JPH06219073A - 感光性平版印刷版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 印刷時における印刷枚数の増大に伴なうベタ
段数の上昇、及び細線のつぶれを抑制することができ
る。 【構成】 少なくとも粗面化及び陽極酸化処理をこの順
で行なったアルミニウム支持体の表面を亜硝酸及び／又
は亜硝酸塩を含む水溶液及び珪酸塩水溶液で処理した
後、親水性高分子水溶液で処理してなる支持体、又は少
なくとも粗面化及び陽極酸化処理をこの順で行なったア
ルミニウム支持体の表面を、３〜６の範囲内の値に調整
された pＨ値を有するカルボキシメチルセルロース水溶
液で処理してなる支持体、を有することを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は感光性平版印刷版に関す
るものであり、特に新規な支持体を有する感光性平版印
刷版に関する。

【０００２】

【発明の背景】平版印刷版はその水又は油に対する反発
を利用して印刷するものである。具体的にはその版面の
非画像部を水で湿した後、版面にインキを与えると非画
像部では湿し水によりインキが反発する為、画像部にの
み選択的にインキが付着する。上記画像部のインキを被
転写物に転写すると、上記画像部に対応した画像を有す
る印刷物が得られる。

【０００３】したがって、このような平版印刷版を得る
ための支持体としては、水に湿した時、親水性かつ保水
性に優れていると共に印圧を受ける画像部となる感光層
との接着性が良好なものでなければならない。更に、最
も大切な条件としては高耐刷力を備えていなければなら
ない。

【０００４】これらの条件を満足した支持体としては、
アルミニウム板が最も優れており、このアルミニウム板
と感光層との十分な接着性を得るために、例えばボール
グレイニング、ワイヤーグレイニング、ブラシグレイニ
ング等の支持体表面を機械的に粗面化する表面処理法、
塩酸浴、硝酸浴等を用いて直流あるいは交流の電流で、
アルミニウム板表面に均一で緻密な砂目形状を形成させ
る電解粗面化法等の粗面化方法が行なわれている。更に
支持体表面に熱水による封孔処理、珪酸塩による封孔処
理等を施すことによって支持体と感光層との接着性をコ
ントロールする方法も行なわれている。

【０００５】上記のような支持体またはこれらに種々の
処理を施した支持体の開発により、上記接着性等の特性
についてはある程度改良された。しかしながら、このよ
うな場合においても、特にジアゾ化合物等を感光性物質
として用いるネガ型感光性平版印刷版においては、この
ような感光性平版印刷版から得られた平版印刷版により
印刷した場合、印刷枚数が増すにつれて、ベタ段数が上
昇する、いわゆるベタ上がりという問題が生じ、また、
細線シャドー部における再現性の劣化、いわゆる細線の
つぶれという問題も生じていた。

【０００６】このような問題を解決するため、従来は感
光性平版印刷版の製造に用いられる感光性組成物の処方
面から種々の検討がなされてきたが未だ不十分であっ
た。

【０００７】すなわち、本発明の目的は、印刷時におけ
る印刷枚数の増大に伴なうベタ段数の上昇、及び細線の
つぶれを抑制しうる感光性平版印刷版を提供することに
ある。

【０００８】

【発明の構成】本発明の上記目的は、（１）少なくとも
粗面化及び陽極酸化処理をこの順で行なったアルミニウ
ム支持体の表面を亜硝酸及び／又は亜硝酸塩を含む水溶
液及び珪酸及び／又は珪酸塩を含む水溶液で処理した
後、親水性高分子水溶液で処理してなる支持体を有する
ことを特徴とする感光性平版印刷版、又は、（２）少な
くとも粗面化及び陽極酸化処理をこの順で行なったアル
ミニウム支持体の表面を、３〜６の範囲内の値に調整さ
れた pＨ値を有するカルボキシメチルセルロース水溶液
で処理してなる支持体を有する感光性平版印刷版、を提
供することにより達成される。

【０００９】以下に本発明を更に詳細に説明する。

【００１０】上記（１）の発明においては、前処理した
アルミニウム支持体を亜硝酸及び／又は亜硝酸塩を含む
水溶液及び珪酸及び／又は珪酸塩を含む水溶液で処理
し、次いで親水性高分子水溶液で処理する。

【００１１】本発明において亜硝酸塩水溶液に用いられ
る亜硝酸塩の例としては、周期律表のＩａ、IIａ、II
ｂ、IIIａ、IIIｂ、IVａ、IVｂ、VIａ、VIIａ、VIII族
の金属の亜硝酸塩またはアンモニウム塩、すなわち亜硝
酸アンモニウムが挙げられ、その金属塩としては、例え
ば、ＬｉＮＯ₂ 、ＮａＮＯ₂ 、ＫＮＯ₂ 、Ｍｇ（Ｎ
Ｏ₂） ₂ 、Ｃａ（ＮＯ₂ ）₂ 、Ｚｎ（ＮＯ₂ ）₂ 、Ａｌ
（ＮＯ₂ ）₃ 、Ｚｒ（ＮＯ₂）₄ 、Ｓｎ（ＮＯ₂ ）₄ 、
Ｃｒ（ＮＯ₂ ）₃ 、Ｃｏ（ＮＯ₂ ）₂ 、Ｍｎ（ＮＯ₂）₂
、Ｎｉ（ＮＯ₂ ）₂ 等が好ましく、更に、アルカリ金
属亜硝酸塩、特にナトリウム塩が好ましい。上記亜硝酸
塩は、勿論２種以上併用することができ、更に亜硝酸と
併用することもできる。

【００１２】本発明に用いられる亜硝酸及び／又は亜硝
酸塩を含む水溶液は、好ましくは亜硝酸又は亜硝酸塩を
0.001〜10重量％、好ましくは0.01〜２重量％含有する
水溶液である。

【００１３】上記処理液で支持体表面を処理する場合の
処理条件としては、室温から約100℃の温度範囲で、前
処理された支持体を15〜300秒の間浸漬するか、または
その処理液を支持体に塗布するのが好ましい。

