JPH06230582A - ポジ型感光性平版印刷版の処理方法 - Google Patents
ポジ型感光性平版印刷版の処理方法Info
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 補充液を補充し循環使用する現像液を用いて
ポジ型PS版を多数枚長期間にわたって安定に処理で
き、現像補充液を補充して長期間処理しても新液時の現
像性が再現でき、網点再現性が低下しない現像処理方法
を提供する。 【構成】 自動現像機を用い、現像補充液を補充して繰
り返し使用するポジ専用のアルカリ性現像液でポジ型感
光性平版印刷版を現像する現像処理方法において、該現
像液がケイ酸アルカリ(例えばケイ酸カリウム)を含有
する水溶液であり、該現像補充液がケイ酸アルカリ及び
ノニオン界面活性剤(例えば平均分子量1000のポリエチ
レングリコール)を含有する水溶液である処理方法。
ポジ型PS版を多数枚長期間にわたって安定に処理で
き、現像補充液を補充して長期間処理しても新液時の現
像性が再現でき、網点再現性が低下しない現像処理方法
を提供する。 【構成】 自動現像機を用い、現像補充液を補充して繰
り返し使用するポジ専用のアルカリ性現像液でポジ型感
光性平版印刷版を現像する現像処理方法において、該現
像液がケイ酸アルカリ(例えばケイ酸カリウム)を含有
する水溶液であり、該現像補充液がケイ酸アルカリ及び
ノニオン界面活性剤(例えば平均分子量1000のポリエチ
レングリコール)を含有する水溶液である処理方法。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明はポジ型感光性平版印刷版
(以下、「ポジ型PS版」という)の処理方法に関し、
更に詳しくは、ポジ型PS版を自動現像機を用い補充液
を補充してポジ型PS版の専用現像液で現像する処理方
法に関する。
(以下、「ポジ型PS版」という)の処理方法に関し、
更に詳しくは、ポジ型PS版を自動現像機を用い補充液
を補充してポジ型PS版の専用現像液で現像する処理方
法に関する。
【0002】
【従来の技術】ポジ型PS版を長期間にわたり多数枚処
理する場合は、従来自動現像機を用い、繰り返し使用す
る現像液に補充液を補充して現像処理するのが一般的で
あり、その場合、補充して現像処理を長期間安定に行う
ことが一つの課題であった。その解決策として、ケイ
酸カリウムを含有する現像液及び現像補充液で現像処理
する方法が特公昭57-7427号で提案され、また現像液
の変動を小さくすることを意図して、現像液に特定の界
面活性剤を添加する技術が開示されている(特開昭59-8
4241号及び同60-129750号)。
理する場合は、従来自動現像機を用い、繰り返し使用す
る現像液に補充液を補充して現像処理するのが一般的で
あり、その場合、補充して現像処理を長期間安定に行う
ことが一つの課題であった。その解決策として、ケイ
酸カリウムを含有する現像液及び現像補充液で現像処理
する方法が特公昭57-7427号で提案され、また現像液
の変動を小さくすることを意図して、現像液に特定の界
面活性剤を添加する技術が開示されている(特開昭59-8
4241号及び同60-129750号)。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記
は、高アルカリの現像液を用いて、よりアルカリ濃度の
高い補充液を用いて補充する方式であって、このような
方式には、アルカリ活性度の変動が大きく、現像の安定
性が充分ではない問題、また、上記によって現像初期
の変動は改善されるものの、長期間の安定性は改善され
ていない問題がある。そして、上記及びとも、現像
の安定性の低下によって特に網点の再現性が劣化する問
題がある。
は、高アルカリの現像液を用いて、よりアルカリ濃度の
高い補充液を用いて補充する方式であって、このような
方式には、アルカリ活性度の変動が大きく、現像の安定
性が充分ではない問題、また、上記によって現像初期
の変動は改善されるものの、長期間の安定性は改善され
ていない問題がある。そして、上記及びとも、現像
の安定性の低下によって特に網点の再現性が劣化する問
題がある。
【0004】本発明の目的は、第1に、ポジ型PS版を
循環使用する現像液を用いて多数枚長期間にわたって安
定に処理できる処理方法を提供すること、第2に、補充
により長期間処理しても、新液時の現像性が再現できる
現像処理方法を提供すること、第3に、補充により長期
間処理しても、網点再現性が低下しない現像処理方法を
提供することである。
循環使用する現像液を用いて多数枚長期間にわたって安
定に処理できる処理方法を提供すること、第2に、補充
により長期間処理しても、新液時の現像性が再現できる
現像処理方法を提供すること、第3に、補充により長期
間処理しても、網点再現性が低下しない現像処理方法を
提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、自
動現像機を用い、現像補充液を補充して繰り返し使用す
るポジ専用のアルカリ性現像液でポジ型感光性平版印刷
版を現像する現像処理方法において、該現像液がケイ酸
アルカリを含有する水溶液であり、該現像補充液がケイ
酸アルカリ及びノニオン界面活性剤を含有する水溶液で
あることを特徴とするポジ型感光性平版印刷版の処理方
法によって達成される。 以下、本発明について詳述する。 本発明方法に用いる現像液及び現像補充液の含有させる
ケイ酸アルカリとしては、例えばケイ酸カリウム、ケイ
酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリ
ウム、ケイ酸アンモニウム等が挙げられる。ケイ酸アル
カリは、好ましくはアルカリ金属のケイ酸塩であり、よ
り好ましくはケイ酸カリウムである。ケイ酸アルカリの
現像液及び現像補充液の含有量は5〜20重量%が好まし
