JPH06199598A - ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 - Google Patents
ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法Info
- Publication number
- JPH06199598A JPH06199598A JP30311792A JP30311792A JPH06199598A JP H06199598 A JPH06199598 A JP H06199598A JP 30311792 A JP30311792 A JP 30311792A JP 30311792 A JP30311792 A JP 30311792A JP H06199598 A JPH06199598 A JP H06199598A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- single crystal
- lithium niobate
- crystal
- niobate single
- grown
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 239000013078 crystal Substances 0.000 title claims abstract description 59
- GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N lithium niobate Chemical compound [Li+].[O-][Nb](=O)=O GQYHUHYESMUTHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 32
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 claims abstract description 7
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims abstract description 6
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 5
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 5
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 5
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 5
- 239000010955 niobium Substances 0.000 claims abstract description 4
- 229910052758 niobium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 4
- GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N niobium atom Chemical compound [Nb] GUCVJGMIXFAOAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 4
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims abstract description 3
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims abstract description 3
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 abstract description 10
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 10
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 9
- 239000007789 gas Substances 0.000 abstract description 7
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 7
- 230000008832 photodamage Effects 0.000 abstract description 7
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 abstract description 5
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 abstract description 5
- UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N Carbon monoxide Chemical compound [O+]#[C-] UGFAIRIUMAVXCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 4
- 229910002091 carbon monoxide Inorganic materials 0.000 abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 4