【００１４】本発明の好ましい実施態様として、亜硝酸
ナトリウムを0.001〜0.1重量％含む水溶液に、75〜90℃
で30〜180秒の間支持体を浸漬する処理が挙げられる。

【００１５】前記の亜硝酸及び／又は亜硝酸塩を含む水
溶液には、必要に応じて添加剤を加えることができる。
例えば界面活性剤などが挙げられる。

【００１６】また本発明に用いられる珪酸塩としては、
ナトリウム塩のものが好ましく、0.1〜３重量％の例え
ばオルソ珪酸ソーダ、メタ珪酸ソーダ、セスキ珪酸ソー
ダ、珪酸ソーダ１号、珪酸ソーダ２号、珪酸ソーダ３
号、珪酸ソーダ４号、珪酸カリ等のケイ酸塩化合物を含
むものが好ましく用いられる。このような珪酸塩処理は
40〜95℃の温度で１〜120秒間行なわれることが好まし
い。

【００１７】前記亜硝酸及び／又は亜硝酸塩を含む水溶
液及び珪酸及び／又は珪酸塩を含む水溶液で処理された
支持体は次いで親水性高分子水溶液で処理される。この
ような親水性高分子水溶液に用いられる親水性高分子と
してはポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリビニ
ルアルコール、ポリヒドロキシエチルアクリレート、ポ
リビニルピロリドン、ポリビニルホスホン酸などのアク
リル酸共重合体；ポリエチレンイミン、ジアクリルジメ
チルアルミニウムクロライド、ポリビニルイミダゾリ
ン、ポリアルキルアミノエチルアクリレートなどのマレ
イン酸共重合体；またポリエチレングリコールポリオキ
シエチレン、ポリプロピレングリコール、エチレンジア
ミン、ヘキサエチレンジアミン、ポリウレタン樹脂、ポ
リヒドロキシメチル尿素、ポリヒドロキシメチルメラミ
ン樹脂、さらに可溶性デンプン、ＣＭＣ（カルボキシメ
チルセルロース）、ヒドロキシエチルセルロース、グア
ーガム、トラガカントゴム、キサンタンガム、アルギン
酸ソーダ、ゼラチンなどの水溶性高分子が挙げられ、好
ましくはポリビニルホスホン酸、ポリアクリル酸、ＣＭ
Ｃ、ポリビニルアルコール等が挙げられる。

【００１８】本発明における親水性高分子水溶液は、上
記親水性高分子を１重量％以下、好ましくは0.001〜１
重量％含む水溶液であり、このような水溶液を好ましく
は pＨ値９以下、好ましくは６〜９、又は温度60℃以
上、好ましくは70〜95℃の条件下で、特に、これらの条
件すべてを備えて用いることが好ましい。

【００１９】前記（２）の発明においては、前処理した
アルミニウム支持体の表面をカルボキシメチルセルロー
スの水溶液で処理するがこの際に該水溶液の pＨ値を３
〜６、好ましくは3.5〜4.5の範囲内の値に調整する。こ
の場合、用いられるＣＭＣとしてはエーテル化度0.8〜
1.0のものが好ましく、ＣＭＣの水溶液中の濃度は0.001
〜１重量％、更に0.001〜0.1重量％であることが好まし
い。

【００２０】また、上記 pＨ値を所定の範囲内の値に調
整するには緩衝剤を用いて行なうことができるが、用い
ることのできる緩衝剤としては、pＨ３〜６に調整でき
るものであれば、特に限定されないが、例としては、ギ
酸／ギ酸ナトリウム、酢酸／酢酸ナトリウム、酒石酸／
水酸化ナトリウム、クエン酸／水酸化ナトリウム、クエ
ン酸／クエン酸ナトリウム、酢酸／酢酸ナトリウム、燐
酸二水素ナトリウム／クエン酸等が挙げられる。なお本
発明においては単に酸で pＨ値を３〜６に調整しても構
わないが、緩衝液で調整するのがより好ましい。

【００２１】本発明においては、ＣＭＣによる処理の前
に、前記（１）の発明におけると同様の亜硝酸ナトリウ
ム水溶液及び／または珪酸ナトリウム水溶液で、支持体
を処理するのが好ましい。

【００２２】前記（１）及び（２）の発明（以下本発明
と称す）において用いられる支持体としては、通常の平
版印刷機にセットできるたわみ性と印刷時に加わる荷重
に耐えるものが好ましく、例えばアルミニウム、マグネ
シウム、亜鉛、クロム鉄、銅ニッケル等の金属板、及び
これらの金属の合金板等が挙げられ、更にはクロム、亜
鉛、銅、ニッケル、アルミニウム及び鉄等がメッキまた
は蒸着によって被覆されている金属板でもよいが、これ
らのうち好ましい支持体は、アルミニウムまたはその合
金である。

【００２３】本発明に用いられる支持体は、亜硝酸又は
亜硝酸塩を含む水溶液によって処理される前に、前処理
を施すが、この前処理としては、この技術分野において
通常採用されている脱脂処理および粗面化処理がある。

【００２４】粗面化処理は、機械的に表面を粗面化する
もので、いわゆる機械的粗面化法といわれ、例えばボー
ル研磨、ブラシ研磨、ブラスト研磨、バフ研磨等の方法
がある。また電気的に表面を粗面化する、いわゆる電気
的粗面化法を利用することもでき、例えば塩酸または硝
酸等を含む電界液中で交流あるいは直流によって支持体
を電界処理することもできる。

【００２５】前述のような粗面化処理して得られた支持
体の表面には、スマットが生成しているので、このスマ
ットを除去するために適宜水洗あるいはアルカリエッチ
ング等の処理を行うことが一般的に好ましい。このよう
な処理としては、例えば特公昭48-28123号公報に記載さ
れているアルカリエッチング法や特開昭53-12739号公報
に記載されている硫酸デスマット法等の処理方法が挙げ
られる。

