JPH056739B2 - - Google Patents
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- JPH056739B2 JPH056739B2 JP58049847A JP4984783A JPH056739B2 JP H056739 B2 JPH056739 B2 JP H056739B2 JP 58049847 A JP58049847 A JP 58049847A JP 4984783 A JP4984783 A JP 4984783A JP H056739 B2 JPH056739 B2 JP H056739B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic recording
- thin film
- metal thin
- layer
- substrate
- Prior art date
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- Expired - Lifetime
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
産業上の利用分野
本発明は、磁気テープ、磁気デイスク等となる
磁気記録媒体の中でも、特に基板の両側に記録層
を有するものに関する。 従来例の構成とその問題点 従来、磁気記録媒体としては高分子基板やアル
ミニウム基板上にCoをドープしたγ−Fe2O3や
CrO2等の酸化物磁性粉末、又は強磁性合金粉末
等の粉末状磁性材料をポリウレタン樹脂等の有機
バインダー中に分散させて、塗布、乾燥させたい
わゆる塗布型のものが広く実用に供されている。
しかし近年の記録密度向上の要望は強く、従来の
塗布型では記録密度向上に限界がみえ、金属薄膜
型の短波長での高出力特性が注目され、かかる媒
体の実用化努力が各方面で活発化してきている。 金属薄膜型磁気記録媒体は、工法上で従来の塗
布型と異なるため、実用化する上で解決すべき問
題は未だ数多く存在している。中でも、繰返し使
用で良好なエンベロープを維持できる点と、優れ
たＣ／Ｎを有する点の両者を同時に満足せしめる
テープの製造法を実用域に到達せしめることは、
重要な課題である。 発明の目的 本発明は、基板の両面に金属薄膜磁気記録層を
配し、この磁気記録層上にそれぞれ有機物蒸着層
を配して成る、実用耐久性が優れ、かつ良好なエ
ンベロープを維持できる磁気記録層媒体を安定し
て生産できる製造方法を提供することを目的とす
る。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、帯状基板
を冷却・搬送するための第１、第２の円筒状回転
キヤンを互いに巻込み側を内側にして配設し、蒸
気流が前記第１、第２の回転キヤンの巻込み側に
向かうよう金属薄膜磁気記録層形成用の蒸発源を
配設し、前記帯状基板を第１の回転キヤンから第
２の回転キヤンに沿つて移動するよう掛渡すと共
に、第１、第２の回転キヤンの送り出し側近傍に
それぞれ有機物蒸発源を配設し、基板の両面に金
属薄膜磁気記録層と有機物蒸着層とを積層するこ
とを特徴とする。 本発明における基板とは、高分子基板そのも
の、または高分子基板の両面に非磁性層が形成さ
れたもの、あるいは高分子基板の両面に軟磁性層
が形成されたものである。高分子基板は、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート
等で表面粗さは平滑なものが必要で、中心線平均
粗さで200Å以下、好ましくは100Å以下の粗さ
で、ドロツプアウトにつながる異常突起を極力お
さえ込んだものが必要である。基板の厚みには格
別の制限はないが、前記基板に主として製造過程
でのハンドリング性改良のために、微細に粗くし
た表面を塗布法によつて得たり、微粒子を表面に
析出させる等の工夫についても、必要に応じて成
されるものである。金属薄膜磁気記録層は、磁化
容易軸が、基板面と平行ないわゆる面内磁化膜
と、基板面と垂直な垂直磁化膜とに大別される。 夫々に用いることの出来る材料構成は豊富であ
り、本発明に特に用いられる材料面からの制限は
ない。しかし、用途によつては、使用される環境
が広範囲となるから、耐食性については、充分配
