JPH0624681B2 - バ−ニツシユ装置 - Google Patents

バ−ニツシユ装置

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JPH0624681B2
JPH0624681B2 JP61042741A JP4274186A JPH0624681B2 JP H0624681 B2 JPH0624681 B2 JP H0624681B2 JP 61042741 A JP61042741 A JP 61042741A JP 4274186 A JP4274186 A JP 4274186A JP H0624681 B2 JPH0624681 B2 JP H0624681B2
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JP
Japan
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polishing
polishing tape
magnetic material
air
air nozzle
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JP61042741A
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周二 中田
章弘 鈴木
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Fujifilm Holdings Corp
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Fuji Photo Film Co Ltd
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  • Finish Polishing, Edge Sharpening, And Grinding By Specific Grinding Devices (AREA)
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Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、加圧エアを利用して磁気材料に研磨テープを
圧接させて該磁気材料の研磨面を研磨するバーニッシュ
装置に関するものである。
(従来技術) 磁気ディスク等の磁気材料の表面(研磨面)を研磨テー
プによって研磨するバーニッシュ装置の中には、本出願
人が出願した特願昭59-256290号に記載されている様
な、加圧エアを利用して研磨テープと研磨面とを接触さ
せて研磨する装置がある。かかる装置は、第6図に示す
ように、矢印A方向に回転駆動可能な磁気ディスク1の
両面1a,1b側の相対する位置に2つのエアノズル22,23
を設け、磁気ディスクの研磨面1aの側のエアノズル22と
研磨面1aとの間にガイドローラで支持された研磨テープ
24を介装して成る。したがって、この研磨面1aのエアノ
ズル22のエア噴出口22aからエアが噴出されると研磨テ
ープ24が研磨面1a側へバックアップされ、研磨面1aの反
対の面1b側のエアノズル23のエア噴出口23aからエアが
噴出されると磁気ディスク1が研磨テープ24側へバック
アップされ、両バックアップにより研磨テープ(24)が研
磨面1aに圧接せしめられる。前記研磨テープバックアッ
プ用エアノズル22は先端部が断面半円型に形成され、研
磨テープ24は該ノズル22の先端部の弧に沿って矢印B方
向に移送され、矢印A方向に回転している磁気ディスク
の研磨面1aに圧接して該面1aを研磨する。
一般に、このようなバーニッシュ装置のバーニッシュ効
果に影響を及ぼすものは、バーニッシュ時間,研磨面の
回転数,エア圧力の3種類である。バーニッシュ時間,
回転数は磁気ディスク表面の平滑均一性を左右し、エア
圧力はバーニッシュ深さを左右する。バーニッシュ時間
を短縮することは能率向上につながるが、同じバーニッ
シュ効果を得るためには研磨面の回転数を多くすること
が必要である。
しかし、前記装置においては、磁気ディスクの回転数を
多くした場合、研磨テープと磁気ディスクの研磨面との
間に空気層が形成される。このため加圧エアによる研磨
面と研磨テープの圧接に支障をきたし、研磨効果が低下
してしまう。したがって、磁気ディスクを高速回転させ
て研磨効率をあげるのは不可能であった。
(発明の目的) 本発明は、前記のような問題点に鑑み、研磨効率がよい
バーニッシュ装置の提供を目的とするものである。
(発明の構成) 本発明によるバーニッシュ装置は、研磨テープバックア
ップ用エアノズルの先端部のうちエア噴出口から磁気材
料の送り方向後方側の部分を、研磨面に対して20度以上
の角度をなすテーパー面状に形成したことを特徴とする
ものである。
このバーニッシュ装置は、磁気ディスク等の磁気材料の
研磨面に対向して研磨テープバックアップ用エアノズル
が配設されさらに、前記磁気材料を挟んで前記エアノズ
ルに相対する位置に磁気材料バックアップ用エアノズル