【００２６】本発明に用いられるアルミニウム支持体の
場合には、前述のような前処理を施した後、耐摩耗性、
耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によっ
て支持体に酸化被膜を形成させることが好ましい。この
陽極酸化では一般的に、硫酸および／または燐酸等を濃
度10〜50％で含む水溶液を電解液として電流密度１〜10
Ａ／dm²で電解する方法が好ましく用いられるが、他に
米国特許第1,412,768号明細書に記載されている硫酸中
で高電流密度で電解する方法や米国特許第3,511,661号
明細書に記載されている燐酸を用いて電解する方法があ
る。

【００２７】本発明の感光性平版印刷版においては前記
の支持体の感光層に対する接着性を向上させるため、必
要に応じてプライマー層等を設けることができる。

【００２８】該プライマー層には例えばポリエステル樹
脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹脂、
塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラー
ル樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート系共重合体、酢酸
ビニル系共重合体、フェノキシ樹脂、ポリウレタン樹
脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリルブタ
ジエン、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。

【００２９】また上記プライマー層を構成するアンカー
剤としては、例えばシランカップリング剤、シリコーン
プライマー等を用いることができ、また有機チタネート
等も有効である。

【００３０】本発明の感光性平版印刷版は、前述のよう
にして得られた支持体に感光層を設けたものであるが、
この感光層中に用いられる感光性物質は、特に限定され
るものでなく、通常、感光性平版印刷版に用いられてい
る、例えば下記のような各種のものが使用される。

【００３１】１）光架橋系感光性樹脂組成物 光架橋系感光性樹脂組成物中の感光成分は、分子中に不
飽和二重結合を有する感光性樹脂からなるもので、例え
ば米国特許第3,030,208号明細書、同第3,435,237号明細
書および同第3,622,320号明細書等に記載されている如
き、重合体主鎖中に感光基として−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯ−
を含む感光性樹脂、および重合体の側鎖に感光基を有す
るポリビニルシンナメート等があげられる。

【００３２】２）光重合系感光性樹脂組成物 付加重合性不飽和化合物を含む光重合性組成物であっ
て、二重結合を有する単量体と高分子バインダーからな
り、このような組成物の代表的なものは、例えば米国特
許第2,760,863号明細書および同第2,791,504号明細書等
に記載されている。

【００３３】この光重合系感光性樹脂組成物には、この
技術分野で通常知られている光重合開始剤（例えばベン
ゾインメチルエーテル等のベンゾイン誘導体、ベンゾフ
ェノン等のベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導
体、アントラキノン誘導体、アクリドン誘導体等）が添
加される。

【００３４】３）ジアゾ化合物を含む感光性組成物 この感光性組成物中のジアゾ化合物は、例えば、好まし
くは芳香族ジアゾニウム塩とホルムアルデヒドまたはア
セトアルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂であ
る。特に好ましくは、ｐ−ジアゾフェニルアミンとホル
ムアルデヒドまたはアセトアルデヒドとの縮合物の塩、
例えばヘキサフルオロホウ燐酸塩、テトラフルオロホウ
酸塩、過塩素酸塩または過ヨウ素酸塩と前記縮合物との
反応生成物であるジアゾ樹脂無機塩や、米国特許第3,30
0,309号明細書中に記載されているような、前記縮合物
とスルホン酸類との反応生成物であるジアゾ樹脂有機塩
等が挙げられる。さらにジアゾ樹脂は、好ましくは結合
剤と共に使用される。かかる結合剤としては種々の高分
子化合物を使用することができるが、好ましくは特開昭
54-98613号公報に記載されているような芳香族性水酸基
を有する単量体、例えばＮ−（４−ヒドロキシフェニ
ル）アクリルアミド、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）
メタクリルアミド、ｏ−、ｍ−、またはｐ−ヒドロキシ
スチレン、ｏ−、ｍ−、またはｐ−ヒドロキシフェニル
メタクリレート等と他の単量体との共重合体、米国特許
第4,123,276号明細書中に記載されているようなヒドロ
キシエチルアクリレート単位またはヒドロキシエチルメ
タクリレート単位を主な繰り返し単位として含むポリマ
ー、シェラック、ロジン等の天然樹脂、ポリビニルアル
コール、米国特許第3,751,257号明細書中に記載されて
いるようなポリアミド樹脂、米国特許第3,660,097号明
細書中に記載されているような線状ポリウレタン樹脂、
ポリビニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノ
ールＡとエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹
脂、酢酸セルロース、セルロースアセテートフタレート
等のセルロース誘導体が包含される。

【００３５】本発明において用いるジアゾ化合物として
は、下記一般式［Ａ］で表される構造を持つものが好ま
しい。

【００３６】

【化１】 ［但しＲは、水素原子、アルキル基又はフェニル基を表
し、Ｒ¹，Ｒ²及びＲ³は、それぞれ水素原子、アルコキ
シ基、またはアルキル基を表し、Ｘは対アニオンを示
す。Ｙは２価の結合手で、−Ｏ−，−Ｓ−または−ＮＨ
−を表す。Ａは、縮合可能な芳香族性基を表す。］