慮されるべきであり、その意味からは、Co−Cr
系合金、Co−Ni−Cr系合金、Co−Ni系合金、
Co−Ni−Ｏ系合金等が好ましい材料といえる。
必要にに応じて用いられる非磁性層、軟磁性層に
ついても、基板と付着強度、耐食性等について配
慮して選べるもので、チタン、クロム、モリブデ
ン、パーマロイ等が好ましい材料である。本発明
に用いられる有機蒸着層は、脂肪酸、脂肪酸アミ
ド、脂肪酸エステル等の単一材料あるいは、複数
の混合材料等が用いられるが、金属薄膜磁気記録
層の耐食性を更に助けるための防錆剤等を潤滑材
と共に配合することも勿論可能であり、ここでい
う有機蒸着層は、フルオロカーボン類のプラズマ
重合薄膜等も含むものである。 製造された磁気記録媒体は、テープ状、デイス
ク状いずれにしろ、平担であることが安定なエン
ベロープを得る上で重要であり、両面共、同一材
料、同一厚みの構成にこだわらなくても良いが、
異なる材料を構成要素とする時には、出来上りが
平担になるような条件を見出す必要がある。 尚、有機蒸着層は、前記した平担性を左右する
程の内部応力をもたないから、相互転写による表
面の性質を補いあうために、異なる材料構成にす
ることは、製造面から見ると容易である。 有機槽は単一とし、内部で連続的に各々の薄膜
を形成することを基本とするものである。 金属薄膜磁気記録層の形成は、真空蒸着、スパ
ツタリング、イオンプレーテイング、反応性蒸
着、電界蒸着、イオンビーム蒸着等のいずれかよ
り選ぶことができる。高分子基板は、耐熱性が低
いため、蒸着時に、熱変形、熱破損を受け易い。
従つて、冷却支持体に沿つて移動させる必要があ
ると同時に、冷却支持体は固定されたものであつ
ては基板に擦り傷が入る等不都合が生じるため、
円筒状回転キヤン、駆動された金属ベルト等が用
いられる。有機蒸着は、前記金属薄膜の形成と違
つて熱的影響は小さいが膜厚管理が重要であり、
そのため基板は冷却して再蒸発源が抑えられる。 基板の巻取り系は、両面に薄膜形成できるよう
構成されなければならない。このことは、基板の
片側の構成を別々の真空槽あるいは同一の真空槽
で基板を裏返して得た場合に起る、ドロツプアウ
トの増加、耐久性の劣化等を防ぐためにも重要で
あり、夫々の薄膜形成に最適な雰囲気を得るため
に真空槽内部を分割して、雰囲気制御するための
排気系構成、ガス導入系構成、電圧導入系構成等
は適宜選択することができるものである。 実施例の説明 以下、本発明の製造方法を具体的な実施例を示
す図面に基づいて説明する。 第１図は本発明の製造方法によつて製造された
磁気記録媒体の断面図で、１はベースとなる高分
子基板、２，３は金属薄膜磁気記録層で、それぞ
れ高分子基板１の一方の面と他方の面に直接に形
成されている。４，５は金属薄膜磁気記録層２，
３の表面にそれぞれ形成された有機物蒸着層であ
る。なお、ここで高分子基板は帯状の形態をとつ
ている。 第３図は第１図断面構造の磁気記録媒体を作る
ことができる製造装置を示す。８は排気系９，１
０によつて真空状態に保持される真空槽で、この
内部には次の示すような系が収納されている。す
なわち、それぞれ矢印Ａ，Ｂ方向に向けて回転
し、巻込み側がそれぞれ内側となるよう並設され
た第１、第２の円筒状回転キヤン１１，１２と、
蒸発源容器１３，１４，１５と、高分子基板１の
送り出し軸１６と、高分子基板１の巻取り軸１７
などが収納されている。 真空槽８の内部構造を詳細に説明すると、送り
出し軸１６にセツトされた高分子基板１は、先ず
円筒状回転キヤン１１の巻込み側から入力されフ
リーローラ１８やエキスパンダローラ〔図示せ
ず〕、ダンサーローラ〔図示せず〕を介して円筒
状回転キヤン１２の巻込み側に入力供給されて巻
取り軸１７に巻取られる。蒸発源容器１３は蒸気
流１９が円筒状回転キヤン１１，１２の巻込み側
に向かうように円筒状回転キヤン１１，１２の巻
込み側の下方に配設され、蒸発源容器１４，１５
はそれぞれ円筒状回転キヤン１１，１２の送り出
し側の近傍に配設されている。蒸発源容器１３中
には金属薄膜磁気記録層２，３を形成するための
強磁性金属材料２０が入れられており、蒸発源容
器１３としては、水冷銅ハースか耐火ルツボが用
いられ、例えば電子ビーム〔図示せず〕によつて
強磁性金属材料２０を加熱して前記蒸気流１９が
得られる。第３図では斜方蒸着により高い保磁力
