JPH02204749A - ポジ型感光性平版印刷版 - Google Patents
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- 238000007639 printing Methods 0.000 title claims abstract description 24
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 28
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 claims abstract description 6
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 claims description 14
- 229920005989 resin Polymers 0.000 abstract description 35
- 239000011347 resin Substances 0.000 abstract description 35
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract description 17
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 abstract description 14
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 abstract description 11
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 abstract description 10
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 10
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 abstract description 3
- KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N (3as,7ar)-3a,4,7,7a-tetrahydro-2-benzofuran-1,3-dione Chemical compound C1C=CC[C@@H]2C(=O)OC(=O)[C@@H]21 KMOUUZVZFBCRAM-OLQVQODUSA-N 0.000 abstract 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 26
- -1 bisphenol compound Chemical class 0.000 description 25
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 16
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 16
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 15
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 13
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 13
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 11
- HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N benzaldehyde Chemical compound O=CC1=CC=CC=C1 HUMNYLRZRPPJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 9
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 8
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 8
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 8
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 8
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N p-cresol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1 IWDCLRJOBJJRNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 8
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 7
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 7
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 7
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 7
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 7
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 7
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 7
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 5
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 5
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 5
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 5
- QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N para-ethylbenzaldehyde Natural products CCC1=CC=C(C=O)C=C1 QNGNSVIICDLXHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 5
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 4
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 4
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000005868 electrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N furfural Chemical compound O=CC1=CC=CO1 HYBBIBNJHNGZAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 4
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 4
- MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N thymol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C=C1O MGSRCZKZVOBKFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000975 Carbon steel Inorganic materials 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000010962 carbon steel Substances 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 3
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 3
- VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N glutaric anhydride Chemical compound O=C1CCCC(=O)O1 VANNPISTIUFMLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 3
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 3
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 3
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 3
- 235000011121 sodium hydroxide Nutrition 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 2-tert-Butylphenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O WJQOZHYUIDYNHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 4-Butyrolactone Chemical compound O=C1CCCO1 YEJRWHAVMIAJKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N Acrolein Chemical compound C=CC=O HGINCPLSRVDWNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 101100491149 Caenorhabditis elegans lem-3 gene Proteins 0.000 description 2
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910021578 Iron(III) chloride Inorganic materials 0.000 description 2
- RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N Isoprene Chemical compound CC(=C)C=C RRHGJUQNOFWUDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001209 Low-carbon steel Inorganic materials 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M Propionate Chemical compound CCC([O-])=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N Vinyl ether Chemical class C=COC=C QYKIQEUNHZKYBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N [(1-diazonioimino-3,4-dioxonaphthalen-2-ylidene)hydrazinylidene]azanide Chemical compound C1=CC=C2C(=N[N+]#N)C(=NN=[N-])C(=O)C(=O)C2=C1 ALVGSDOIXRPZFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N acetaldehyde Chemical compound [14CH]([14CH3])=O IKHGUXGNUITLKF-XPULMUKRSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N butyl formate Chemical compound CCCCOC=O NMJJFJNHVMGPGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 2
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 2
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 229940118056 cresol / formaldehyde Drugs 0.000 description 2
- MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N crotonaldehyde Chemical compound C\C=C\C=O MLUCVPSAIODCQM-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 2
- MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N crotonaldehyde Natural products CC=CC=O MLUCVPSAIODCQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N decanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000010790 dilution Methods 0.000 description 2
- 239000012895 dilution Substances 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000000866 electrolytic etching Methods 0.000 description 2
- FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N ethenoxyethane Chemical compound CCOC=C FJKIXWOMBXYWOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N ethyl propionate Chemical compound CCOC(=O)CC FKRCODPIKNYEAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 2
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 2
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 2
- RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K iron trichloride Chemical compound Cl[Fe](Cl)Cl RBTARNINKXHZNM-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N m-cresol Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1 RLSSMJSEOOYNOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 2
- 238000010297 mechanical methods and process Methods 0.000 description 2
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 2
- 150000002825 nitriles Chemical class 0.000 description 2
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N nonanoic acid Chemical compound CCCCCCCCC(O)=O FBUKVWPVBMHYJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N o-cresol Chemical compound CC1=CC=CC=C1O QWVGKYWNOKOFNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- WDGFFVCWBZVLCE-UHFFFAOYSA-N purpurogallin Chemical compound C1=CC=C(O)C(=O)C2=C1C=C(O)C(O)=C2O WDGFFVCWBZVLCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 2
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960001755 resorcinol Drugs 0.000 description 2
- 229940124530 sulfonamide Drugs 0.000 description 2
- YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N sulfuryl dichloride Chemical compound ClS(Cl)(=O)=O YBBRCQOCSYXUOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N undecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(O)=O ZDPHROOEEOARMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 2
- HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N (2-hydroxyphenyl)-phenylmethanone Chemical compound OC1=CC=CC=C1C(=O)C1=CC=CC=C1 HJIAMFHSAAEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N (S)-malic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-REOHCLBHSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N -2,3-Dihydroxypropanoic acid Natural products OCC(O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJTRNRFAIZEJJJ-UHFFFAOYSA-N 1,1-dimethoxyethene Chemical group COC(=C)OC FJTRNRFAIZEJJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 1,2-diethoxyethane Chemical compound CCOCCOCC LZDKZFUFMNSQCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJQBHNHASPQACB-UHFFFAOYSA-N 1,2-dimethoxyethene Chemical group COC=COC SJQBHNHASPQACB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 1,2-naphthoquinone Chemical compound C1=CC=C2C(=O)C(=O)C=CC2=C1 KETQAJRQOHHATG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940105324 1,2-naphthoquinone Drugs 0.000 description 1
- HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 1-benzylpyrrolidine-3-carboxamide Chemical compound C1C(C(=O)N)CCN1CC1=CC=CC=C1 HNAGHMKIPMKKBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-2-ethenoxyethane Chemical compound ClCCOC=C DNJRKFKAFWSXSE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylindole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C=CC2=C1 RCSKFKICHQAKEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 1-ethenylpyrrole Chemical compound C=CN1C=CC=C1 CTXUTPWZJZHRJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-ethoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOCC RRQYJINTUHWNHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxyethoxy)ethane Chemical compound CCOCCOCCOC CNJRPYFBORAQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXFITNNCZLPZNX-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-2-(2-methoxypropoxy)propane Chemical compound CCOCC(C)OCC(C)OC JXFITNNCZLPZNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 10-undecenoic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC=C FRPZMMHWLSIFAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSXWOBXNYNULJG-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,4-trimethylpentan-2-yl)phenol Chemical compound CC(C)(C)CC(C)(C)C1=CC=CC=C1O XSXWOBXNYNULJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LHSAKGVBHJUEOV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylpropyl)pentanedioic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)CCC(O)=O LHSAKGVBHJUEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 2-[(e)-2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-4,6-bis(trichloromethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1\C=C\C1=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=NC(C(Cl)(Cl)Cl)=N1 MCNPOZMLKGDJGP-QPJJXVBHSA-N 0.000 description 1
- JIKJXWFVPDDJNU-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-methoxyphenyl)ethenyl]-5-(trichloromethyl)-1,3,4-oxadiazole Chemical compound C1=CC(OC)=CC=C1C=CC1=NN=C(C(Cl)(Cl)Cl)O1 JIKJXWFVPDDJNU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KLQLSMICJDOHEV-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-n-phenylprop-2-enamide Chemical compound ClC(=C)C(=O)NC1=CC=CC=C1 KLQLSMICJDOHEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 2-cyclohexylphenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1C1CCCCC1 MVRPPTGLVPEMPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethyl acetate Chemical compound CCOCCOC(C)=O SVONRAPFKPVNKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABMULKFGWTYIIK-UHFFFAOYSA-N 2-hexylphenol Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC=C1O ABMULKFGWTYIIK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 2-methylidenepropanedinitrile Chemical compound N#CC(=C)C#N FCYVWWWTHPPJII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DUHQIGLHYXLKAE-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethylglutaric acid Chemical compound OC(=O)CC(C)(C)CC(O)=O DUHQIGLHYXLKAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMVOQQDNEYOJOK-UHFFFAOYSA-N 3,5-dimethylbenzoic acid Chemical compound CC1=CC(C)=CC(C(O)=O)=C1 UMVOQQDNEYOJOK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 3-(3-methoxypropoxy)propan-1-ol Chemical compound COCCCOCCCO QCAHUFWKIQLBNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ATYUFZQNJIZDJQ-UHFFFAOYSA-N 3-cyclohexyl-2-methylphenol Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C1CCCCC1 ATYUFZQNJIZDJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VDAVARPTDLMJIC-UHFFFAOYSA-N 3-ethylpentanedioic acid Chemical compound OC(=O)CC(CC)CC(O)=O VDAVARPTDLMJIC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BKSLWFIQZRIOBD-UHFFFAOYSA-N 3-hexyl-2-methylphenol Chemical compound CCCCCCC1=CC=CC(O)=C1C BKSLWFIQZRIOBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n-[2-(trifluoromethyl)phenyl]butanamide Chemical compound CC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(F)(F)F VATRWWPJWVCZTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 3-phenylfuran-2,5-dione Chemical compound O=C1OC(=O)C(C=2C=CC=CC=2)=C1 QZYCWJVSPFQUQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MIHQWNKDHBLQEZ-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butyl-2-methylphenol Chemical compound CC1=C(O)C=CC=C1C(C)(C)C MIHQWNKDHBLQEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVBLERFTBIOQQB-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butyl-4-chloro-5-methylphenol Chemical compound CC1=CC(O)=CC(C(C)(C)C)=C1Cl ZVBLERFTBIOQQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 4-diazoniophenolate Chemical compound [O-]C1=CC=C([N+]#N)C=C1 WTQZSMDDRMKJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 4-methoxybenzoic acid Chemical compound COC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ZEYHEAKUIGZSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexan-1-one Chemical compound CC1CCC(=O)CC1 VGVHNLRUAMRIEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZDOYVMSNJBLIM-UHFFFAOYSA-N 4-tert-butylphenol;formaldehyde Chemical compound O=C.CC(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 LZDOYVMSNJBLIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 101100309761 Aedes aegypti SDR-1 gene Proteins 0.000 description 1
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Natural products OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N Butyl acetate Natural products CCCCOC(C)=O DKPFZGUDAPQIHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M Butyrate Chemical compound CCCC([O-])=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001339 C alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001018 Cast iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000669 Chrome steel Inorganic materials 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N Cyanide Chemical compound N#[C-] XFXPMWWXUTWYJX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N D-glyceric acid Chemical compound OC[C@@H](O)C(O)=O RBNPOMFGQQGHHO-UWTATZPHSA-N 0.000 description 1
- 206010012442 Dermatitis contact Diseases 0.000 description 1
- ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N Diisopropyl ether Chemical compound CC(C)OC(C)C ZAFNJMIOTHYJRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N Erucic acid Natural products CCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O URXZXNYJPAJJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000640 Fe alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N Isothiocyanatocyclopropane Chemical compound S=C=NC1CC1 JGFBQFKZKSSODQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005639 Lauric acid Substances 0.000 description 1
- 229910000617 Mangalloy Inorganic materials 0.000 description 1
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N Methyl propionate Chemical compound CCC(=O)OC RJUFJBKOKNCXHH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N Methylacrylonitrile Chemical compound CC(=C)C#N GYCMBHHDWRMZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N N-Vinyl-2-pyrrolidone Chemical compound C=CN1CCCC1=O WHNWPMSKXPGLAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102100038434 Neuroplastin Human genes 0.000 description 1
- 108700038050 Neuroplastin Proteins 0.000 description 1
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018487 Ni—Cr Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000005643 Pelargonic acid Substances 0.000 description 1
- DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N Pentyl formate Chemical compound CCCCCOC=O DIQMPQMYFZXDAX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 1
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000005844 Thymol Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MPGOFFXRGUQRMW-UHFFFAOYSA-N [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC=CC1=O Chemical compound [N-]=[N+]=[N-].[N-]=[N+]=[N-].O=C1C=CC=CC1=O MPGOFFXRGUQRMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N acetic acid trimethyl ester Natural products COC(C)=O KXKVLQRXCPHEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N acetic acid;ethoxyethane Chemical compound CC(O)=O.CCOCC KVXNKFYSHAUJIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000001253 acrylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N alpha-Methylstyrene Chemical compound CC(=C)C1=CC=CC=C1 XYLMUPLGERFSHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N alpha-hydroxysuccinic acid Natural products OC(=O)C(O)CC(O)=O BJEPYKJPYRNKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 229940051881 anilide analgesics and antipyretics Drugs 0.000 description 1
- 238000007743 anodising Methods 0.000 description 1
- 150000003934 aromatic aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 1
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 1
- HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N benzene-1,2,3-triol;propan-2-one Chemical compound CC(C)=O.OC1=CC=CC(O)=C1O HRBFQSUTUDRTSV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N butanoic acid ethyl ester Natural products CCCC(=O)OCC OBNCKNCVKJNDBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043232 butyl acetate Drugs 0.000 description 1
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N butyric acid octyl ester Natural products CCCCCCCCOC(=O)CCC PWLNAUNEAKQYLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052793 cadmium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N carvacrol Chemical compound CC(C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 RECUKUPTGUEGMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N carvacrol Natural products CC(=C)C1=CC=C(C)C(O)=C1 HHTWOMMSBMNRKP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000007746 carvacrol Nutrition 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 1
- ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N chromate(2-) Chemical compound [O-][Cr]([O-])(=O)=O ZCDOYSPFYFSLEW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N chromium nickel Chemical compound [Cr].[Ni] VNNRSPGTAMTISX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- CCQPAEQGAVNNIA-UHFFFAOYSA-N cyclobutane-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCC1 CCQPAEQGAVNNIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N cyclohex-4-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CC=CCC1C(O)=O ILUAAIDVFMVTAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,3-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCC(C(O)=O)C1 XBZSBBLNHFMTEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCFAUZGWPDYAJN-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OC1CCCCC1 GCFAUZGWPDYAJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZFOGXKZTWZVFN-UHFFFAOYSA-N cyclopentane-1,1-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCC1 YZFOGXKZTWZVFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 229940061607 dibasic sodium phosphate Drugs 0.000 description 1
- SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N dichromate(2-) Chemical compound [O-][Cr](=O)(=O)O[Cr]([O-])(=O)=O SOCTUWSJJQCPFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940019778 diethylene glycol diethyl ether Drugs 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940075557 diethylene glycol monoethyl ether Drugs 0.000 description 1
- SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N diglyme Chemical compound COCCOCCOC SBZXBUIDTXKZTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N dimethylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)(C)C(O)=O OREAFAJWWJHCOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L disodium hydrogen phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].OP([O-])([O-])=O BNIILDVGGAEEIG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 238000009713 electroplating Methods 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N erucic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl butanoate Chemical compound CCCC(=O)OC=C MEGHWIAOTJPCHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N ethenyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OC=C UIWXSTHGICQLQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OUGJKAQEYOUGKG-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylidenebutanoate Chemical compound CCOC(=O)C(=C)CC OUGJKAQEYOUGKG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLSPCFYPYRYKNF-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-octylphenol Chemical compound O=C.CCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 ZLSPCFYPYRYKNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N formic acid ethyl ester Natural products CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 1
- 150000008282 halocarbons Chemical class 0.000 description 1
- FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N hexanoic acid Chemical compound CCCCCC(O)=O FUZZWVXGSFPDMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001469 hydantoins Chemical class 0.000 description 1
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 1
- PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N iodine Chemical compound II PNDPGZBMCMUPRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N isocarvacrol Natural products CC(C)C1=CC=C(O)C(C)=C1 WYXXLXHHWYNKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N l-ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(O)=C(O)C1=O TYQCGQRIZGCHNB-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052745 lead Inorganic materials 0.000 description 1
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 1
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 1
- 239000001630 malic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011090 malic acid Nutrition 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- GXHFUVWIGNLZSC-UHFFFAOYSA-N meldrum's acid Chemical compound CC1(C)OC(=O)CC(=O)O1 GXHFUVWIGNLZSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052753 mercury Inorganic materials 0.000 description 1
- AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N methyl 2-chloroprop-2-enoate Chemical compound COC(=O)C(Cl)=C AWJZTPWDQYFQPQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229940017219 methyl propionate Drugs 0.000 description 1
- XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N methyl vinyl ether Chemical compound COC=C XJRBAMWJDBPFIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N methylmalonic acid Chemical compound OC(=O)C(C)C(O)=O ZIYVHBGGAOATLY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N molybdate Chemical compound [O-][Mo]([O-])(=O)=O MEFBJEMVZONFCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- YDKJSAXEBRKYLM-UHFFFAOYSA-N n-(3-methoxyphenyl)prop-2-enamide Chemical compound COC1=CC=CC(NC(=O)C=C)=C1 YDKJSAXEBRKYLM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N n-Propyl acetate Natural products CCCOC(C)=O YKYONYBAUNKHLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N n-butyric acid methyl ester Natural products CCCC(=O)OC UUIQMZJEGPQKFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N n-phenylprop-2-enamide Chemical compound C=CC(=O)NC1=CC=CC=C1 BPCNEKWROYSOLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N n-vinylcarbazole Chemical compound C1=CC=C2N(C=C)C3=CC=CC=C3C2=C1 KKFHAJHLJHVUDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940093956 potassium carbonate Drugs 0.000 description 1
- 235000011118 potassium hydroxide Nutrition 0.000 description 1
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 229940090181 propyl acetate Drugs 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005657 pyrophosphoric acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 1
- CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N saccharin Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NS(=O)(=O)C2=C1 CVHZOJJKTDOEJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940001593 sodium carbonate Drugs 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019794 sodium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 239000001384 succinic acid Substances 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N tetrachlorophthalic anhydride Chemical compound ClC1=C(Cl)C(Cl)=C2C(=O)OC(=O)C2=C1Cl AUHHYELHRWCWEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960000790 thymol Drugs 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940001496 tribasic sodium phosphate Drugs 0.000 description 1
- AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N triphenylmethane Chemical compound C1=CC=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 AAAQKTZKLRYKHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N valeric acid Chemical compound CCCCC(O)=O NQPDZGIKBAWPEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N victoria blue B Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)=C(C=C1)C2=CC=CC=C2C1=[NH+]C1=CC=CC=C1 LLWJPGAKXJBKKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N vinyl benzoate Chemical compound C=COC(=O)C1=CC=CC=C1 KOZCZZVUFDCZGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002256 xylenyl group Chemical class C1(C(C=CC=C1)C)(C)* 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は0−キノンジアジド化合物を感光成分として含
有するポジ型感光性平版印刷版に関する。
有するポジ型感光性平版印刷版に関する。
従来、平版印刷版の作製に用いられるポジ型感光性平版
印刷版としては、0−キノンジアジド化合物とノボラッ
ク型フェノール樹脂を主成分とする感光層をアルミニウ
ム支持体上に有するものが工業的に広く使用されている
。
印刷版としては、0−キノンジアジド化合物とノボラッ
ク型フェノール樹脂を主成分とする感光層をアルミニウ
ム支持体上に有するものが工業的に広く使用されている
。
この0−キノンジアジド化合物とノボラック樹脂からな
る先回溶化組成物は、光重合反応あるいは光架橋反応を
利用したネガ型感光性組成物に比べ、感度が低く、長い
作業時間を必用とした。この作業時間の短縮の要望から
、感度を高める方法について今まで種々の試みがなされ
てきた。
る先回溶化組成物は、光重合反応あるいは光架橋反応を
利用したネガ型感光性組成物に比べ、感度が低く、長い
作業時間を必用とした。この作業時間の短縮の要望から
、感度を高める方法について今まで種々の試みがなされ
てきた。
このような方法としては、0−キノンジアジド化合物の
量を少なくする、あるいはバインダー樹脂の分子量を下
げ感度を高める方法等がある。また、第三成分を添加し
て感度を向上させようとする試みとしては、例えば特公
昭56−19619号公報に、ヒダントイン類及び〇−
安息香酸スルフィミドの添加によって感度を高める方法
が記載されている。
量を少なくする、あるいはバインダー樹脂の分子量を下
げ感度を高める方法等がある。また、第三成分を添加し
て感度を向上させようとする試みとしては、例えば特公
昭56−19619号公報に、ヒダントイン類及び〇−
安息香酸スルフィミドの添加によって感度を高める方法
が記載されている。
また、特公昭46−42449号公報には、トリフェニ
ルメタン系色素のシアニド、ベンズアルデヒド−lトリ
ヒドラジン、ハロゲン化炭化水素、アゾ色素を添加する
方法が記載されている。
ルメタン系色素のシアニド、ベンズアルデヒド−lトリ
ヒドラジン、ハロゲン化炭化水素、アゾ色素を添加する
方法が記載されている。
さらに、特開昭55−73045号公報には、ヒドロキ
シベンゾフェノンとホルムアルデヒドと縮合生成物を添
加する方法、特開昭60−150047号公報には、ビ
スフェノール化合物を添加する方法、特公昭56−30
850号公報及び特開昭58−11932号公報には環
状酸無水物を添加する方法などが記載されている。
シベンゾフェノンとホルムアルデヒドと縮合生成物を添
加する方法、特開昭60−150047号公報には、ビ
スフェノール化合物を添加する方法、特公昭56−30
850号公報及び特開昭58−11932号公報には環
状酸無水物を添加する方法などが記載されている。
さらに、現像許容性の低下を伴わずに高感度化を意図し
た技術として、付加重合高分子有機酸を感光性組成物に
含有させる技術が特開昭62−151845号に開示さ
れている。
た技術として、付加重合高分子有機酸を感光性組成物に
含有させる技術が特開昭62−151845号に開示さ
れている。
しかしながら、上記技術に基づく高感度化されたポジ型
感光性平版印刷版には、適性な現像結果が得られる現像
能力低下の許容範囲(以下、「アンダー現像性」という
)、及び網点の小点の再現性において改良すべき余地が
ある。
感光性平版印刷版には、適性な現像結果が得られる現像
能力低下の許容範囲(以下、「アンダー現像性」という
)、及び網点の小点の再現性において改良すべき余地が
ある。
しt;がって、本発明の目的は、高感度で、アンダー現
像性及び網点の小点の再現性が優れたポジ型感光性平版
印刷版を提供することである。
像性及び網点の小点の再現性が優れたポジ型感光性平版
印刷版を提供することである。
上記本発明の目的は、支持体上に、0−キノンジアジド
化合物を含有する感光層を有する感光性平版印刷版にお
いて、該支持体として表面をめっきした鉄板を用い、か
つ該感光層中に有機酸又は酸無水物を含有させることに
よって達成される。
化合物を含有する感光層を有する感光性平版印刷版にお
いて、該支持体として表面をめっきした鉄板を用い、か
つ該感光層中に有機酸又は酸無水物を含有させることに
よって達成される。
以下、本発明について詳述する。
本発明の感光性平版印刷版の支持体に用いる鉄板の材料
の鉄は、純鉄の他、鉄と他の元素との合金を包含する。
の鉄は、純鉄の他、鉄と他の元素との合金を包含する。
鉄と合金をつくる他の元素としては炭素、マンガン、ニ
ッケル等が挙げられる。合金としては、具体的には炭素
鋼(炭素(0,04〜1.7%)と鉄の合金)、炭素鋼
より炭素含有率の高い鋳鉄、更に他の元素(例えばマン
ガン、ニッケル。
ッケル等が挙げられる。合金としては、具体的には炭素
鋼(炭素(0,04〜1.7%)と鉄の合金)、炭素鋼
より炭素含有率の高い鋳鉄、更に他の元素(例えばマン
ガン、ニッケル。
クロム、コバルト、タングステン、モリブデン)を加え
た特殊鋼(例えばマンガン鋼、ニッケル鋼。
た特殊鋼(例えばマンガン鋼、ニッケル鋼。
クロム鋼、ニッケルークロム鋼)等が挙げられる。
上記炭素鋼としては、極軟鋼(炭素0.25%以下)、
軟鋼(0,25〜0.5%)、硬鋼(炭素0.5〜1.
0%)、極硬鋼(炭素1.0%以上)が包含される。
軟鋼(0,25〜0.5%)、硬鋼(炭素0.5〜1.
0%)、極硬鋼(炭素1.0%以上)が包含される。
本発明において、鉄板の表面はめっきを施す前に粗面化
することが好ましい。粗面化方法としては、従来知られ
た種々の方法が使用でき、例えば、機械的方法、化学的
方法、電解による方法が挙げられる。機械的方法として
は例えばボール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニング
による研磨法等が挙げられる。化学的方法としては硫酸
、リン酸、硝酸、塩酸、シュウ酸、ピロリン酸、塩化第
2鉄等を含む溶液で工、ツチッグする方法が挙げられる
。
することが好ましい。粗面化方法としては、従来知られ
た種々の方法が使用でき、例えば、機械的方法、化学的
方法、電解による方法が挙げられる。機械的方法として
は例えばボール研磨法、ブラシ研磨法、液体ホーニング
による研磨法等が挙げられる。化学的方法としては硫酸
、リン酸、硝酸、塩酸、シュウ酸、ピロリン酸、塩化第
2鉄等を含む溶液で工、ツチッグする方法が挙げられる
。
電解による方法セしては電解によるエツチングする方法
及び電解によりめっきする方法が挙げられる。 本発明
におけるめっきは、鉄材に対して防錆効果をもつ、Ni
、Cr、Cu又はSnを用いる。なお、めっき金属は、
前記の金属単体に限らず、これらの1種以上を含む合金
、或いはこれらのうちの2種以上の複合めっきも含まれ
る。
及び電解によりめっきする方法が挙げられる。 本発明
におけるめっきは、鉄材に対して防錆効果をもつ、Ni
、Cr、Cu又はSnを用いる。なお、めっき金属は、
前記の金属単体に限らず、これらの1種以上を含む合金
、或いはこれらのうちの2種以上の複合めっきも含まれ
る。
めっき方法は、通常の方法が用いられ、例えば、加瀬敬
年等著のめつき技術(日刊工業新聞社(株乃、1979
年、209〜368頁記載されているような方法で行う
ことができる。めっきの厚さは、 0.01〜5μ−が
好ましく、より好ましくは0.05〜lILmである。
年等著のめつき技術(日刊工業新聞社(株乃、1979
年、209〜368頁記載されているような方法で行う
ことができる。めっきの厚さは、 0.01〜5μ−が
好ましく、より好ましくは0.05〜lILmである。
めっきの後、必要に応じて化成処理を施すことができる
。該化成処理は、クロム酸塩、重クロム酸塩、リン酸塩
、モリブデン酸塩、ホウ酸塩、過ホウ酸塩などを含む溶
液への浸漬、或いは該溶液中での電解による化成処理法
がある。
。該化成処理は、クロム酸塩、重クロム酸塩、リン酸塩
、モリブデン酸塩、ホウ酸塩、過ホウ酸塩などを含む溶
液への浸漬、或いは該溶液中での電解による化成処理法
がある。
上記のようにして、処理されて得られた支持体表面の中
心線平均粗さ(DIN4768に示されている)は、好
ましくは0.1〜30μmであり、より好ましくは0.
3〜15μmである。
心線平均粗さ(DIN4768に示されている)は、好
ましくは0.1〜30μmであり、より好ましくは0.
