JPH06220636A - 蒸着方法 - Google Patents
蒸着方法Info
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- JPH06220636A JPH06220636A JP5010504A JP1050493A JPH06220636A JP H06220636 A JPH06220636 A JP H06220636A JP 5010504 A JP5010504 A JP 5010504A JP 1050493 A JP1050493 A JP 1050493A JP H06220636 A JPH06220636 A JP H06220636A
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- JP
- Japan
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- vapor deposition
- film
- width
- vapor
- polymer film
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 フィルム応用製品の製造に使用される、蒸着
方法において、鏡面に近い薄型の高分子フィルムに生じ
易い、凹凸、シワ等の表面欠点を無くした蒸着方法を提
供することを目的とする。 【構成】 幅Wの回転するエンドレスベルト1に沿って
高分子フィルム2を静電吸着させて搬送しながら蒸着す
る際、フィルム幅がW以上で、蒸着幅がW未満となるよ
う構成することで、蒸着時に発生する異物に起因する凹
凸やシワを無視出来、均一な特性を大面積に得ること
と、再現性の確保が可能になる。
方法において、鏡面に近い薄型の高分子フィルムに生じ
易い、凹凸、シワ等の表面欠点を無くした蒸着方法を提
供することを目的とする。 【構成】 幅Wの回転するエンドレスベルト1に沿って
高分子フィルム2を静電吸着させて搬送しながら蒸着す
る際、フィルム幅がW以上で、蒸着幅がW未満となるよ
う構成することで、蒸着時に発生する異物に起因する凹
凸やシワを無視出来、均一な特性を大面積に得ること
と、再現性の確保が可能になる。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、平滑な高分子フィルム
に、金属、酸化物、化合物等の薄膜を蒸着形成する方法
に関するものである。
に、金属、酸化物、化合物等の薄膜を蒸着形成する方法
に関するものである。
【0002】
【従来の技術】電子ビーム蒸着法、スパッタリング法等
で形成される薄膜は、近年高機能化傾向が進み、ディス
ク状基板はもとより、広幅、長尺の帯状基板を用い、エ
レクトロニクス、産業用分野に於いて、多くの部品に応
用されている。帯状基板の代表的な例は高分子フィルム
でポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等が良く利用されていて、使用厚みは薄く
なっていく傾向にあって、製造技術が課題となってい
て、最も生産性に優れた電子ビーム蒸着法を中心に検討
が進められている。フィルムは回転支持体により、冷却
保持されて搬送する過程で蒸着され、多くの場合、キャ
ン状の回転支持体が用いられているが(特開昭54−1
41393号公報、特公昭60−10370号公報、特
公昭62−7264号公報参照)、磁気テープの製造に
おいて斜め蒸着をより高速化するために提案されたベル
ト状の回転支持体も有望である(特公昭57−2793
8号公報)。
で形成される薄膜は、近年高機能化傾向が進み、ディス
ク状基板はもとより、広幅、長尺の帯状基板を用い、エ
レクトロニクス、産業用分野に於いて、多くの部品に応
用されている。帯状基板の代表的な例は高分子フィルム
でポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリ
カーボネート等が良く利用されていて、使用厚みは薄く
なっていく傾向にあって、製造技術が課題となってい
て、最も生産性に優れた電子ビーム蒸着法を中心に検討
が進められている。フィルムは回転支持体により、冷却
保持されて搬送する過程で蒸着され、多くの場合、キャ
ン状の回転支持体が用いられているが(特開昭54−1
41393号公報、特公昭60−10370号公報、特
公昭62−7264号公報参照)、磁気テープの製造に
おいて斜め蒸着をより高速化するために提案されたベル