を得るよう構成された例が示されているが、垂直
磁化膜を得る場合は、当然別の工夫が成されるも
のである。斜方蒸着の最小入射角の限定は固定マ
スク２１で行われている。２２は防着板である。 蒸発源容器１４，１５は、例えば石英で中空状
に構成され、温媒を循環させて温度制御して蒸発
量が制御されている。蒸発源容器１４，１５中に
は有機物蒸着層４，５を形成するための有機材料
２３，２４が入れられている。２５は有機物蒸着
層４，５の膜厚モニタ用の水晶振動子である。 このように構成したため、蒸気流１９によつ
て、先ず、円筒状回転キヤン１１の巻込み側では
高分子基板１上に金属薄膜磁気記録層２が形成さ
れる。一方の面に金属薄膜磁気記録層２の形成さ
れた高分子基板１は円筒状回転キヤン１１の送り
出し側で有機材料２３によつて金属薄膜磁気記録
層２上に有機物蒸発層４が形成される。磁気記録
層２と有機物蒸発層４が形成された高分子基板１
はフリーローラ１８等を経て円筒状回転キヤン１
２の巻取り側において蒸気流１９によつて高分子
基板１の他方の面に金属薄膜磁気記録層３が形成
され、次いで円筒状回転キヤン１２の送り出し側
において有機材料２４によつて金属薄膜磁気記録
層３上に有機物蒸着層５が形成される。 同一の蒸発流１９で金属薄膜磁気記録層２と３
を形成できるため、同一厚みの金属薄膜磁気記録
層２，３を確実に得ることができる。また、真空
中で連続して蒸気源容器１４により形成された有
機物蒸着層４の反対側面に金属薄膜磁気記録層３
を形成する場合、前記有機物蒸着層４が液状にな
つて回転キヤン１２の表面と基板１との間の密着
性が増し熱伝導性が大幅に改善される。 これとともに、金属薄膜磁気記録層３と反応し
て強固に被着するなどのメカニズムが含まれ、耐
久性とＣ／Ｎの優れた磁気記録媒体が得られる。 また真空層８の内部には必要に応じて、酸素等
のガスが外部より、真空槽の全部又は一部に強制
的に導入されるよう構成することができる。 第２図は非磁性層または軟磁性層６，７が高分
子基板上に形成された場合の磁気記録媒体の断面
図で、このような磁気記録媒体の製造に際して
は、第３図の製造装置において、例えば円筒状回
転キヤン１１，１２に沿つて金属薄膜磁気記録層
２，３の形成に先立つて、例えばスパツタ源が配
設される。尚、非磁性薄膜、軟磁性薄膜の形成
は、金属薄膜磁気記録層の形成に用いられるもの
の中より選べば良い。 このようにして作られた磁気記録媒体と従来の
一般的な磁気記録媒体とを次のようにして比較し
た。 実験例 １ ポリエチレンテレフタレート（平均粗さ50Å）
10.5μmを中心間距離５／cmに配した、直径50cm
の円筒状回転キヤン１１，１２に沿つて、最小入
射角43゜で５×10-5Torr酸素分圧中でCo80％Ni20
％の合金を0.13μm電子ビーム蒸着した上に夫々、
ベヘン酸オクチルを約50Å有機蒸着した。蒸発源
と回転キヤン上で蒸着を受ける部位で最も近い距
離を25cm一定とした。 〔比較例１〕として、両面に同一のCo−Niを
蒸着したものに夫々の面に別工程程で、溶剤にと
かして計算上50Åになるよう塗布した。用いた溶
剤はｎ−ヘキサンである。もう一つの〔比較例
２〕として、Co−Ni蒸着して、ベヘン酸オクチ
ルを蒸着したもの裏返して、同様な蒸着を行つた
ものを評価した。 それぞれを８mm幅に裁断して、耐久性を比較検
討した結果は次表のようであつた。 テープ長は100mで、シリンダ径40mmで市販の
VHSデツキの走行系を改良したデツキによりく
り返し走行を行い、特性の変化をみた。 テープ送り速度は14.3mm／secで、ヘツドはフ
エライトヘツドで、相対速度は3.75m／secとし、
Ｃ／ＮはＣ＝4.5MHz Ｎ＝4MHzで相対比較し
た。ドロツプアウトは15μsec，−16dBをカウント
して比較した。
磁気記録媒体の中でも、特に基板の両側に記録層
を有するものに関する。 従来例の構成とその問題点 従来、磁気記録媒体としては高分子基板やアル
ミニウム基板上にCoをドープしたγ−Fe2O3や
CrO2等の酸化物磁性粉末、又は強磁性合金粉末
等の粉末状磁性材料をポリウレタン樹脂等の有機
バインダー中に分散させて、塗布、乾燥させたい
わゆる塗布型のものが広く実用に供されている。
しかし近年の記録密度向上の要望は強く、従来の
塗布型では記録密度向上に限界がみえ、金属薄膜