く、SiO2量では3〜6重量%が好ましい。
動現像機を用い、現像補充液を補充して繰り返し使用す
るポジ専用のアルカリ性現像液でポジ型感光性平版印刷
版を現像する現像処理方法において、該現像液がケイ酸
アルカリを含有する水溶液であり、該現像補充液がケイ
酸アルカリ及びノニオン界面活性剤を含有する水溶液で
あることを特徴とするポジ型感光性平版印刷版の処理方
法によって達成される。 以下、本発明について詳述する。 本発明方法に用いる現像液及び現像補充液の含有させる
ケイ酸アルカリとしては、例えばケイ酸カリウム、ケイ
酸ナトリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリ
ウム、ケイ酸アンモニウム等が挙げられる。ケイ酸アル
カリは、好ましくはアルカリ金属のケイ酸塩であり、よ
り好ましくはケイ酸カリウムである。ケイ酸アルカリの
現像液及び現像補充液の含有量は5〜20重量%が好まし
く、SiO2量では3〜6重量%が好ましい。
【0006】本発明の現像補充液に含有させるノニオン
界面活性剤について次に説明する。
界面活性剤について次に説明する。
【0007】ノニオン界面活性剤は大別するとポリエチ
レングリコール型と多価アルコール型に分類することが
でき、どちらも使用できるが、現像性能の点からポリエ
チレングリコール型のノニオン界面活性剤が好ましく、
その中でもエチレンオキシ基(−CH2CH2O−)を3以上
有し、かつHLB値(HLBはHydrophile-Lipophile Balance
の略)が5以上(より好ましくは8〜20)のノニオン界
面活性剤がより好ましい。
レングリコール型と多価アルコール型に分類することが
でき、どちらも使用できるが、現像性能の点からポリエ
チレングリコール型のノニオン界面活性剤が好ましく、
その中でもエチレンオキシ基(−CH2CH2O−)を3以上
有し、かつHLB値(HLBはHydrophile-Lipophile Balance
の略)が5以上(より好ましくは8〜20)のノニオン界
面活性剤がより好ましい。
【0008】ノニオン界面活性剤のうち、エチレンオキ
シ基とプロピレンオキシ基の両者を有するものが特に好
ましく、そのなかでHLB値が8以上のものがより好まし
い。
シ基とプロピレンオキシ基の両者を有するものが特に好
ましく、そのなかでHLB値が8以上のものがより好まし
い。
【0009】ノニオン界面活性剤の好ましい例として下
記一般式〔1〕〜〔8〕で表される化合物が挙げられ
る。
記一般式〔1〕〜〔8〕で表される化合物が挙げられ
る。
【0010】
【化1】
【0011】〔1〕〜〔8〕式において、Rは水素原子
又は1価の有機基を表す。該有機基としては、例えば直
鎖もしくは分岐の炭素数1〜30の、置換基{例えばアリ
ール基(フェニル等)}を有していてもよいアルキル
基、アルキル部分が上記アルキル基であるアルキルカル
ボニル基、置換基(例えばヒドロキシル基、上記のよう
なアルキル基等)を有していてもよいフェニル基等が挙
げられる。a、b、c、m、n、x及びyは各々1〜40
の整数を表す。
又は1価の有機基を表す。該有機基としては、例えば直
鎖もしくは分岐の炭素数1〜30の、置換基{例えばアリ
ール基(フェニル等)}を有していてもよいアルキル
基、アルキル部分が上記アルキル基であるアルキルカル
ボニル基、置換基(例えばヒドロキシル基、上記のよう
なアルキル基等)を有していてもよいフェニル基等が挙
げられる。a、b、c、m、n、x及びyは各々1〜40
の整数を表す。
【0012】ノニオン界面活性剤の具体例を示す。
【0013】ポリエチレングリコール、ポリオキシエチ
レンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエー
テル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシ
エチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンセチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンベヘニル
エーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレンステアリルアミン、ポリオキシエチレ
ンオレイルアミン、ポリオキシエチレンステアリン酸ア
ミド、ポリオキシエチレンオレイン酸アミド、ポリオキ
シエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレンアビエチルエ
ーテル、ポリオキシエチレンラノリンエーテル、ポリオ
キシエチレンモノラウレート、ポリオキシエチレンモノ
ステアレート、ポリオキシエチレングリセリルモノオレ
ート、ポリオキシエチレングリセルモノステアレート、
ポリオキシエチレンプロピレングリコールモノステアレ
ート、オキシエチレンオキシプロピレンブロックポリマ
ー、ジスチレン化フェノールポリエチレンオキシド付加
物、トリベンジルフェノールポリエチレンオキシド付加
物、オクチルフェノールポリオキシエチレンポリオキシ
プロピレン付加物、グリセロールモノステアレート、ソ
ルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノラウレート等。
レンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエー
テル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシ
エチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレ
イルエーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、
ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンセチルエーテ
ル、ポリオキシエチレンポリオキシプロピレンベヘニル
エーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポ
リオキシエチレンステアリルアミン、ポリオキシエチレ
ンオレイルアミン、ポリオキシエチレンステアリン酸ア
ミド、ポリオキシエチレンオレイン酸アミド、ポリオキ
シエチレンヒマシ油、ポリオキシエチレンアビエチルエ
ーテル、ポリオキシエチレンラノリンエーテル、ポリオ
キシエチレンモノラウレート、ポリオキシエチレンモノ
ステアレート、ポリオキシエチレングリセリルモノオレ
ート、ポリオキシエチレングリセルモノステアレート、
ポリオキシエチレンプロピレングリコールモノステアレ
ート、オキシエチレンオキシプロピレンブロックポリマ
ー、ジスチレン化フェノールポリエチレンオキシド付加
物、トリベンジルフェノールポリエチレンオキシド付加
物、オクチルフェノールポリオキシエチレンポリオキシ
プロピレン付加物、グリセロールモノステアレート、ソ
ルビタンモノラウレート、ポリオキシエチレンソルビタ
ンモノラウレート等。
【0014】ノニオン界面活性剤の重量平均分子量は30
0〜10000の範囲が好ましく、500〜5000の範囲が特に好
ましい。
0〜10000の範囲が好ましく、500〜5000の範囲が特に好
ましい。
【0015】現像補充液のノニオン界面活性剤の含有量
は、0.01〜10重量%の範囲であり、好ましくは0.02〜2
重量%の範囲である。
は、0.01〜10重量%の範囲であり、好ましくは0.02〜2
重量%の範囲である。
【0016】現像補充液は2液以上で構成しても良い
が、補充装置の供給部、収容タンク等が複雑になり、装
置が大きくなる等の理由から、現像補充液は1液で構成
することが好ましい。
が、補充装置の供給部、収容タンク等が複雑になり、装
置が大きくなる等の理由から、現像補充液は1液で構成
することが好ましい。
【0017】ノニオン界面活性剤は、現像液にも含有さ
せることができるが、ノニオン界面活性剤の濃度は、現
像補充液より現像液の方が低いことが好ましく、現像補
充液中のノニオン界面活性剤の濃度が現像液の2倍以上
であることが好ましい。現像液中にはノニオン界面活性
剤を含有させないことが最も好ましい。
せることができるが、ノニオン界面活性剤の濃度は、現
像補充液より現像液の方が低いことが好ましく、現像補
充液中のノニオン界面活性剤の濃度が現像液の2倍以上
であることが好ましい。現像液中にはノニオン界面活性
剤を含有させないことが最も好ましい。
【0018】現像液のpH(25℃、以下同じ)は、12以
上13.5以下が好ましく、現像補充液のpHは、12.5以上1
4以下が好ましく、現像補充液のpHが現像液のpHより
0.5以上高いことが好ましい。
上13.5以下が好ましく、現像補充液のpHは、12.5以上1
4以下が好ましく、現像補充液のpHが現像液のpHより
0.5以上高いことが好ましい。
【0019】本発明に用いる現像液及び現像補充液に
は、ケイ酸アルカリ以外のアルカリ剤を含有させること
ができる。そのようなアルカリ剤として、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナ
トリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウ
ム、第二リン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、第
二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アン
モニウムなどのような無機アルカリ剤、モノ-、ジ-又は
トリエタノールアミンおよび水酸化テトラアルキルのよ
うな有機アルカリ剤及び有機ケイ酸アンモニウム等が挙
げられる。上記アルカリ剤の現像液中の含有量は0.05〜
20重量%の範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜10重
量%の範囲である。
は、ケイ酸アルカリ以外のアルカリ剤を含有させること
ができる。そのようなアルカリ剤として、水酸化カリウ
ム、水酸化ナトリウム、水酸化リチウム、第三リン酸ナ
トリウム、第二リン酸ナトリウム、第三リン酸カリウ
ム、第二リン酸カリウム、第三リン酸アンモニウム、第
二リン酸アンモニウム、メタケイ酸ナトリウム、重炭酸
ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸アン
モニウムなどのような無機アルカリ剤、モノ-、ジ-又は
トリエタノールアミンおよび水酸化テトラアルキルのよ
うな有機アルカリ剤及び有機ケイ酸アンモニウム等が挙
げられる。上記アルカリ剤の現像液中の含有量は0.05〜
20重量%の範囲が好ましく、より好ましくは0.1〜10重
量%の範囲である。
【0020】本発明の現像液及び現像補充液は、特願平
1-175249号明細書第4頁第20行〜第5頁第19行、同第9
頁第13行〜第16頁第8行に記載のアニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤、有機カルボン酸、有機溶剤、還元
剤等の添加剤を含有することができる。
1-175249号明細書第4頁第20行〜第5頁第19行、同第9
頁第13行〜第16頁第8行に記載のアニオン界面活性剤、
カチオン界面活性剤、有機カルボン酸、有機溶剤、還元
剤等の添加剤を含有することができる。
【0021】本発明に係るポジ型PS版は、PS版の支持体
として通常用いられる支持体上にo−キノンジアジド化
合物を感光成分として含有する感光性組成物を塗設して
なるものである。該支持体としては、例えば特開昭62