3〜15μmである。
めっき処理後金属又は金属酸化物のゾルで処理を施すこ
とが好ましい。この表面処理は親水化処理であり、この
処理は支持体の表裏両面であってもよい。
とが好ましい。この表面処理は親水化処理であり、この
処理は支持体の表裏両面であってもよい。
金属又は金属酸化物のゾルとは、金属又は金属の酸化物
を分散質とするゾルで、該金属及び金属酸化物は水和物
を包含する。上記金属、及び酸化物を形成する金属とし
ては例えばi、Ti 、Zr、Cr、Ni。
を分散質とするゾルで、該金属及び金属酸化物は水和物
を包含する。上記金属、及び酸化物を形成する金属とし
ては例えばi、Ti 、Zr、Cr、Ni。
Zn、So、Mn、Cu、Co、Fe、Pb、Cd、M
g、Ca等が挙げられ、本発明においては、これらの金
属又はその酸化物を分散質とするゾルの少なくとも1種
を用いることが好ましく 、 A12.Cr、Niまた
はZnの金属または金属酸化物を分散質とするゾルがよ
り好ましい。
g、Ca等が挙げられ、本発明においては、これらの金
属又はその酸化物を分散質とするゾルの少なくとも1種
を用いることが好ましく 、 A12.Cr、Niまた
はZnの金属または金属酸化物を分散質とするゾルがよ
り好ましい。
上記ゾルで表面を処理する方法としては、上記金属及び
/又は金属酸化物を分散質として含むヒドロゾル中で陰
極電解又は浸漬処理を行うのが好ましい。表面処理に用
いるゾル中の金属及び/又は金属酸化物の分散質の濃度
は1− long/ Qが好ましい。又、ヒドロシルの
安定性を良くするために処理液中にクロム酸、リン酸、
硫酸などの無機塩、クエン酸、酢酸などの有機酸、或い
は界面活性剤を添加することができる。
/又は金属酸化物を分散質として含むヒドロゾル中で陰
極電解又は浸漬処理を行うのが好ましい。表面処理に用
いるゾル中の金属及び/又は金属酸化物の分散質の濃度
は1− long/ Qが好ましい。又、ヒドロシルの
安定性を良くするために処理液中にクロム酸、リン酸、
硫酸などの無機塩、クエン酸、酢酸などの有機酸、或い
は界面活性剤を添加することができる。
陰極電解条件としては、使用するゾルの種類によって異
なるが、電流密度は0.5〜IOA/dm”、処理温度
は5〜50°C1処理時間は1〜60秒が適当である。
なるが、電流密度は0.5〜IOA/dm”、処理温度
は5〜50°C1処理時間は1〜60秒が適当である。
本発明の感光性平版印刷版は、上記により得られた鉄支
持体に0−キノンジアト化合物を含有する感光性組成物
を例えば有機溶媒を用いて塗設することにより製造する
ことができる。
持体に0−キノンジアト化合物を含有する感光性組成物
を例えば有機溶媒を用いて塗設することにより製造する
ことができる。
本発明における0−キノンジアジド化合物としては、例
文ば0−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノー
ル類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステ
ル化合物が挙げられる。
文ば0−ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノー
ル類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステ
ル化合物が挙げられる。
前記フェノール類としては、例えば、フェノール、0−
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3.5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レソルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、70ログルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしては
ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられる
。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及びベ
ンズアルデヒドである。又、前記ケトンとしてはアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
クレゾール、m−クレゾール、p−クレゾール、3.5
−キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価フ
エノール、カテコール、レソルシン、ヒドロキノン等の
二価フェノール、ピロガロール、70ログルシン等の三
価フェノール等が挙げられる。前記アルデヒドとしては
ホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒ
ド、クロトンアルデヒド、フルフラール等が挙げられる
。これらのうち好ましいものはホルムアルデヒド及びベ
ンズアルデヒドである。又、前記ケトンとしてはアセト
ン、メチルエチルケトン等が挙げられる。
前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フェノール・ホ
ルムアルデヒド樹脂、■−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、Is−+p−混合クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロ
ール・アセトン樹脂等が挙げられる。
ルムアルデヒド樹脂、■−クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、Is−+p−混合クレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロガロ
ール・アセトン樹脂等が挙げられる。
前記0−ナフトキノンジアジド化合物のフェノール類の
OH基に対する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
OH基に対する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸の
縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
更に本発明に用いられる0−キノンジアジド化合物とし
ては特開昭58−43451号公報に記載のある以下の
化合物も使用できる。即ち例えば1.2−ベンゾキノン
ジアジドスルホン酸エステル、1.2−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステル、■、2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸アミド、l、2−ナフトキノンジアジド
スルホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド
化合物、更に具体的にはジェイ・コサール(J、Kos
ar)著「ライト・センシティブ システム」(“Li
ght−5ensitive Systems”)第3
39〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー ア
ンド サンズ(John Wiley & 5ons)
社にューヨーク)やダブリュー・ニス・デイー’7rレ
スト(is、De Forest)著「7オトレジスト
」(“Photoresist’″)第50巻。
ては特開昭58−43451号公報に記載のある以下の
化合物も使用できる。即ち例えば1.2−ベンゾキノン
ジアジドスルホン酸エステル、1.2−ナフトキノンジ
アジドスルホン酸エステル、■、2−ベンゾキノンジア
ジドスルホン酸アミド、l、2−ナフトキノンジアジド
スルホン酸アミドなどの公知の1,2−キノンジアジド
化合物、更に具体的にはジェイ・コサール(J、Kos
ar)著「ライト・センシティブ システム」(“Li
ght−5ensitive Systems”)第3
39〜352頁(1965年)、ジョン・ウィリー ア
ンド サンズ(John Wiley & 5ons)
社にューヨーク)やダブリュー・ニス・デイー’7rレ
スト(is、De Forest)著「7オトレジスト
」(“Photoresist’″)第50巻。
(1975年)、マグロ−ヒル(Mc Gray−Hi
ll)社にューヨーク)に記載されている1、2−ベン
ゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、
1.2.1’。
ll)社にューヨーク)に記載されている1、2−ベン
ゾキノンジアジド−4−スルホン酸フェニルエステル、
1.2.1’。
2′−ジー(ベンゾキノンジアジド−4−スルホニル)
−ジヒドロキシビフェニル、l、2−ベンゾキノンジア
ジド−4−(N−エチル−M−β−ナフチル)−スルホ
ンアミド、1.2−す7トキノンジアジドー5−スルホ
ン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメチルピ
ラゾール、l、2・す7トキノンジアジドー5−スルホ
ン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′−アゾ−β−
ナフトールエステル、N、N−ジー(l、2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、2’−(
1,2−す7トキノンジアジドー5−スルホニルオキシ
)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1.2−ナフト
キノンシアシト−5−スルホン酸−2゜4−ジヒドロキ
シベンゾフェノンエステル、1.2−1−7トキノンジ
アジドー5−スルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノンエステル、1.2−ナフトキノンジアジ
ド−5−スルホン酸クロリド2モルと4.4 ’−ジア
ミノベンゾフェノン1モルの縮合物、1.2−+7トキ
ノンジアジドー5−スルホン酸クロリド2モルと4.4
’−ジヒドロキシ−1,1’−ジフェニルスルホン1モ
ルの縮合物、1.2−ナフトキノンジアジド・5−スル
ホン酸クロリド1モルとプルプロガリンlモルの縮合物
、l、2−す7トキノンジアジドー5−(N−ジヒドロ
アビエチル)−スルホンアミドなどの1.2−キノンジ
アジド化合物を例示することができる。又、特公昭37
−1953号、同37−3627号、同37−1310