型の短波長での高出力特性が注目され、かかる媒
体の実用化努力が各方面で活発化してきている。 金属薄膜型磁気記録媒体は、工法上で従来の塗
布型と異なるため、実用化する上で解決すべき問
題は未だ数多く存在している。中でも、繰返し使
用で良好なエンベロープを維持できる点と、優れ
たＣ／Ｎを有する点の両者を同時に満足せしめる
テープの製造法を実用域に到達せしめることは、
重要な課題である。 発明の目的 本発明は、基板の両面に金属薄膜磁気記録層を
配し、この磁気記録層上にそれぞれ有機物蒸着層
を配して成る、実用耐久性が優れ、かつ良好なエ
ンベロープを維持できる磁気記録層媒体を安定し
て生産できる製造方法を提供することを目的とす
る。 発明の構成 本発明の磁気記録媒体の製造方法は、帯状基板
を冷却・搬送するための第１、第２の円筒状回転
キヤンを互いに巻込み側を内側にして配設し、蒸
気流が前記第１、第２の回転キヤンの巻込み側に
向かうよう金属薄膜磁気記録層形成用の蒸発源を
配設し、前記帯状基板を第１の回転キヤンから第
２の回転キヤンに沿つて移動するよう掛渡すと共
に、第１、第２の回転キヤンの送り出し側近傍に
それぞれ有機物蒸発源を配設し、基板の両面に金
属薄膜磁気記録層と有機物蒸着層とを積層するこ
とを特徴とする。 本発明における基板とは、高分子基板そのも
の、または高分子基板の両面に非磁性層が形成さ
れたもの、あるいは高分子基板の両面に軟磁性層
が形成されたものである。高分子基板は、ポリエ
チレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート
等で表面粗さは平滑なものが必要で、中心線平均
粗さで200Å以下、好ましくは100Å以下の粗さ
で、ドロツプアウトにつながる異常突起を極力お
さえ込んだものが必要である。基板の厚みには格
別の制限はないが、前記基板に主として製造過程
でのハンドリング性改良のために、微細に粗くし
た表面を塗布法によつて得たり、微粒子を表面に
析出させる等の工夫についても、必要に応じて成
されるものである。金属薄膜磁気記録層は、磁化
容易軸が、基板面と平行ないわゆる面内磁化膜
と、基板面と垂直な垂直磁化膜とに大別される。 夫々に用いることの出来る材料構成は豊富であ
り、本発明に特に用いられる材料面からの制限は
ない。しかし、用途によつては、使用される環境
が広範囲となるから、耐食性については、充分配
慮されるべきであり、その意味からは、Co−Cr
系合金、Co−Ni−Cr系合金、Co−Ni系合金、
Co−Ni−Ｏ系合金等が好ましい材料といえる。
必要にに応じて用いられる非磁性層、軟磁性層に
ついても、基板と付着強度、耐食性等について配
慮して選べるもので、チタン、クロム、モリブデ
ン、パーマロイ等が好ましい材料である。本発明
に用いられる有機蒸着層は、脂肪酸、脂肪酸アミ
ド、脂肪酸エステル等の単一材料あるいは、複数
の混合材料等が用いられるが、金属薄膜磁気記録
層の耐食性を更に助けるための防錆剤等を潤滑材
と共に配合することも勿論可能であり、ここでい
う有機蒸着層は、フルオロカーボン類のプラズマ
重合薄膜等も含むものである。 製造された磁気記録媒体は、テープ状、デイス
ク状いずれにしろ、平担であることが安定なエン
ベロープを得る上で重要であり、両面共、同一材
料、同一厚みの構成にこだわらなくても良いが、
異なる材料を構成要素とする時には、出来上りが
平担になるような条件を見出す必要がある。 尚、有機蒸着層は、前記した平担性を左右する
程の内部応力をもたないから、相互転写による表
面の性質を補いあうために、異なる材料構成にす
ることは、製造面から見ると容易である。 有機槽は単一とし、内部で連続的に各々の薄膜
を形成することを基本とするものである。 金属薄膜磁気記録層の形成は、真空蒸着、スパ
ツタリング、イオンプレーテイング、反応性蒸
着、電界蒸着、イオンビーム蒸着等のいずれかよ
り選ぶことができる。高分子基板は、耐熱性が低
いため、蒸着時に、熱変形、熱破損を受け易い。
従つて、冷却支持体に沿つて移動させる必要があ
ると同時に、冷却支持体は固定されたものであつ
ては基板に擦り傷が入る等不都合が生じるため、
円筒状回転キヤン、駆動された金属ベルト等が用
いられる。有機蒸着は、前記金属薄膜の形成と違
つて熱的影響は小さいが膜厚管理が重要であり、