【００３７】上記一般式［Ａ］において、Ａで表される
芳香族性基を与えるために用いることができる芳香族化
合物の具体例としては、ｍ−クロロ安息香酸、ジフェニ
ル酢酸、フェノキシ酢酸、ｐ−メトキシフェニル酢酸、
ｐ−メトキシ安息香酸、２，４−ジメトキシ安息香酸、
２，４−ジメチル安息香酸、ｐ−フェノキシ安息香酸、
４−アニリノ安息香酸、４−（ｍ−メトキシアニリノ）
安息香酸、４−（ｐ−メチルベンゾイル）安息香酸、４
−（ｐ−メチルアニリノ）安息香酸、フェノール、
（ｏ，ｍ，ｐ）−クレゾール、キシレノール、レゾルシ
ン、２−メチルレゾルシン、（ｏ，ｍ，ｐ）−メトキシ
フェノール、ｍ−エトキシフェノール、カテコール、フ
ロログルシン、ｐ−ヒドロキシエチルフェノール、ナフ
トール、ピロガロール、ヒドロキノン、ｐ−ヒドロキシ
ベンジルアルコール、４−クロロレゾルシン、ビフェニ
ル−４，４′−ジオール、１，２，４−ベンゼントリオ
ール、ビスフェノールＡ、２，４−ジヒドロキシベンゾ
フェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン、ｐ−ヒドロキシアセトフェノン、４，４−ジヒドロ
キシジフェニルエーテル、４，４′−ジヒドロキシジフ
ェニルアミン、４，４′−ジヒドロキシジフェニルスル
フィド、クミルフェノール、（ｏ，ｍ，ｐ）−クロロフ
ェノール、（ｏ，ｍ，ｐ）−ブロモフェノール、サリチ
ル酸、ｐ−ヒドロキシ安息香酸、２−メチル−４−ヒド
ロキシ安息香酸、６−メチル−４−ヒドロキシ安息香
酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、２，６−ジヒドロ
キシ安息香酸、２，６−ジヒドロキシ−４−安息香酸、
４−クロロ−２，６−ジヒドロキシ安息香酸、４−メト
キシ−２，６−ジオキシ安息香酸、没食子酸、フロログ
ルシンカルボン酸、ｐ−ヒドロキシフェニル（メタ）ア
クリルアミド、桂皮酸、桂皮酸エチル、ｐ−ヒドロキシ
桂皮酸、スチレン、（ｏ，ｐ）−ヒドロキシスチレン、
スチルベン、４−ヒドロキシスチルベン、４，４′−ジ
ヒドロキシスチルベン、４−カルボキシスチルベン、
４，４′−ジカルボキシスチルベン、ジフェニルエーテ
ル、ジフェニルアミン、ジフェニルチオエーテル、４−
メトキシジフェニルエーテル、４−メトキシジフェニル
アミン、４−メトキシジフェニルチオエーテル等を挙げ
ることができる。

【００３８】このうち特に好ましいものは、ｐ−ヒドロ
キシ安息香酸、ｐ−メトキシ安息香酸、ｐ−ヒドロキシ
桂皮酸、ｐ−モドロキシフェニル（メタ）アクリルアミ
ド、ジフェニルエーテル、４−メトキシジフェニルエー
テル、ジフェニルアミンである。

【００３９】上記一般式［Ａ］で表されるジアゾ樹脂の
構成単位とする芳香族ジアゾニウム化合物には、例えば
特公昭49-48001号公報に挙げられるようなジアゾニウム
塩を用いることができるが、特に、ジフェニルアミン−
４−ジアゾニウム塩類が好ましい。ジフェニルアミン−
４−ジアゾニウム塩類は、４−アミノ−ジフェニルアミ
ン類から誘導されるが、このような４−アミノ−ジフェ
ニルアミン類としては、４−アミノ−ジフェニルアミ
ン、４−アミノ−３−メトキシ−ジフェニルアミン、４
−アミノ−２−メトキシ−ジフェニルアミン、４′−ア
ミノ−２−メトキシ−ジフェニルアミン、４′−アミノ
−４−メトキシジフェニルアミン、４−アミノ−３−メ
チルジフェニルアミン、４−アミノ−３−エトキシ−ジ
フェニルアミン、４−アミノ−３−β−ヒドロキシ−エ
トキシジフェニルアミン、４−アミノ−ジフェニルアミ
ン−２−スルホン酸、４−アミノ−ジフェニルアミン−
２−カルボン酸、４−アミノ−ジフェニルアミン−２′
−カルボン酸等を挙げることができる。特に好ましくは
３−メトキシ−４−アミノ−ジフェニルアミン、４−ア
ミノ−ジフェニルアミンを挙げることができる。

【００４０】上記ジアゾ化合物は、公知の方法、例え
ば、フォトグラフィック・サイエンス・アンド・エンジ
ニアリング（Photo. Sci. Eng.）第17巻、第33頁（197
3）、米国特許第2,063,631号、同第2,679,498号各明細
書、特公昭49-48001号公報に記載の方法に従い、硫酸や
リン酸あるいは塩酸中で芳香族ジアゾニウム塩、Ａで表
される芳香族性基を与える芳香族化合物及び活性カルボ
ニル化合物、例えばパラホルムアルデヒド、アセトアル
デヒド、ベンズアルデヒドあるいはアセトン、アセトフ
ェノンとを重縮合させることによって得られる。

【００４１】また、一般式［Ａ］においてＡで表される
芳香族性基を与える芳香族化合物と芳香族ジアゾ化合物
及び活性カルボニル化合物等はその相互の組合わせは自
由であり、さらに各々２種以上を混ぜて縮合することも
可能である。

【００４２】Ａで表される芳香族性基を与える芳香族化
合物と芳香族ジアゾニウム化合物の仕込みモル比は、好
ましくは１：0.1〜0.1：１、より好ましくは１：0.5〜
0.2：１、更に好ましくは１：１〜0.2：１である。また
この場合Ａで表される芳香族性基を与える芳香族化合物
及び芳香族ジアゾニウム化合物の合計とアルデヒド類ま
たはケトン類とをモル比で通常好ましくは１：0.6〜1.
2、より好ましくは１：0.7〜1.5で仕込み、低温で短時
間、例えば３時間程度反応させることにより、ジアゾ化
合物が得られる。

