JPH0629146A - フィルムコンデンサ - Google Patents

フィルムコンデンサ

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JPH0629146A
JPH0629146A JP4180733A JP18073392A JPH0629146A JP H0629146 A JPH0629146 A JP H0629146A JP 4180733 A JP4180733 A JP 4180733A JP 18073392 A JP18073392 A JP 18073392A JP H0629146 A JPH0629146 A JP H0629146A
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JP
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film
film capacitor
poly
styrene
temperature
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JP4180733A
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English (en)
Inventor
Yoshihiro Sakata
芳弘 坂田
Nobuyuki Kume
信行 久米
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 本発明は電子機器等に使用されるフィルムコ
ンデンサに関するもので、その主たる誘電体にシンジオ
タクチック構造を有するスチレン系重合体またはその組
成物からなる二軸延伸フィルムを使用することにより、
低コストで、高耐熱そして安定性の高い優れた電気的性
能を有するフィルムコンデンサを提供することを目的と
する。 【構成】 シンジオタクチック構造を有するスチレン系
重合体またはその組成物からなる二軸延伸フィルムと内
部電極であるアルミニウム箔を交互に巻回してコンデン
サとする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電子機器等に使用される
フィルムコンデンサに関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来からフィルムコンデンサの主たる誘
電体フィルムの素材としてはポリエチレンテレフタレー
ト(PET)、ポリプロピレン(PP)が多く用いら
れ、最近では耐熱性向上を主目的としてポリフェニレン
スルフィド(PPS)を用いたフィルムコンデンサが開
発されている。
【0003】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら、上
記従来の誘電体を用いたフィルムコンデンサにおいて
は、その基本的性能の制約から各種の使用上の課題を有
していた。
【0004】すなわち、PETフィルムを用いたフィル
ムコンデンサは、吸湿による容量経時変化が大きく、温
度等の変化に対する容量変化率・誘電正接の変化が大き
く、高精度を要求される電子回路への使用が困難であ
る。
【0005】また、PPフィルムを用いたフィルムコン
デンサにおいては、電気的性能及び経時変化については
非常に安定性の高いものであるが、誘電率が小さいため
小形化が困難であり、最大の課題としては耐熱性が低い
ため、高温環境下での使用が困難なことである。
【0006】そして、これらの課題を克服する誘電体と
してPPSフィルムを使用したフィルムコンデンサも実
用化されているが、コストが高く、高温領域、特に10
0℃を越える温度範囲において、その20℃に対する静
電容量変化率及び誘電正接変化に非直線性をもってお
り、広い温度範囲での温度補償用途には不向きであると
いう使用上の制約課題を有していた。
【0007】本発明は上記従来の課題を解決するもの
で、優れた電気的性能と高安定性及び高耐熱性を有し、
かつ低コストなフィルムコンデンサを提供することを目
的とするものである。
【0008】
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めに、本発明のフィルムコンデンサは、主たる誘電体が
シンジオタクチック構造を有するスチレン系重合体また
はその組成物からなり、重量平均分子量100,000
〜500,000、230℃−10分間における熱収縮
率が7%以下で摩擦係数が0.6以下である二軸延伸フ
ィルムで構成した。
【0009】本発明におけるシンジオタクチック構造の