そのため基板は冷却して再蒸発源が抑えられる。 基板の巻取り系は、両面に薄膜形成できるよう
構成されなければならない。このことは、基板の
片側の構成を別々の真空槽あるいは同一の真空槽
で基板を裏返して得た場合に起る、ドロツプアウ
トの増加、耐久性の劣化等を防ぐためにも重要で
あり、夫々の薄膜形成に最適な雰囲気を得るため
に真空槽内部を分割して、雰囲気制御するための
排気系構成、ガス導入系構成、電圧導入系構成等
は適宜選択することができるものである。 実施例の説明 以下、本発明の製造方法を具体的な実施例を示
す図面に基づいて説明する。 第１図は本発明の製造方法によつて製造された
磁気記録媒体の断面図で、１はベースとなる高分
子基板、２，３は金属薄膜磁気記録層で、それぞ
れ高分子基板１の一方の面と他方の面に直接に形
成されている。４，５は金属薄膜磁気記録層２，
３の表面にそれぞれ形成された有機物蒸着層であ
る。なお、ここで高分子基板は帯状の形態をとつ
ている。 第３図は第１図断面構造の磁気記録媒体を作る
ことができる製造装置を示す。８は排気系９，１
０によつて真空状態に保持される真空槽で、この
内部には次の示すような系が収納されている。す
なわち、それぞれ矢印Ａ，Ｂ方向に向けて回転
し、巻込み側がそれぞれ内側となるよう並設され
た第１、第２の円筒状回転キヤン１１，１２と、
蒸発源容器１３，１４，１５と、高分子基板１の
送り出し軸１６と、高分子基板１の巻取り軸１７
などが収納されている。 真空槽８の内部構造を詳細に説明すると、送り
出し軸１６にセツトされた高分子基板１は、先ず
円筒状回転キヤン１１の巻込み側から入力されフ
リーローラ１８やエキスパンダローラ〔図示せ
ず〕、ダンサーローラ〔図示せず〕を介して円筒
状回転キヤン１２の巻込み側に入力供給されて巻
取り軸１７に巻取られる。蒸発源容器１３は蒸気
流１９が円筒状回転キヤン１１，１２の巻込み側
に向かうように円筒状回転キヤン１１，１２の巻
込み側の下方に配設され、蒸発源容器１４，１５
はそれぞれ円筒状回転キヤン１１，１２の送り出
し側の近傍に配設されている。蒸発源容器１３中
には金属薄膜磁気記録層２，３を形成するための
強磁性金属材料２０が入れられており、蒸発源容
器１３としては、水冷銅ハースか耐火ルツボが用
いられ、例えば電子ビーム〔図示せず〕によつて
強磁性金属材料２０を加熱して前記蒸気流１９が
得られる。第３図では斜方蒸着により高い保磁力
を得るよう構成された例が示されているが、垂直
磁化膜を得る場合は、当然別の工夫が成されるも
のである。斜方蒸着の最小入射角の限定は固定マ
スク２１で行われている。２２は防着板である。 蒸発源容器１４，１５は、例えば石英で中空状
に構成され、温媒を循環させて温度制御して蒸発
量が制御されている。蒸発源容器１４，１５中に
は有機物蒸着層４，５を形成するための有機材料
２３，２４が入れられている。２５は有機物蒸着
層４，５の膜厚モニタ用の水晶振動子である。 このように構成したため、蒸気流１９によつ
て、先ず、円筒状回転キヤン１１の巻込み側では
高分子基板１上に金属薄膜磁気記録層２が形成さ
れる。一方の面に金属薄膜磁気記録層２の形成さ
れた高分子基板１は円筒状回転キヤン１１の送り
出し側で有機材料２３によつて金属薄膜磁気記録
層２上に有機物蒸発層４が形成される。磁気記録
層２と有機物蒸発層４が形成された高分子基板１
はフリーローラ１８等を経て円筒状回転キヤン１
２の巻取り側において蒸気流１９によつて高分子
基板１の他方の面に金属薄膜磁気記録層３が形成
され、次いで円筒状回転キヤン１２の送り出し側
において有機材料２４によつて金属薄膜磁気記録
層３上に有機物蒸着層５が形成される。 同一の蒸発流１９で金属薄膜磁気記録層２と３
を形成できるため、同一厚みの金属薄膜磁気記録
層２，３を確実に得ることができる。また、真空
中で連続して蒸気源容器１４により形成された有
機物蒸着層４の反対側面に金属薄膜磁気記録層３
を形成する場合、前記有機物蒸着層４が液状にな
つて回転キヤン１２の表面と基板１との間の密着
性が増し熱伝導性が大幅に改善される。 これとともに、金属薄膜磁気記録層３と反応し
て強固に被着するなどのメカニズムが含まれ、耐
久性とＣ／Ｎの優れた磁気記録媒体が得られる。 また真空層８の内部には必要に応じて、酸素等
のガスが外部より、真空槽の全部又は一部に強制
