JPH06263660A - 含フツ素芳香族化合物 - Google Patents
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Abstract
(57)【要約】 (修正有)
【目的】 耐熱温度範囲が広く、耐水性の高い磁性流体
等を得るために有効な含フツ素芳香族化合物及びそれか
らなるシランカツプリング剤を提供する。 【構成】 一般式1の含フツ素芳香族化合物及びその化
合物からなる含フツ素芳香族シランカツプリング剤。 (XはH,F,Cl,C1〜20のアルキル基又はC
1〜20のアルコキシ基、pは1〜4の整数、Yは−C
OCH3,−COOC2H5,−CH(OH)CH3,
−C(CH3)2OH,−CH=CH2,−C(C
H3)=CH2,−CAB(CH2)mSi(CH3)
nZ3−n,A及びBはH又はCH3,ZはCl,OC
H3又はOC2H5,m及びnは0又は1,RfはC
1〜20のフルオロアルキル基又はC1〜100のフル
オロポリエーテル基を示す)。
等を得るために有効な含フツ素芳香族化合物及びそれか
らなるシランカツプリング剤を提供する。 【構成】 一般式1の含フツ素芳香族化合物及びその化
合物からなる含フツ素芳香族シランカツプリング剤。 (XはH,F,Cl,C1〜20のアルキル基又はC
1〜20のアルコキシ基、pは1〜4の整数、Yは−C
OCH3,−COOC2H5,−CH(OH)CH3,
−C(CH3)2OH,−CH=CH2,−C(C
H3)=CH2,−CAB(CH2)mSi(CH3)
nZ3−n,A及びBはH又はCH3,ZはCl,OC
H3又はOC2H5,m及びnは0又は1,RfはC
1〜20のフルオロアルキル基又はC1〜100のフル
オロポリエーテル基を示す)。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は含フツ素芳香族化合物及
びそれからなるシランカツプリング剤に関する。
びそれからなるシランカツプリング剤に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、無機物と有機物を組み合わせた複
合材料は、その高性能・高機能化によつて様々な分野で
利用されている。また、複合材料においては、異種素材
間の界面の制御は極めて重要な問題である。その手法の
1つとして、シランカツプリング剤による無機材料の表
面改質が挙げられる。しかしシランカツプリング剤に、
撥水・撥油性、高潤滑性及び耐化学薬品性等の特異な性
質を有するフツ化炭素鎖が導入されるようになると、接
着性の向上とは異なる機能を有する表面改質剤として応
用がますます注目されるようになつた。
合材料は、その高性能・高機能化によつて様々な分野で
利用されている。また、複合材料においては、異種素材
間の界面の制御は極めて重要な問題である。その手法の
1つとして、シランカツプリング剤による無機材料の表
面改質が挙げられる。しかしシランカツプリング剤に、
撥水・撥油性、高潤滑性及び耐化学薬品性等の特異な性
質を有するフツ化炭素鎖が導入されるようになると、接
着性の向上とは異なる機能を有する表面改質剤として応
用がますます注目されるようになつた。
【0003】例えば磁性流体は粉砕法、解膠法、あるい
は水溶液中吸着−有機相分散法により得ることができる
が、いずれの場合も親溶媒性を持たせるために、マグネ
タイトあるいは鉄などの強磁性体微粒子表面に界面活性
剤を吸着させて改質し、ベースオイルに分散させるもの
である。しかし、界面活性剤を用いた磁性流体は耐熱
性、耐寒性、耐薬品性、絶縁性などの点で不十分であ
る。とくに強磁性体微粒子の分散安定化のために使われ
る界面活性剤は通常親水基を有しており、磁性流体を用
いて水あるいは高湿度気体などをシールする場合、磁性
流体中に水が溶解して界面活性剤が離脱し、磁性流体の
劣化をもたらす。また、炭化水素系オイルをベースオイ
ルとした磁性流体は耐熱温度範囲が−20℃〜150℃であ
り、寒冷地での固化や高温域での酸化による劣化が生じ
るため、改良が期待されている。
は水溶液中吸着−有機相分散法により得ることができる
が、いずれの場合も親溶媒性を持たせるために、マグネ
タイトあるいは鉄などの強磁性体微粒子表面に界面活性
剤を吸着させて改質し、ベースオイルに分散させるもの
である。しかし、界面活性剤を用いた磁性流体は耐熱
性、耐寒性、耐薬品性、絶縁性などの点で不十分であ
る。とくに強磁性体微粒子の分散安定化のために使われ
る界面活性剤は通常親水基を有しており、磁性流体を用
いて水あるいは高湿度気体などをシールする場合、磁性
流体中に水が溶解して界面活性剤が離脱し、磁性流体の
劣化をもたらす。また、炭化水素系オイルをベースオイ
ルとした磁性流体は耐熱温度範囲が−20℃〜150℃であ
り、寒冷地での固化や高温域での酸化による劣化が生じ
るため、改良が期待されている。
【0004】本発明者らは耐熱温度範囲が広く、耐水性
の高い磁性流体開発を目的として研究を行つた。そして
磁性粒子表面を含フツ素芳香族シランカツプリング剤を
用いて改質し分散させること、ならびに耐熱温度範囲の
広いフツ素系オイルを分散媒(ベースオイル)に使用す
ることにより上記目的が達成されることを見出した。
の高い磁性流体開発を目的として研究を行つた。そして
磁性粒子表面を含フツ素芳香族シランカツプリング剤を
用いて改質し分散させること、ならびに耐熱温度範囲の
広いフツ素系オイルを分散媒(ベースオイル)に使用す
ることにより上記目的が達成されることを見出した。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は耐熱温
度範囲が広く、耐水性の高い磁性流体等を得るために有
効に用いられる含フツ素芳香族化合物及びそれからなる
シランカツプリング剤を提供することにある。
度範囲が広く、耐水性の高い磁性流体等を得るために有