【００４３】上記ジアゾ化合物の対アニオンは、該ジア
ゾ化合物と安定に塩を形成し、かつ該化合物を有機溶媒
に可溶となすアニオンを含む。このようなアニオンを形
成するものとしては、デカン酸及び安息香酸等の有機カ
ルボン酸、フェニルリン酸等の有機リン酸及びスルホン
酸を含み、典型的な例としては、メタンスルホン酸、ク
ロロエタンスルホン酸、ドデカンスルホン酸、ベンゼン
スルホン酸、トルエンスルホン酸、メシチレンスルホン
酸、及びアントラキノンスルホン酸、２−ヒドロキシ−
４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、ヒドロ
キシスルホン酸、４−アセチルベンゼンスルホン酸、ジ
メチル−５−スルホイソフタレート等の脂肪族並びに芳
香族スルホン酸、２，２′，４，４′−テトラヒドロキ
シベンゾフェノン、１，２，３−トリヒドロキシベンゾ
フェノン、２，２′，４−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン等の水酸基含有芳香族化合物、ヘキサフルオロリン
酸、テトラフルオロホウ酸等のハロゲン化ルイス酸、Ｃ
ｌＯ₄、ＩＯ₄等の過ハロゲン酸等を挙げることができ
る。但しこれに限られるものではない。これらの中で、
特に好ましいのは、ヘキサフルオロリン酸、テトラフル
オロホウ酸である。

【００４４】本発明において、用いるジアゾ化合物の分
子量には特に限定はなく、例えば、上記の共縮合ジアゾ
樹脂は、各単量体のモル比及び縮合条件を種々変えるこ
とにより、その分子量は任意の値として得ることができ
るが、本発明においては一般に、好ましくは、分子量が
約400乃至10,000のものが有効に使用でき、より好まし
くは、約800乃至5,000のものが適当である。

【００４５】４）ｏ−キノンジアジド化合物を含む感光
性組成物 ｏ−キノンジアジド化合物を含む感光性組成物において
は、ｏ−キノンジアジド化合物とアルカリ可溶性樹脂を
併用することが好ましい。

【００４６】ｏ−キノンジアジド化合物としては、例え
ばｏ−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノール
類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル
化合物が挙げられる。

【００４７】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾ
ール、３，５−キシレノール、カルバクロール、チモー
ル等の一価フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒド
ロキノン等の二価フェノール、ピロガロール、フロログ
ルシン等の三価フェノール等が挙げられる。前記アルデ
ヒドとしてはホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、ア
セトアルデヒド、クロトンアルデヒド、フルフラール等
が挙げられる。これらのうち好ましいものはホルムアル
デヒド及びベンズアルデヒドである。又、前記ケトンと
してはアセトン、メチルエチルケトン等が挙げられる。

【００４８】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、ｍ−クレゾール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、ｍ−，ｐ−混合クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹
脂、ピロガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。

【００４９】前記ｏ−ナフトキノンジアジド化合物のフ
ェノール類のＯＨ基に対するｏ−ナフトキノンジアジド
スルホン酸の縮合率（ＯＨ基１個に対する反応率）は、
15〜80％が好ましく、より好ましくは20〜45％である。

【００５０】更に本発明に用いられるｏ−キノンジアジ
ド化合物としては特開昭58-43451号公報に記載のある以
下の化合物も使用できる。即ち例えば１，２−ベンゾキ
ノンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ナフトキノ
ンジアジドスルホン酸エステル、１，２−ベンゾキノン
ジアジドスルホン酸アミド、１，２−ナフトキノンジア
ジドスルホン酸アミドなどの公知の１，２−キノンジア
ジド化合物、更に具体的にはジェイ・コサール（J.Kosa
r）著「ライト・センシティブ・システム」（“Light-S
ensitive Systems”）第339〜352頁（1965年）、ジョン
・ウィリーアンド サンズ（John Wiley ＆ Sons）社
（ニューヨーク）やダブリュー・エス・ディー・フォレ
スト（W.S.De Forest）著「フォトレジスト」（“Photo
resist”）第50巻，（1975年）、マグローヒル（Mc Gra
w-Hill）社（ニューヨーク）に記載されている１，２−
ベンゾキノンジアジド−４−スルホン酸フェニルエステ
ル、１，２，１′，２′−ジ−（ベンゾキノンジアジド
−４−スルホニル）−ジヒドロキシビフェニル、１，２
−ベンゾキノンジアジド−４−（Ｎ−エチル−Ｎ−β−
ナフチル）−スルホンアミド、１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸シクロヘキシルエステル、１−
（１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル）−
３，５−ジメチルピラゾール、１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸−４′−ヒドロキシジフェニル
−４′−アゾ−β−ナフトールエステル、Ｎ，Ｎ−ジ−
（１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニル）−
アニリン、２′−（１，２−ナフトキノンジアジド−５
−スルホニルオキシ）−１−ヒドロキシ−アントラキノ
ン、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸−
２，４−ジヒドロキシベンゾフェノンエステル、１，２
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸−２，３，４
−トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、１，２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリド２モルと
４，４′−ジアミノベンゾフェノン１モルの縮合物、
１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロリ
ド２モルと４，４′−ジヒドロキシ−１，１′−ジフェ
ニルスルホン１モルの縮合物、１，２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸クロリド１モルとプルプロガリ
ン１モルの縮合物、１，２−ナフトキノンジアジド−５
−（Ｎ−ジヒドロアビエチル）−スルホンアミドなどの
１，２−キノンジアジド化合物を例示することができ
る。又、特公昭37-1953号、同37-3627号、同37-13109
号、同40-26126号、同40-3801号、同45-5604号、同45-2
7345号、同51-13013号、特開昭48-96575号、同48-63802
号、同48-63803号各公報に記載された１，２−キノンジ
アジド化合物をも挙げることができる。

【００５１】上記ｏ−キノンジアジド化合物のうち、
１，２−ベンゾキノンジアジドスルホニルクロリド又は
１，２−ナフトキノンジアジドスルホニルクロリドとピ
ロガロール・アセトン縮合樹脂又は２，３，４−トリヒ
ドロキシベンゾフェノンを反応させて得られるｏ−キノ
ンジアジドエステル化合物が特に好ましい。

【００５２】本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化
合物としては上記化合物を各々単独で用いてもよいし、
２種以上組合せて用いてもよい。

【００５３】本発明に用いられるｏ−キノンジアジド化
合物の感光性組成物中に占める割合は、５〜60重量％が
好ましく、特に好ましくは、10〜50重量％である。

【００５４】本発明の感光性平版印刷版に用いられるア
ルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂、フェノー
ル性水酸基を有するビニル系重合体、特開昭55-57841号
公報に記載されている多価フェノールとアルデヒド又は
ケトンとの縮合樹脂等が挙げられる。