−175757号公報の第6頁右下欄第15行〜第7頁右
上欄第11行に記載されているような支持体が挙げられ
る。
として通常用いられる支持体上にo−キノンジアジド化
合物を感光成分として含有する感光性組成物を塗設して
なるものである。該支持体としては、例えば特開昭62
−175757号公報の第6頁右下欄第15行〜第7頁右
上欄第11行に記載されているような支持体が挙げられ
る。
【0022】前記o-キノンジアジド化合物としては、例
えばo-ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノール
類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル
化合物が挙げられる。
えばo-ナフトキノンジアジドスルホン酸と、フェノール
類及びアルデヒド又はケトンの重縮合樹脂とのエステル
化合物が挙げられる。
【0023】前記フェノール類としては、例えば、フェ
ノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、
3,5-キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価
フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等
の二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の
三価フェノール等が挙げられる。
ノール、o-クレゾール、m-クレゾール、p-クレゾール、
3,5-キシレノール、カルバクロール、チモール等の一価
フェノール、カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン等
の二価フェノール、ピロガロール、フロログルシン等の
三価フェノール等が挙げられる。
【0024】前記アルデヒドとしてはホルムアルデヒ
ド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンア
ルデヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうち
好ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒド
である。又、前記ケトンとしてはアセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
ド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、クロトンア
ルデヒド、フルフラール等が挙げられる。これらのうち
好ましいものはホルムアルデヒド及びベンズアルデヒド
である。又、前記ケトンとしてはアセトン、メチルエチ
ルケトン等が挙げられる。
【0025】前記重縮合樹脂の具体的な例としては、フ
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m-クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、m-,p-混合クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロ
ガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。
ェノール・ホルムアルデヒド樹脂、m-クレゾール・ホル
ムアルデヒド樹脂、m-,p-混合クレゾール・ホルムアル
デヒド樹脂、レゾルシン・ベンズアルデヒド樹脂、ピロ
ガロール・アセトン樹脂等が挙げられる。
【0026】前記o-ナフトキノンジアジド化合物のフェ
ノール類のOH基に対するo-ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸の縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
ノール類のOH基に対するo-ナフトキノンジアジドスルホ
ン酸の縮合率(OH基1個に対する反応率)は、15〜80%
が好ましく、より好ましくは20〜45%である。
【0027】更にo-キノンジアジド化合物としては特開
昭58-43451号公報に記載のある以下の化合物も使用でき
る。即ち例えば1,2-ベンゾキノンジアジドスルホン酸エ
ステル、1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2-ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1,2-
ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,
2-キノンジアジド化合物、更に具体的にはジェイ・コサ
ール(J.Kosar)著「ライト・センシティブ・システム
ズ」(“Light―Sensitive Systems")第339〜352頁(1
965年)、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wi
ley & Sons)社(ニューヨーク)やダブリュー・エス
・ディー・フォレスト(W.S.De Forest)著「フォトレ
ジスト」(“Photoresist")第50巻,(1975年)、マグ
ローヒル(Mc Graw−Hill)社(ニューヨーク)に記載
されている1,2-ベンゾキノンジアジド-4-スルホン酸フ
ェニルエステル、1,2,1′,2′-ジ-(ベンゾキノンジア
ジド-4-スルホニル)-ジヒドロキシビフェニル、1,2-ベ
ンゾキノンジアジド-4-(N-エチル-M-β-ナフチル)-ス
ルホンアミド、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン
酸シクロヘキシルエステル、1-(1,2-ナフトキノンジア