ト状の回転支持体も有望である(特公昭57−2793
8号公報)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記の従
来の構成で、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート等のフィルムに酸素ガスを導入しながら
CoやCo−Ni等の磁性材料、Si,Al等の非磁性
材料を蒸着して1000〜3000Å程度の膜厚を均一
に形成したものを長尺にうる上で、高分子フィルムの厚
みが5〜7μ程度になり、且つフィルム面が鏡面化する
につれてフィルム層間に介在した異物による穴開きや、
凹凸化が多くなって製品品質を著しく低下させるといっ
た問題点を有していた。
来の構成で、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレ
ンナフタレート等のフィルムに酸素ガスを導入しながら
CoやCo−Ni等の磁性材料、Si,Al等の非磁性
材料を蒸着して1000〜3000Å程度の膜厚を均一
に形成したものを長尺にうる上で、高分子フィルムの厚
みが5〜7μ程度になり、且つフィルム面が鏡面化する
につれてフィルム層間に介在した異物による穴開きや、
凹凸化が多くなって製品品質を著しく低下させるといっ
た問題点を有していた。
【0004】本発明は上記従来の問題点を解決するもの
で、薄型で鏡面化された高分子フィルムを用い長尺の蒸
着を高品質で行うことの出来る真空蒸着方法を提供する
ことを目的とする。
で、薄型で鏡面化された高分子フィルムを用い長尺の蒸
着を高品質で行うことの出来る真空蒸着方法を提供する
ことを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するた
め、本発明の真空蒸着方法は幅Wの回転するエンドレス
ベルトに沿って高分子フィルムを静電吸着させて搬送し
ながら蒸着する際、フィルム幅がW以上で、蒸着幅がW
未満であるようにしたものである。
め、本発明の真空蒸着方法は幅Wの回転するエンドレス
ベルトに沿って高分子フィルムを静電吸着させて搬送し
ながら蒸着する際、フィルム幅がW以上で、蒸着幅がW
未満であるようにしたものである。
【0006】
【作用】この構成によって、回転支持体の表面に被着す
るスス状の蒸着材料がフィルム層間に巻き込まれること
がなく、フィルムの両端部分に非蒸着部を構成するため
の遮蔽構造物とフィルム間のギャップが狭く且つ均一に
出来ることからフィルム上の蒸着膜も全幅強固に形成さ
れるので、薄型であって、その上鏡面化された高分子フ
ィルムを用いても長尺かつ大面積に渡って均一で良好な
品質の蒸着を行えるようになる。
るスス状の蒸着材料がフィルム層間に巻き込まれること
がなく、フィルムの両端部分に非蒸着部を構成するため
の遮蔽構造物とフィルム間のギャップが狭く且つ均一に
出来ることからフィルム上の蒸着膜も全幅強固に形成さ
れるので、薄型であって、その上鏡面化された高分子フ
ィルムを用いても長尺かつ大面積に渡って均一で良好な
品質の蒸着を行えるようになる。
【0007】
(実施例1)以下本発明の一実施例について、図面を参
照しながら説明する。
照しながら説明する。
【0008】図1において、1はエンドレスベルトから
なる回転支持体で、幅はWで、厚み、表面性、材質は適
宜選択すれば良い。2はポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリカーボネート、ポリプロピレン、アラミド、ポ
リイミド等の高分子フィルムで、厚み、表面性、延伸度
合、等は適宜選択すれば良い。幅Hは回転支持体の幅W
に対して広く設定する必要があり、1〜3mm程度広くと
れば良い。3は形成された蒸着膜でその幅Tは、幅W未
満でWに対して2〜4mm狭くとれば良い。蒸着幅の決定
は、蒸発源との距離、端部マスク4と高分子フィルム2
との間隔gの設定値等から実験的に決めれば良い。これ
以外の真空蒸着に必要な構成要素、グロー放電処理機
構、蒸発源、遮蔽マスク、巻取り機構、真空排気系等は
必要に応じて工夫すれば良い。蒸着材料の選択、導入ガ
スの選択、蒸気の補助的イオン化等も適宜工夫すれば良
い。
なる回転支持体で、幅はWで、厚み、表面性、材質は適
宜選択すれば良い。2はポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレンナフタレート、ポリフェニレンサルファイ
ド、ポリカーボネート、ポリプロピレン、アラミド、ポ