効に用いられる含フツ素芳香族化合物及びそれからなる
シランカツプリング剤を提供することにある。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は一般式化2で表
される含フツ素芳香族化合物に係る。
される含フツ素芳香族化合物に係る。
【0007】
【化2】
【0008】(XはH、F、Cl、C1〜20のアルキル基
又はC1〜20のアルコキシ基、pは1〜4の整数、Yは
−COCH3、−COOC2H5、−CH(OH)CH3、
−C(CH3)2OH、−CH=CH2、−C(CH3)=
CH2、−CAB(CH2)mSi(CH3)nZ3-n 、A及
びBはH又はCH3、ZはCl、OCH3又はOC2H5、
m及びnは0又は1、RfはC1〜20のフルオロアルキル
基又はC1〜100のフルオロポリエーテル基を示す)。
又はC1〜20のアルコキシ基、pは1〜4の整数、Yは
−COCH3、−COOC2H5、−CH(OH)CH3、
−C(CH3)2OH、−CH=CH2、−C(CH3)=
CH2、−CAB(CH2)mSi(CH3)nZ3-n 、A及
びBはH又はCH3、ZはCl、OCH3又はOC2H5、
m及びnは0又は1、RfはC1〜20のフルオロアルキル
基又はC1〜100のフルオロポリエーテル基を示す)。
【0009】又、本発明は上記Yが−CAB(CH2)m
Si(CH3)nZ'3-n(A、B、m、nは上記に同じ、
Z’はOCH3又はOC2H5を示す)である一般式
(1)の化合物からなる含フツ素芳香族シランカツプリ
ング剤に係る。
Si(CH3)nZ'3-n(A、B、m、nは上記に同じ、
Z’はOCH3又はOC2H5を示す)である一般式
(1)の化合物からなる含フツ素芳香族シランカツプリ
ング剤に係る。
【0010】本発明においてC1〜20のアルキル基とし
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、ノニル基、ドデシル基、ヘプタデシル
基、エイコシル基等を挙げることができる。又、C
1〜20のアルコキシ基としては上記アルキル基に対応す
るアルコキシ基を例示することができる。
ては、例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘキシル基、ノニル基、ドデシル基、ヘプタデシル
基、エイコシル基等を挙げることができる。又、C
1〜20のアルコキシ基としては上記アルキル基に対応す
るアルコキシ基を例示することができる。
【0011】又、C1〜20のフルオロアルキル基として
は、例えばCF3(CF2)l−,l=0〜19、(CF3)2
CF(CF2)p−,p=0〜17、H(CF2)q−,q=1
〜20等の基を挙げることができる。
は、例えばCF3(CF2)l−,l=0〜19、(CF3)2
CF(CF2)p−,p=0〜17、H(CF2)q−,q=1
〜20等の基を挙げることができる。
【0012】C1〜100のフルオロポリエーテル基として
は例えば、F(CF2CF2CF2O)r−,r=1〜33、
F〔CF2CF(CF3)O〕r−,r=1〜33、F〔C
F(CF3)CF2O〕s(CF2O)t−,s=0〜33,t
=0〜100、CF3O(CF2CF2O)u(CF2O)v−,
u=0〜49,v=0〜99等の基を挙げることができる。
は例えば、F(CF2CF2CF2O)r−,r=1〜33、
F〔CF2CF(CF3)O〕r−,r=1〜33、F〔C
F(CF3)CF2O〕s(CF2O)t−,s=0〜33,t
=0〜100、CF3O(CF2CF2O)u(CF2O)v−,
u=0〜49,v=0〜99等の基を挙げることができる。
【0013】本発明の含フツ素芳香族化合物のうちY=
−CH(OH)CH3の化合物は例えば一般式化3の含
フツ素芳香族アルデヒドにメチルマグネシウムハライド
を反応させ、次いで加水分解することにより得られる。
−CH(OH)CH3の化合物は例えば一般式化3の含
フツ素芳香族アルデヒドにメチルマグネシウムハライド
を反応させ、次いで加水分解することにより得られる。
【0014】
【化3】
【0015】この化合物を更に脱水することによりY=
−CH=CH2の化合物が得られる。
−CH=CH2の化合物が得られる。
【0016】本発明の含フツ素芳香族化合物のうちY=
−COCH3の化合物は例えば一般式化4のアセチルフ
エニルブロマイド誘導体とRfD(Rfは前記に同じ、D
はハロゲン原子を示す)を反応させることにより得られ
る。
−COCH3の化合物は例えば一般式化4のアセチルフ
エニルブロマイド誘導体とRfD(Rfは前記に同じ、D
はハロゲン原子を示す)を反応させることにより得られ
る。
【0017】
【化4】
【0018】この化合物を次いで還元することによりY
=−CH(OH)CH3の化合物が得られる。更にこの
化合物を脱水することによりY=−CH=CH2の化合
物が得られる。
=−CH(OH)CH3の化合物が得られる。更にこの
化合物を脱水することによりY=−CH=CH2の化合
物が得られる。
【0019】又、Y=−COOC2H5の化合物は例えば
一般式化5のエチルヨードベンゾエート誘導体とRfD
(Rf、Dは前記に同じ)を反応させることにより得ら
れる。
一般式化5のエチルヨードベンゾエート誘導体とRfD
(Rf、Dは前記に同じ)を反応させることにより得ら
れる。
【0020】
【化5】
【0021】この化合物を次いでメチルマグネシウムハ
ライドと反応させることによりY=−C(CH3)2OH
の化合物が得られ、これを更に脱水することによりY=
−C(CH3)=CH2の化合物が得られる。
ライドと反応させることによりY=−C(CH3)2OH
の化合物が得られ、これを更に脱水することによりY=
−C(CH3)=CH2の化合物が得られる。
【0022】Y=−CAB(CH2)mSi(CH3)nCl