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 238000005231 Edge Defined Film Fed Growth Methods 0.000 abstract description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 abstract description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 abstract description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 14
- 238000007711 solidification Methods 0.000 description 10
- 230000008023 solidification Effects 0.000 description 9
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 5
- 238000005336 cracking Methods 0.000 description 4
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 4
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 3
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 3
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 3
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 2
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N niobium pentoxide Inorganic materials O=[Nb](=O)O[Nb](=O)=O ZKATWMILCYLAPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N niobium(5+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Nb+5].[Nb+5] URLJKFSTXLNXLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000004453 electron probe microanalysis Methods 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 150000002431 hydrogen Chemical class 0.000 description 1
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000009828 non-uniform distribution Methods 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Optical Integrated Circuits (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 割れやスパイラル状の曲がりがなく、サブグ
レイン密度の少ない高品質なニオブ酸リチウム単結晶を
高収率で製造し得る方法を提供する。 【構成】 少なくとも、リチウム、ニオブ及び酸素の3
元素を含むニオブ酸リチウム単結晶を溶融固化法により
育成するに際して、雰囲気を中性或いは還元性によって
育成することを特徴としている。雰囲気ガスを窒素、ヘ
リウム又はアルゴン等々の中性とし、或いは水素又は一
酸化炭素等若しくは水素又は一酸化炭素等を混入した中
性ガスにする。上記3元素の他に、マグネシウム或いは
亜鉛を添加すると、添加物が結晶全体に均一に分散し、
耐光損傷性の強い高品質なニオブ酸リチウム単結晶を育
成できる。溶融固化法としては、Cz法の他に、FZ法
或いはEFG法等の溶融固化法も適用できる。このう
ち、結晶品質の管理及び大口径化の観点から、Cz法が
優れている。この単結晶は導波路型光デバイスやSHG
素子などの光学用材料に用いられる。
レイン密度の少ない高品質なニオブ酸リチウム単結晶を
高収率で製造し得る方法を提供する。 【構成】 少なくとも、リチウム、ニオブ及び酸素の3
元素を含むニオブ酸リチウム単結晶を溶融固化法により
育成するに際して、雰囲気を中性或いは還元性によって
育成することを特徴としている。雰囲気ガスを窒素、ヘ
リウム又はアルゴン等々の中性とし、或いは水素又は一
酸化炭素等若しくは水素又は一酸化炭素等を混入した中
性ガスにする。上記3元素の他に、マグネシウム或いは
亜鉛を添加すると、添加物が結晶全体に均一に分散し、
耐光損傷性の強い高品質なニオブ酸リチウム単結晶を育
成できる。溶融固化法としては、Cz法の他に、FZ法
或いはEFG法等の溶融固化法も適用できる。このう
ち、結晶品質の管理及び大口径化の観点から、Cz法が
優れている。この単結晶は導波路型光デバイスやSHG
素子などの光学用材料に用いられる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、導波路型光デバイスや
SHG素子などの光学用材料に用いられるニオブ酸リチ
