に見えるフィブ
リン網状物の形成に要する時間(秒)を記録する。沈降時
間を100%増大させる化合物濃度(CA100)を計算す
ることによりフィブリン形成の抑制率を定量する。結果
として、少なくとも3回の試験の平均値±s.e.m.をCA
100として表わす。
【0087】3.牛トロンビンによるラット血漿の凝固 体重150〜200gの雄CDラットをネンブタール(6
0mg/kg、0.1ml/kg)で麻酔する。後軌道洞(retro
orbital sinus)から3.8%クエン酸三ナトリウム(1
容/9容血液)上、採血する。これを室温で15分間3
600gの遠心分離により血漿を調製する。試験化合物
またはその媒体(10μl)を血漿200μlと共に37℃
で2分間熟成し、牛トロンビン溶液200μlを加え
る。トロンビンの最終濃度を0.75NIH単位/mlと
し、凝固時間(秒で表わす)を記録する。凝固時間を10
0%増大させる化合物濃度(CA100)を計算することに
より、トロンビン抑制率を定量する。
0mg/kg、0.1ml/kg)で麻酔する。後軌道洞(retro
orbital sinus)から3.8%クエン酸三ナトリウム(1
容/9容血液)上、採血する。これを室温で15分間3
600gの遠心分離により血漿を調製する。試験化合物
またはその媒体(10μl)を血漿200μlと共に37℃
で2分間熟成し、牛トロンビン溶液200μlを加え
る。トロンビンの最終濃度を0.75NIH単位/mlと
し、凝固時間(秒で表わす)を記録する。凝固時間を10
0%増大させる化合物濃度(CA100)を計算することに
より、トロンビン抑制率を定量する。
【0088】4.ヒトトロンビンにより誘発されるウサ
ギ血小板の凝集 心臓穿刺により3.8%クエン酸三ナトリウム(1容/
9容血液)上に採血する。これを10分間250gで遠心
分離する。得られた血小板に富む血漿(PRP)を保持
し、血小板を計数する。
ギ血小板の凝集 心臓穿刺により3.8%クエン酸三ナトリウム(1容/
9容血液)上に採血する。これを10分間250gで遠心
分離する。得られた血小板に富む血漿(PRP)を保持
し、血小板を計数する。
【0089】冷トリス緩衝液(pH9.0)ml当たりプロ
スタサイクリルngをPRPに加える。これを110gで
10分間遠心分離し、傾斜する。最終濃度200ng/ml
となるように、更にプロスタサイクリンの50M水酸化
ナトリウム(pH12)溶液を加える。再びPRPを80
0gで10分間遠心分離する。血小板の少ない血漿を分
離し、残留物を、最初のPRP容量と同一容量のタイロ
ード液(プロスタサイクリン200ng/ml含有)に懸濁す
る。この懸濁液を800gで10分間遠心分離する。こ
の残留物の2回目の懸濁と遠心分離を上記と同一条件で
行なう。すべてのプロスタサイクリルを排除するため、
最終残留物をプロスタサイクリンのないタイロード液中
に再懸濁し、2時間放置する。最終濃度0.3NIH単
位/mlのヒトトロンビンで血小板の凝集を誘発する。4
−チャンネルアグレゴメータ(aggregometer)を用いて光
学密度の変動を記録する。血小板懸濁液に試験化合物ま
たはその媒体を加え(最高容量3μlを加える)、2分
後、トロンビンを加える。凝集を50%抑制する濃度
(CI50)を測定する。結果として、少なくとも3回の試
験の平均値±s.e.m.をCI50として表わす。
スタサイクリルngをPRPに加える。これを110gで
10分間遠心分離し、傾斜する。最終濃度200ng/ml
となるように、更にプロスタサイクリンの50M水酸化
ナトリウム(pH12)溶液を加える。再びPRPを80
0gで10分間遠心分離する。血小板の少ない血漿を分
離し、残留物を、最初のPRP容量と同一容量のタイロ
ード液(プロスタサイクリン200ng/ml含有)に懸濁す
る。この懸濁液を800gで10分間遠心分離する。こ
の残留物の2回目の懸濁と遠心分離を上記と同一条件で
行なう。すべてのプロスタサイクリルを排除するため、
最終残留物をプロスタサイクリンのないタイロード液中