3-nの化合物は例えば一般式化6のスチレン誘導体とH
Si(CH3)nCl3-nを反応させることにより得られる。
3-nの化合物は例えば一般式化6のスチレン誘導体とH
Si(CH3)nCl3-nを反応させることにより得られる。
【0023】
【化6】
【0024】又、この化合物を次いでナトリウムメトキ
シドと反応させることによりY=−CAB(CH2)mSi
(CH3)n(OCH3)3-nの化合物が得られる。
シドと反応させることによりY=−CAB(CH2)mSi
(CH3)n(OCH3)3-nの化合物が得られる。
【0025】上記の各反応の代表例を化学反応式で例示
すると例えば下記の通りである。
すると例えば下記の通りである。
【0026】
【化7】
【0027】本発明の上記化合物は通常公知の方法、例
えば抽出、濃縮、蒸留、再結晶、クロマトグラフイー等
の方法により分離、精製することができる。
えば抽出、濃縮、蒸留、再結晶、クロマトグラフイー等
の方法により分離、精製することができる。
【0028】本発明の上記化合物のうち、Y=−CAB
(CH2)mSi(CH3)nZ'3-nである化合物はシランカ
ツプリング剤として有用である。例えばこの含フツ素芳
香族シランカツプリング剤を用いて磁性粒子表面を改質
することができ、この改質された磁性粒子を分散媒(ベ
ースオイル)に分散させることにより磁性流体を得るこ
とができる。
(CH2)mSi(CH3)nZ'3-nである化合物はシランカ
ツプリング剤として有用である。例えばこの含フツ素芳
香族シランカツプリング剤を用いて磁性粒子表面を改質
することができ、この改質された磁性粒子を分散媒(ベ
ースオイル)に分散させることにより磁性流体を得るこ
とができる。
【0029】磁性粒子としては例えばマグネタイト、マ
グヘマイト、サマリウム−コバルト、窒化鉄等の磁性を
有する粉体なら種類を問わない。分散媒としては例えば
メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロ
パノール等のCwH2w+1OH(w=1〜18)で表される
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、n−ヘキサン、イソオクタン、ヘプ
タン、工業用ガソリン、トルエン、キシレン等の炭化水
素類、ナフタレン、炭素数1〜20のアルキル基を1〜2
個置換基として有するナフタレン等のナフタレン骨格を
有する液体化合物、トリクロロトリフルオロエタン(F
−113)、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)(P
CTFE)〔商品名ダイフロイル、ダイキン工業(株)
製〕、パーフルオロポリエーテル〔商品名デムナム、ダ
イキン工業(株)製、商品名クライトツクス、デユポン
社製、商品名フオンブリン、モンテフルオス社製〕等の
フツ素系オイル等を挙げることができる。特に耐熱温度
範囲の広いフツ素系オイルが好ましい。
グヘマイト、サマリウム−コバルト、窒化鉄等の磁性を
有する粉体なら種類を問わない。分散媒としては例えば
メタノール、エタノール、n−プロパノール、イソプロ
パノール等のCwH2w+1OH(w=1〜18)で表される
アルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチル
イソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、酢酸ブチ
ル等のエステル類、n−ヘキサン、イソオクタン、ヘプ
タン、工業用ガソリン、トルエン、キシレン等の炭化水
素類、ナフタレン、炭素数1〜20のアルキル基を1〜2
個置換基として有するナフタレン等のナフタレン骨格を
有する液体化合物、トリクロロトリフルオロエタン(F
−113)、ポリ(クロロトリフルオロエチレン)(P
CTFE)〔商品名ダイフロイル、ダイキン工業(株)
製〕、パーフルオロポリエーテル〔商品名デムナム、ダ
イキン工業(株)製、商品名クライトツクス、デユポン
社製、商品名フオンブリン、モンテフルオス社製〕等の
フツ素系オイル等を挙げることができる。特に耐熱温度
範囲の広いフツ素系オイルが好ましい。
【0030】上記磁性流体を作成するに際して、磁性粒
子を分散媒中で安定に存在させるためには、作成の各段
階において磁性粒子の凝集を防ぐ必要があり、微粒子状
態を維持したまま粒子表面を含フツ素芳香族シランカツ
プリング剤で改質する方法が要求される。このためには
例えば磁性粒子の表面を界面活性剤で処理し、次いで該
シランカツプリング剤と接触させて、磁性粒子表面に吸
着された界面活性剤を該シランカツプリング剤で置換す
る方法が有効であることを見出した。ここで界面活性剤
としては例えばオレイン酸、ステアリン酸、ミリスチン
酸、エアロゾルOT(AOT)、ノニルフエニルエーテ
ル類、フツ素系界面活性剤等を挙げることができる。
子を分散媒中で安定に存在させるためには、作成の各段
階において磁性粒子の凝集を防ぐ必要があり、微粒子状
態を維持したまま粒子表面を含フツ素芳香族シランカツ
プリング剤で改質する方法が要求される。このためには
例えば磁性粒子の表面を界面活性剤で処理し、次いで該
シランカツプリング剤と接触させて、磁性粒子表面に吸
着された界面活性剤を該シランカツプリング剤で置換す
る方法が有効であることを見出した。ここで界面活性剤
としては例えばオレイン酸、ステアリン酸、ミリスチン
酸、エアロゾルOT(AOT)、ノニルフエニルエーテ
ル類、フツ素系界面活性剤等を挙げることができる。
【0031】本発明では微小な磁性粒子にオレイン酸等
の界面活性剤を吸着し、かつ、安定な分散状態にある磁
性流体を用いて、これに含フツ素芳香族シランカツプリ
ング剤を反応させることにより、界面活性剤を脱離さ
せ、粒径の小さい状態を維持したまま含フツ素芳香族シ
ランカツプリング剤を結合させることにより界面活性剤