的に導入されるよう構成することができる。 第２図は非磁性層または軟磁性層６，７が高分
子基板上に形成された場合の磁気記録媒体の断面
図で、このような磁気記録媒体の製造に際して
は、第３図の製造装置において、例えば円筒状回
転キヤン１１，１２に沿つて金属薄膜磁気記録層
２，３の形成に先立つて、例えばスパツタ源が配
設される。尚、非磁性薄膜、軟磁性薄膜の形成
は、金属薄膜磁気記録層の形成に用いられるもの
の中より選べば良い。 このようにして作られた磁気記録媒体と従来の
一般的な磁気記録媒体とを次のようにして比較し
た。 実験例 １ ポリエチレンテレフタレート（平均粗さ50Å）
10.5μmを中心間距離５／cmに配した、直径50cm
の円筒状回転キヤン１１，１２に沿つて、最小入
射角43゜で５×10-5Torr酸素分圧中でCo80％Ni20
％の合金を0.13μm電子ビーム蒸着した上に夫々、
ベヘン酸オクチルを約50Å有機蒸着した。蒸発源
と回転キヤン上で蒸着を受ける部位で最も近い距
離を25cm一定とした。 〔比較例１〕として、両面に同一のCo−Niを
蒸着したものに夫々の面に別工程程で、溶剤にと
かして計算上50Åになるよう塗布した。用いた溶
剤はｎ−ヘキサンである。もう一つの〔比較例
２〕として、Co−Ni蒸着して、ベヘン酸オクチ
ルを蒸着したもの裏返して、同様な蒸着を行つた
ものを評価した。 それぞれを８mm幅に裁断して、耐久性を比較検
討した結果は次表のようであつた。 テープ長は100mで、シリンダ径40mmで市販の
VHSデツキの走行系を改良したデツキによりく
り返し走行を行い、特性の変化をみた。 テープ送り速度は14.3mm／secで、ヘツドはフ
エライトヘツドで、相対速度は3.75m／secとし、
Ｃ／ＮはＣ＝4.5MHz Ｎ＝4MHzで相対比較し
た。ドロツプアウトは15μsec，−16dBをカウント
して比較した。
【表】
ちなみに、従来最も一般的な片側の面にのみ蒸
着し、裏面にバツクコート層を設して熱処理して
平坦化処理したものの特性は25℃60％RHでの30
パスでＣ／Ｎは3.5dB低下し、30℃90％RHでは
12パスでＣ／Ｎは3dB低下した。これらのＣ／Ｎ
の低下は、カツピングの変化によるヘツドタツチ
の悪化によるものが主因であつた。又両面に有機
物蒸着層を有すものは、スチルフレーム特性も従
来品に比較して優れており、実用耐久性は良好で
あつた。 初期的には、別工程で蒸着した比較例も有意差
がなかつたが、本発明の製法による磁気記録層と
有機蒸着層の形成が同一真空層で連続しているこ
とと、両面構成も同一真空槽で連続して形成する
ことの作用効果は、有機蒸着層の耐久性にあらわ
れているとみなせるものである。 実験例 ２ ポリアミド基板（平均粗サ80Å）8.5μm上に
Co81％、Cr19％のターゲツトを用いて、高周波
スパツタリングにより、両側に夫々0.2μm垂直磁
化膜を形成し、更にステアリン酸アミドを約40Å
有機蒸着して媒体を得た。 この場合の装置は第３図の電子ビーム蒸発源の
代りに、円筒状回転キヤン１１，１２に沿つて、
長手方向の幅６インチのカソードをキヤン１１，
１２から６cm離して配置したものを利用した。ま
た、スパツタリング条件は、Ar分圧３×
10-4Torrでの高周波（13.56MHz、650W）グロー
放電で有機蒸着は２×10-4Torrの真空度で行つ
た。 この媒体は〔実験例１〕と同様に特性変化はな
かつたが、〔実験例１〕と同種の比較例では塗布
法によつた媒体でＣ／Ｎ劣化は、25℃60％
RH300パス後、30℃90％RH300パス後は夫々
6.2dB、9dBと極めて悪かつた。 〔実験例１〕、〔実験例２〕いずれも耐食性につ
いても比較例に対して優れており、60℃90％
RH1ケ月放置後のBs（飽和磁束密度）の変化率で
みて、２〜３％の変化であつたのに対して、有機
塗布法によつた比較例は30％〜36％Bsが低下し
た。 このように形成したものは、従来のものと異な
り、下記の点で特長的な振舞いを確認できるもの
である。 そのひとつは、走行系によりくり返し引つばり
応力を受けても、高分子基板が、金属薄膜層でサ
ンドイツチされているため、従来のバイメタル構
成の媒体にみられた、カツピング率の変化からく
るエンベロープが悪くなる現象が皆無である点で
ある。 第２は、両面とも厚みが極めて均一であるた