【００５５】本発明に使用されるノボラック樹脂として
は、例えばフェノール・ホルムアルデヒド樹脂、クレゾ
ール・ホルムアルデヒド樹脂、特開昭55-57841号公報に
記載されているようなフェノール・クレゾール・ホルム
アルデヒド共重縮合体樹脂、特開昭55-127553号公報に
記載されているようなｐ−置換フェノールとフェノール
もしくは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合
体樹脂等が挙げられる。

【００５６】前記ノボラック樹脂の分子量（ポリスチレ
ン標準）は、好ましくは数平均分子量Ｍｎが3.00×10²
〜7.50×10³、重量平均分子量Ｍｗが1.00×10³〜3.00×
10⁴、より好ましくはＭｎが5.00×10²〜4.00×10³、Ｍ
ｗが3.00×10³〜2.00×10⁴である。

【００５７】上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよい
し、２種以上組合せて用いてもよい。

【００５８】上記ノボラック樹脂の感光性組成物中に占
める割合は５〜95重量％である。

【００５９】又、本発明に用いられるフェノール性水酸
基を有するビニル系重合体としては、該フェノール性水
酸基を有する単位を分子構造中に有する重合体であり、
下記一般式［Ｉ］〜［Ｖ］の少なくとも１つの構造単位
を含む重合体が好ましい。

【００６０】

【化２】 式中、Ｒ₁及びＲ₂はそれぞれ水素原子、アルキル基又は
カルボキシル基を表し、好ましくは水素原子である。Ｒ
₃は水素原子、ハロゲン原子又はアルキル基を表し、好
ましくは水素原子又はメチル基、エチル基等のアルキル
基である。Ｒ₄は水素原子、アルキル基、アリール基又
はアラルキル基を表し、好ましくは水素原子である。Ａ
は窒素原子又は酸素原子と芳香族炭素原子とを連結す
る、置換基を有してもよいアルキレン基を表し、ｍは０
〜10の整数を表し、Ｂは置換基を有してもよいフェニレ
ン基又は置換基を有してもよいナフチレン基を表す。

【００６１】感光性組成物に用いられる重合体としては
共重合体型の構造を有するものが好ましく、前記一般式
［Ｉ］〜［Ｖ］でそれぞれ示される構造単位と組合せて
用いることができる単量体単位としては、例えばエチレ
ン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレ
ン等のエチレン系不飽和オレフィン類、例えばスチレ
ン、α−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−ク
ロロスチレン等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタ
クリル酸等のアクリル酸類、例えばイタコン酸、マレイ
ン酸、無水マレイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸
類、例えばアクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アク
リル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸
ドデシル、アクリル酸２−クロロエチル、アクリル酸フ
ェニル、α−クロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メ
チル、メタクリル酸エチル、エタクリル酸エチル等のα
−メチレン脂肪族モノカルボン酸のエステル類、例えば
アクリロニトリル、メタアクリロニトリル等のニトリル
類、例えばアクリルアミド等のアミド類、例えばアクリ
ルアニリド、ｐ−クロロアクリルアニリド、ｍ−ニトロ
アクリルアニリド、ｍ−メトキシアクリルアニリド等の
アニリド類、例えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、
ベンゾエ酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、
例えばメチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、
イソブチルビニルエーテル、β−クロロエチルビニルエ
ーテル等のビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデン
クロライド、ビニリデンシアナイド、例えば１−メチル
−１−メトキシエチレン、１，１−ジメトキシエチレ
ン、１，２−ジメトキシエチレン、１，１−ジメトキシ
カルボニルエチレン、１−メチル−１−ニトロエチレン
等のエチレン誘導体類、例えばＮ−ビニルピロール、Ｎ
−ビニルカルバゾール、Ｎ−ビニルインドール、Ｎ−ビ
ニルピロリデン、Ｎ−ビニルピロリドン等のＮ−ビニル
化合物、等のビニル系単量体がある。これらのビニル系
単量体は不飽和二重結合が開裂した構造で高分子化合物
中に存在する。

【００６２】上記の単量体のうち、脂肪族モノカルボン
酸のエステル類、ニトリル類が本発明の目的に対して優
れた性能を示し、好ましい。

【００６３】これらの単量体は重合体中にブロック又は
ランダムのいずれの状態で結合していてもよい。

【００６４】上記ビニル系重合体の感光性組成物中に占
める割合は0.5〜70重量％である。

【００６５】ビニル系重合体は上記重合体を単独で用い
てもよいし、又２種以上組合せて用いてもよい。又、他
の高分子化合物等と組合せて用いることもできる。

【００６６】本発明の感光性平版印刷版には、露光によ
り可視画像を形成させるプリントアウト材料を添加する
ことができる。プリントアウト材料は露光により酸もし
くは遊離基を生成する化合物とこれと相互作用を有する
ことによってその色調を変える有機染料より成るもので
露光により酸もしくは遊離基を生成する化合物として
は、例えば特開昭50-36209号公報に記載のｏ−ナフトキ
ノンジアジド−４−スルホン酸ハロゲニド、特開昭53-3
6223号公報に記載のトリハロメチル−２−ビロンやトリ
ハロメチル−トリアジン、特開昭55-6244号公報に記載
されているｏ−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸
クロライドと電子吸引性置換基を有するフェノール類、
またはアニリン酸とのエステル化合物またはアミド化合
物、特開昭55-77742号、特開昭59-148784号に記載のハ
ロメチルビニルオキサジアゾール化合物及びジアゾニウ
ム塩等が挙げられる。