9号、同40−26126号、同40−3801号、同
45−5604号、同45−27345号、同51−1
3013号、特開昭48−96575号、同48−63
802号、同48−63802号各公報に記載されたl
、2−キノンジアジド化合物をも挙げることができる。
−ジヒドロキシビフェニル、l、2−ベンゾキノンジア
ジド−4−(N−エチル−M−β−ナフチル)−スルホ
ンアミド、1.2−す7トキノンジアジドー5−スルホ
ン酸シクロヘキシルエステル、1−(1,2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホニル)−3,5−ジメチルピ
ラゾール、l、2・す7トキノンジアジドー5−スルホ
ン酸−4′−ヒドロキシジフェニル−4′−アゾ−β−
ナフトールエステル、N、N−ジー(l、2−ナフトキ
ノンジアジド−5−スルホニル)−アニリン、2’−(
1,2−す7トキノンジアジドー5−スルホニルオキシ
)−1−ヒドロキシ−アントラキノン、1.2−ナフト
キノンシアシト−5−スルホン酸−2゜4−ジヒドロキ
シベンゾフェノンエステル、1.2−1−7トキノンジ
アジドー5−スルホン酸−2,3,4−トリヒドロキシ
ベンゾフェノンエステル、1.2−ナフトキノンジアジ
ド−5−スルホン酸クロリド2モルと4.4 ’−ジア
ミノベンゾフェノン1モルの縮合物、1.2−+7トキ
ノンジアジドー5−スルホン酸クロリド2モルと4.4
’−ジヒドロキシ−1,1’−ジフェニルスルホン1モ
ルの縮合物、1.2−ナフトキノンジアジド・5−スル
ホン酸クロリド1モルとプルプロガリンlモルの縮合物
、l、2−す7トキノンジアジドー5−(N−ジヒドロ
アビエチル)−スルホンアミドなどの1.2−キノンジ
アジド化合物を例示することができる。又、特公昭37
−1953号、同37−3627号、同37−1310
9号、同40−26126号、同40−3801号、同
45−5604号、同45−27345号、同51−1
3013号、特開昭48−96575号、同48−63
802号、同48−63802号各公報に記載されたl
、2−キノンジアジド化合物をも挙げることができる。
上記0−キノンジアジド化合物のうち、1.2−ベンゾ
キノンジアジドスルホニルクロリド又は1.2−す7ト
キノンジアジドスルホニルクaリドとピロガロール・ア
セトン縮合樹脂又は2,3.4− hリヒドロキシベン
ゾフェノンを反応させて得られる0−キノンジアジドエ
ステル化合物が特に好ましい。
キノンジアジドスルホニルクロリド又は1.2−す7ト
キノンジアジドスルホニルクaリドとピロガロール・ア
セトン縮合樹脂又は2,3.4− hリヒドロキシベン
ゾフェノンを反応させて得られる0−キノンジアジドエ
ステル化合物が特に好ましい。
本発明において、0−キノンジアジド化合物としては上
記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せ
て用いてもよい。
記化合物を各々単独で用いてもよいし、2種以上組合せ
て用いてもよい。
本発明の感光層における0−キノンジアジド化合物の感
光性組成物中に占める割合は、5〜60重量%が好まし
く、特に好ましくは、 10〜50重量%である。
光性組成物中に占める割合は、5〜60重量%が好まし
く、特に好ましくは、 10〜50重量%である。
本発明に用いられる有機酸としては公知の種々の有機酸
がすべて用いられるが、pka値が2以上である有機酸
が好ましく、更に好ましくはpka値が3.0〜9.0
であり、特に好ましくは、3.5〜8.0の有機酸が用
いられる。但し、本明細書におけるpka値は25°C
における値である。
がすべて用いられるが、pka値が2以上である有機酸
が好ましく、更に好ましくはpka値が3.0〜9.0
であり、特に好ましくは、3.5〜8.0の有機酸が用
いられる。但し、本明細書におけるpka値は25°C
における値である。
上記pka値を有する有機酸としては、例えば化学便覧
基礎編■、丸首(株)1966年、第1054−105
8頁に記載されている有機酸で、上記pka値が2以上
である化合物をすべて挙げることができる。pka値が
2以上である化合物としては、例えば安息香酸、アジピ
ン酸、アゼライン酸、イン7タル酸、1)−トルイル酸
、β−エチルグルタル酸、■−オキシ安息香酸、p−オ
キシ安息香酸、3,5−ジメチル安息香m、3.4−ジ
メトキシ酸、グリセリン酸、クルタコン酸、クルタル酸
、p−アニス酸、コハクm、−t−バシン酸、β、β−
ジエチルグルタル酸、1.1−シクロブタンジカルボン
酸、l、3−シクロブタンジカルボン酸、1.1−シク
ロペンタンジカルボン酸、1.2−シクロペンクンジカ
ルボン酸、l、3−シクロペンタンジカルボン酸、β、
β−ジメチルグルタル酸、ジメチルマロン酸、σ−酒石
最、スペリン酸、テレフタル酸、ピメリン酸、フタル酸
、フマル酸、β−フロビルクルタル酸、フロビルマロン
IL マ>デル酸、メン酒石鹸、β−メチルグルタル酒
、β。
基礎編■、丸首(株)1966年、第1054−105
8頁に記載されている有機酸で、上記pka値が2以上
である化合物をすべて挙げることができる。pka値が
2以上である化合物としては、例えば安息香酸、アジピ
ン酸、アゼライン酸、イン7タル酸、1)−トルイル酸
、β−エチルグルタル酸、■−オキシ安息香酸、p−オ
キシ安息香酸、3,5−ジメチル安息香m、3.4−ジ
メトキシ酸、グリセリン酸、クルタコン酸、クルタル酸
、p−アニス酸、コハクm、−t−バシン酸、β、β−
ジエチルグルタル酸、1.1−シクロブタンジカルボン
酸、l、3−シクロブタンジカルボン酸、1.1−シク
ロペンタンジカルボン酸、1.2−シクロペンクンジカ
ルボン酸、l、3−シクロペンタンジカルボン酸、β、
β−ジメチルグルタル酸、ジメチルマロン酸、σ−酒石
最、スペリン酸、テレフタル酸、ピメリン酸、フタル酸
、フマル酸、β−フロビルクルタル酸、フロビルマロン
IL マ>デル酸、メン酒石鹸、β−メチルグルタル酒
、β。
β−メチルプロピルグルタル酸、メチルマロン酸、リン
ゴ酸、1.l−シクロヘキサンジカルボン酸、1゜2−
シクロヘキサンジカルボン酸、1.3−シクロヘキサン
ジカルボン酸、l、4−シクロヘキサンジカルボン酸、
シス−4−シクロヘキセン−1,2〜ジカルボン酸、エ
ルカ酸、ウンデセン酸、ラウリン酸、n−カプリン酸、
ペラルゴン酸、n−ウンデカン酸等を挙げることができ
る。その他メルドラム酸やアスコルビン厳などのユノー
ル構造を有する有機酸も好ましく用いることができる。
ゴ酸、1.l−シクロヘキサンジカルボン酸、1゜2−
シクロヘキサンジカルボン酸、1.3−シクロヘキサン
ジカルボン酸、l、4−シクロヘキサンジカルボン酸、
シス−4−シクロヘキセン−1,2〜ジカルボン酸、エ
ルカ酸、ウンデセン酸、ラウリン酸、n−カプリン酸、
ペラルゴン酸、n−ウンデカン酸等を挙げることができ
る。その他メルドラム酸やアスコルビン厳などのユノー
ル構造を有する有機酸も好ましく用いることができる。
上記有機酸の感光層中に占める割合は0.05〜10重
量%が適当であり、好ましくは、0.1〜5重量%であ
る。
量%が適当であり、好ましくは、0.1〜5重量%であ
る。
また、本発明に用いる酸無水物としては公知の種々の酸
無水物がすべて用いられるが、好ましくは環状酸無水物
であり、このようなものとして例えば、無水7タル酸、
テトラヒドロ無水7タル酸、ヘキサヒドロ無水7タル酸
、3,6−ニンドオキシ△4テトラヒドロ無水フタル酸
、テトラクロル無水フタル酸、無水グルタル酸、無水マ
レイン酸、タロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マ
レイン酸、無水コハク酸、ピロメリット酸等が挙げられ
る。これらの酸無水物は感光層中に0.05〜10重量
%、特に0.1〜5重量%含有されもことが好ましい。
無水物がすべて用いられるが、好ましくは環状酸無水物
であり、このようなものとして例えば、無水7タル酸、
テトラヒドロ無水7タル酸、ヘキサヒドロ無水7タル酸
、3,6−ニンドオキシ△4テトラヒドロ無水フタル酸
、テトラクロル無水フタル酸、無水グルタル酸、無水マ
レイン酸、タロル無水マレイン酸、α−フェニル無水マ
レイン酸、無水コハク酸、ピロメリット酸等が挙げられ
る。これらの酸無水物は感光層中に0.05〜10重量
%、特に0.1〜5重量%含有されもことが好ましい。
本発明の0−キノンジアジド化合物を含有する感光性層
には、アルカリ可溶性樹脂を含有させることが好ましい
。
には、アルカリ可溶性樹脂を含有させることが好ましい
。
このアルカリ可溶性樹脂としては、ノボラック樹脂、フ
ェノール性水酸基を有するビニル系重合体、特開昭55
−57841号公報に記載されている多価フェノールと
アルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等が挙げられる。
ェノール性水酸基を有するビニル系重合体、特開昭55
−57841号公報に記載されている多価フェノールと
アルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等が挙げられる。
上記ノボラック樹脂としては、例えばフェノール・ホル
ムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂
、特開昭55−57841号公報に記載されているよう
なフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合
体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載されて
いるようなp−置換フェノールとフェノールもしくはク
レゾールとホルムアルデビトとの共重縮合体樹脂等が挙
げられる。
ムアルデヒド樹脂、クレゾール・ホルムアルデヒド樹脂
、特開昭55−57841号公報に記載されているよう
なフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド共重縮合
体樹脂、特開昭55−127553号公報に記載されて
いるようなp−置換フェノールとフェノールもしくはク
レゾールとホルムアルデビトとの共重縮合体樹脂等が挙
げられる。
前記ノボラック樹脂の分子量(ポリスチレン標準)は、
好ましくは数平均分子量Mnが3.00X 102〜7
.50X 103、重量平均分子量Mwが1.00X
103〜3.00×104、より好ましくはMnが5.
00X 102−4.00XIO”。
好ましくは数平均分子量Mnが3.00X 102〜7
.50X 103、重量平均分子量Mwが1.00X
103〜3.00×104、より好ましくはMnが5.