リイミド等の高分子フィルムで、厚み、表面性、延伸度
合、等は適宜選択すれば良い。幅Hは回転支持体の幅W
に対して広く設定する必要があり、1〜3mm程度広くと
れば良い。3は形成された蒸着膜でその幅Tは、幅W未
満でWに対して2〜4mm狭くとれば良い。蒸着幅の決定
は、蒸発源との距離、端部マスク4と高分子フィルム2
との間隔gの設定値等から実験的に決めれば良い。これ
以外の真空蒸着に必要な構成要素、グロー放電処理機
構、蒸発源、遮蔽マスク、巻取り機構、真空排気系等は
必要に応じて工夫すれば良い。蒸着材料の選択、導入ガ
スの選択、蒸気の補助的イオン化等も適宜工夫すれば良
い。
【0009】上記した構成によって、従来回転支持体の
幅より狭くフィルム幅を設定した場合に比較して、回転
支持体の表面に堆積する蒸着材料をフィルムが巻き込む
ことがなくなり、フィルムの両端部分に非蒸着部を構成
するための遮蔽構造物とフィルム間のギャップが狭く且
つ均一に出来ることからフィルム上の蒸着膜も全幅強固
に形成されるので、薄型であって、その上鏡面化された
高分子フィルムを用いても長尺かつ大面積に渡って均一
で良好な品質の蒸着を行えるようになる。
幅より狭くフィルム幅を設定した場合に比較して、回転
支持体の表面に堆積する蒸着材料をフィルムが巻き込む
ことがなくなり、フィルムの両端部分に非蒸着部を構成
するための遮蔽構造物とフィルム間のギャップが狭く且
つ均一に出来ることからフィルム上の蒸着膜も全幅強固
に形成されるので、薄型であって、その上鏡面化された
高分子フィルムを用いても長尺かつ大面積に渡って均一
で良好な品質の蒸着を行えるようになる。
【0010】以下更に本実施例の効果について明確にす
るために具体的に磁性材料を真空蒸着することで磁気記
録媒体を試作し、従来法で得られたものと特性比較を行
った結果について詳しく述べる。
るために具体的に磁性材料を真空蒸着することで磁気記
録媒体を試作し、従来法で得られたものと特性比較を行
った結果について詳しく述べる。
【0011】厚み6.1μmで、長手方向、幅方向夫々
540、590[kg/mm2]のヤング率で、平均粗さ3
0Åのポリエチレンテレフタレートフィルム(直径15
0ÅのSiO2の超微粒子を平均密度20個/μm2を樹
脂固定した塗布層をあらかじめ配したものを用いた)を
周長2.1mの−20℃に冷却した回転ベルトに沿わせ
て巻き取りながら酸素を導入してCoを電子ビーム蒸着
して磁性層を0.18μ形成した。蒸着は2層構成と
し、巻き戻しも真空のまま行った。酸素ガス導入ノズル
は最小入射角40度とし、その入射角を決定するマスク
の先端部に配置した。フィルム幅は499mmとし、蒸着
幅は494mmとし、ベルトの幅は497mmとした。gは
1mmに設定した。従来例は直径1mの回転キャンを用
い、キャンの幅は650mmとし、gは3.5〜5mmで、
フィルム幅499mmに対して蒸着幅は495mmとした。
フィルム静電気吸着は電子注入によった。
540、590[kg/mm2]のヤング率で、平均粗さ3
0Åのポリエチレンテレフタレートフィルム(直径15
0ÅのSiO2の超微粒子を平均密度20個/μm2を樹
脂固定した塗布層をあらかじめ配したものを用いた)を
周長2.1mの−20℃に冷却した回転ベルトに沿わせ
て巻き取りながら酸素を導入してCoを電子ビーム蒸着
して磁性層を0.18μ形成した。蒸着は2層構成と
し、巻き戻しも真空のまま行った。酸素ガス導入ノズル
は最小入射角40度とし、その入射角を決定するマスク
の先端部に配置した。フィルム幅は499mmとし、蒸着
幅は494mmとし、ベルトの幅は497mmとした。gは
1mmに設定した。従来例は直径1mの回転キャンを用
い、キャンの幅は650mmとし、gは3.5〜5mmで、
フィルム幅499mmに対して蒸着幅は495mmとした。
フィルム静電気吸着は電子注入によった。
【0012】それぞれ磁性層の上に、ダイヤモンド状硬
質炭素膜を70Å形成した。その形成はメタンガスを高
周波放電でイオン化して炭素膜を形成するプラズマCV
D法で行った。炭素膜の上に更に潤滑剤としてパーフル
オロポリエーテルを40Å溶液塗布法で配し、バックコ
ート層を0.45μm形成し8mm幅の磁気テープを試作
して特性比較した。夫々の磁気テープの特性比較は、ハ
イバンド8ミリビデオデッキを改造して記録波長0.4
7μm、トラックピッチ9μmで記録でのエラーレート
の相対比較で行った。磁気テープの長さは100mと
し、ランダムに25巻選び出して25巻の平均値で表示