スチレン系重合体とは、立体化学構造がシンジオタクチ
ック構造、即ち炭素−炭素結合から形成される主鎖に対
して側鎖であるフェニル基や置換フェニル基が交互に反
対方向に位置する立体構造を有するものであり、そのタ
クティシティ−は同位体炭素による核磁気共鳴法により
定量される。核磁気共鳴法により測定されるタクティシ
ティ−は、連続する複数個の構成単位の存在割合、例え
ば2個の場合はダイアッド、3個の場合はトリアッド、
5個の場合はペンタッドによって示すことができるが、
本発明に言うシンジオタクチック構造を有するスチレン
系重合体とは、通常はラセミダイアッドで75%以上、
好ましくは85%以上、もしくはラセミペンタッドで3
0%以上、好ましくは50%以上のシンジオタクティシ
ティ−を有するポリスチレン、ポリ(アルキルスチレ
ン)、ポリ(ハロゲン化スチレン)、ポリ(アルコキシ
スチレン)、ポリ(ビニル安息香酸エステル)、これら
の水素化重合体及びこれらの混合物、あるいは、これら
の構造単位を含む共重合体を総称する。なお、ここでポ
リ(アルキルスチレン)としては、ポリ(メチルスチレ
ン)、ポリ(エチルスチレン)、ポリ(プロピルスチレ
ン)、ポリ(ブチルスチレン)、ポリ(フェニルスチレ
ン)、ポリ(ビニルナフタレン)、ポリ(ビニルスチレ
ン)、ポリ(アセナスチレン)などがあり、ポリ(ハロ
ゲン化スチレン)としては、ポリ(クロロスチレン)、
ポリ(プロモスチレン)、ポリ(フルオロスチレン)な
どがある。また、ポリ(アルコキシスチレン)として
は、ポリ(メトキシスチレン)、ポリ(エトキシスチレ
ン)などがある。これらのうち、特に好ましいスチレン
系重合体としては、ポリスチレン、ポリ(p-メチルスチ
レン)、ポリ(m−メチルスチレン)、ポリ(p−ター
シャリーブチルスチレン)、ポリ(p−クロロスチレ
ン)、ポリ(m−クロロスチレン)、ポリ(p−フルオ
ロスチレン)、またスチレンとp−メチルスチレンとの
共重合体をあげることができる。
【0010】また、本発明におけるスチレン系重合体の
重量平均分子量は100,000以上500,000以
下が好ましい。
【0011】ここで、分子量が100,000未満であ
ると、フィルムの耐熱性が十分でなく、500,000
を越えると高倍率の延伸が困難で、薄い延伸フィルムの
作成が困難である。
【0012】本発明においては、フィルムの摩擦係数が
0.6以下となるように微粒子を添加する。添加する微
粒子の種類、添加量はフィルムの厚さ、使用目的に応じ
て選定するが、0.01〜3μmの微粒子をスチレン系
重合体に対して0.01〜1wt%含有させるように添
加すればよい。
【0013】ここで、無機微粒子とは、IA族、IIA
族、IVA族、VIA族、VIIA族、VIII族、IB族、IIB
族、IIIB族、IVB族元素の酸化物、水酸化物、硫化
物、窒素化物、ハロゲン化物、炭酸塩、硫酸塩、酢酸
塩、燐酸塩、亜燐酸塩、有機カルボン酸塩、珪酸塩、チ
タン酸塩、硼酸塩及びそれらの含水化合物、それらを中
心とする複合化合物、天然鉱物粒子を示す。
【0014】具体的には、弗化リチウム、硼砂(硼酸ナ
トリウム含水塩)等のIA族元素化合物、炭酸マグネシ
ウム、燐酸マグネシウム、酸化マグネシウム(マグネシ
ア)、塩化マグネシウム、酢酸マグネシウム、弗化マグ
ネシウム、チタン酸マグネシウム、珪酸マグネシウム、
珪酸マグネシウム含水塩(タルク)、炭酸カルシウム、
燐酸カルシウム、亜燐酸カルシウム、硫酸カルシウム
(石膏)、酢酸カルシウム、テレフタル酸カルシウム、
水酸化カルシウム、珪酸カルシウム、弗化カルシウム、
チタン酸カルシウム、チタン酸ストロンチウム、炭酸バ
リウム、燐酸バリウム、硫酸バリウム、亜燐酸バリウム
等のIIA族元素化合物、二酸化チタン(チタニア)、一
酸化チタン、窒化チタン、二酸化ジルコニウム(ジルコ
ニア)、一酸化ジルコニウム等のIVA族元素化合物、二
酸化モリブデン、三酸化モリブデン、硫化モリブデン等
のVIA族元素化合物、塩化マンガン、酢酸マンガン等の
VIIA族元素化合物、塩化コバルト、酢酸コバルト等のV
III族元素化合物、沃化第一銅等のIB族元素化合物、
酸化亜鉛、酢酸亜鉛等のIIB族元素化合物、酸化アルミ
ニウム(アルミナ)、水酸化アルミニウム、弗化アルミ
ニウム、アルミノシリケート(珪酸アルミナ、カオリ
ン、カオリナイト)等のIIIB族元素化合物、酸化珪素
(シリカ、シリカゲル)、石墨、カーボン、グラファイ
ト、ガラス等のIVB族元素化合物、カーナル石、カイナ
イト、雲母(マイカ、キンウンモ)、バイロース鉱等の
天然鉱物の粒子が挙げられる。
【0015】この無機微粒子は最終的な成形品に含有さ
れるが、含有される方法に限定はない。例えば、重合中