に再懸濁し、2時間放置する。最終濃度0.3NIH単
位/mlのヒトトロンビンで血小板の凝集を誘発する。4
−チャンネルアグレゴメータ(aggregometer)を用いて光
学密度の変動を記録する。血小板懸濁液に試験化合物ま
たはその媒体を加え(最高容量3μlを加える)、2分
後、トロンビンを加える。凝集を50%抑制する濃度
(CI50)を測定する。結果として、少なくとも3回の試
験の平均値±s.e.m.をCI50として表わす。
【0090】5.牛トリプシンとの関連活性 トリス塩酸緩衝液(pH8.0)に溶解した牛トリプシン
50μlと試験化合物またはその媒体(50μl)を室温で
5分間熟成する。トリプシンの最終濃度を229単位/
mlとする。基質: Nα−ベンゾイル−L−アルギニン−
4−ニトロアニリン(50μl、最終濃度50μM)を加
えて反応を開始する。室温で20分間この熟成を行な
い、遊離した4−ニトロアニリンの光学密度を405nm
で測定する。空白部分(“Whites")(緩衝液100μl+
基質50μl)の光学密度を減算した後、目盛曲線から4
−ニトロアニリンの濃度を計算する。酵素活性を50%
抑制する濃度(CI50)を決定する。結果として平均値±
s.e.をCI50で表わす。
50μlと試験化合物またはその媒体(50μl)を室温で
5分間熟成する。トリプシンの最終濃度を229単位/
mlとする。基質: Nα−ベンゾイル−L−アルギニン−
4−ニトロアニリン(50μl、最終濃度50μM)を加
えて反応を開始する。室温で20分間この熟成を行な
い、遊離した4−ニトロアニリンの光学密度を405nm
で測定する。空白部分(“Whites")(緩衝液100μl+
基質50μl)の光学密度を減算した後、目盛曲線から4
−ニトロアニリンの濃度を計算する。酵素活性を50%
抑制する濃度(CI50)を決定する。結果として平均値±
s.e.をCI50で表わす。
【0091】ラット血漿の生体外凝固に関する本発明化
合物の平行的試験を行なった。動物を試験化合物または
その媒体で静脈内もしくは経口的に処理した後、採血す
る。トロンビン時間を試験3記載のように測定する。
合物の平行的試験を行なった。動物を試験化合物または
その媒体で静脈内もしくは経口的に処理した後、採血す
る。トロンビン時間を試験3記載のように測定する。
【0092】本発明化合物はCA100およびCI50が1
0-8〜10-6Mの値を有するトロンビン抑制剤である。
これらの化合物は牛トリプシンと関連する抑制活性およ
びその特異性を証明する事実はほとんどないか、また全
くない。本発明化合物は体重kg当たり1mg以下の静脈内
投与量でラット血漿凝固を抑制し、また経口的に活性を
有する。
0-8〜10-6Mの値を有するトロンビン抑制剤である。
これらの化合物は牛トリプシンと関連する抑制活性およ
びその特異性を証明する事実はほとんどないか、また全
くない。本発明化合物は体重kg当たり1mg以下の静脈内
投与量でラット血漿凝固を抑制し、また経口的に活性を
有する。
【0093】本発明化合物は血栓症に関連する臨床的徴
候および血栓症性併発症が起こるかもしれない場合に有
用であることができる。この目的のため、本発明化合物
を用い、適当な賦形剤と合して患者1人当たり1〜10
00mg/日の投与量を1日1回ないしそれ以上の回数で
投与されるように、経口的、非経口的または静脈内投与
剤形たとえば錠剤、糖衣丸薬、カプセル剤、懸濁液剤ま
たは飲用もしくは注射用溶液などのような剤形の薬剤を
製造することができる。
候および血栓症性併発症が起こるかもしれない場合に有
用であることができる。この目的のため、本発明化合物
を用い、適当な賦形剤と合して患者1人当たり1〜10
00mg/日の投与量を1日1回ないしそれ以上の回数で
投与されるように、経口的、非経口的または静脈内投与
剤形たとえば錠剤、糖衣丸薬、カプセル剤、懸濁液剤ま
たは飲用もしくは注射用溶液などのような剤形の薬剤を