した。サンプリングは7500mロット、5ロットから
行った。
質炭素膜を70Å形成した。その形成はメタンガスを高
周波放電でイオン化して炭素膜を形成するプラズマCV
D法で行った。炭素膜の上に更に潤滑剤としてパーフル
オロポリエーテルを40Å溶液塗布法で配し、バックコ
ート層を0.45μm形成し8mm幅の磁気テープを試作
して特性比較した。夫々の磁気テープの特性比較は、ハ
イバンド8ミリビデオデッキを改造して記録波長0.4
7μm、トラックピッチ9μmで記録でのエラーレート
の相対比較で行った。磁気テープの長さは100mと
し、ランダムに25巻選び出して25巻の平均値で表示
した。サンプリングは7500mロット、5ロットから
行った。
【0013】本実施例による磁気記録媒体の特性と従来
例の磁気記録媒体の特性を(表1)に比較して示してい
る。
例の磁気記録媒体の特性を(表1)に比較して示してい
る。
【0014】
【表1】
【0015】この(表1)から明らかなように、本実施
例によって製造された磁気記録媒体は、狭トラック記録
での高密度記録で優れた記録性能(エラーレート)が得
られる。これは、初期のS/Nをほぼ合わせて比較して
いることから、蒸着法の差に基づくものと考えられる。
例によって製造された磁気記録媒体は、狭トラック記録
での高密度記録で優れた記録性能(エラーレート)が得
られる。これは、初期のS/Nをほぼ合わせて比較して
いることから、蒸着法の差に基づくものと考えられる。
【0016】以上の様に本実施例の製造方法によれば、
幅Wの回転するエンドレスベルトに沿って高分子フィル
ムを静電吸着させて搬送しながら蒸着する際、フィルム
幅がW以上で、蒸着幅がW未満となるよう構成すること
で、蒸着時に発生する異物に起因するエラーレートを無
視出来るように出来、均一な特性を大面積に得ること
と、再現性の確保が可能になる。
幅Wの回転するエンドレスベルトに沿って高分子フィル
ムを静電吸着させて搬送しながら蒸着する際、フィルム
幅がW以上で、蒸着幅がW未満となるよう構成すること
で、蒸着時に発生する異物に起因するエラーレートを無
視出来るように出来、均一な特性を大面積に得ること
と、再現性の確保が可能になる。
【0017】(実施例2)以下本発明の第2の実施例に
ついて図面を参照しながら説明する。図2は本発明の第
2の実施例の蒸着方法を実施するための蒸着装置の要部
構成図である。図2において図1と同一の構成要素で良
い部分は同一の番号を付与している。5はテンションロ
ーラー、6,7は冷却ローラー、8は送り出し軸(反転
巻取りの際は巻取り軸になる)、9は巻取り軸(反転;
送り出し軸)、10は蒸発源、11は加熱用電子ビー
ム、12はガス導入ノズルである。この構成において回
転支持体であるエンドレスベルトは、ステンレス製の厚
み0.1〜0.4mm程度のものが適しているが、他に、
チタン、モリブデン等特に限定されるものではない。こ
のベルトは回転方向に対してほぼ直角の方向に往復運動
するように構成されることが必要で、往復の振幅は1〜
3mm程度で良い。往復運動の周期については厳密に制御
する必要はない。制御については例えばテンションロー
ラーを互いに平行に設置された冷却ローラーに対して傾
斜方向を交互に変えれば容易に往復運動させることが出
来る。フィルムは静電引力でベルトに密着して搬送され
るから、送り出されたフィルムは蒸着された後、端部が
揃わないので、いわゆる耳が立ったようになって、製品
の品質を著しく損なうしわが全幅に波及することがな
く、全くしわの無い状態で、長尺にて薄く且つ鏡面に近
い表面性のフィルムに蒸着することが出来るのである。
ついて図面を参照しながら説明する。図2は本発明の第
2の実施例の蒸着方法を実施するための蒸着装置の要部
構成図である。図2において図1と同一の構成要素で良
い部分は同一の番号を付与している。5はテンションロ
ーラー、6,7は冷却ローラー、8は送り出し軸(反転
巻取りの際は巻取り軸になる)、9は巻取り軸(反転;
送り出し軸)、10は蒸発源、11は加熱用電子ビー
ム、12はガス導入ノズルである。この構成において回
転支持体であるエンドレスベルトは、ステンレス製の厚
み0.1〜0.4mm程度のものが適しているが、他に、
チタン、モリブデン等特に限定されるものではない。こ
のベルトは回転方向に対してほぼ直角の方向に往復運動
するように構成されることが必要で、往復の振幅は1〜
3mm程度で良い。往復運動の周期については厳密に制御
する必要はない。制御については例えばテンションロー