の大部分(オレイン酸の場合、99%)が離脱し、ほぼ定
量的に置換されることを見出した。界面活性剤は磁性粒
子表面に吸着し、溶媒中に磁性粒子を分散させているが
吸着平衡の状態にある。含フツ素芳香族シランカツプリ
ング剤は磁性粒子表面の水酸基と共有結合するため、一
度結合した含フツ素芳香族シランカツプリング剤は離脱
せず、つぎつぎと置換が起こり、ほとんどの界面活性剤
が脱離するものと思われる。又。この方法で得られた磁
性粒子はF−113及びPCTFE等のフツ素系オイル
に容易に分散することにより、微小な粒径(4〜7nm、
平均粒径5.5nm)を維持しているものと考えられる。界
面活性剤を使用しない改質では、磁性粒子の凝集体表面
に含フツ素芳香族シランカツプリング剤が結合し、微小
な粒子への表面改質は不可能であつた。
の界面活性剤を吸着し、かつ、安定な分散状態にある磁
性流体を用いて、これに含フツ素芳香族シランカツプリ
ング剤を反応させることにより、界面活性剤を脱離さ
せ、粒径の小さい状態を維持したまま含フツ素芳香族シ
ランカツプリング剤を結合させることにより界面活性剤
の大部分(オレイン酸の場合、99%)が離脱し、ほぼ定
量的に置換されることを見出した。界面活性剤は磁性粒
子表面に吸着し、溶媒中に磁性粒子を分散させているが
吸着平衡の状態にある。含フツ素芳香族シランカツプリ
ング剤は磁性粒子表面の水酸基と共有結合するため、一
度結合した含フツ素芳香族シランカツプリング剤は離脱
せず、つぎつぎと置換が起こり、ほとんどの界面活性剤
が脱離するものと思われる。又。この方法で得られた磁
性粒子はF−113及びPCTFE等のフツ素系オイル
に容易に分散することにより、微小な粒径(4〜7nm、
平均粒径5.5nm)を維持しているものと考えられる。界
面活性剤を使用しない改質では、磁性粒子の凝集体表面
に含フツ素芳香族シランカツプリング剤が結合し、微小
な粒子への表面改質は不可能であつた。
【0032】
【実施例】以下に実施例を挙げて詳しく説明する。
【0033】実施例1 ナスフラスコにマグネシウム(3.71g/0.153mol)を入
れて窒素置換し、エーテル 30mlを加える。これに、静
かに撹拌しながらヨウ化メチル(24.4g/0.172mol)の
エーテル(20ml)溶液を徐々に滴下した後、30分加熱還
流する。これを室温まで冷却し4−トリフルオロメチル
ベンズアルデヒド(25.1g/0.144mol)のエーテル(20m
l)溶液を徐々に滴下して、2時間加熱還流する。これ
に、氷冷下で水を30ml滴下し、さらに塩酸(2N)を水
層が透明になるまで加える。水層とエーテル層を分離
し、水層からエーテル抽出し、エーテル層と合わせて食
塩水で3回洗浄する。エーテルを除去し、減圧蒸留して
式CF3C6H4CH(OH)CH3で示される1−(1−
ヒドロキシエチル)−4−トリフルオロメチルベンゼン
〔化合物(I)〕を得た。bp 53〜55℃(50.5Pa)、無
色透明液体、収率98.3%。
れて窒素置換し、エーテル 30mlを加える。これに、静
かに撹拌しながらヨウ化メチル(24.4g/0.172mol)の
エーテル(20ml)溶液を徐々に滴下した後、30分加熱還
流する。これを室温まで冷却し4−トリフルオロメチル
ベンズアルデヒド(25.1g/0.144mol)のエーテル(20m
l)溶液を徐々に滴下して、2時間加熱還流する。これ
に、氷冷下で水を30ml滴下し、さらに塩酸(2N)を水
層が透明になるまで加える。水層とエーテル層を分離
し、水層からエーテル抽出し、エーテル層と合わせて食
塩水で3回洗浄する。エーテルを除去し、減圧蒸留して
式CF3C6H4CH(OH)CH3で示される1−(1−
ヒドロキシエチル)−4−トリフルオロメチルベンゼン
〔化合物(I)〕を得た。bp 53〜55℃(50.5Pa)、無
色透明液体、収率98.3%。
【0034】実施例2 化合物(I)(27.0g/0.142mol)に、硫酸水素カリウム
(7g)と4−tert−ブチルカテコール(重合禁止剤;
0.01g)を加え、オイルバスを用いて150〜180℃で蒸留
し、全留分をとる。得られた物にエーテル(20ml)を加
えて水と分離し、エーテル層に硫酸ナトリウムを加えて
脱水し、濾過する。濾液からエーテルを除去し、再び4
−tert−ブチルカテコールを加えて減圧蒸留して式CF
3C6H4CH=CH2で示される4−トリフルオロメチル
スチレン〔化合物(II)〕を得た。bp 78〜80℃(2660
Pa)、無色透明液体、収率76.5%。
(7g)と4−tert−ブチルカテコール(重合禁止剤;
0.01g)を加え、オイルバスを用いて150〜180℃で蒸留
し、全留分をとる。得られた物にエーテル(20ml)を加
えて水と分離し、エーテル層に硫酸ナトリウムを加えて
脱水し、濾過する。濾液からエーテルを除去し、再び4
−tert−ブチルカテコールを加えて減圧蒸留して式CF
3C6H4CH=CH2で示される4−トリフルオロメチル
スチレン〔化合物(II)〕を得た。bp 78〜80℃(2660
Pa)、無色透明液体、収率76.5%。
【0035】実施例3 CF3(CF2)3I (24.5g)、4'−ブロモアセトフエ
ノン(14.1g)、Cu粉(24.4g)及びジメチルスルホキ
シド(DMSO,45ml)を、還流管を備えたナスフラス
コに仕込み、窒素下、110℃で20時間反応させる。反応
後、室温まで冷却して、過剰の銅粉を吸引濾過し、濾液
に水とエーテルをそれぞれ50mlずつ加えて更に吸引濾過
する。濾液の水層とエーテル層を分離し、水層よりエー
テルで抽出を行い、エーテル層と合わせて食塩水で3回
程度洗浄する。エーテルを除去し、残留物を減圧蒸留し
て式CF3(CF2)3C6H4COCH3で示されるパーフ
ルオロアルキル置換ベンゾフエノンを得た。bp 55〜58
℃(43.9Pa)、無色透明液体、収率 92.5%。