ジド-5-スルホニル)-3,5-ジメチルピラゾール、1,2-ナ
フトキノンジアジド-5-スルホン酸-4″-ヒドロキシジフ
ェニル-4″-アゾ-β-ナフトールエステル、N,N-ジ-(1,
2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニル)-アニリン、
2′-(1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニルオキ
シ)-1-ヒドロキシ-アントラキノン、1,2-ナフトキノン
ジアジド-5-スルホン酸-2,4-ジヒドロキシベンゾフェノ
ンエステル、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸-
2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2-ナ
フトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド2モルと4,
4′-ジアミノベンゾフェノン1モルの縮合物、1,2-ナフ
トキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド2モルと4,4′-
ジヒドロキシ-1,1′-ジフェニルスルホン1モルの縮合
物、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド
1モルとプルプロガリン1モルの縮合物、1,2-ナフトキ
ノンジアジド-5-(N-ジヒドロアビエチル)-スルホンアミ
ドなどの1,2-キノンジアジド化合物を挙げることができ
る。又、特公昭37-1953号、同37-3627号、同37-13109
号、同40-26126号、同40-3801号、同45-5604号、同45-2
7345号、同51-13013号、特開昭48-96575号、同48-63802
号、同48-63803号各公報に記載された1,2-キノンジアジ
ド化合物をも挙げることができる。
昭58-43451号公報に記載のある以下の化合物も使用でき
る。即ち例えば1,2-ベンゾキノンジアジドスルホン酸エ
ステル、1,2-ナフトキノンジアジドスルホン酸エステ
ル、1,2-ベンゾキノンジアジドスルホン酸アミド、1,2-
ナフトキノンジアジドスルホン酸アミドなどの公知の1,
2-キノンジアジド化合物、更に具体的にはジェイ・コサ
ール(J.Kosar)著「ライト・センシティブ・システム
ズ」(“Light―Sensitive Systems")第339〜352頁(1
965年)、ジョン・ウィリー・アンド・サンズ(John Wi
ley & Sons)社(ニューヨーク)やダブリュー・エス
・ディー・フォレスト(W.S.De Forest)著「フォトレ
ジスト」(“Photoresist")第50巻,(1975年)、マグ
ローヒル(Mc Graw−Hill)社(ニューヨーク)に記載
されている1,2-ベンゾキノンジアジド-4-スルホン酸フ
ェニルエステル、1,2,1′,2′-ジ-(ベンゾキノンジア
ジド-4-スルホニル)-ジヒドロキシビフェニル、1,2-ベ
ンゾキノンジアジド-4-(N-エチル-M-β-ナフチル)-ス
ルホンアミド、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン
酸シクロヘキシルエステル、1-(1,2-ナフトキノンジア
ジド-5-スルホニル)-3,5-ジメチルピラゾール、1,2-ナ
フトキノンジアジド-5-スルホン酸-4″-ヒドロキシジフ
ェニル-4″-アゾ-β-ナフトールエステル、N,N-ジ-(1,
2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニル)-アニリン、
2′-(1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホニルオキ
シ)-1-ヒドロキシ-アントラキノン、1,2-ナフトキノン
ジアジド-5-スルホン酸-2,4-ジヒドロキシベンゾフェノ
ンエステル、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸-
2,3,4-トリヒドロキシベンゾフェノンエステル、1,2-ナ
フトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド2モルと4,
4′-ジアミノベンゾフェノン1モルの縮合物、1,2-ナフ
トキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド2モルと4,4′-
ジヒドロキシ-1,1′-ジフェニルスルホン1モルの縮合
物、1,2-ナフトキノンジアジド-5-スルホン酸クロリド
1モルとプルプロガリン1モルの縮合物、1,2-ナフトキ
ノンジアジド-5-(N-ジヒドロアビエチル)-スルホンアミ
ドなどの1,2-キノンジアジド化合物を挙げることができ
る。又、特公昭37-1953号、同37-3627号、同37-13109
号、同40-26126号、同40-3801号、同45-5604号、同45-2
7345号、同51-13013号、特開昭48-96575号、同48-63802
号、同48-63803号各公報に記載された1,2-キノンジアジ
ド化合物をも挙げることができる。
【0028】
【実施例】次に、本発明を実施例でより具体的に説明す
る。
る。
【0029】実施例1 現像処理するポジ型PS版を下記のようにして作成し
た。
た。
【0030】厚さ0.24mmのJIS-1050アルミニウム板を2
%の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、脱脂処理を行
った後に、希硝酸溶液中にて電気化学的に粗面化し、よ
く洗浄した後に希硫酸溶液中で陽極酸化処理を行って2.