ウム単結晶の製造方法に関するものである。
SHG素子などの光学用材料に用いられるニオブ酸リチ
ウム単結晶の製造方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】ニオブ
酸リチウム単結晶は、非線形光学定数の大きさや光学的
特性から導波路型光デバイスやSHG素子として、近
年、大きな注目を集めている。上記素子として用いられ
るニオブ酸リチウム単結晶は、その結晶性や大口径化の
観点から、チョクラルスキー法(Cz法)に代表される溶
融固化法で育成されることが多い。
酸リチウム単結晶は、非線形光学定数の大きさや光学的
特性から導波路型光デバイスやSHG素子として、近
年、大きな注目を集めている。上記素子として用いられ
るニオブ酸リチウム単結晶は、その結晶性や大口径化の
観点から、チョクラルスキー法(Cz法)に代表される溶
融固化法で育成されることが多い。
【0003】しかし、溶融固化法で育成されたニオブ酸
リチウム単結晶は、結晶内に熱歪に起因する割れが発生
し易いという欠点を有していた。そのため、融液直上の
温度勾配を緩くすることによって結晶の割れを回避する
方法が検討されたが、この方法では、安定な育成を持続
させることが困難で、結晶がスパイラル状に曲がった
り、サブグレイン密度が上がるなど、高品質なニオブ酸
リチウムを得ることができなかった。また、ニオブ酸リ
チウム結晶は耐光損傷性が低いという欠点も有してお
り、数mol%の酸化マグネシウム或いは酸化亜鉛を添加
することによって、耐光損傷性の改善を図る方法も検討
されたが、添加物の不均一分散の問題が新たに起こり、
満足な結果が得られていなかった。
リチウム単結晶は、結晶内に熱歪に起因する割れが発生
し易いという欠点を有していた。そのため、融液直上の
温度勾配を緩くすることによって結晶の割れを回避する
方法が検討されたが、この方法では、安定な育成を持続
させることが困難で、結晶がスパイラル状に曲がった
り、サブグレイン密度が上がるなど、高品質なニオブ酸
リチウムを得ることができなかった。また、ニオブ酸リ
チウム結晶は耐光損傷性が低いという欠点も有してお
り、数mol%の酸化マグネシウム或いは酸化亜鉛を添加
することによって、耐光損傷性の改善を図る方法も検討
されたが、添加物の不均一分散の問題が新たに起こり、
満足な結果が得られていなかった。
【0004】本発明は、上記従来技術の欠点を解消し
て、割れやスパイラル状の曲がりがなく、サブグレイン
密度の少ない高品質なニオブ酸リチウム単結晶を高収率
で製造し得る方法を提供することを目的としている。
て、割れやスパイラル状の曲がりがなく、サブグレイン
密度の少ない高品質なニオブ酸リチウム単結晶を高収率
で製造し得る方法を提供することを目的としている。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、前述の目
的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、溶融固化法によ
るニオブ酸リチウム単結晶の育成において、育成雰囲気
によって融液の対流を制御できることを見い出した。こ
の融液対流制御は、原料融液が少なくなっても持続させ
ることができるので、高い固化率で結晶を育成すること
が可能となった。また、制御された融液対流は、添加物
を加えたニオブ酸リチウム単結晶の育成において、添加
物の不均一分散の抑制に有効であることを見い出した。
的を達成すべく鋭意研究を重ねた結果、溶融固化法によ
るニオブ酸リチウム単結晶の育成において、育成雰囲気
によって融液の対流を制御できることを見い出した。こ
の融液対流制御は、原料融液が少なくなっても持続させ
ることができるので、高い固化率で結晶を育成すること
が可能となった。また、制御された融液対流は、添加物
を加えたニオブ酸リチウム単結晶の育成において、添加
物の不均一分散の抑制に有効であることを見い出した。
【0006】すなわち、本発明は、少なくとも、リチウ
ム、ニオブ及び酸素の3元素を含むニオブ酸リチウム単
結晶を溶融固化法により育成するに際して、雰囲気を中
性或いは還元性によって育成することを特徴とするニオ
ブ酸リチウム単結晶の製造方法を要旨とするものであ
る。
ム、ニオブ及び酸素の3元素を含むニオブ酸リチウム単
結晶を溶融固化法により育成するに際して、雰囲気を中
性或いは還元性によって育成することを特徴とするニオ
ブ酸リチウム単結晶の製造方法を要旨とするものであ
る。
【0007】以下に本発明を更に詳細に説明する。
【0008】
【0009】前述のとおり、本発明は、少なくとも、リ
チウム、ニオブ及び酸素の3元素を含むニオブ酸リチウ
ム単結晶を溶融固化法により育成する方法に関するもの
であり、溶融固化法としては、Cz法の他に、FZ法或
いはEFG法等の溶融固化法も適用できる。このうち、
結晶品質の管理及び大口径化の観点から、Cz法が優れ
ている。
チウム、ニオブ及び酸素の3元素を含むニオブ酸リチウ
ム単結晶を溶融固化法により育成する方法に関するもの
であり、溶融固化法としては、Cz法の他に、FZ法或
いはEFG法等の溶融固化法も適用できる。このうち、
結晶品質の管理及び大口径化の観点から、Cz法が優れ
ている。
【0010】溶融固化法によってニオブ酸リチウム単結
晶を育成する際に、雰囲気ガスを窒素、ヘリウム又はア
ルゴン等々の中性とし、或いは水素又は一酸化炭素等若
しくは水素又は一酸化炭素等を混入した中性ガスにする
ことにより、割れやスパイラル状の曲がりがなく、サブ
グレイン密度の少ない高品質なニオブ酸リチウム単結晶
を高収率で育成できる。
晶を育成する際に、雰囲気ガスを窒素、ヘリウム又はア