め、基板の形状を管理すれば従来のバツクコート
層に起因した、形状転写もなく、短波長で優れた
Ｃ／Ｎを発揮できる点である。 なお、円筒状回転キヤン１１，１２と、蒸気源
の関係を対称に配設すれば、同一厚みで、同一物
性の金属薄膜磁気記録層を確実に得ることができ
るが、片側が面内でもう一方が垂直磁化膜となる
ように構成することもできる。 発明の効果 以上説明のように本発明の磁気記録媒体の製造
方法によると、実用耐久性に優れると共に両面か
らのアクセスが可能な磁気記録媒体を塗布機、熱
処理機等の設備を不要とし、無公害設備で、製造
することができる。また本発明の製造方法による
と、品質の安定で且つ実用耐久性の優れた金属薄
膜型磁気記録媒体を大量生産することができるも
のである。さらに、真空中で連続して有機蒸着し
た面の反対側に金属薄膜磁気記録層を形成する場
合、有機物蒸着層が液状になつて第２の回転キヤ
ン表面と帯状基板との間の密着性が増し熱伝導性
が大幅に改善される。これとともに、金属薄膜磁
気記録層と反応して強固に被着するなどのメカニ
ズムが含まれ耐久性とＣ／Ｎの優れた磁気記録媒
体が得られる。
着し、裏面にバツクコート層を設して熱処理して
平坦化処理したものの特性は25℃60％RHでの30
パスでＣ／Ｎは3.5dB低下し、30℃90％RHでは
12パスでＣ／Ｎは3dB低下した。これらのＣ／Ｎ
の低下は、カツピングの変化によるヘツドタツチ
の悪化によるものが主因であつた。又両面に有機
物蒸着層を有すものは、スチルフレーム特性も従
来品に比較して優れており、実用耐久性は良好で
あつた。 初期的には、別工程で蒸着した比較例も有意差
がなかつたが、本発明の製法による磁気記録層と
有機蒸着層の形成が同一真空層で連続しているこ
とと、両面構成も同一真空槽で連続して形成する
ことの作用効果は、有機蒸着層の耐久性にあらわ
れているとみなせるものである。 実験例 ２ ポリアミド基板（平均粗サ80Å）8.5μm上に
Co81％、Cr19％のターゲツトを用いて、高周波
スパツタリングにより、両側に夫々0.2μm垂直磁
化膜を形成し、更にステアリン酸アミドを約40Å
有機蒸着して媒体を得た。 この場合の装置は第３図の電子ビーム蒸発源の
代りに、円筒状回転キヤン１１，１２に沿つて、
長手方向の幅６インチのカソードをキヤン１１，
１２から６cm離して配置したものを利用した。ま
た、スパツタリング条件は、Ar分圧３×
10-4Torrでの高周波（13.56MHz、650W）グロー
放電で有機蒸着は２×10-4Torrの真空度で行つ
た。 この媒体は〔実験例１〕と同様に特性変化はな
かつたが、〔実験例１〕と同種の比較例では塗布
法によつた媒体でＣ／Ｎ劣化は、25℃60％
RH300パス後、30℃90％RH300パス後は夫々
6.2dB、9dBと極めて悪かつた。 〔実験例１〕、〔実験例２〕いずれも耐食性につ
いても比較例に対して優れており、60℃90％
RH1ケ月放置後のBs（飽和磁束密度）の変化率で
みて、２〜３％の変化であつたのに対して、有機
塗布法によつた比較例は30％〜36％Bsが低下し
た。 このように形成したものは、従来のものと異な
り、下記の点で特長的な振舞いを確認できるもの
である。 そのひとつは、走行系によりくり返し引つばり
応力を受けても、高分子基板が、金属薄膜層でサ
ンドイツチされているため、従来のバイメタル構
成の媒体にみられた、カツピング率の変化からく
るエンベロープが悪くなる現象が皆無である点で
ある。 第２は、両面とも厚みが極めて均一であるた
め、基板の形状を管理すれば従来のバツクコート
層に起因した、形状転写もなく、短波長で優れた
Ｃ／Ｎを発揮できる点である。 なお、円筒状回転キヤン１１，１２と、蒸気源
の関係を対称に配設すれば、同一厚みで、同一物
性の金属薄膜磁気記録層を確実に得ることができ
るが、片側が面内でもう一方が垂直磁化膜となる
ように構成することもできる。 発明の効果 以上説明のように本発明の磁気記録媒体の製造
方法によると、実用耐久性に優れると共に両面か
らのアクセスが可能な磁気記録媒体を塗布機、熱
処理機等の設備を不要とし、無公害設備で、製造
することができる。また本発明の製造方法による
と、品質の安定で且つ実用耐久性の優れた金属薄
膜型磁気記録媒体を大量生産することができるも
のである。さらに、真空中で連続して有機蒸着し