ラーを互いに平行に設置された冷却ローラーに対して傾
斜方向を交互に変えれば容易に往復運動させることが出
来る。フィルムは静電引力でベルトに密着して搬送され
るから、送り出されたフィルムは蒸着された後、端部が
揃わないので、いわゆる耳が立ったようになって、製品
の品質を著しく損なうしわが全幅に波及することがな
く、全くしわの無い状態で、長尺にて薄く且つ鏡面に近
い表面性のフィルムに蒸着することが出来るのである。
【0018】上記した構成の装置により本発明を実施し
た。実際に製造された磁気記録媒体の特性を従来例、比
較例と対比することで本発明について具体的に詳しく説
明する。
た。実際に製造された磁気記録媒体の特性を従来例、比
較例と対比することで本発明について具体的に詳しく説
明する。
【0019】厚み6μmのポリイミドフィルム(平均粗
さ20Å、ヤング率長手600、幅650kg/mm2)上
に平均粒子径200ÅのSiO2を平均密度50個/μ2
で塗布固定し、以下の条件でCo−O垂直磁化膜を形成
した。Coはマグネシア容器内で加速電子ビームによっ
て加熱蒸発させて、入射角が44度から20度の範囲の
蒸着とし、20度を規制するマスクの内側に酸素ガス導
入ノズルを配して酸素を一定量導入した。厚み0.2mm
のチタン製の周長1.7mのエンドレスベルトを用い、
電子線照射によって、静電気引力で金属面に吸着させ
て、フィルム巻取り速度100m/minで、ベルトを幅
方向に往復させる条件は振幅2〜3mmで、往復の時間は
36〜45秒とした。
さ20Å、ヤング率長手600、幅650kg/mm2)上
に平均粒子径200ÅのSiO2を平均密度50個/μ2
で塗布固定し、以下の条件でCo−O垂直磁化膜を形成
した。Coはマグネシア容器内で加速電子ビームによっ
て加熱蒸発させて、入射角が44度から20度の範囲の
蒸着とし、20度を規制するマスクの内側に酸素ガス導
入ノズルを配して酸素を一定量導入した。厚み0.2mm
のチタン製の周長1.7mのエンドレスベルトを用い、
電子線照射によって、静電気引力で金属面に吸着させ
て、フィルム巻取り速度100m/minで、ベルトを幅
方向に往復させる条件は振幅2〜3mmで、往復の時間は
36〜45秒とした。
【0020】長さ8000mをロットの単位として、従
来例と対比した。従来例は直径1mのキャンに沿わせて
フィルムを移動させながら入射角範囲は同じにして蒸着
した。夫々バックコート(0.4〜0.5μ)層を形成
し、平坦化の熱処理を行って、パーフルオロステアリン
酸を約40Å塗布して、8mm幅の磁気テープに加工し
た。
来例と対比した。従来例は直径1mのキャンに沿わせて
フィルムを移動させながら入射角範囲は同じにして蒸着
した。夫々バックコート(0.4〜0.5μ)層を形成
し、平坦化の熱処理を行って、パーフルオロステアリン
酸を約40Å塗布して、8mm幅の磁気テープに加工し
た。
【0021】改造した8ミリビデオによって5μトラッ
ク、ビット長0.2μのディジタル記録を行いエラーレ
ートを相対比較した。テープは長さ60mとし、ランダ
ムに50巻選び、10-4以上のエラーが発生する総時間
が1sec以上のテープの巻数を比較した。このエラー
の発生は全てがしわによるものではないが、大多数がし
わによるものであった。
ク、ビット長0.2μのディジタル記録を行いエラーレ
ートを相対比較した。テープは長さ60mとし、ランダ
ムに50巻選び、10-4以上のエラーが発生する総時間
が1sec以上のテープの巻数を比較した。このエラー
の発生は全てがしわによるものではないが、大多数がし
わによるものであった。
【0022】本実施例による磁気記録媒体の特性と従来
磁気記録媒体の特性を(表2)に比較して示している。
磁気記録媒体の特性を(表2)に比較して示している。
【0023】
【表2】
【0024】この(表2)から明らかなように、本実施
例により製造された磁気記録媒体は、シワによるエラー
発生が無く、狭トラック条件での高密度ディジタル記録
を良好なエラー率で行うことが出来るといった優れた効
果がある。
例により製造された磁気記録媒体は、シワによるエラー
発生が無く、狭トラック条件での高密度ディジタル記録
を良好なエラー率で行うことが出来るといった優れた効
果がある。
【0025】以上のように本実施例によれば回転するエ
ンドレスベルトに沿って高分子フィルムを静電吸着させ
て搬送しながら蒸着する際、上記回転エンドレスベルト
を幅方向に往復運動させることにより、薄くて鏡面に近