5g/m2の酸化皮膜を上記アルミニウム板表面上に形成さ
せた。このように処理されたアルミニウム板を水洗、乾
燥後、下記組成の感光液を乾燥重量2.5g/m2となるよう
に塗布し、乾燥してポジ型PS版を得た。
%の水酸化ナトリウム水溶液中に浸漬し、脱脂処理を行
った後に、希硝酸溶液中にて電気化学的に粗面化し、よ
く洗浄した後に希硫酸溶液中で陽極酸化処理を行って2.
5g/m2の酸化皮膜を上記アルミニウム板表面上に形成さ
せた。このように処理されたアルミニウム板を水洗、乾
燥後、下記組成の感光液を乾燥重量2.5g/m2となるよう
に塗布し、乾燥してポジ型PS版を得た。
【0031】 感光性塗布液組成 ナフトキノン-(1,2)-ジアジド-(2)-5-スルホン酸クロライド とピロガロール・アセトン樹脂とのエステル化合物 (特開昭60-143345号公報合成例2に記載された化合物) 2重量部 フェノールとm-,p-混合クレゾールとホルムアルデヒドとの 共重縮合樹脂(合成時のフェノール、m-クレゾール及びp- クレゾールの各々の仕込みモル比が20:48:32、重量平均 分子量Mw=7400、数平均分子量Mn=1400) 6.5重量部 p-tert-オクチルフェノールとホルムアルデヒドより合成さ れたノボラック樹脂とナフトキノン-(1,2)-ジアジド-(2) -5-スルホン酸クロライドとのエステル化合物 (縮合率:50モル%、Mw =1700) 0.1重量部 ビクトリア・ピュア・ブルーBOH(保土ケ谷化学(株)製) 0.08重量部 エチルセロソルブ 80重量部 メチルセロソルブ 20重量部 下記現像液(1)の30lを図1に示す自動現像機に仕込
み、下記現像補充液(1)を現像補充液タンクに入れた。
み、下記現像補充液(1)を現像補充液タンクに入れた。
【0032】 現像液(1) pH(25℃)=12.7 Aケイ酸カリウム(SiO2:26重量%,K2O:13重量%) 120重量部 水酸化カリウム 13重量部 水 620重量部 現像補充液(1) pH(25℃)=13.7 Aケイ酸カリウム(SiO2:26重量%,K2O:13重量%) 70重量部 水酸化カリウム 30重量部 エマルゲン147(花王(株)製,非イオン界面活性剤) 2重量部 水 350重量部 自動現像機としては図1に示す構成のものを使用した。
該自動現像機は、感光性平版印刷版を挿入する入口部
A、現像を行う現像部B、水洗を行う水洗部C、リンス
処理又は不感脂化処理を行うリンス・ガム部D、乾燥を
行う乾燥部E、及び感光性平版印刷版の自動現像機への
挿入を検知し、かつ挿入された感光性平版印刷版の面積
を検出するセンサ及び制御機構から主として構成されて
いる。PSは感光性平版印刷版又はその搬送路である。
該自動現像機は、感光性平版印刷版を挿入する入口部
A、現像を行う現像部B、水洗を行う水洗部C、リンス
処理又は不感脂化処理を行うリンス・ガム部D、乾燥を
行う乾燥部E、及び感光性平版印刷版の自動現像機への
挿入を検知し、かつ挿入された感光性平版印刷版の面積
を検出するセンサ及び制御機構から主として構成されて
いる。PSは感光性平版印刷版又はその搬送路である。
【0033】入口部Aは、感光性平版印刷版の挿入を案
内する挿入台1、感光性平版印刷版を反射光で検知する
光センサ2、感光性平版印刷版をニップして搬送するニ
ップ搬送ローラ3A、3Bを備えている。現像部Bは、
感光性平版印刷版をニップ搬送ローラ3A、3B、搬送
ローラ4により、現像槽5に容れた現像液中を湾曲して
搬送するようになっており、現像槽5中での浸漬現像中
に現像液を感光性平版印刷版の感光層面に噴射させる処
理液吐出ノズル6A、6B、処理液吐出ノズル6A、6
Bへ現像液を送るマグネットポンプ7、感光性平版印刷
版の表面をこすって現像を促進させるブラシローラ8、
感光性平版印刷版を支持する版押えローラ9、現像液の
温度を所定の温度範囲に保たせるためのヒータ10、現像
補充液を容れる現像補充液タンク11、現像補充液を現像
槽5へ送るベローズポンプ12、希釈水を容れる希釈水タ
ンク15、希釈水を現像槽5へ送るベローズポンプ16、光
センサ2からの感光性平版印刷版の検出信号に基づいて
面積を検出する面積計算現像補充回路17、現像廃液タン
ク18、オーバーフローを現像廃液タンク18へ導く配管19
から主として構成されている。水洗部Cは、水洗水を容
れる水洗水槽20、マグネットポンプ21、処理液吐出ノズ
ル6A、6B、ニップ搬送ローラ3A、3Bから主とし
て構成されている。リンス・ガム部Dはリンス液又は不
感脂化液を容れるリンス・ガム液槽30、マグネットポン
プ31、処理液吐出ノズル6A、6B、リンス・ガム廃液
タンク36、オーバーフローをリンス・ガム廃液タンク36
へ導く配管37から主として構成されている。乾燥部E
は、温風吐出ノズル40A、40B、ニップ搬送ローラ3
A、3Bから主として構成されている。
内する挿入台1、感光性平版印刷版を反射光で検知する
光センサ2、感光性平版印刷版をニップして搬送するニ
ップ搬送ローラ3A、3Bを備えている。現像部Bは、
感光性平版印刷版をニップ搬送ローラ3A、3B、搬送
ローラ4により、現像槽5に容れた現像液中を湾曲して
搬送するようになっており、現像槽5中での浸漬現像中
に現像液を感光性平版印刷版の感光層面に噴射させる処
理液吐出ノズル6A、6B、処理液吐出ノズル6A、6
Bへ現像液を送るマグネットポンプ7、感光性平版印刷