た面の反対側に金属薄膜磁気記録層を形成する場
合、有機物蒸着層が液状になつて第２の回転キヤ
ン表面と帯状基板との間の密着性が増し熱伝導性
が大幅に改善される。これとともに、金属薄膜磁
気記録層と反応して強固に被着するなどのメカニ
ズムが含まれ耐久性とＣ／Ｎの優れた磁気記録媒
体が得られる。
第１図、第２図はそれぞれ本発明の製造方法に
よつて製造される磁気記録媒体の断面構成図、第
３図は本発明の製造方法を実施する製造装置の一
実施例の構成図である。 １……高分子基板、２，３……金属薄膜磁気記
録層、４，５……有機物蒸着層、８……真空層、
９，１０……排気系、１１，１２……円筒状回転
キヤン〔第１、第２の冷却・搬送手段〕、１３，
１４，１５……蒸発源容器、１６……送り出し
軸、１７……巻取り軸、１９……蒸気流、２０…
…強磁性金属材料、２３，２４……有機材料。
よつて製造される磁気記録媒体の断面構成図、第
３図は本発明の製造方法を実施する製造装置の一
実施例の構成図である。 １……高分子基板、２，３……金属薄膜磁気記
録層、４，５……有機物蒸着層、８……真空層、
９，１０……排気系、１１，１２……円筒状回転
キヤン〔第１、第２の冷却・搬送手段〕、１３，
１４，１５……蒸発源容器、１６……送り出し
軸、１７……巻取り軸、１９……蒸気流、２０…
…強磁性金属材料、２３，２４……有機材料。
Claims (1)
- １ 帯状基板を冷却・搬送するための第１、第２
の円筒状回転キヤンを互いに巻込み側を内側にし
て配設し、蒸気流が前記第１、第２の回転キヤン
の巻込み側に向かうよう金属薄膜磁気記録層形成
用の蒸発源を配設し、前記帯状基板を第１の回転
キヤンから第２の回転キヤンに沿つて移動するよ
う掛渡すと共に、第１、第２の回転キヤンの送り
出し側近傍にそれぞれ有機物蒸発源を配設し、基
板の両面に金属薄膜磁気記録層と有機物蒸着層と
を積層することを特徴とする磁気記録媒体の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58049847A JPS59175032A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58049847A JPS59175032A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59175032A JPS59175032A (ja) | 1984-10-03 |
| JPH056739B2 true JPH056739B2 (ja) | 1993-01-27 |
Family
ID=12842451
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58049847A Granted JPS59175032A (ja) | 1983-03-24 | 1983-03-24 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59175032A (ja) |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS52112306A (en) * | 1976-03-18 | 1977-09-20 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | Magnetic recording tape |
| JPS57166443A (en) * | 1981-04-07 | 1982-10-13 | Sanyo Electric Co Ltd | Hot water feeder |
| JPS5814325A (ja) * | 1981-07-16 | 1983-01-27 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1983
- 1983-03-24 JP JP58049847A patent/JPS59175032A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59175032A (ja) | 1984-10-03 |
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