00X 102−4.00XIO”。
Myが3.00X 10’−2,00X 10’である
。
。
上記ノボラック樹脂は単独で用いてもよいし、2種以上
組合せて用いてもよい。
組合せて用いてもよい。
上記ノボラック樹脂の本発明の感光層中に占める割合は
5〜95重量%が適当である。
5〜95重量%が適当である。
本発明における感光層にはフェノール性水酸基を有する
ビニル系重合体を含有させることが好ましい。
ビニル系重合体を含有させることが好ましい。
このフェノール性水酸基を有するビニル系重合体として
は、フェノール性水酸基を有する単位を分子構造中に有
する重合体であり、下記一般式(1)〜〔5〕の少なく
とも1つの構造単位を含む重合体が好ましい。
は、フェノール性水酸基を有する単位を分子構造中に有
する重合体であり、下記一般式(1)〜〔5〕の少なく
とも1つの構造単位を含む重合体が好ましい。
一般式(1)
一般式〔2〕
一般式〔3〕
一般式〔4〕
H
一般式〔5〕
わ
H
一般式(1)〜〔5〕において、R1及びR8はそれぞ
れ水素原子、アルキル基又はカルボキシル基を表し、好
ましくは水素原子である。R1は水素原子、ハロゲン原
子又はアルキル基を表し、好ましくは水素原子又はメチ
ル基、エチル基等のアルキル基である。R,は水素原子
、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、好
ましくは水素原子である。Aは窒素原子又は酸素原子と
芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有してもよいア
ルキレン基を表し、mはθ〜lOの整数を表し、Bは置
換基を有してもよいフェニレン基又は置換基を有しても
よいナフチレン基を表t。
れ水素原子、アルキル基又はカルボキシル基を表し、好
ましくは水素原子である。R1は水素原子、ハロゲン原
子又はアルキル基を表し、好ましくは水素原子又はメチ
ル基、エチル基等のアルキル基である。R,は水素原子
、アルキル基、アリール基又はアラルキル基を表し、好
ましくは水素原子である。Aは窒素原子又は酸素原子と
芳香族炭素原子とを連結する、置換基を有してもよいア
ルキレン基を表し、mはθ〜lOの整数を表し、Bは置
換基を有してもよいフェニレン基又は置換基を有しても
よいナフチレン基を表t。
本発明の感光層に用いられる重合体としては共重合体型
の構造を有するものが好ましく、前記−般式〔l〕〜〔
5〕でそれぞれ示される構造単位と組合せて用いること
ができる単量体単位としては、例えばエチレン、プロピ
レン、イソブチレン、ブタジェン、イソプレン等のエチ
レン系不飽和オレフィン類、例えばスチレン、a−メチ
ルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン
等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等の
アクリル酸類、例えばイタコン酸、マレイン酸、無水マ
レイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチ
ル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アク
リル酸2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−ク
ロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、エタクリル酸エチル等のα・メチレン脂肪
族モノカルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリ
ル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えばアク
リルアミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p
−クロロアクリルアニリド、m−二トロアクリルアニリ
ド、m−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例
えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンジェ酸ヒニ
ル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、例、tlfメチ
ルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、インブチル
ビニルエーテル、β・クロロエチルビニルエーテル等の
ビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド
、ビニリデンシアナイド、例えばl−メチル−1−メト
キシエチレン、1.1−ジメトキシエチレン、l、2−
ジメトキシエチレン、i、t−ジメトキシカルボニルエ
チレン 誘導体類、例えばN−ビニルビロール、N−ビニルカル
バゾール、N−ビニルインドール、N−ヒニルピロリデ
ン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル化合物、等の
ビニル系単量体がある。これらのビニル系単量体は不飽
和二重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存在する
。
の構造を有するものが好ましく、前記−般式〔l〕〜〔
5〕でそれぞれ示される構造単位と組合せて用いること
ができる単量体単位としては、例えばエチレン、プロピ
レン、イソブチレン、ブタジェン、イソプレン等のエチ
レン系不飽和オレフィン類、例えばスチレン、a−メチ
ルスチレン、p−メチルスチレン、p−クロロスチレン
等のスチレン類、例えばアクリル酸、メタクリル酸等の
アクリル酸類、例えばイタコン酸、マレイン酸、無水マ
レイン酸等の不飽和脂肪族ジカルボン酸類、例えばアク
リル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸n−ブチ
ル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ドデシル、アク
リル酸2−クロロエチル、アクリル酸フェニル、α−ク
ロロアクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、メタクリ
ル酸エチル、エタクリル酸エチル等のα・メチレン脂肪
族モノカルボン酸のエステル類、例えばアクリロニトリ
ル、メタアクリロニトリル等のニトリル類、例えばアク
リルアミド等のアミド類、例えばアクリルアニリド、p
−クロロアクリルアニリド、m−二トロアクリルアニリ
ド、m−メトキシアクリルアニリド等のアニリド類、例
えば酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ベンジェ酸ヒニ
ル、酪酸ビニル等のビニルエステル類、例、tlfメチ
ルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、インブチル
ビニルエーテル、β・クロロエチルビニルエーテル等の
ビニルエーテル類、塩化ビニル、ビニリデンクロライド
、ビニリデンシアナイド、例えばl−メチル−1−メト
キシエチレン、1.1−ジメトキシエチレン、l、2−
ジメトキシエチレン、i、t−ジメトキシカルボニルエ
チレン 誘導体類、例えばN−ビニルビロール、N−ビニルカル
バゾール、N−ビニルインドール、N−ヒニルピロリデ
ン、N−ビニルピロリドン等のN−ビニル化合物、等の
ビニル系単量体がある。これらのビニル系単量体は不飽
和二重結合が開裂した構造で高分子化合物中に存在する
。
上記の単量体のうち、脂肪族モノカルボン酸のエステル
類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れた性能を示
し、好ましい。
類、ニトリル類が本発明の目的に対して優れた性能を示
し、好ましい。
これらの単量体は重合体中にブロック又はランダムのい
ずれの状態で結合していてもよい。
ずれの状態で結合していてもよい。
上記ビニル系重合体の感光層中に占める割合は0、5〜
70重量%が好ましい。
70重量%が好ましい。
上記ビニル系重合体は1種を用いてもよいし、又2種以
上組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。
上組合せて用いてもよい。又、他の高分子化合物等と組
合せて用いることもできる。
本発明の感光層には、さらに下記一般式〔6〕で表され
る置換フェノール類を感脂化剤として含有させることが
好ましい。
る置換フェノール類を感脂化剤として含有させることが
好ましい。
さらにまた、本発明の感光層には下記一般式〔6〕で表
される置換フェノール類とアルデヒド類との縮合樹脂及
び/又は該樹脂の0−キノンジアジドスルホン酸エステ
ル化合物を含有させることが好ましい。
される置換フェノール類とアルデヒド類との縮合樹脂及
び/又は該樹脂の0−キノンジアジドスルホン酸エステ
ル化合物を含有させることが好ましい。
一般式〔6〕
H
一般式〔6〕において%R1及びR2は各々水素原子、
アルキル基又はハロゲン原子を表し、R3は炭素原子数
2以上のアルキル基又はシクロアルキル基を表す。
アルキル基又はハロゲン原子を表し、R3は炭素原子数
2以上のアルキル基又はシクロアルキル基を表す。
一般式〔6〕において、R1及びR,が表すアルキル基
は、炭素原子数1〜3のアルキル基が好ましく、炭素原
子数1〜2のいアルキル基が特に有用である。R1及び
R,が表すハロゲン原子は、例えばフッ素、塩素、臭素
、ヨウ素等で、特に塩素原子及び臭素原子が好ましい。
は、炭素原子数1〜3のアルキル基が好ましく、炭素原
子数1〜2のいアルキル基が特に有用である。R1及び
R,が表すハロゲン原子は、例えばフッ素、塩素、臭素
、ヨウ素等で、特に塩素原子及び臭素原子が好ましい。
R,が表すアルキル基は好ましくは炭素原子数15以下
であり、炭素原子数3〜8のアルキル基が特に好ましく
、シクロアルキル基は炭LjK子数3〜15のものが好
ましく、炭素原子数3〜8のものが特に有用である。
であり、炭素原子数3〜8のアルキル基が特に好ましく
、シクロアルキル基は炭LjK子数3〜15のものが好
ましく、炭素原子数3〜8のものが特に有用である。
一般式〔6〕で表される置換フェノール類の例としては
、イソプロピルクレゾール、tert−ブチルフェノー
ル、Lert−アミルフェノール、ヘキシルフェノール
、tert−オクチルフェノール、シクロヘキシルフェ
ノール、3−メチル−4−クロロ−5−tert−ブチ
ルフェノール、イソプロピルクレゾール、tert−ブ
チルクレゾール、tert−アミルクレゾール、ヘキシ
ルクレゾール、tart−オクチルクレゾール、シクロ
ヘキシルクレゾール等が挙げられ、そのうち特に好まし
くはtart−オクチルフェノール及びtert−ブチ
ルフェノールが挙げられる。
、イソプロピルクレゾール、tert−ブチルフェノー
ル、Lert−アミルフェノール、ヘキシルフェノール
、tert−オクチルフェノール、シクロヘキシルフェ
ノール、3−メチル−4−クロロ−5−tert−ブチ
ルフェノール、イソプロピルクレゾール、tert−ブ
チルクレゾール、tert−アミルクレゾール、ヘキシ
ルクレゾール、tart−オクチルクレゾール、シクロ
ヘキシルクレゾール等が挙げられ、そのうち特に好まし
くはtart−オクチルフェノール及びtert−ブチ
ルフェノールが挙げられる。
また、上記アルデヒド類の例としてはホルムアルデヒド
、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイン
、クロトンアルデヒド、フルフラール等の脂肪族および
芳香族アルデヒドが挙げられ、炭素原子数1ないし6の
ものを包含する。そのうち好ましくはホルムアルデヒド
およびベンズアルデヒドである。
、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、アクロレイン
、クロトンアルデヒド、フルフラール等の脂肪族および
芳香族アルデヒドが挙げられ、炭素原子数1ないし6の
ものを包含する。そのうち好ましくはホルムアルデヒド
およびベンズアルデヒドである。
一般式〔6〕で表される置換フェノール類の感光層中の
含有量は0.05〜15重量%の範囲が好ましい。
含有量は0.05〜15重量%の範囲が好ましい。
上記該置換フェノール類とアルデヒド類とを縮合させた
樹脂は、一般式〔6〕により表される置換フェノールと
、アルデヒド類とを酸性触媒の存在下で重縮合して合成
される。使用される酸性触媒としては、塩酸、しゅう酸
、硫酸、リン酸等の無機酸や有機酸が用いられ、置換フ
ェノール類とアルデヒド類との配合比は、置換フェノー
ル類1モル部に対しアルデヒド類が0.7〜1.0モル
部用いられる。反応溶媒としては、アルコール類、アセ
トン、水、テトラヒドロフラン等が用いられる。
樹脂は、一般式〔6〕により表される置換フェノールと
、アルデヒド類とを酸性触媒の存在下で重縮合して合成
される。使用される酸性触媒としては、塩酸、しゅう酸
、硫酸、リン酸等の無機酸や有機酸が用いられ、置換フ
ェノール類とアルデヒド類との配合比は、置換フェノー
ル類1モル部に対しアルデヒド類が0.7〜1.0モル
部用いられる。反応溶媒としては、アルコール類、アセ
トン、水、テトラヒドロフラン等が用いられる。
所定温度(−5〜1200C)、所要時間(3〜48時
間)反応後、減圧下加圧し、水洗いして脱水させて得る
か、又は水結析させて反応物を得る。
間)反応後、減圧下加圧し、水洗いして脱水させて得る
か、又は水結析させて反応物を得る。
上記置換フェノール類とアルデヒド類との縮合樹脂の0
−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物は、
上記縮合樹脂を適当な溶媒、例えば、ジオキサン等に溶
媒させて、これに0−ナフトキノンジアジドスルホン酸
クロライドを投入し、加圧撹拌しながら、炭酸アルカリ
等のアルカリを当量点まで滴下することによりエステル
化させて得られる。
−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル化合物は、
上記縮合樹脂を適当な溶媒、例えば、ジオキサン等に溶
媒させて、これに0−ナフトキノンジアジドスルホン酸
クロライドを投入し、加圧撹拌しながら、炭酸アルカリ
等のアルカリを当量点まで滴下することによりエステル
化させて得られる。
前記エステル化物において、フェノール類の水酸基に対
する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロライドの
縮合率(水酸基1個に対する反応率%)は、5〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜70%、更に好まし
くは30〜60%である。該縮合率は、元素分析により
スルホニル基の硫黄原子の含有量を求めて計算する。
する0−ナフトキノンジアジドスルホン酸クロライドの
縮合率(水酸基1個に対する反応率%)は、5〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜70%、更に好まし
くは30〜60%である。該縮合率は、元素分析により
スルホニル基の硫黄原子の含有量を求めて計算する。
本発明の感光層中に占める前記一般式〔6〕で表される
置換フェーノール類とアルデヒド類縮合させた樹脂およ
び該樹脂の0−ナフトキノンシアシトスルホン酸エステ
ル化合物(以下、これらを「感脂化剤(B)」という)
の量は0.05〜15重量%が好ましく、特に好ましく
は1−10重量%である。
置換フェーノール類とアルデヒド類縮合させた樹脂およ
び該樹脂の0−ナフトキノンシアシトスルホン酸エステ
ル化合物(以下、これらを「感脂化剤(B)」という)
の量は0.05〜15重量%が好ましく、特に好ましく
は1−10重量%である。
感脂化剤(B)は、重量子均分+1Mwが好ましくは、
5.OX 10”〜5.OX 10’の範囲であり、更
に好ましくは、7.OX 10” 〜3.OX 10’
の範囲である。
5.OX 10”〜5.OX 10’の範囲であり、更
に好ましくは、7.OX 10” 〜3.OX 10’
の範囲である。
その数平均分子量Mnは3.OX 10″〜2.5X1
0’の範囲であることが好ましく、更に好ましくは4.