ノン(14.1g)、Cu粉(24.4g)及びジメチルスルホキ
シド(DMSO,45ml)を、還流管を備えたナスフラス
コに仕込み、窒素下、110℃で20時間反応させる。反応
後、室温まで冷却して、過剰の銅粉を吸引濾過し、濾液
に水とエーテルをそれぞれ50mlずつ加えて更に吸引濾過
する。濾液の水層とエーテル層を分離し、水層よりエー
テルで抽出を行い、エーテル層と合わせて食塩水で3回
程度洗浄する。エーテルを除去し、残留物を減圧蒸留し
て式CF3(CF2)3C6H4COCH3で示されるパーフ
ルオロアルキル置換ベンゾフエノンを得た。bp 55〜58
℃(43.9Pa)、無色透明液体、収率 92.5%。
【0036】実施例4 パーフルオロアルキルアイオダイドとしてCF3(C
F2)5Iを用いた以外は実施例3と同様にして式CF
3(CF2)5C6H4COCH3で示されるパーフルオロア
ルキル置換ベンゾフエノンを得た。bp 78〜80℃(22.6
Pa)、mp 48〜49℃、白色固体、収率 91.8%。
F2)5Iを用いた以外は実施例3と同様にして式CF
3(CF2)5C6H4COCH3で示されるパーフルオロア
ルキル置換ベンゾフエノンを得た。bp 78〜80℃(22.6
Pa)、mp 48〜49℃、白色固体、収率 91.8%。
【0037】実施例5 パーフルオロアルキルアイオダイドとしてCF3(C
F2)7Iを用いた以外は実施例3と同様にして式CF
3(CF2)7C6H4COCH3で示されるパーフルオロア
ルキル置換ベンゾフエノンを得た。bp 102〜105℃(35.
9Pa)、mp 63.5〜64℃、白色固体、収率 93.5%。
F2)7Iを用いた以外は実施例3と同様にして式CF
3(CF2)7C6H4COCH3で示されるパーフルオロア
ルキル置換ベンゾフエノンを得た。bp 102〜105℃(35.
9Pa)、mp 63.5〜64℃、白色固体、収率 93.5%。
【0038】実施例6 ナスフラスコに、窒素下でLiAlH4(1.29g)を仕込ん
でエーテル 30mlに懸濁させ、撹拌しながら実施例3で
得られたCF3(CF2)3C6H4COCH3(22.1g)のエ
ーテル溶液を徐々に滴下し、30分加熱還流する。氷冷下
でH2が出なくなるまで水を加え、10%の硫酸水溶液を
白沈〔Al(OH)3〕が溶解するまで加える。水層とエ
ーテル層を分離し、水層よりエーテルで抽出を行い、エ
ーテル層と合わせて食塩水で洗浄する。エーテルを除去
し、残留物を減圧蒸留して式CF3(CF2)3C6H4CH
(OH)CH3で示される化合物を得た。bp 69〜70℃
(23.9Pa)、無色透明液体、収率98.7%。
でエーテル 30mlに懸濁させ、撹拌しながら実施例3で
得られたCF3(CF2)3C6H4COCH3(22.1g)のエ
ーテル溶液を徐々に滴下し、30分加熱還流する。氷冷下
でH2が出なくなるまで水を加え、10%の硫酸水溶液を
白沈〔Al(OH)3〕が溶解するまで加える。水層とエ
ーテル層を分離し、水層よりエーテルで抽出を行い、エ
ーテル層と合わせて食塩水で洗浄する。エーテルを除去
し、残留物を減圧蒸留して式CF3(CF2)3C6H4CH
(OH)CH3で示される化合物を得た。bp 69〜70℃
(23.9Pa)、無色透明液体、収率98.7%。
【0039】実施例7 実施例4で得られたCF3(CF2)5C6H4COCH3を
用いた以外は実施例6と同様にして式CF3(CF2)5C
6H4CH(OH)CH3で示される化合物を得た。bp 98
〜102℃(66.5Pa)、mp 46〜47.5℃、白色固体、収率9
8.2%。
用いた以外は実施例6と同様にして式CF3(CF2)5C
6H4CH(OH)CH3で示される化合物を得た。bp 98
〜102℃(66.5Pa)、mp 46〜47.5℃、白色固体、収率9
8.2%。
【0040】実施例8 実施例5で得られたCF3(CF2)7C6H4COCH3を
用いた以外は実施例6と同様にして式CF3(CF2)7C
6H4CH(OH)CH3で示される化合物を得た。bp 92
〜93℃(28.6Pa)、mp 58.5〜59℃、白色固体、収率9
8.6%。
用いた以外は実施例6と同様にして式CF3(CF2)7C
6H4CH(OH)CH3で示される化合物を得た。bp 92
〜93℃(28.6Pa)、mp 58.5〜59℃、白色固体、収率9
8.6%。
【0041】実施例9 実施例6で得られたCF3(CF2)3C6H4CH(OH)
CH3(22.7g)に窒素下でトルエンと硫酸水素カリウム
(8g)を加えて、オイルバスを用いて95℃で18時間加
熱撹拌する。冷却後、4−tert−ブチルカテコール(重
合禁止剤;0.01g)を加えて減圧蒸留し、式CF3(CF
2)3C6H4CH=CH2で示されるパーフルオロアルキル
スチレン化合物を得た。bp 46.5〜48℃(33.3Pa)、無
色透明液体、収率90.2%。
CH3(22.7g)に窒素下でトルエンと硫酸水素カリウム
(8g)を加えて、オイルバスを用いて95℃で18時間加
熱撹拌する。冷却後、4−tert−ブチルカテコール(重
合禁止剤;0.01g)を加えて減圧蒸留し、式CF3(CF
2)3C6H4CH=CH2で示されるパーフルオロアルキル
スチレン化合物を得た。bp 46.5〜48℃(33.3Pa)、無
色透明液体、収率90.2%。
【0042】実施例10 実施例7で得られたCF3(CF2)5C6H4CH(OH)
CH3を用いた以外は実施例9と同様にして式CF3(C
F2)5C6H4CH=CH2で示されるパーフルオロアルキ
ルスチレン化合物を得た。bp 63〜65℃(32Pa)、無色
透明液体、収率90.8%。
CH3を用いた以外は実施例9と同様にして式CF3(C
F2)5C6H4CH=CH2で示されるパーフルオロアルキ
ルスチレン化合物を得た。bp 63〜65℃(32Pa)、無色
透明液体、収率90.8%。