の任意の過程で添加或いは析出させる方法、溶融押出す
る任意の過程で添加する方法が挙げられる。
【0016】本発明のフィルムコンデンサに用いられる
のは、上記の如きシンジオタクチック構造のスチレン系
重合体を主原料として形成されるフィルム(以下SPS
フィルム)であり、このフィルムを製造する方法は特に
制限はないが、これらの材料を加熱溶融後、予備成形体
とし、加熱延伸して、さらに熱処理することによって得
られる。
【0017】加熱溶融から熱固定迄の操作を具体的に説
明すれば、次の通りである。まず、上述の如く得られた
スチレン系重合体を成形素材として、これを通常は押出
成形して、延伸用予備成形体(フィルム、シートまたは
チューブ)とする。この成形にあっては、上記成形素材
の加熱溶融したものを押出成形機にて所定形状に成形す
るのが一般的であるが、成形素材を加熱溶融させずに、
軟化した状態で成形してもよい。ここで用いる押出成形
機は、一軸押出成形機、二軸押出成形機のいずれでもよ
く、またベント付き、ベント無しのいずれでもよいが、
一軸のタンデム型が好ましい。なお、押出機には適当な
メッシュを使用すれば、異物等を除去することができ
る。また、メッシュの形状は、平板状、円筒状等適当に
選定して使用することができる。
【0018】また、ここで押出条件は、特に制限はな
く、様々な状況に応じて適宜選定すればよいが、好まし
くは温度を成形素材の融点〜分解温度より50℃程度高
い温度の範囲で選定し、せん断応力を5×106dyn
e/cm2以下とする。用いるダイはT−ダイ、円環ダ
イ等をあげることができる。
【0019】上記押出成形後、得られた延伸用予備成形
体を冷却固化する。この際の冷媒は、気体、液体、金属
ロール等各種のものを使用することができる。金属ロー
ル等を用いる場合、エアナイフ、エアチャンバー、タッ
チロール、静電引荷等の方法によると、厚みムラや波打
ち防止に効果的である。
【0020】冷却固化の温度は、通常は0℃〜延伸用予
備成形体のガラス転移温度より30℃高い温度の範囲、
好ましくはガラス転移温度より70℃程度低い温度〜ガ
ラス転移温度の範囲である。また冷却速度は200〜3
℃/秒の範囲で適宜選択する。
【0021】本発明で用いる延伸フィルムは、冷却、固
化した予備成形体を一軸或いは二軸に延伸することが好
ましい。二軸延伸の場合は縦方向及び横方向に同時に延
伸してもよいが、任意の順序で逐次延伸してもよい。ま
た延伸は一段で行ってもよく、多段で行ってもよい。こ
の延伸倍率は面積比で2倍以上、好ましくは3倍以上で
ある。この範囲の延伸倍率であると、フィルムの結晶化
度が25%以上となり、物性の好ましいものが得られ
る。
【0022】ここで延伸方法としては、テンターによる
方法、ロール間で延伸する方法、気体圧力を利用してバ
ブリングによる方法、圧延による方法など様々であり、
これらを適当に選定或いは組み合わせて適用すればよ
い。延伸温度は、一般には予備成形体のガラス転移温度
と融点の間で設定すればよい。また延伸速度は、通常は
1×10〜1×105%/分、好ましくは1×103〜1
×105%/分である。
【0023】また、本発明におけるところの230℃−
10分間における熱収縮率が7%以下のフィルムを得る
ためには延伸後、熱処理を行う。熱処理は、固定幅、制
限収縮下で230℃以上、該フィルムの融点以下、好ま
しくは240℃以上融点以下で0.5秒〜60秒、好ま
しくは1秒〜40秒行う。
【0024】ここで、熱処理温度が低いと熱収縮率が大
きく、熱処理温度が高いと溶融するため熱処理が困難で
ある。また、熱処理時間が短いと熱処理の効果が十分で
なく熱収縮率が大きくなり、熱処理時間が長いとフィル
ムの熱劣化が生じやすく完成したフィルムコンデンサの
耐熱性が不十分なものとなる。
【0025】
【作用】本発明は上記構成により、PET、PPに比
し、大きくコストを増加することなく、高温域まで直線
性を持つ安定した電気的性能を有し、吸湿による経時変
化も殆どない高耐熱のフィルムコンデンサを実現でき
る。
【0026】
【実施例】以下、本発明の一実施例のフィルムコンデン
サにつき、実施例に基づいて具体的に説明する。
【0027】(実施例1)図1は本実施例のフィルムコ
ンデンサの断面略図であり、図において1は誘電体であ
る6μmの厚みのSPSフィルムで、2は内部電極とな
る6μmの厚みのアルミニウム箔である。
【0028】本発明に使用したSPSフィルムの具体的
な製造方法を以下に説明する。アルゴン置換した内容積
500mlのガラス製容器に、硫酸銅5水塩(CuSO
4・5H2O)17.8g(71mmol)、トルエン2
00ml及びトリメチルアルミニウム24ml(250