製造することができる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ダニエル・ガルティエ フランス78210サン・シル・レコール、リ ュ・ジャン・フォレ20番 (72)発明者 ポール・ハワード・ウィリアムズ フランス75011パリ、リュ・サン・ベルナ ール24番 (72)発明者 フレデリック・ガリ フランス78170ラ・セル・サン・クルド、 レジダンス・ドゥ・ロランジェリー3番
Claims (10)
- 【請求項1】 式: 【化1】 [式中、Rは式: 【化2】 で示される基(基中、R2は水素原子、(C1〜C4)アルコ
キシカルボニル基、カルボキシル基、カルボン酸ナトリ
ウム基、式:−CH2OR4で示される基(R4は水素原
子、(C1〜C4)アルキル基、または(C1〜C4)アシ
ル基である)、式:−CONR5R6で示されるアミド
基、または式:−CN4R5で示される基(R5は水素原
子もしくは(C1〜C4)アルキル基、R6は水素原子、(C
1〜C4)アルキル基、ヒドロキシ基もしくは(C1〜C4)
アルコキシ基)、およびR3は(C1〜C4)アルキル基)、 R1は水素原子または(C1〜C4)アルキル基、 Xは硫黄原子、酸素原子またはメチレン基、 nは1または2、およびArはジ(C1〜C4)アルキルアミ
ノ基で置換されたナフタレン−1−イル基、 または6,7−ジ(C1〜C4)アルコキシナフタレン−1
−イル基、または3位が(C1〜C4)アルキル基で置換さ
れたキノリン−8−イル基、または3位が(C1〜C4)ア
ルキル基で置換された1,2,3,4−テトラヒドロキノ
リン−8−イル基、または1H−インダゾール−7−イ
ル基のいずれかを表わす]で示される化合物(I)および
その薬学的に許容される有機塩類もしくは無機塩類。 - 【請求項2】 Rが式: 【化3】 で示される基(基中、R2は水素原子、(C1〜C4)アルコ
キシカルボニル基、カルボキシル基、カルボン酸ナトリ
ウム基、式:−CH2OR4で示される基(R4は水素原
子、(C1〜C4)アルキル基、または(C1〜C4)アシ
ル基である)、式:−CONR5R6で示されるアミド
基、または式:−CN4R5で示される基(R5は水素原
子もしくは(C1〜C4)アルキル基、R6は水素原子、(C
1〜C4)アルキル基、ヒドロキシ基もしくは(C1〜C4)
アルコキシ基)、およびR3は(C1〜C4)アルキル基)、 R1が水素原子または(C1〜C4)アルキル基 Xが硫黄原子または酸素原子のいずれかまたはメチレン
基、 nが1または2、およびArが5−(ジメチルアミノ)ナフ
タレン−1−イル基、または6,7−ジメトキシナフタ
レン−1−イル基、または3−メチルキノリン−8−イ
ル基、または3−メチル−1,2,3,4−テトラヒドロ
キノリン−8−イル基である化合物であって、できる限
りジアステレオマー型である請求項1記載の化合物。 - 【請求項3】 Rが式: 【化4】 で示される基(基中、R2がカルボキシル基、エトキシカ
ルボニル基、ヒドロキシカルボキサミド基、ヒドロキシ
メチル基または1H−テトラゾリル基、R3がメチル基
またはエチル基)、 R1が水素原子またはメチル基、 Xがメチレン基、 nが1、およびArが3−メチル−1,2,3,4−テトラ
ヒドロキノリン−8−イル基である請求項2記載の化合
物。 - 【請求項4】 ピペリジニル基の配置が[2R,4R]、
式: 【化5】 で示される中心アミノ部分中の不斉炭素の配置が[S]で
ある請求項1〜3のいずれかに記載の化合物。 - 【請求項5】 式: 【化6】 [式中、nは1または2、R1、R2、R3およびArは請求
項1記載と同意義]で示される化合物(Ia)を製造するに
当り、式: 【化7】 [式中、R1は請求項1記載と同意義]で示されるアルコ
ール(II)を塩化チオニルと反応させ、得られた化合物
をトリフェニルホスフィンと反応させて式: 【化8】 で示される化合物(III)を製し、これを式: 【化9】 で示される化合物(IV)と反応させて式: 【化10】 で示される化合物(V)を製し、これを接触水素化して
式: 【化11】 で示される化合物(VI)を製し、これを式: ArSO2Cl [式中、Arは請求項1記載と同意義]で示されるアリー