が配設されている。前記磁気材料は研磨面の全面的研磨
を可能にするために前記両エアノズルに対して相対移動
するように構成されている。
前記磁気材料の研磨面と研磨テープバックアップ用エア
ノズルとの間には研磨テープが介装されている。研磨テ
ープバックアップ用エアノズルから加圧エアが噴出され
ると、前記研磨テープがバックアップされ、磁気材料バ
ックアップ用エアノズルからの加圧エアの噴出により磁
気材料がバックアップされ、研磨面と研磨テープとが圧
接される。研磨テープバックアップ用エアノズルは、前
述の如く、その先端部のうちエア噴出口から磁気材料の
送り方向後方側の部分が研磨面と20度以上をなすテーパ
ー面状に形成されている。
(実施例) 以下図面により本発明の実施例を詳細に説明する。
第1図は磁気ディスク用バーニッシュ装置の全体正面
図、第2図は駆動機構を省略して示す斜視図、第3図は
ノズル部分の断面図である。
図示の磁気ディスク1は下側の面1aと上側の面1bのうち
下側の面1aのみが記録再生を行なう磁性面、すなわち研
磨すべき面(研磨面)として構成されている。かかる磁
気ディスク1は、最内周部1cが回転軸2の先端のバキュ
ームチャック2aによって保持され、図示しない駆動機構
で上記回転軸2が回転駆動され、磁気ディスク1が例え
ば1000〜3000rpmで高速回転される。
前記磁気ディスク1の研磨面1aに対して研磨テープ3の
砥粒面3aを圧接して研磨を行なう。この研磨テープ3と
磁気ディスク1との圧接は、相対向するエアノズル4,
5から吹き付けられた加圧エアの風圧によって得るもの
である。
すなわち、磁気ディスク1の下面(研磨面)側には研磨
テープ3をバックアップするための研磨テープバックア
ップ用エアノズル4が配設され、この研磨テープバック
アップ用エアノズル4のエア噴出口4aが磁気ディスク1
の研磨面1aに近接して開口し、エア噴出口4aと磁気ディ
スク1との間に研磨テープ3が介装されている。また、
前記磁気ディスク1の上面側には前記研磨テープバック
アップ用エアノズル4に対向して磁気ディスク1の研磨
テープ3により研磨圧力を担持するための磁気ディスク
バックアップ用エアノズル5が配設され、この磁気ディ
スクバックアップ用エアノズル5のエア噴出口5aが研磨
テープ3の接触部の反対面側の磁気ディスク1に近接し
て開口している。
第3図に示すように前記研磨テープバックアップ用エア
ノズル4は、その先端部が2つのテーパー面4c,4dを有
する断面山形に形成され、その山形の頂部に前記エア噴
出口4aが開口せしめられている。上記一方のテーパー面
4c、すなわち研磨テープバックアップ用エアノズル先端
部のうちエア噴出口4aより磁気材料1の送り方向(矢印
A方向、すなわちエアノズル4,5に対して相対移動す
る方向)後方側の部分に形成されたテーパー面4cは磁気
材料の研磨面1aと角度θ1を成し、他方のテーパー面4d
は磁気材料の研磨面1aと角度θ2を成している。
上記角度θ1は20°以上であることが必要であり、好ま
しくは20°≦θ1≦56°になるようにテーパー面4cを形
成すべきである。上記角度θ2は、特に限定されないが2
5°≦θ2≦45°であることが好ましく、図示のものはθ
2=29°となるようにテーパー面4dが形成されている。
なお、このエアノズル先端部のうちエア噴出口4aより磁
気材料1の送り方向前方側の部分は、必ずしも図示の如
きテーパー面4dである必要はなく、例えば従来の様に断
面円弧状であっても良い。
また、磁気ディスクバックアップ用エアノズル5の先端
形状は特に限定されるものではなく、任意の適当な形を
取り得る。
前記エアノズル4,5は基板6に所定間隔をもって固着
され、この基板6を介して所定圧力の加圧エアが中心部
の導入通路4b,5bに導入され、この導入通路4b,5bから
スリット状のエア噴出口4a,5aに連通され噴出される。
前記エアノズル4,5に供給される加圧エアの圧力は、
例えば6Kg/cm2以下の範囲で可変であり、この加圧エ
アの圧力調節によって、研磨テープ3と磁気ディスク1
との接触圧の変更による研磨深さの調整ができ、研磨テ
ープバックアップ用エアノズル4に対する圧力が1.0〜
2.5Kg/cm2程度に限定された際に、磁気ディスクバック
アップ用エアノズル5に対する圧力は1.5〜4.0Kg/cm2
程度に設定するのが好ましい。
一方、上記研磨テープ3は研磨テープバックアップ用エ
アノズル4の両側に配設されたガイドローラ7,8に掛
けられ、図示しない送り機構によって、磁気ディスク1
の回転方向(送り方向A)と反対方向(矢印B方向)に
走行するように間歇送りが行なわれ、走行速度は例えば
7mm/sec程度である。また、この研磨テープ3として
は、砥粒面3aに設けられている砥粒が例えば酸化クロ
ム,炭化ケイ素系,酸化鉄,酸化アルミナ,ダイヤモン
ド等の材質のものが使用される。
前記構成により、駆動機構で磁気ディスク1を高速回転
している状態で、2つのエアノズル4,5から所定圧の
加圧エアをそれぞれ研磨テープ3および磁気ディスク1
に対して吹き付け、これにより研磨テープ3と磁気ディ
スク1の研磨面1aとを所定の接触圧で圧接して、研磨仕