【００６７】また前記の有機染料としては、ビクトリア
ピュアブルーＢＯＨ（保土ケ谷化学（株）製）、パテン
トピュアブルー（住友三国化学（株）製）、オイルブル
ー＃603（オリエント化学工業（株）製）、スーダンブ
ルーII（ＢＡＳＥ製）、クリスタルバイオレット、マラ
カイトグリーン、フクシン、メチルバイオレット、エチ
ルバイオレット、メチルオレンジ、ブリリアントグリー
ン、コンゴーレッド、エオシン、ローダミン６Ｇ等を挙
げることができる。また感光性組成物には上記の素材の
他、必要に応じて可塑剤、界面活性剤、有機酸、酸無水
物などを添加することができる。

【００６８】更に本発明の感光性平版印刷版には、感光
性組成物の感脂性を向上するために例えば、ｐ−tert−
ブチルフェノールホルムアルデヒド樹脂やｐ−ｎ−オク
チルフェノールホルムアルデヒド樹脂や、これらがｏ−
キノンジアジド化合物で部分的にエステル化された樹脂
などを添加することもできる。

【００６９】これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、
本発明の支持体表面に塗布乾燥させることにより、感光
性層を設けて、本発明の感光性平版印刷版を製造するこ
とができる。

【００７０】上記各成分を溶解する際に使用し得る溶媒
としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテー
ト、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチ
レングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコ
ールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエ
チルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテ
ル、ジエチルグリコールモノイソプロピルエーテル、プ
ロピレングリコール、プロピレングリコールモノメチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチル
エーテルアセテート、プロピレングリコールモノブチル
エーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテ
ル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロ
ピレングリコールメチルエチルエーテル、ギ酸エチル、
ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸
メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル、酪酸エチ
ル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジ
オキサン、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキ
サノン、メチルシクロヘキサノン、ジアセトンアルコー
ル、アセチルアセトン、γ−ブチロラクトン等が挙げら
れる。これら溶媒は、単独或いは２種以上混合して使用
することができる。

【００７１】本発明に用いられる感光性組成物を支持体
表面に塗布する際に用いる塗布方法としては、従来公知
の方法、例えば、回転塗布、ワイヤーバー塗布、ディッ
プ塗布、エアーナイフ塗布、ロール塗布、ブレード塗布
及びカーテン塗布等が可能である。この際塗布量は用途
により異なるが、例えば固形分として0.05〜5.0g／m²が
好ましい。

【００７２】こうして得られた感光性平版印刷版の使用
に際しては、従来から常用されている方法が適用され
得、例えば線画像、網点画像などを有する透明原画を感
光面に密着して露光し、次いでこれを適当な現像液を用
いて非画像部の感光性層を除去することによりレリーフ
像が得られる。露光に好適な光源としては、水銀灯、メ
タルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルラン
プ、カーボンアーク灯などが使用される。

【００７３】現像に使用される現像液としてはアルカリ
水溶液が好ましく、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水
酸化ナトリウム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウ
ム、第二リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウムなどの水溶液のようなアルカリ水溶液がある。この
ときのアルカリ水溶液の濃度は、感光性組成物及びアル
カリの種類により異なるが、概して 0.1〜10重量％の範
囲が適当であり、又該アルカリ水溶液には必要に応じ界
面活性剤やアルコールなどのような有機溶媒を加えるこ
ともできる。

【００７４】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明を更に具体的に
説明する。

【００７５】実施例１ アルミニウム板を砂目立てし、陽極酸化処理を行なった
後、１重量％の亜硝酸ナトリウム水溶液で、次いで１重
量％の珪酸ナトリウム水溶液でいずれも90℃で10秒間処
理した。更に親水性高分子Ａ（ポリビニルホスホン酸）
の0.01重量％水溶液で90℃，10秒間の処理を行なって支
持体１を得た。

【００７６】上記支持体１の作製において、亜硝酸ナト
リウム水溶液による処理及び珪酸ナトリウム水溶液によ
る処理の有無、及び親水性高分子の種類を表１に示すよ
うにかえた以外は同様にして、支持体２〜８をそれぞれ
作製した。

【００７７】得られた支持体１〜８の各々に下記処方１
〜３のいずれかの感光層塗布液を表１に示すように、ホ
エラーで塗布して、支持体１〜８の各々に対応する感光
性平版印刷版試料１〜８をそれぞれ得た。感光層塗布液処方一覧 感光層塗布液処方 １ ２ ３ ジアゾ化合物 *1 ： 10部：（１）（２）（２） アルカリ可溶性樹脂 *2： 100部：（１）（２）（１） 色素 *3 ： 2部：（１）（１）（１） 有機酸 *4 ： 5部：（１）（１）（１） ＵＶ吸収剤 *5 ： 1部：（１） − （１）

【００７８】*1：ジアゾ化合物（１）の合成 ｐ−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g（50ミリモ
ル）を、氷冷下で40gの濃硫酸に溶解した。この反応液
に1.05g（35ミリモル）のパラホルムアルデヒドをゆっ
くり滴下した。この際、反応温度が10℃を超えないよう
に添加していった。その後、２時間氷冷下で攪拌を続け
た。この反応混合液を、氷冷下、500mlのエタノールに
滴下し、生じた沈澱をろ別した。エタノールで沈澱を洗
浄した後、100mlの純水に溶解し、この液に、6.8gの塩
化亜鉛を溶解した水溶液を加えた。生じた沈澱をろ別し
た後、エタノールで洗い、150mlの純水に溶解させた。
この液に、８gのヘキサフルオロリン酸アンモニウムを
溶解した水溶液を加え、生じた沈澱をろ別し、水、エタ
ノールで洗った後、25℃で３日間乾燥して、ジアゾ化合
物１を得た。

【００７９】ジアゾ化合物（２）の合成（共縮合ジアゾ
樹脂） ｐ−ヒドロキシ安息香酸3.5g（25ミリモル）、及びｐ−
ジアゾジフェニルアミン硫酸塩21.75g（75ミリモル）
を、氷冷下で90gの濃硫酸に溶解した。この溶液に、2.7
g（90ミリモル）のパラホルムアルデヒドをゆっくり添
加した。この際、反応温度が10℃を超えないように添加
した。２時間反応溶液を攪拌した後、１リットルのエタ
ノールに滴下し、生じた沈澱をろ別し、エタノールで洗
浄した。沈澱を200mlの純水に溶解し、10.5gの塩化亜鉛
を溶解した水溶液を加えた。生じた沈澱をろ過し、エタ
ノールで洗浄した後、300mlの純水に溶解した。この溶
液に、13.7gのヘキサフルオロリン酸アンモニウムを溶
解した水溶液を添加した。生じた沈澱をろ別し、水、エ
タノールで洗浄した後、25℃で、一日乾燥して、ジアゾ
化合物２を得た。