版の表面をこすって現像を促進させるブラシローラ8、
感光性平版印刷版を支持する版押えローラ9、現像液の
温度を所定の温度範囲に保たせるためのヒータ10、現像
補充液を容れる現像補充液タンク11、現像補充液を現像
槽5へ送るベローズポンプ12、希釈水を容れる希釈水タ
ンク15、希釈水を現像槽5へ送るベローズポンプ16、光
センサ2からの感光性平版印刷版の検出信号に基づいて
面積を検出する面積計算現像補充回路17、現像廃液タン
ク18、オーバーフローを現像廃液タンク18へ導く配管19
から主として構成されている。水洗部Cは、水洗水を容
れる水洗水槽20、マグネットポンプ21、処理液吐出ノズ
ル6A、6B、ニップ搬送ローラ3A、3Bから主とし
て構成されている。リンス・ガム部Dはリンス液又は不
感脂化液を容れるリンス・ガム液槽30、マグネットポン
プ31、処理液吐出ノズル6A、6B、リンス・ガム廃液
タンク36、オーバーフローをリンス・ガム廃液タンク36
へ導く配管37から主として構成されている。乾燥部E
は、温風吐出ノズル40A、40B、ニップ搬送ローラ3
A、3Bから主として構成されている。
【0034】上記ポジ型PS版に、透明ポジティブフィ
ルム及び感度測定用ステップタブレット(イーストマン
・コダック社製,No.2,濃度差0.15ずつ21段階のグレ
ースケール)を密着して、2kWメタルハライドランプ
を光源として8.0mW/cm2の条件で70cmの距離から60秒
間露光した。現像は、30℃で12秒間行った。水洗水は18
l仕込み、リンス・ガム部Dでは、コニカPS版用リン
ス液SRW−1の8倍希釈液を使用したリンス処理を行
った。
ルム及び感度測定用ステップタブレット(イーストマン
・コダック社製,No.2,濃度差0.15ずつ21段階のグレ
ースケール)を密着して、2kWメタルハライドランプ
を光源として8.0mW/cm2の条件で70cmの距離から60秒
間露光した。現像は、30℃で12秒間行った。水洗水は18
l仕込み、リンス・ガム部Dでは、コニカPS版用リン
ス液SRW−1の8倍希釈液を使用したリンス処理を行
った。
【0035】現像補充条件としては、処理補充は20ml
/m2、経時補充は55ml/h、日間補充(自動現像機の
非稼働期間での補充)は48ml/hとした。1日当たり
菊全サイズのポジ型PS版を100版処理し、1カ月間こ
の処理を繰り返した。新液時から1カ月後に得られた印
刷版は、いずれも良好な画像再現性を示し、印刷でも汚
れることなく良好な印刷物が多数枚得られた。
/m2、経時補充は55ml/h、日間補充(自動現像機の
非稼働期間での補充)は48ml/hとした。1日当たり
菊全サイズのポジ型PS版を100版処理し、1カ月間こ
の処理を繰り返した。新液時から1カ月後に得られた印
刷版は、いずれも良好な画像再現性を示し、印刷でも汚
れることなく良好な印刷物が多数枚得られた。
【0036】比較例1 現像補充液(1)からエマルゲン147を除いたほかは実施
例1と同様の実験を行った。その結果、新液時から1カ
月後に得られた印刷版は、いずれも印刷で汚れることは
なかったが、1カ月後の印刷版では、小点が飛びぎみに
なり、やや画質の悪い印刷物となった。
例1と同様の実験を行った。その結果、新液時から1カ
月後に得られた印刷版は、いずれも印刷で汚れることは
なかったが、1カ月後の印刷版では、小点が飛びぎみに
なり、やや画質の悪い印刷物となった。
【0037】実施例2 下記現像液(2)の30lを図1に示す自動現像機の現像槽
5に仕込み、下記現像補充液(2)を現像補充液タンク1
1に入れ、その他は実施例1と同様の条件で実験を行っ
た。
5に仕込み、下記現像補充液(2)を現像補充液タンク1
1に入れ、その他は実施例1と同様の条件で実験を行っ
た。
【0038】 現像液(2) pH(25℃)=12.7 Aケイ酸カリウム(SiO2:26重量%,K2O:13重量%) 重量部 水酸化カリウム 重量部 水 重量部 現像補充液(2) pH(25℃)=13.7 Aケイ酸カリウム(SiO2:26重量%,K2O:13重量%) 69重量部 水酸化カリウム 29重量部 ポリエチレングリコール(平均分子量) 1重量部 水 330重量部 以上の実施例1及び2並びに比較例1の結果を下記表1
に示す。表1中、クリア段数は完全に現像除去された部
分、ベタ段数はステップウエッジの完全硬化部の段数を
示し、印刷物の品質の欄の記号の意味は下記のとおりで
ある。
に示す。表1中、クリア段数は完全に現像除去された部
分、ベタ段数はステップウエッジの完全硬化部の段数を
示し、印刷物の品質の欄の記号の意味は下記のとおりで
ある。
【0039】○:印刷物の品質が良好 △:小点の飛びがあり、やや画質が悪い
【0040】
【表1】
【0041】
【発明の効果】本発明によれば、補充液を補充して循環
使用する現像液を用いてポジ型PS版を多数枚長期間に
わたって安定に処理でき、補充により長期間処理して
も、新液時の現像性が再現でき、また網点再現性が劣化
しない現像処理方法が提供される。
使用する現像液を用いてポジ型PS版を多数枚長期間に
わたって安定に処理でき、補充により長期間処理して
も、新液時の現像性が再現でき、また網点再現性が劣化
しない現像処理方法が提供される。
【図1】実施例に使用した自動現像機の概略構成図であ
る。
る。