【0043】実施例11 実施例8で得られたCF3(CF2)7C6H4CH(OH)
CH3を用いた以外は実施例9と同様にして式CF3(C
F2)7C6H4CH=CH2で示されるパーフルオロアルキ
ルスチレン化合物を得た。bp 75〜76℃(32.6Pa)、無
色透明液体、収率88.4%。
CH3を用いた以外は実施例9と同様にして式CF3(C
F2)7C6H4CH=CH2で示されるパーフルオロアルキ
ルスチレン化合物を得た。bp 75〜76℃(32.6Pa)、無
色透明液体、収率88.4%。
【0044】実施例12 CF3(CF2)3I (14.1g)、4−ヨード安息香酸エチ
ル(10.9g)、Cu粉(8.89g)及びDMSO(35ml)
を、還流管を備えたナスフラスコに仕込み、窒素下、11
0℃で18時間反応させる。反応後、室温まで冷却して、
過剰の銅粉を吸引濾過し、濾液に水とエーテルをそれぞ
れ50mlずつ加えて更に吸引濾過する。濾液の水層とエー
テル層を分離し、水層よりエーテルで抽出を行い、エー
テル層と合わせて食塩水で3回程度洗浄する。エーテル
を除去し、残留物を減圧蒸留して式CF3(CF2)3C6
H4COOC2H5で示されるパーフルオロアルキル置換
安息香酸エチルを得た。bp 63〜65℃(62.5Pa)、無色
透明液体、収率 88.9%。
ル(10.9g)、Cu粉(8.89g)及びDMSO(35ml)
を、還流管を備えたナスフラスコに仕込み、窒素下、11
0℃で18時間反応させる。反応後、室温まで冷却して、
過剰の銅粉を吸引濾過し、濾液に水とエーテルをそれぞ
れ50mlずつ加えて更に吸引濾過する。濾液の水層とエー
テル層を分離し、水層よりエーテルで抽出を行い、エー
テル層と合わせて食塩水で3回程度洗浄する。エーテル
を除去し、残留物を減圧蒸留して式CF3(CF2)3C6
H4COOC2H5で示されるパーフルオロアルキル置換
安息香酸エチルを得た。bp 63〜65℃(62.5Pa)、無色
透明液体、収率 88.9%。
【0045】実施例13 パーフルオロアルキルアイオダイドとしてCF3(C
F2)5Iを用いた以外は実施例12と同様にして式CF3
(CF2)5C6H4COOC2H5で示されるパーフルオロ
アルキル置換安息香酸エチルを得た。bp 77〜79℃(26.
6Pa)、mp 28〜29℃、白色固体、収率 90.3%。
F2)5Iを用いた以外は実施例12と同様にして式CF3
(CF2)5C6H4COOC2H5で示されるパーフルオロ
アルキル置換安息香酸エチルを得た。bp 77〜79℃(26.
6Pa)、mp 28〜29℃、白色固体、収率 90.3%。
【0046】実施例14 パーフルオロアルキルアイオダイドとしてCF3(C
F2)7Iを用いた以外は実施例12と同様にして式CF3
(CF2)7C6H4COOC2H5で示されるパーフルオロ
アルキル置換安息香酸エチルを得た。bp 100〜102℃(2
3.9Pa)、mp 61.5〜63℃、白色固体、収率 74.5%。
F2)7Iを用いた以外は実施例12と同様にして式CF3
(CF2)7C6H4COOC2H5で示されるパーフルオロ
アルキル置換安息香酸エチルを得た。bp 100〜102℃(2
3.9Pa)、mp 61.5〜63℃、白色固体、収率 74.5%。
【0047】実施例15 ナスフラスコにマグネシウム(4.15g)を入れて窒素置
換し、エーテル 30mlを加える。これに、静かに撹拌し
ながらヨウ化メチル(26.6g)のエーテル(10ml)溶液
を徐々に滴下した後、30分加熱還流する。これに実施例
12で得られたCF3(CF2)3C6H4COOC2H5(2
4.6g)のエーテル(30ml)溶液を徐々に滴下して、2時
間加熱還流する。これに、氷冷下で水を50ml滴下し、さ
らに塩酸(2N)を水層が透明になるまで加える。水層
とエーテル層を分離し、水層からエーテル抽出し、エー
テル層と合わせて食塩水で3回洗浄する。エーテルを除
去し、減圧蒸留して式CF3(CF2)3C6H4C(CH3)
2OHで示される化合物を得た。bp 69〜70℃(23.9P
a)、無色透明液体、収率98.2%。
換し、エーテル 30mlを加える。これに、静かに撹拌し
ながらヨウ化メチル(26.6g)のエーテル(10ml)溶液
を徐々に滴下した後、30分加熱還流する。これに実施例
12で得られたCF3(CF2)3C6H4COOC2H5(2
4.6g)のエーテル(30ml)溶液を徐々に滴下して、2時
間加熱還流する。これに、氷冷下で水を50ml滴下し、さ
らに塩酸(2N)を水層が透明になるまで加える。水層
とエーテル層を分離し、水層からエーテル抽出し、エー
テル層と合わせて食塩水で3回洗浄する。エーテルを除
去し、減圧蒸留して式CF3(CF2)3C6H4C(CH3)
2OHで示される化合物を得た。bp 69〜70℃(23.9P
a)、無色透明液体、収率98.2%。
【0048】実施例16 パーフルオロアルキル置換安息香酸エチルとしてCF3
(CF2)5C6H4COOC2H5を用いた以外は実施例1
5と同様にして式CF3(CF2)5C6H4C(CH3)2O
Hで示される化合物を得た。bp 98〜102℃(66.5P
a)、mp 57.5〜58.5℃、白色固体、収率93.1%。
(CF2)5C6H4COOC2H5を用いた以外は実施例1
5と同様にして式CF3(CF2)5C6H4C(CH3)2O
Hで示される化合物を得た。bp 98〜102℃(66.5P
a)、mp 57.5〜58.5℃、白色固体、収率93.1%。
【0049】実施例17 パーフルオロアルキル置換安息香酸エチルとしてCF3
(CF2)7C6H4COOC2H5を用いた以外は実施例1
5と同様にして式CF3(CF2)7C6H4C(CH3)2O
Hで示される化合物を得た。bp 92〜93℃(28.6Pa)、
mp 68〜69℃、白色固体、収率94.7%。
(CF2)7C6H4COOC2H5を用いた以外は実施例1