上げを、例えば0.5〜1.0sec程度の時間行なうものであ
る。
なお、前記研磨テープ3は前記実施例のように磁気ディ
スク1の回転方向と逆方向に走行させた状態で研磨を行
なうほか、同方向に走行させてもよく、また、停止させ
た状態で研磨し、研磨毎に送るようにしてもよい。
また、磁気ディスク1の研磨は下方から行なうほか、上
方から行なうようにしてもよく、さらに、両面が研磨面
である場合は上下から磁気ディスク1の両面を同時に研
磨するようにしてもよく、その際には前記両エアノズル
4,5および研磨テープ3の送り機構をもう一組配設し
て行なうものである。その際にも研磨テープをバックア
ップするエアノズルの先端部のうち磁気ディスクの送り
方向後方側の部分を、磁気ディスクに対して20度以上を
なすテーパー面状とする必要がある。
磁気ディスク表面の研磨後の光沢は、研磨面の表面粗さ
と反比例の関係にある。また磁気ディスク表面が粗いと
再生装置挿入時、磁気ヘッドと磁気ディスクとに間隙を
生じ、これにより出力低下等の特性の劣化を生ずる。し
たがって、光沢をよくすることにより磁気ディスク表面
の粗さが減少し磁気ディスクの特性が向上する。
第5図は研磨テープバックアップ用エアノズルの先端形
状(前記角度θ1)と光沢との関係を示す図である。こ
の図に示されているように、断面が従来のような半円状
の先端部から加圧エアを噴出した場合に比べ、θ1が20
°以上をなすテーパー面状に形成した先端部から加圧エ
アを噴出した場合の方が磁気ディスク表面の光沢度が増
す。また、磁気ディスクの回転速度が500rpm等の遅いも
のに比べ、2000rpm〜3000rpm等の高回転数域で特に顕著
に光沢度が増し、バーニッシュ効果があがる。
すなわち、研磨テープバックアップ用エアノズルの磁気
ディスク送り方向後方側の先端部を研磨面に対して20度
以上をなすテーパー面状に形成することにより、高速度
回転によっても研磨テープと研磨面との間に空気層が形
成されることがなく、研磨効率の上昇が図られ、研磨表
面の光沢度を増大させることができる。
また、前記実施例の他に、第4図に示すようにウェブ状
の磁気材料をバーニッシュする場合にも本装置は適用で
きる。図示装置においては、ガイドローラ12,12により
矢印B方向に送られるウェブ状をなす磁気材料11を研磨
テープ13により研磨する際、研磨テープバックアップ用
エアノズル14と磁気材料バックアップ用エアノズル15に
より加圧エアが噴出される。研磨テープバックアップ用
エアノズル14の磁気材料11の送り方向後方側の先端部を
20度以上のテーパー面状14aに形成することにより、前
記磁気ディスク用バーニッシュ装置と同様に、バーニッ
シュ効率をあげることができる。
(発明の効果) 本発明によるバーニッシュ装置は、研磨テープバックア
ップ用エアノズルの先端部のうち磁気材料の送り方向後
方側の部分と研磨面に対して20度以上をなすテーパー面
状に形成したことにより、磁気材料の高速回転による研
磨テープと磁気材料研磨面との間の空気層の形成が防止
できる。このため磁気材料を高速回転させても研磨テー
プと磁気材料との圧接が常に適切に維持され高速回転に
よる能率の向上をはかることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例におけるバーニッシュ装置の
全体正面図、 第2図は駆動機構を省略して示す斜視図、 第3図はノズル部分の断面図、 第4図は他の実施例を示す斜視図、 第5図は研磨面の光沢とエアノズル先端形状との関係を
示す図、 第6図は従来例の要部を示す断面図である。 1…磁気材料、1a…研磨面 3,13…研磨テープ 4,14…研磨テープバックアップ用エアノズル 4c,14a…テーパー面 5,15…磁気ディスクバックアップ用エアノズル 4a,5a…エア噴出口

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】磁気材料の研磨面に対向して配設された研
    磨テープバックアップ用エアノズルと、該磁気材料を挟
    んで該研磨テープバックアップ用エアノズルに相対する
    位置に配設された磁気材料バックアップ用エアノズルと
    を備え、前記研磨テープバックアップ用エアノズルと前
    記研磨面との間に研磨テープを介装し、前記磁気材料を
    前記両ノズルに対して相対移動させると共に前記両ノズ
    ルから前記磁気材料に向って加圧エアを噴出させて前記
    研磨面と研磨テープとを圧接させることにより前記研磨
    面の研磨を行なうように構成したバーニッシュ装置にお
    いて、 前記研磨テープバックアップ用エアノズルの先端部のう
    ちエア噴出口から前記磁気材料の送り方向後方側の部分
    が前記研磨面に対して20度以上をなすテーパー面状に形
    成されていることを特徴とするバーニッシュ装置。
JP61042741A 1986-02-27 1986-02-27 バ−ニツシユ装置 Expired - Lifetime JPH0624681B2 (ja)

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