mmol)を入れ、40℃で8時間反応させた。その
後、固体部分を除去して得られた溶液から、更に、トル
エンを室温下で減圧留去して接触生成物6.7gを得
た。このものの凝固点降下法によって測定した分子量は
610であった。
【0029】内容積2lの反応容器に、上記で得られた
接触生成物をアルミニウム原子として5mmol、トリ
イソブチルアルミニウムを5mmol、ペンタメチルシ
クロペンタジエニルチタントリメトキシド0.025m
mol及びスチレンモノマー1lを加え、90℃で5時
間重合反応を行った。
【0030】その後、メタノールを注入して重合を停止
し、乾燥して重合体300gを得た。次いで、この重合
体をソックスレー抽出器を用いてメチルエチルケトンで
抽出したところ、抽出残(MIP)98.0%を得た。
得られた重合体の重量平均分子量は390,000、重
量平均分子量/数平均分子量は2.6であった。また3
00℃、せん断速度10/秒での溶融粘度は2×104
ポイズであった。融点及び核磁気共鳴測定法により得ら
れた重合体はシンジオタクチック構造のポリスチレンで
あることを確認した。また、この重合体組成物を水酸化
ナトリウムのメタノール溶液で脱灰後、メタノールで繰
り返し洗浄した。このようにして得られたスチレン系重
合体パウダーを150℃、2時間攪拌しながら真空乾燥
した。このパウダーに球状無定形シリカ微粒子(直径
1.0μm)を0.3wt%パウダーブレンドした。こ
の混合パウダーをベント付二軸押出機の先端にキャピラ
リーを複数個含むダイを取りつけた装置で溶融押出後、
冷却し、カットして押出用成形材料(ペレット)を作成
した。このとき溶融温度は300℃、押出機のスクリュ
ー径は50mmでフルフライト型のものを用い押出量を
30kg/時、ベント圧を10mmHgとした。この
後、このペレットを熱風中で攪拌しながら結晶化、乾燥
を行った。得られたペレットの残留スチレン単量体量は
1100ppm、結晶化度は35%であった。このペレ
ットを用いて単軸押出機の先端に、T−ダイを取りつけ
た装置で押し出した。このときの押出温度は320℃
で、せん断応力は3×105dyne/cm2であった。
【0031】この溶融押出されたシートを静電印荷によ
り金属冷却ロールに密着冷却させ、延伸用原反を作成し
た。このとき、金属冷却ロールを70℃に調節した。な
お、冷却速度は50℃/秒であった。また、作成した原
反の厚みは50μmで、結晶化度は15%であった。こ
の原反を110℃、3000%/分で押出方向、それと
垂直方向の順に3倍ずつ逐次二軸延伸した。その後この
延伸フィルムを制限収縮下で260℃、20秒熱処理し
た。得られたフィルムの厚みは6μm、結晶化度は55
%であった。
【0032】このようにしてできたフィルムを所定の幅
にスリットした後、アルミ箔と交互に必要回数巻回し
て、加熱プレスにより偏平にし、両端面にリード線を溶
接した後、粉体外装を施して箔タイプのフィルムコンデ
ンサを製作した。このときの静電容量値は約0.047
μFであった。
【0033】(実施例2)実施例1と同様の接触生成物
を用いて、反応容器に、溶媒としてトルエン2lと触媒
成分としてシクロペンタジエニルチタントリクロリル1
ミリモルおよびメチルアルミノキサンをアルミニウム原
子として0.6モル加え、20℃においてこれにスチレ
ンモノマー3.6lを加え、1時間重合反応を行った。
【0034】反応終了後、生成物を塩酸−メタノール混
合液で洗浄し、触媒成分を分解除去した。次いで乾燥
し、スチレン系重合体(ポリスチレン)330gを得
た。
【0035】次に、この重合体をメチルエチルケトンを
溶媒としてソックスレー抽出し、抽出残分95wt%を
得た。この抽出残分の重量平均分子量は29,000
0、数平均分子量158,000であり、融点は27℃
であった。また、この重合体は核磁気共鳴法による分析
からシンジオタクチック構造のポリスチレンであること
を確認した。
【0036】このようにして得られたスチレン系重合体
を用いたことの以外は実施例1と同様にしてフィルムを
作成し、箔タイプのフィルムコンデンサを製作した。
【0037】(比較例1)熱処理温度を200℃にした
こと以外は実施例2と同様にしてフィルムを作成し、箔
タイプのフィルムコンデンサを製作した。
【0038】(比較例2)微粒子を添加しなかったこと
以外は実施例2と同様にしてフィルムを作成し、箔タイ
プのフィルムコンデンサを製作した。
【0039】(比較例3)厚さ6μmのポリプロピレン
フィルムを用いて、静電容量値約0.047μFの箔タ
イプのフィルムコンデンサを製作した。
【0040】(比較例4)厚さ6μmのポリエチレンテ