5と同様にして式CF3(CF2)7C6H4C(CH3)2O
Hで示される化合物を得た。bp 92〜93℃(28.6Pa)、
mp 68〜69℃、白色固体、収率94.7%。
【0050】実施例18 実施例15で得られたCF3(CF2)3C6H4C(CH3)
2OH(22.7g)に窒素下で硫酸水素カリウム(8g)を
加えて、オイルバスを用いて95℃で18時間加熱撹拌す
る。冷却後、4−tert−ブチルカテコール(重合禁止
剤;0.01g)を加えて減圧蒸留し、式CF3(CF2)3C6
H4C(CH3)=CH2で示されるパーフルオロアルキ
ルメチルスチレン化合物を得た。bp 46.5〜48℃(33.3
Pa)、無色透明液体、収率90.2%。
2OH(22.7g)に窒素下で硫酸水素カリウム(8g)を
加えて、オイルバスを用いて95℃で18時間加熱撹拌す
る。冷却後、4−tert−ブチルカテコール(重合禁止
剤;0.01g)を加えて減圧蒸留し、式CF3(CF2)3C6
H4C(CH3)=CH2で示されるパーフルオロアルキ
ルメチルスチレン化合物を得た。bp 46.5〜48℃(33.3
Pa)、無色透明液体、収率90.2%。
【0051】実施例19 実施例16で得られたCF3(CF2)5C6H4C(CH3)
2OHを用いた以外は実施例18と同様にして式CF
3(CF2)5C6H4C(CH3)=CH2で示されるパーフ
ルオロアルキルメチルスチレン化合物を得た。bp 63〜6
5℃(32Pa)、無色透明液体、収率90.8%。
2OHを用いた以外は実施例18と同様にして式CF
3(CF2)5C6H4C(CH3)=CH2で示されるパーフ
ルオロアルキルメチルスチレン化合物を得た。bp 63〜6
5℃(32Pa)、無色透明液体、収率90.8%。
【0052】実施例20 実施例17で得られたCF3(CF2)7C6H4C(CH3)
2OHを用いた以外は実施例18と同様にして式CF
3(CF2)7C6H4C(CH3)=CH2で示されるパーフ
ルオロアルキルメチルスチレン化合物を得た。bp 75〜7
6℃(32.6Pa)、無色透明液体、収率88.4%。
2OHを用いた以外は実施例18と同様にして式CF
3(CF2)7C6H4C(CH3)=CH2で示されるパーフ
ルオロアルキルメチルスチレン化合物を得た。bp 75〜7
6℃(32.6Pa)、無色透明液体、収率88.4%。
【0053】実施例21〜34 表1に示すスチレン化合物(A):CF3(CF2)mC6
H4C(Q)=CH2、シラン化合物(B):HSi(C
H3)nCl3-n、H2PtCl6を用いて式CF3(CF2)mC6
H4CH(Q)CH2Si(CH3)nCl3-nで示される化合
物(III)(β位付加体)、式CF3(CF2)nC6H4C
(Q)(CH3)Si(CH3)mCl3-mで示される化合物
(IV)(α位付加体)を得た。反応は100℃で50時間行
い、反応後、窒素下で減圧蒸留して目的物を得た。化合
物(III)、化合物(IV)はシランカツプリング剤とし
て有用である。
H4C(Q)=CH2、シラン化合物(B):HSi(C
H3)nCl3-n、H2PtCl6を用いて式CF3(CF2)mC6
H4CH(Q)CH2Si(CH3)nCl3-nで示される化合
物(III)(β位付加体)、式CF3(CF2)nC6H4C
(Q)(CH3)Si(CH3)mCl3-mで示される化合物
(IV)(α位付加体)を得た。反応は100℃で50時間行
い、反応後、窒素下で減圧蒸留して目的物を得た。化合
物(III)、化合物(IV)はシランカツプリング剤とし
て有用である。
【0054】
【表1】
【0055】実施例35〜48 表2に示すシランカツプリング剤(C)[化合物(II
I)と(IV)の混合物]、CH3ONaを用いて式CF
3(CF2)mC6H4CH(Q)CH2Si(CH3)n(OC
H3)3-nで示される化合物(V)(β位付加体)、式CF
3(CF2)mC6H4C(Q)(CH3)Si(CH3)n(O
CH3)3-nで示される化合物(VI)(α位付加体)の混
合物を得た。反応はナトリウムメトキシドのメタノール
溶液を加熱還流しながら、シランカツプリング剤を少し
ずつ滴下し、さらに1時間還流を続ける。反応終了後、
メタノールを減圧除去し、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−
トリフルオロエタン(又は四塩化炭素)を加えて、窒素
下でガラスフイルター(No.4)を用いて濾過する。濾
液から1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン
(又は四塩化炭素)を除去し、減圧蒸留して目的物を得
た。化合物(V)、化合物(VI)もシランカツプリング
剤として有用である。
I)と(IV)の混合物]、CH3ONaを用いて式CF
3(CF2)mC6H4CH(Q)CH2Si(CH3)n(OC
H3)3-nで示される化合物(V)(β位付加体)、式CF
3(CF2)mC6H4C(Q)(CH3)Si(CH3)n(O
CH3)3-nで示される化合物(VI)(α位付加体)の混
合物を得た。反応はナトリウムメトキシドのメタノール
溶液を加熱還流しながら、シランカツプリング剤を少し
ずつ滴下し、さらに1時間還流を続ける。反応終了後、
メタノールを減圧除去し、1,1,2−トリクロロ−1,2,2−
トリフルオロエタン(又は四塩化炭素)を加えて、窒素
下でガラスフイルター(No.4)を用いて濾過する。濾
液から1,1,2−トリクロロ−1,2,2−トリフルオロエタン
(又は四塩化炭素)を除去し、減圧蒸留して目的物を得
た。化合物(V)、化合物(VI)もシランカツプリング
剤として有用である。
【0056】
【表2】
【0057】試験例1(撥水撥油性試験) 表3に示す化合物D〜Hのシランカツプリング剤のガラ