【００８０】*2：アルカリ可溶性樹脂（１）の合成 下記に示すモノマー組成比（モル％）のモノマー混合物
を、総モノマー量のモノマー濃度が7.15モル％となるよ
うなメタノール／アセトン＝１：１の溶液を調整し、こ
の溶液に全モノマー比1.25モル％当量のアゾビスイソブ
チロニトリルを加え、攪拌しながら65℃にて窒素気流下
６時間還流を行った。反応終了後全モノマー比0.04重量
％のヒドロキノンを加え、反応液を水中に投じて、共重
合体を沈澱させた。これを濾取し、60℃にて３日間乾燥
させた後メチルセロソルブを用いて共重合体の20重量％
メチルセロソルブ溶液を調整した。

【００８１】アルカリ可溶性樹脂（２）の合成 以下に示すモノマー組成比（モル％）のモノマー混合物
を用いて、アルカリ可溶性樹脂（１）と同様の方法で合
成した。

【００８２】 ＨｙＰＭＡ：４ヒドロキシフェニルメタクリルアミド ＥＡ ：アクリル酸エチル ＭＡ ：アクリル酸メチル ＭＡＡ ：メタアクリル酸 ＡＮ ：アクリロニトリル ４ＨＢＡ ：アクリル酸−４−ヒドロキシブチル

【００８３】*3：色素（１）はビクトリアピュアブルー
ＢＯＨ（保土ヶ谷化学製） *4：有機酸（１）はジュリマーＡＣ−10Ｌ（日本純薬
製） *5：ＵＶ吸収剤（１）はカヤセットＯrange Ａ−Ｎ（日
本化薬製）

【００８４】得られた試料１〜８の各々について下記条
件で露光、現像及び印刷を行ない、得られた印刷物のス
テップベタ段数評価（評価Ａ）及び版上におけるＦＯＧ
ＲＡ細線の再現性評価（評価Ｂ）を行なった。 露光量 ：コダックステップタブレット・ベタ４段相当 露光機 ：４ｋｗメタルハライドランプ、距離60cm 現 像 ：ＰＳＵ−820（自現機）／ＳＤ−32（現像
液） 印刷条件：印刷機 三菱ダイヤ インキ 東京インキ ハイプラス 印刷用紙 十條製紙 ハイランド 枚 数 1000枚 結果を表１に示す。

【００８５】

【表１】 表１より本発明の処理を行なった支持体を有する感光性
平版印刷版試料はいずれも印刷時におけるステップベタ
段数の上昇、及び細線のつぶれが抑制されていることが
わかる。

【００８６】実施例２ アルミニウム板を砂目立てし、陽極酸化処理を行なった
後、１重量％の亜硝酸ナトリウム水溶液で、次いで１重
量％の珪酸ナトリウム水溶液でいずれも90℃で10秒間処
理した。更に0.01重量％のＣＭＣを含む下記 pＨ緩衝液
（ア）を用いて90℃で10秒間処理を行ない支持体101を
得た。

【００８７】上記支持体101の作製において、亜硝酸ナ
トリウム水溶液による処理及び珪酸ナトリウム水溶液に
よる処理の有無、及び緩衝液の種類を下記に示すように
かえた以外は同様にして、支持体102〜110をそれぞれ作
製した。緩衝液 緩衝液（ア） ：酒石酸 0.20M pＨ 3.4 水酸化ナトリウム 0.20M 緩衝液（イ） ：クエン酸 0.20M pＨ 4.0 水酸化ナトリウム 0.24M 緩衝液（ウ） ：クエン酸 0.014M pＨ 4.4 クエン酸ナトリウム 0.011M 緩衝液（エ） ：酢酸 0.041M pＨ 4.0 酢酸ナトリウム 0.009M 緩衝液（オ） ：炭酸ナトリウム 0.01M pＨ 9.1 炭酸水素ナトリウム 0.09M 緩衝液（カ） ：燐酸水素二ナトリウム 0.25M pＨ 6.8 燐酸二水素ナトリウム 0.25M 得られた支持体101〜110の各々について実施例１と同様
に、表２に示すように感光液を塗布して支持体101〜110
の各々に対応する感光性平版印刷版試料101〜110をそれ
ぞれ得た。

【００８８】得られた試料101〜110の各々について実施
例１と同様に露光、現像及び印刷を行ない、また同様に
評価した。結果を表２に示す。

【００８９】

【表２】

【００９０】

【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明の感
光性平版印刷版により、印刷時における印刷枚数の増大
に伴なうベタ段数の上昇及び細線のつぶれを抑制するこ
とができる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 内藤 国孝 茨城県鹿島郡波崎町砂山14番地 三菱化成 株式会社鹿島工場内 (72)発明者 西澤 裕行 茨城県鹿島郡波崎町砂山14番地 三菱化成 株式会社鹿島工場内

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも粗面化及び陽極酸化処理をこ
   の順で行なったアルミニウム支持体の表面を亜硝酸及び
   ／又は亜硝酸塩を含む水溶液及び珪酸及び／又は珪酸塩
   を含む水溶液で処理した後、親水性高分子水溶液で処理
   してなる支持体を有することを特徴とする感光性平版印
   刷版。
2. 【請求項２】 少なくとも粗面化及び陽極酸化処理をこ
   の順で行なったアルミニウム支持体の表面を、３〜６の
   範囲内の値に調整された pＨ値を有するカルボキシメチ
   ルセルロース水溶液で処理してなる支持体を有すること
   を特徴とする感光性平版印刷版。