ルゴン等々の中性とし、或いは水素又は一酸化炭素等若
しくは水素又は一酸化炭素等を混入した中性ガスにする
ことにより、割れやスパイラル状の曲がりがなく、サブ
グレイン密度の少ない高品質なニオブ酸リチウム単結晶
を高収率で育成できる。
【0011】これは、雰囲気ガスを中性或いは還元性に
し、酸素分圧を低下させることにより、融液対流が著し
く促進されるためである。融液対流の促進には、表面張
力或いは粘性係数の変化が関与していると考えられる。
融液対流が促進されると、温度勾配が緩い炉構成或いは
原料融液が少なくなる育成終期において、自然対流が優
勢な状態を育成全般にわたって維持するため、割れやス
パイラル状の曲がりがなく、サブグレイン密度の少ない
高品質なニオブ酸リチウム単結晶を高収率で育成するこ
とが可能となる。
し、酸素分圧を低下させることにより、融液対流が著し
く促進されるためである。融液対流の促進には、表面張
力或いは粘性係数の変化が関与していると考えられる。
融液対流が促進されると、温度勾配が緩い炉構成或いは
原料融液が少なくなる育成終期において、自然対流が優
勢な状態を育成全般にわたって維持するため、割れやス
パイラル状の曲がりがなく、サブグレイン密度の少ない
高品質なニオブ酸リチウム単結晶を高収率で育成するこ
とが可能となる。
【0012】このような育成法において、上記3元素に
加えて、更にMg或いはZn等を、好ましくは酸化マグネ
シウム或いは酸化亜鉛の形で添加したニオブ酸リチウム
単結晶を育成すると、添加物が結晶全体に均一に分散
し、耐光損傷性の強い高品質なニオブ酸リチウム単結晶
を育成できる。上述の如く促進された融液対流は、強い
撹拌効果を伴うので、添加物分布が一様なニオブ酸リチ
ウム単結晶を育成することが可能となる。なお、酸化マ
グネシウム或いは酸化亜鉛の添加量は適宜決め得るが、
3元素に対して、0.5〜10.0wt%の添加量が望まし
い。
加えて、更にMg或いはZn等を、好ましくは酸化マグネ
シウム或いは酸化亜鉛の形で添加したニオブ酸リチウム
単結晶を育成すると、添加物が結晶全体に均一に分散
し、耐光損傷性の強い高品質なニオブ酸リチウム単結晶
を育成できる。上述の如く促進された融液対流は、強い
撹拌効果を伴うので、添加物分布が一様なニオブ酸リチ
ウム単結晶を育成することが可能となる。なお、酸化マ
グネシウム或いは酸化亜鉛の添加量は適宜決め得るが、
3元素に対して、0.5〜10.0wt%の添加量が望まし
い。
【0013】なお、溶融固化法における上記以外の製造
条件(原料調整、育成条件等々)は、常法による場合と同
様でよく、特に限定されるものではない。
条件(原料調整、育成条件等々)は、常法による場合と同
様でよく、特に限定されるものではない。
【0014】次に本発明の代表的な実施例を示す。
【0015】
【実施例1】
【0016】結晶育成は、高周波誘導加熱によるCz法
によって行った。原料として、純度4Nの炭酸リチウム
と五酸化ニオブを原子比で48.6:51.4になるよう
に混合し、成型、焼成をした後、白金るつぼに充填し
た。育成条件は、引き上げ速度3.0mm/h、結晶回転数
3rpm、育成方位c軸とした。また、雰囲気として、窒
素に10%の水素を混合したガスを2000ml/minの
流速で流した。充填した原料の約70%を引き上げて、
育成を終了した。
によって行った。原料として、純度4Nの炭酸リチウム
と五酸化ニオブを原子比で48.6:51.4になるよう
に混合し、成型、焼成をした後、白金るつぼに充填し
た。育成条件は、引き上げ速度3.0mm/h、結晶回転数
3rpm、育成方位c軸とした。また、雰囲気として、窒
素に10%の水素を混合したガスを2000ml/minの
流速で流した。充填した原料の約70%を引き上げて、
育成を終了した。
【0017】得られた結晶は、割れやスパイラル状の曲
がりがなく、サイズは直径22mm×直胴部約100mmで
あった。得られた結晶は、透明で茶褐色を呈していた。
この結晶を大気中1100℃でアニールしたところ、わ
すがに黄色に着色した透明な結晶が得られた。
がりがなく、サイズは直径22mm×直胴部約100mmで
あった。得られた結晶は、透明で茶褐色を呈していた。
この結晶を大気中1100℃でアニールしたところ、わ
すがに黄色に着色した透明な結晶が得られた。
【0018】比較のため、大気中で育成した以外は同じ
条件で育成した結晶は、直胴部50mm付近からスパイラ
ル状の曲がりが有り、その付近から発生した割れが存在
していた。両結晶の直胴部最初の部分をウエハーに切断
し、サブグレイン密度と耐光損傷性を比較したところ、
水素を含む雰囲気で育成した前者の結晶の方が良好な結
果を示した。
条件で育成した結晶は、直胴部50mm付近からスパイラ
ル状の曲がりが有り、その付近から発生した割れが存在
していた。両結晶の直胴部最初の部分をウエハーに切断
し、サブグレイン密度と耐光損傷性を比較したところ、
水素を含む雰囲気で育成した前者の結晶の方が良好な結
果を示した。
【0019】
【実施例2】
【0020】育成雰囲気を、アルゴンに5%の水素を混
合したガスを使用した以外、実施例1と同じ条件で育成
した。得られた結晶は、割れやスパイラル状の曲がりが
なく、サイズは直径22mm×直胴部約100mmであっ
た。得られた結晶は、透明で茶褐色を呈していた。この
結晶を大気中1100℃でアニールしたところ、わずか
に黄色に着色した透明な結晶が得られた。
合したガスを使用した以外、実施例1と同じ条件で育成
した。得られた結晶は、割れやスパイラル状の曲がりが
なく、サイズは直径22mm×直胴部約100mmであっ
た。得られた結晶は、透明で茶褐色を呈していた。この