ス表面の改質効果について試験した。 ガラス:マツナミ スライドガラス S−7214 接触角計:エルマ光学(株)製 化合物D:CF3(CF2)nC6H4CH2CH2Si(C
H3)(OCH3)2 化合物E:CF3(CF2)nC6H4CH(CH3)CH2S
i(CH3)(OCH3)2 化合物F:CF3(CF2)nC6H4CH2CH2Si(OCH
3)3 化合物G:CF3(CF2)nC6H4CH(CH3)CH2S
i(OCH3)3 化合物H:CF3(CF2)nCH2CH2Si(CH3)(OC
H3)2 (化合物Hは比較例である。) 上記各化合物の10mmol濃度のCFC−113溶液中に、
上記ガラスを浸漬して47℃で1時間加熱した後、ガラス
を取り出し、CFC−113で洗浄、200℃で1時間熱
処理し、30日後に22〜24℃、湿度35〜40%RHの条件
下、1×10-6dm3の液滴の接触角を測定した。水の接触
角で撥水性を、オレイン酸の接触角で撥油性を評価し
た。結果を表3に示す。
ス表面の改質効果について試験した。 ガラス:マツナミ スライドガラス S−7214 接触角計:エルマ光学(株)製 化合物D:CF3(CF2)nC6H4CH2CH2Si(C
H3)(OCH3)2 化合物E:CF3(CF2)nC6H4CH(CH3)CH2S
i(CH3)(OCH3)2 化合物F:CF3(CF2)nC6H4CH2CH2Si(OCH
3)3 化合物G:CF3(CF2)nC6H4CH(CH3)CH2S
i(OCH3)3 化合物H:CF3(CF2)nCH2CH2Si(CH3)(OC
H3)2 (化合物Hは比較例である。) 上記各化合物の10mmol濃度のCFC−113溶液中に、
上記ガラスを浸漬して47℃で1時間加熱した後、ガラス
を取り出し、CFC−113で洗浄、200℃で1時間熱
処理し、30日後に22〜24℃、湿度35〜40%RHの条件
下、1×10-6dm3の液滴の接触角を測定した。水の接触
角で撥水性を、オレイン酸の接触角で撥油性を評価し
た。結果を表3に示す。
【0058】試験例2(耐酸化性試験) 上記試験例1の接触角を測定したガラスを熱濃硝酸中で
100℃で2時間加熱酸化した後、接触角を測定した。結
果を表3に示す。
100℃で2時間加熱酸化した後、接触角を測定した。結
果を表3に示す。
【0059】
【表3】
【0060】
【発明の効果】本発明によれば耐熱温度範囲が広く、耐
水性の高い磁性流体等を得るために有効に用いられる含
フツ素芳香族化合物及びそれからなるシランカツプリン
グ剤が得られる。
水性の高い磁性流体等を得るために有効に用いられる含
フツ素芳香族化合物及びそれからなるシランカツプリン
グ剤が得られる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07C 69/78 9279−4H 69/92 9279−4H C07F 7/12 D 8018−4H 7/18 E 8018−4H C09K 3/18 104 8318−4H
Claims (2)
- 【請求項1】 一般式化1で表される含フツ素芳香族化
合物。 【化1】 (XはH、F、Cl、C1〜20のアルキル基又はC1〜20
のアルコキシ基、pは1〜4の整数、Yは−COC
H3、−COOC2H5、−CH(OH)CH3、−C(C
H3)2OH、−CH=CH2、−C(CH3)=CH2、
−CAB(CH2)mSi(CH3)nZ3-n 、A及びBはH
又はCH3、ZはCl、OCH3又はOC2H5、m及びn
は0又は1、RfはC1〜20のフルオロアルキル基又はC
1〜100のフルオロポリエーテル基を示す)。 - 【請求項2】 Yが−CAB(CH2)mSi(CH3)
nZ'3-n(A、B、m、nは上記に同じ、Z’はOCH3
又はOC2H5を示す)である一般式(1)の化合物から
なる含フツ素芳香族シランカツプリング剤。
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| US08/525,702 US5741922A (en) | 1993-03-12 | 1994-03-09 | Fluorine-containing aromatic compounds |
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|---|---|
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| JPH03106889A (ja) * | 1989-09-20 | 1991-05-07 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | フッ素含有有機ケイ素化合物 |
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1994
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- 1994-03-09 DE DE69414377T patent/DE69414377T2/de not_active Expired - Fee Related
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- 1994-03-09 US US08/525,702 patent/US5741922A/en not_active Expired - Fee Related
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| US9205300B2 (en) | 2010-12-07 | 2015-12-08 | Hitachi, Ltd. | Training system |
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