いフィルムを蒸着後しわの無い状態で巻取ることができ
る。
ンドレスベルトに沿って高分子フィルムを静電吸着させ
て搬送しながら蒸着する際、上記回転エンドレスベルト
を幅方向に往復運動させることにより、薄くて鏡面に近
いフィルムを蒸着後しわの無い状態で巻取ることができ
る。
【0026】
【発明の効果】以上の様に本発明の製造方法によれば、
幅Wの回転するエンドレスベルトに沿って高分子フィル
ムを静電吸着させて搬送しながら蒸着する際、フィルム
幅がW以上で、蒸着幅がW未満となるように構成するこ
とで、蒸着時に発生する異物に起因するエラーレートを
無視出来るようになり、均一な特性を大面積に得ること
と、再現性の確保が可能になる。
幅Wの回転するエンドレスベルトに沿って高分子フィル
ムを静電吸着させて搬送しながら蒸着する際、フィルム
幅がW以上で、蒸着幅がW未満となるように構成するこ
とで、蒸着時に発生する異物に起因するエラーレートを
無視出来るようになり、均一な特性を大面積に得ること
と、再現性の確保が可能になる。
【0027】なお第1、第2の実施例いずれも、蒸着応
用製品で最も鏡面に近い面をもったものとして、磁気記
録媒体を対象に実施した例を説明したが、他に酸化膜を
蒸着したり、金属を蒸着し、包装、コンデンサー、透明
電極等の製造に用いてもよいことは言うまでもない。
用製品で最も鏡面に近い面をもったものとして、磁気記
録媒体を対象に実施した例を説明したが、他に酸化膜を
蒸着したり、金属を蒸着し、包装、コンデンサー、透明
電極等の製造に用いてもよいことは言うまでもない。
【図1】本発明の第1の実施例における蒸着方法を構成
するのに用いた蒸着装置の要部拡大断面図
するのに用いた蒸着装置の要部拡大断面図
【図2】本発明の第2の実施例における蒸着に用いた蒸
着装置の要部拡大断面図
着装置の要部拡大断面図
1 エンドレスベルト 2 高分子フィルム 3 蒸着膜 4 端部マスク 5 テンションローラー 10 蒸発源
Claims (2)
- 【請求項1】 幅Wの回転するエンドレスベルトに沿っ
て高分子フィルムを静電吸着させて搬送しながら蒸着す
る際、フィルム幅がW以上で蒸着幅がW未満であること
を特徴とする蒸着方法。 - 【請求項2】 回転するエンドレスベルトに沿って高分
子フィルムを静電吸着させて搬送しながら蒸着する際、
上記回転エンドレスベルトを幅方向に往復運動させるこ
とを特徴とする蒸着方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5010504A JPH06220636A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP5010504A JPH06220636A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 蒸着方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06220636A true JPH06220636A (ja) | 1994-08-09 |
Family
ID=11752042
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP5010504A Pending JPH06220636A (ja) | 1993-01-26 | 1993-01-26 | 蒸着方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06220636A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO1997019014A1 (en) * | 1995-11-17 | 1997-05-29 | Nittoku Engineering Co., Ltd. | Take-up device for filament material |
| JP2009209381A (ja) * | 2008-02-29 | 2009-09-17 | Fujifilm Corp | 成膜装置、ガスバリアフィルムおよびガスバリアフィルムの製造方法 |
-
1993
- 1993-01-26 JP JP5010504A patent/JPH06220636A/ja active Pending
Cited By (2)
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