結晶を大気中1100℃でアニールしたところ、わずか
に黄色に着色した透明な結晶が得られた。
【0021】比較のため、大気中で育成した以外は同じ
条件で育成した結晶は、直胴部50mm付近からスパイラ
ル状の曲がりが有り、その付近から発生した割れが存在
していた。両結晶の直胴部最初の部分をウエハーに切断
し、サブグレイン密度と耐光損傷性を比較したところ、
水素を含む雰囲気で育成した前者の結晶の方が良好な結
果を示した。
条件で育成した結晶は、直胴部50mm付近からスパイラ
ル状の曲がりが有り、その付近から発生した割れが存在
していた。両結晶の直胴部最初の部分をウエハーに切断
し、サブグレイン密度と耐光損傷性を比較したところ、
水素を含む雰囲気で育成した前者の結晶の方が良好な結
果を示した。
【0022】
【実施例3】
【0023】原料として、純度4Nの炭酸リチウム、五
酸化ニオブ及び酸化マグネシウムを原子比で48.6:
51.4:5.0になるように混合し、成型、焼成をした
後、白金るつぼに充填した。育成条件は実施例1と同様
である。得られた結晶は、割れやスパイラル状の曲がり
がなく、サイズは直径22mm×直胴部約100mmであっ
た。得られた結晶は、透明で茶褐色を呈していた。この
結晶を大気中1100℃でアニールしたところ、わずか
に黄色に着色した透明な結晶が得られた。
酸化ニオブ及び酸化マグネシウムを原子比で48.6:
51.4:5.0になるように混合し、成型、焼成をした
後、白金るつぼに充填した。育成条件は実施例1と同様
である。得られた結晶は、割れやスパイラル状の曲がり
がなく、サイズは直径22mm×直胴部約100mmであっ
た。得られた結晶は、透明で茶褐色を呈していた。この
結晶を大気中1100℃でアニールしたところ、わずか
に黄色に着色した透明な結晶が得られた。
【0024】比較のため、大気中で育成した以外は同じ
条件で育成した結晶は、直胴部50mm付近からスパイラ
ル状の曲がりが有り、その付近から発生した割れが存在
していた。両結晶の直胴部最初の部分をウエハーに切断
し、サブグレイン密度と耐光損傷性を比較したところ、
水素を含む雰囲気で育成した前者の結晶の方が良好な結
果を示した。また、残りの直胴部を育成方向と平行に切
断し、マグネシウムの分布状態をEPMAを用いて比較
したところ、大気中で育成した後者の結晶では、マグネ
シウムが不均一に存在していたのに対して、水素を含む
雰囲気で育成した前者の結晶では、マグネシウムがほぼ
均一に存在していた。
条件で育成した結晶は、直胴部50mm付近からスパイラ
ル状の曲がりが有り、その付近から発生した割れが存在
していた。両結晶の直胴部最初の部分をウエハーに切断
し、サブグレイン密度と耐光損傷性を比較したところ、
水素を含む雰囲気で育成した前者の結晶の方が良好な結
果を示した。また、残りの直胴部を育成方向と平行に切
断し、マグネシウムの分布状態をEPMAを用いて比較
したところ、大気中で育成した後者の結晶では、マグネ
シウムが不均一に存在していたのに対して、水素を含む
雰囲気で育成した前者の結晶では、マグネシウムがほぼ
均一に存在していた。
【0025】
【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば、
ニオブ酸リチウム単結晶を溶融固化法により育成するに
際して、育成雰囲気を調整することにより、融液の対流
を制御できるので、割れやスパイラル状の曲がりがな
く、サブグレイン密度の少ない高品質なニオブ酸リチウ
ムを高収率で製造できる。特にチョクラルスキー法に適
用することにより、高品質で大口径の結晶を安定して供
給することが可能である。
ニオブ酸リチウム単結晶を溶融固化法により育成するに
際して、育成雰囲気を調整することにより、融液の対流
を制御できるので、割れやスパイラル状の曲がりがな
く、サブグレイン密度の少ない高品質なニオブ酸リチウ
ムを高収率で製造できる。特にチョクラルスキー法に適
用することにより、高品質で大口径の結晶を安定して供
給することが可能である。
Claims (2)
- 【請求項1】 少なくとも、リチウム、ニオブ及び酸素
の3元素を含むニオブ酸リチウム単結晶を溶融固化法に
より育成するに際して、雰囲気を中性或いは還元性によ
って育成することを特徴とするニオブ酸リチウム単結晶
の製造方法。 - 【請求項2】 上記3元素の他に、マグネシウム或いは
亜鉛を添加する請求項1に記載の方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4303117A JPH0774119B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4303117A JPH0774119B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06199598A true JPH06199598A (ja) | 1994-07-19 |
| JPH0774119B2 JPH0774119B2 (ja) | 1995-08-09 |
Family
ID=17917091
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4303117A Expired - Lifetime JPH0774119B2 (ja) | 1992-10-15 | 1992-10-15 | ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0774119B2 (ja) |
Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5460300A (en) * | 1977-10-21 | 1979-05-15 | Sumitomo Metal Mining Co | Process for producing lithium niobate single crystal and apparatus therefor |
| JPH01281407A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 単結晶ファィバの製造方法及び製造装置 |
| JPH03218997A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-09-26 | Ibiden Co Ltd | ニオブ酸リチウム単結晶薄膜の製造方法 |
| JPH0437697A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-07 | Ibiden Co Ltd | ニオブ酸リチウム単結晶薄膜 |
-
1992
- 1992-10-15 JP JP4303117A patent/JPH0774119B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5460300A (en) * | 1977-10-21 | 1979-05-15 | Sumitomo Metal Mining Co | Process for producing lithium niobate single crystal and apparatus therefor |
| JPH01281407A (ja) * | 1988-05-09 | 1989-11-13 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 単結晶ファィバの製造方法及び製造装置 |
| JPH03218997A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-09-26 | Ibiden Co Ltd | ニオブ酸リチウム単結晶薄膜の製造方法 |
| JPH0437697A (ja) * | 1990-05-30 | 1992-02-07 | Ibiden Co Ltd | ニオブ酸リチウム単結晶薄膜 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0774119B2 (ja) | 1995-08-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2002293693A (ja) | テルビウム・アルミニウム・ガーネット単結晶及びその製造方法 | |
| US5408951A (en) | Method for growing silicon crystal | |
| Houlton et al. | A study of growth defects in lead germanate crystals | |
| JPH06199598A (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 | |
| JPS63252989A (ja) | 引上法による半導体単結晶の製造方法 | |
| JPH06199597A (ja) | 酸化アルミニウム単結晶の製造方法 | |
| JP3207983B2 (ja) | I−iii−vi2族化合物単結晶の製造方法 | |
| EP0148946A1 (en) | Method of producing a chrysoberyl single crystal | |
| US5007979A (en) | Method of fabricating GaAs single crystal | |
| JP3152322B2 (ja) | 無双晶(Nd,La)GaO3単結晶およびその製造方法 | |
| JPH06279174A (ja) | 酸化物単結晶の製造方法 | |
| JPH07133185A (ja) | 単結晶の製造方法 | |
| JPH05310494A (ja) | 単結晶の育成方法 | |
| JPS62162687A (ja) | 燐化インジウムの製造方法 | |
| JPH01179796A (ja) | 無転位GaAs単結晶製造用の種結晶 | |
| JP2825060B2 (ja) | ベータ・バリウムボレイト単結晶加工表面の改質方法 | |
| JPH04325496A (ja) | マグネシウム添加ニオブ酸リチウム単結晶の製法 | |
| JPH01138199A (ja) | 鉛錫テルル系半導体単結晶 | |
| JPS61247693A (ja) | 単結晶の製造方法 | |
| JP3416186B2 (ja) | 多成分系単結晶の製造方法 | |
| JPH0465399A (ja) | ニオブ酸リチウム単結晶の製造方法 | |
| JPS5938186B2 (ja) | 無機化合物単結晶の製造方法 | |
| JPH02217393A (ja) | 化合物半導体単結晶の製造方法 | |
| JPS5933556B2 (ja) | ガドリニウム・ガリウム・ガ−ネツト単結晶の製造方法 | |
| JPS61174189A (ja) | 単結晶の製造方法および装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| EXPY | Cancellation because of completion of term |