レフタレートフィルムを用いて、静電容量値約0.04
7μFの箔タイプのフィルムコンデンサを製作した。
【0041】(比較例5)厚さ6μmのポリフェニレン
スルフィドフィルムを用いて、静電容量値約0.047
μFの箔タイプのフィルムコンデンサを製作した。
【0042】上記実施例1、実施例2、比較例1、比較
例2で作成したフィルムの各種物性評価結果を(表1)
に示し、製作した箔タイプのフィルムコンデンサの巻取
歩留及び260℃の溶融半田槽にリード線根元まで10
秒間浸漬した後の静電容量の変化率を(表2)に示す。
【0043】
【表1】
【0044】
【表2】
【0045】また、実施例1、比較例3、比較例4、比
較例5にて製作した箔タイプのフィルムコンデンサを1
50℃の雰囲気中で1000時間直流電圧で140V印
加したときのショート不良発生率の推移を(表3)に、
60℃で相対湿度95%の雰囲気中で500時間直流電
圧で100V印加したときの静電容量の変化率の推移を
(表4)に、−40℃〜150℃の範囲で雰囲気温度を
変化させたときの20℃に対する静電容量の変化率の推
移と誘電正接の変化の推移を(表5)に示す。
【0046】
【表3】
【0047】
【表4】
【0048】
【表5】
【0049】上記の結果に示される通り、本実施例によ
るフィルムコンデンサは製作の作業性を低下させること
なく、優れた耐熱性と電気的性能を有し、その経時的変
化も少ないことがわかる。
【0050】なお、本実施例では箔タイプのフィルムコ
ンデンサとしたが、蒸着タイプのフィルムコンデンサに
おいても同様の効果が得られることは明らかである。
【0051】
【発明の効果】上記実施例から明らかなように本発明の
フィルムコンデンサは、その主たる誘電体としてシンジ
オタクチック構造を有するスチレン系重合体またはその
組成物からなるフィルムを用いたことにより、大幅にコ
ストを増加させることなく従来のフィルムコンデンサの
欠点を十分に補い得る、優れた耐熱性と電気的性能及び
その経時的安定性を有するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の1実施例のフィルムコンデンサの断面
略図である。
【符号の説明】
1 誘電体フィルム(SPSフィルム) 2 内部電極(アルミニウム箔)
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B29K 25:00 B29L 7:00 4F

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主たる誘電体がシンジオタクチック構造
    を有するスチレン系重合体またはその組成物からなり、
    重量平均分子量100,000〜500,000、23
    0℃−10分間における熱収縮率が7%以下で摩擦係数
    が0.6以下である二軸延伸フィルムで構成されたこと
    を特徴とするフィルムコンデンサ。
JP4180733A 1992-07-08 1992-07-08 フィルムコンデンサ Pending JPH0629146A (ja)

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996017005A1 (en) * 1994-12-02 1996-06-06 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Stretched polystyrene film and process for the preparation of strechted polystyrene film

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1996017005A1 (en) * 1994-12-02 1996-06-06 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Stretched polystyrene film and process for the preparation of strechted polystyrene film
US5837384A (en) * 1994-12-02 1998-11-17 Idemitsu Petrochemical Co., Ltd. Polystyrenic stretched film and process for producing the polystyrenic stretched film

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