ルスルホニルクロリドと反応させて式: 【化12】 で示される化合物(VII)を製し、これを脱保護処理
して式: 【化13】 で示される化合物(VIII)を製し、これを式: 【化14】 [式中、R2およびR3は請求項1記載と同意義]で示され
る化合物(IX)と縮合して式: 【化15】 で示される(X)を製し、これを脱保護反応に付し、化
合物(Ia)を得ることを特徴とする式(Ia)で示される請
求項1記載の化合物の製造法。 - 【請求項6】 式: 【化16】 {式中、nは1、R1、R2、R3およびArは請求項1記載
と同意義]で示される化合物(Ib)を製造するに当り、
式: 【化17】 [式中、R1は請求項1記載と同意義]で示されるアルコ
ール(II)を塩化チオニルと反応させ、得られた化合物
をL−システインと反応させて式: 【化18】 で示される化合物(XII)を製し、これを式: ArSO2Cl [式中、Arは請求項1記載と同意義]で示されるアリー
ルスルホニルクロリドと反応させて式: 【化19】 で示される化合物(XIII)を製し、これを式: 【化20】 [式中、R2およびR3は請求項1記載と同意義]で示され
る化合物(IX)と縮合させて式: 【化21】 で示される化合物(XIV)を製し、これを脱保護処理
してnが1である化合物(Ib)を得ることを特徴とする式
(Ib)で示される請求項1記載の化合物の製造法。 - 【請求項7】 式: 【化22】 [式中、nは2、R1、R2、R3およびArは請求項1記載
と同意義]で示される化合物(Ib)を製造するに当り、
式: 【化23】 [式中、R1は請求項1記載と同意義]で示されるアルコ
ール(II)を塩化チオニルと反応させ、得られた化合物
をチオ酢酸カリウムと反応させて式: 【化24】 で示される化合物(XV)を製し、これを式: 【化25】 で示されるトシレート(XVI)と反応させて式: 【化26】 で示される化合物(XVII)を製し、これを脱保護処理
して式: 【化27】 で示される化合物(XVIII)を製し、これを式: 【化28】 [式中、R2およびR3は請求項1記載と同意義]で示さ
れる化合物(IX)と縮合させて式: 【化29】 で示される化合物(XIX)を製し、これを脱保護処理し
て式: 【化30】 で示される化合物(XX)を製し、これを式: ArSO2Cl [式中、Arは請求項1記載と同意義]で示されるアリー
ルスルホニルクロリドと反応させて式: 【化31】 で示される化合物(XXI)を製し、これを脱保護処理
してnが2である化合物(Ib)を得ることを特徴とする式
(Ib)で示される請求項1記載の化合物の製造法。 - 【請求項8】 式: 【化32】 [式中、nは1または2、R1、R2、R3およびArは請求
項1記載と同意義]で示される化合物(Ic)を製造するに
当り、式: 【化33】 [式中、R1は請求項1記載と同意義]で示されるアルコ
ール(II)を塩化チオニルと反応させ、得られた化合物
を、あらかじめ水素化ナトリウムで処理した式: 【化34】 で示される化合物(XXII)と反応させて式: 【化35】 で示される化合物(XXIII)を製し、これを式: 【化36】 [式中、R2およびR3は請求項1記載と同意義]で示され
る化合物(IX)と縮合させて式: 【化37】 で示される化合物(XXIV)を製し、これを脱保護処
理して得られた化合物を式: ArSO2Cl [式中、Arは請求項1と同意義]で示されるアリールス
ルホニルクロリドと反応させ、最終的にイミダゾール核
上を脱保護処理して化合物(Ic)を得ることを特徴とす
る式(Ic)で示される請求項1記載の化合物の製造法。 - 【請求項9】 請求項1〜4のいずれかに記載の化合物
を含有することを特徴とする医薬品。 - 【請求項10】 請求項1〜4のいずれかに記載の化合
物を適当な賦形剤と組合わせて含有することを特徴とす
る薬学的組成物。
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