OX 10”〜2.OX 103の範囲である。
0’の範囲であることが好ましく、更に好ましくは4.
OX 10”〜2.OX 103の範囲である。
M w = 1300)
(m : n =50: 50. Q’ を反応させる
前の樹脂のMv= 1500) (m : n =50: 501Qを反応させる前の樹
脂のH 本発明の感光層の中には、上記の素材の他、必要に応じ
て更に染料、顔料当の色素、可塑剤、界面活性剤、フッ
素系界面活性剤、露光により酸を発生し得る化合物など
を添加することができる。
前の樹脂のMv= 1500) (m : n =50: 501Qを反応させる前の樹
脂のH 本発明の感光層の中には、上記の素材の他、必要に応じ
て更に染料、顔料当の色素、可塑剤、界面活性剤、フッ
素系界面活性剤、露光により酸を発生し得る化合物など
を添加することができる。
更に本発明の感光層には、該感光層の感脂性を向上する
ために例えば、p−tert−ブチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂やp−n−オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂や、これらが0・キノンジアジド化合物で
部分的にエステル化された樹脂などを添加することもで
きる。
ために例えば、p−tert−ブチルフェノールホルム
アルデヒド樹脂やp−n−オクチルフェノールホルムア
ルデヒド樹脂や、これらが0・キノンジアジド化合物で
部分的にエステル化された樹脂などを添加することもで
きる。
これらの各成分を下記の溶媒に溶解させ、本発明の支持
体表面に塗布し、乾燥させることにより、感光性層を設
けて、本発明の感光性平版印刷版を製造することができ
る。
体表面に塗布し、乾燥させることにより、感光性層を設
けて、本発明の感光性平版印刷版を製造することができ
る。
本発明の感光層の各成分を溶解する際に使用し得る溶媒
としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート
、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチルグリコールモノイソプロピルエーテル、プロピ
レングリコール、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート ールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエー
テル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル
、酪酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジアセト
ンアルコール、アセチルアセトン、γーブチロラクトン
等が挙げられる。これら溶媒は、1種で或いは2種以上
混合して使用することができる。
としては、メチルセロソルブ、メチルセロソルブアセテ
ート、エチルセロソルブ、エチルセロソルブアセテート
、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレ
ングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコー
ルジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチ
ルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、
ジエチルグリコールモノイソプロピルエーテル、プロピ
レングリコール、プロピレングリコールモノメチルエー
テルアセテート ールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコ
ールモノブチルエーテル、ジプロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエー
テル、ジプロピレングリコールメチルエチルエーテル、
ギ酸エチル、ギ酸プロピル、ギ酸ブチル、ギ酸アミル、
酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、
プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、酪酸メチル
、酪酸エチル、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホ
キシド、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、
シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、ジアセト
ンアルコール、アセチルアセトン、γーブチロラクトン
等が挙げられる。これら溶媒は、1種で或いは2種以上
混合して使用することができる。
本発明の感光性組成物を支持体表面に塗布する際に用い
る塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗
布、ワイヤーバー塗布、デイツプ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。この際塗布量は用途により異なるが、例えば
固形分として0、05〜5.0g/ m”が好ましい。
る塗布方法としては、従来公知の方法、例えば、回転塗
布、ワイヤーバー塗布、デイツプ塗布、エアーナイフ塗
布、ロール塗布、ブレード塗布及びカーテン塗布等が可
能である。この際塗布量は用途により異なるが、例えば
固形分として0、05〜5.0g/ m”が好ましい。
こうして得られた感光性平版印刷版の使用に際しては、
従来から常用されている方法が適用され得、例えば線画
像、網点画像などを有する透明原画を感光面に密渭して
露光し、次いでこれをアルカリ水溶液にて現像すること
により、原画に対してポジ型のレリーフ像が得られる。
従来から常用されている方法が適用され得、例えば線画
像、網点画像などを有する透明原画を感光面に密渭して
露光し、次いでこれをアルカリ水溶液にて現像すること
により、原画に対してポジ型のレリーフ像が得られる。
露光に好適な光源としては、水銀灯、メタルハライドラ
ンプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアー
ク灯などが使用され、現像に使用されるアルカリ水溶液
としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第ニ
リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど
の水溶液のようなアルカリ水溶液がある。このときのア
ルカリ水溶液の濃度は、感光層及びアルカリの種類によ
り異なるが、概して0.1−10重量%の範囲が適当で
あり、又酸アルカリ水溶液には必要に応じ界面活性剤や
アルコールなどのような有機溶媒を加えることもできる
。
ンプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアー
ク灯などが使用され、現像に使用されるアルカリ水溶液
としては、珪酸ナトリウム、珪酸カリウム、水酸化ナト
リウム、水酸化カリウム、第三リン酸ナトリウム、第ニ
リン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムなど
の水溶液のようなアルカリ水溶液がある。このときのア
ルカリ水溶液の濃度は、感光層及びアルカリの種類によ
り異なるが、概して0.1−10重量%の範囲が適当で
あり、又酸アルカリ水溶液には必要に応じ界面活性剤や
アルコールなどのような有機溶媒を加えることもできる
。
以下に本発明を実施例により具体的に説明するが、本発
明はその要旨を超えない限りこれら実施例に限定される
ものではない。
明はその要旨を超えない限りこれら実施例に限定される
ものではない。
支持体の作製
支持体−l
厚み0. 15mmの鋼板の平面をボーメ40′の塩化
第二鉄溶液でエツチングして、粗面化し、これに硫酸塩
浴を用い、温度50℃、電流密度5A/dm”の条件で
、Znを4μmメツキした後、親木処理として粒径10
0mmのC「ゾル20gIQ, リン酸lOg/I2
を含む溶液で、鋼板を陰極として2A/da”の電流密
度で30秒電解を行い、水洗後乾燥して支持体−1を得
た。
第二鉄溶液でエツチングして、粗面化し、これに硫酸塩
浴を用い、温度50℃、電流密度5A/dm”の条件で
、Znを4μmメツキした後、親木処理として粒径10
0mmのC「ゾル20gIQ, リン酸lOg/I2
を含む溶液で、鋼板を陰極として2A/da”の電流密
度で30秒電解を行い、水洗後乾燥して支持体−1を得
た。
指持体−2
厚み0−09mmの圧延鋼箔表面に5μIのFeメツキ
を施して、表面粗さ0.4μ調とし、更にサージェント
浴を用いて、温度45°C1電流密度40A/da+”
の条件で、厚み0.1μlのCrメツキを行い、親水化
処理として粒径50μmのアルミナゾル(アルミナゾル
−200、日産化学製) 30g/Q,クロム酸5g/
(2を含む水溶液中に浸漬し、乾燥して支持体−2を得
た。
を施して、表面粗さ0.4μ調とし、更にサージェント
浴を用いて、温度45°C1電流密度40A/da+”
の条件で、厚み0.1μlのCrメツキを行い、親水化
処理として粒径50μmのアルミナゾル(アルミナゾル
−200、日産化学製) 30g/Q,クロム酸5g/
(2を含む水溶液中に浸漬し、乾燥して支持体−2を得
た。
支持体−3
厚さ0−24ma+のアルミニウム板(材質1050、
調質H16)を5重量%の水際化ナトリウム水溶液中に
おいて60°Cで1分間脱脂処理を行った後、IQの0
.5モル塩酸水溶液中において温度:25°C1電流密
度=60^/d112、処理時間=30秒間の条件で電
解エツチング処理を行った。次いで、5重量%水酸化ナ
トリウム水溶液中で606C,10秒間のデスマット処
理を施した後、20重量%硫酸溶液中で温度=20°C
1電流密度:3A/dm2、処理時間:1分間の条件で
陽極酸化処理を行った。更に、306Cの熱水で20秒
間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体のア
ルミニウム板を製作した。
調質H16)を5重量%の水際化ナトリウム水溶液中に
おいて60°Cで1分間脱脂処理を行った後、IQの0
.5モル塩酸水溶液中において温度:25°C1電流密
度=60^/d112、処理時間=30秒間の条件で電