A 入口部 B 現像部 C 水洗部 D リンス・ガム部 E 乾燥部 2 センサ 15 希釈水タンク 32 リンス・ガム液タンク
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 安達 裕 東京都日野市さくら町1番地コニカ株式会 社内
Claims (1)
- 【請求項1】自動現像機を用い、現像補充液を補充して
繰り返し使用するポジ専用のアルカリ性現像液でポジ型
感光性平版印刷版を現像する現像処理方法において、該
現像液がケイ酸アルカリを含有する水溶液であり、該現
像補充液がケイ酸アルカリ及びノニオン界面活性剤を含
有する水溶液であることを特徴とするポジ型感光性平版
印刷版の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1549993A JPH06230582A (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | ポジ型感光性平版印刷版の処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1549993A JPH06230582A (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | ポジ型感光性平版印刷版の処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06230582A true JPH06230582A (ja) | 1994-08-19 |
Family
ID=11890508
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1549993A Pending JPH06230582A (ja) | 1993-02-02 | 1993-02-02 | ポジ型感光性平版印刷版の処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06230582A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1273972A1 (en) * | 2001-07-04 | 2003-01-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developer for photopolymerizable presensitized plate for use in making lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
| CN1304123C (zh) * | 2000-12-15 | 2007-03-14 | 富士胶片株式会社 | 感光性平版印刷版的制造方法 |
| EP1956428A2 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes |
-
1993
- 1993-02-02 JP JP1549993A patent/JPH06230582A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1304123C (zh) * | 2000-12-15 | 2007-03-14 | 富士胶片株式会社 | 感光性平版印刷版的制造方法 |
| EP1273972A1 (en) * | 2001-07-04 | 2003-01-08 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developer for photopolymerizable presensitized plate for use in making lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
| US6641980B2 (en) | 2001-07-04 | 2003-11-04 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Developer for photopolymerizable presensitized plate for use in making lithographic printing plate and method for preparing lithographic printing plate |
| EP1956428A2 (en) | 2007-02-06 | 2008-08-13 | FUJIFILM Corporation | Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and cyanine dyes |
| EP2592475A1 (en) | 2007-02-06 | 2013-05-15 | Fujifilm Corporation | Photosensitive composition, lithographic printing plate precursor, lithographic printing method, and novel cyanine dyes |
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