解エツチング処理を行った。次いで、5重量%水酸化ナ
トリウム水溶液中で606C,10秒間のデスマット処
理を施した後、20重量%硫酸溶液中で温度=20°C
1電流密度:3A/dm2、処理時間:1分間の条件で
陽極酸化処理を行った。更に、306Cの熱水で20秒
間、熱水封孔処理を行い、平版印刷版材料用支持体のア
ルミニウム板を製作した。
感光性組成物塗布液の組成
感光性組成物塗布液(1)
ノボラック樹脂 A *’ 6.8g*
2 0−キノンジアジド化合物(QD−1)感脂化剤(b−
1) テトラヒドロフタル酸 1.2−す7トキノンー2−ジアジド −4−スルホニルクロリド 界面活性剤−1*3 1.5g 0.30g 0.25g 0 、08g 0.2g ビクトリアピュアブルー (床土ケ谷化学(株)製) 露光により強酸を生ずる化合物 *4 (rad−1) 0.08g 0.15g メチルセロソルブ 00mQ 感光性組成物塗布液(2) 感脂化剤(b−2) ノボラ・・り樹脂 A*l O〜キノンジアジド化合物(QD−2 0,3g 6.8g *2) 1.9g ビクトリアピュアブルーB OH0,07g(床土ケ谷
化学(株)製) 露光により強酸を生ずる化合物 0.13g*4 (rad−2) 無水グルタル酸 0.2g1.2
−ナフトキノン−2−ジアジド −4−スルホニルクロリド 0.07gメチ
ルセロソルブ 100mα感光性組
成物塗布液(3) テトラヒドロフタル酸を含有させない外は感光性組成物
塗布液(1)に同じ。
2 0−キノンジアジド化合物(QD−1)感脂化剤(b−
1) テトラヒドロフタル酸 1.2−す7トキノンー2−ジアジド −4−スルホニルクロリド 界面活性剤−1*3 1.5g 0.30g 0.25g 0 、08g 0.2g ビクトリアピュアブルー (床土ケ谷化学(株)製) 露光により強酸を生ずる化合物 *4 (rad−1) 0.08g 0.15g メチルセロソルブ 00mQ 感光性組成物塗布液(2) 感脂化剤(b−2) ノボラ・・り樹脂 A*l O〜キノンジアジド化合物(QD−2 0,3g 6.8g *2) 1.9g ビクトリアピュアブルーB OH0,07g(床土ケ谷
化学(株)製) 露光により強酸を生ずる化合物 0.13g*4 (rad−2) 無水グルタル酸 0.2g1.2
−ナフトキノン−2−ジアジド −4−スルホニルクロリド 0.07gメチ
ルセロソルブ 100mα感光性組
成物塗布液(3) テトラヒドロフタル酸を含有させない外は感光性組成物
塗布液(1)に同じ。
感光性組成物塗布液(3)
無水グルタル酸を含有させない外は感光性組成物(2)
に同じ。
に同じ。
実施例1〜4及び比較例1〜4
前記支持体上に前記感光性組成物塗布液を回転塗布機を
用いて塗布し、90°Cで4分間乾燥し、感光性平版印
刷版試料を作成した。支持体と感光性組成物塗布液の組
み合わせは下記表1のとおりである。
用いて塗布し、90°Cで4分間乾燥し、感光性平版印
刷版試料を作成した。支持体と感光性組成物塗布液の組
み合わせは下記表1のとおりである。
※2o−キノンジアジド化合物
QD−1:
QD−2:
実施例及び比較例に使用した化合物
*l ノボラック樹脂A
フェノールと1−クレゾールとp−クレゾールとホルム
アルデヒドとの共重縮合樹脂(フェノール、鳳−クレゾ
ール及びp−クレゾールの各々のモル比がx/y=1/
3 QDを反応させる前の樹脂のMw= 1900※3 界
面活性剤 界面活性剤−1 FC430(3M(株)製、フッ素系界面活性剤) 界面活性剤−2 エマルゲン910(花王(株)製); ポリオキシジエチレンノニルフェニル エーテル ※4 露光により強酸を生ずる化合物 rad−1:2−トリクロロメチル−5−(p−メトキ
シスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール(特開昭
54−74728号公報実施例1に記載の化合物) rad−2:2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−
p−メトキシスチリル−s−トリアジン(特開昭48−
36281号公報実施例1に記載の化合物) 上記感光性平版印刷版試料No、1=No、8上に感度
測定用ステップタブレット(イーストマン・コダック社
製No、2.濃度差0.15ずつで21段階のグレイス
ケール)を密着して、2kwメタルハライドランプ(岩
崎電気社製アイドルフィン2000)を光源として8.
0mv/co+2の条件で露光した。
アルデヒドとの共重縮合樹脂(フェノール、鳳−クレゾ
ール及びp−クレゾールの各々のモル比がx/y=1/
3 QDを反応させる前の樹脂のMw= 1900※3 界
面活性剤 界面活性剤−1 FC430(3M(株)製、フッ素系界面活性剤) 界面活性剤−2 エマルゲン910(花王(株)製); ポリオキシジエチレンノニルフェニル エーテル ※4 露光により強酸を生ずる化合物 rad−1:2−トリクロロメチル−5−(p−メトキ
シスチリル)−1,3,4−オキサジアゾール(特開昭
54−74728号公報実施例1に記載の化合物) rad−2:2,4−ビス(トリクロロメチル)−6−
p−メトキシスチリル−s−トリアジン(特開昭48−
36281号公報実施例1に記載の化合物) 上記感光性平版印刷版試料No、1=No、8上に感度
測定用ステップタブレット(イーストマン・コダック社
製No、2.濃度差0.15ずつで21段階のグレイス
ケール)を密着して、2kwメタルハライドランプ(岩
崎電気社製アイドルフィン2000)を光源として8.
0mv/co+2の条件で露光した。
現像の許容度を評価するために、上記露光済みの試料を
5DR−1(コニカ(株)製)を水で6倍、 11倍、
13倍及び15倍に希釈した現像液で25℃、40秒
間現像した後、現像インキ(spo−1コニカ(株)製
)にてインキ盛りを行って非画像部の現像性(抜は性)
を観察した。
5DR−1(コニカ(株)製)を水で6倍、 11倍、
13倍及び15倍に希釈した現像液で25℃、40秒
間現像した後、現像インキ(spo−1コニカ(株)製
)にてインキ盛りを行って非画像部の現像性(抜は性)
を観察した。
次に、小点のつきやすさをみるために、感光性平版印刷
版試料No、1=No、8に網点及び線画を有するポジ
原稿を密着して、2kwメタルハライドランプ(岩崎電
気社製アイドルフィン2000)を光源として8.0m
v/cm”の条件で露光した後、5DR−1(コニカ(
株)製)を水で6倍に希釈した現像液で25°C240
秒間現像して平版印刷種板を得、この平版印刷版につい
て小点のつきやすさを判定した。
版試料No、1=No、8に網点及び線画を有するポジ
原稿を密着して、2kwメタルハライドランプ(岩崎電
気社製アイドルフィン2000)を光源として8.0m
v/cm”の条件で露光した後、5DR−1(コニカ(
株)製)を水で6倍に希釈した現像液で25°C240
秒間現像して平版印刷種板を得、この平版印刷版につい
て小点のつきやすさを判定した。
表2
印刷版は、従来の技術によるものと比較して、感度、ア
ンダー現像性、及び網点の小点の再現性が総合して良好
であることが分かる。
ンダー現像性、及び網点の小点の再現性が総合して良好
であることが分かる。
本発明によれば、高感度で、かつアンダー現像性及び網
点の小点の再現性がが優れた感光性平版印刷版を得るこ
とができる。
点の小点の再現性がが優れた感光性平版印刷版を得るこ
とができる。
(注)
感度二標準現像(SDR−1、6倍希釈、25℃、40
秒)で現像しとときのステップ5段がぬける露光時間(
T)。
秒)で現像しとときのステップ5段がぬける露光時間(
T)。
小点の再現性:上記感度測定条件と同条件で露光及び現
像したときの最小再現網点面積率(%)。
像したときの最小再現網点面積率(%)。
アンダー現像性:上記(T)なる露光をしたときの現像
での表2の希釈率で現像したときの非画像部の印刷時に
おける汚れ。
での表2の希釈率で現像したときの非画像部の印刷時に
おける汚れ。
O・・・非画線部が汚れない。
X ・・・非画線部が汚れる。
Claims (1)
- 支持体上にo−キノンジアジド化合物を含有する感光層
を有する感光性平版印刷版において、該支持体が表面を
めっきされた鉄板であり、該感光層が有機酸又は酸無水
物を含有することを特徴とするポジ型感光性平版印刷版
。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2496289A JPH02204749A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | ポジ型感光性平版印刷版 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2496289A JPH02204749A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | ポジ型感光性平版印刷版 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02204749A true JPH02204749A (ja) | 1990-08-14 |
Family
ID=12152601
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2496289A Pending JPH02204749A (ja) | 1989-02-02 | 1989-02-02 | ポジ型感光性平版印刷版 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH02204749A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018133214A1 (zh) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 中国科学院化学研究所 | 改性酚醛树脂及其合成方法、印刷用亲水版和应用以及印刷版 |
-
1989
- 1989-02-02 JP JP2496289A patent/JPH02204749A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018133214A1 (zh) * | 2017-01-20 | 2018-07-26 | 中国科学院化学研究所 | 改性酚醛树脂及其合成方法、印刷用亲水版和应用以及印刷版 |
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