JPH0655441A

JPH0655441A - 電解インプロセスドレッシング方法および装置

Info

Publication number: JPH0655441A
Application number: JP22526692A
Authority: JP
Inventors: Toshiya Akita; 俊哉秋田
Original assignee: Olympus Optical Co Ltd
Current assignee: Olympus Corp
Priority date: 1992-07-31
Filing date: 1992-07-31
Publication date: 1994-03-01

Abstract

(57)【要約】【目的】砥石寿命を向上させ、形状精度および形状の
維持性を向上させることにより、ワークの精度を向上さ
せ、形状維持性を向上させる。【構成】電源１４の陽極と接続されたカップ型導電性
砥石１１の下端には砥粒層１０が形成されている。砥粒
層１０に隙間ｔ₁，ｔ₂を介在して側面用電極１７およ
び底面用電極１８が配置されている。これら各電極１
７，１８はスイッチング装置１９を介して電源１４の陰
極と接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、研削砥石による加工に
関し、特に電解インプロセスドレッシング研削による平
面研削加工装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、電解作用による工具のドレッシン
グを併用しつつ行う研削加工として、図８に示す平面研
削盤における加工方法が提案されている。かかる研削加
工の公知例としては特開平２−６５９７２号公報記載の
発明を挙げることができる。図８において、カップ型導
電性砥石９１とこの砥石に対向したテーブル９２上にワ
ーク９３を配して加工する。その際、カップ型導電性砥
石９１は給電ブラシ９４を介して電源装置９５の陽極に
接続してある。この砥石と対向するように配置しかつ、
前記電源装置９５に接続することにより陰極としたカバ
ー電極９６がある。この電極の両端には前記砥石の表面
に非接触の仕切り板が固定してある。また、この電極内
には電解液を放出するための孔９７が設けてある。前記
砥石と前記電極とその両端の仕切り板とで囲まれた準閉
鎖空間に電解液を満たし、前記砥石と前記電極に印加し
た電圧によってインプロセスドレッシング効果を得ると
いう研削装置である。

【０００３】カップ型砥石を用いた研削方法の中で、イ
ンフィード方式という研削方法がある。これはカップ型
砥石が回転軸方向に一定速度で切り込みを与えて、ロー
タリーテーブルを回転することによりワークを切り込む
ことで研削加工する。この加工原理を図９〜図１３にて
説明する。図９は加工機を上面から見た説明図である。
図１０は図９のＡ矢印から見た側面図である。カップ型
砥石１の切り込みにおいて、Ｙ方向（図面上の上下方
向）の切り込みは砥石軸、または、ワーク軸方向へ移動
することにより与える。また、Ｘ方向（図面上の左右方
向）の切り込みはロータリーテーブル２の回転により与
える。加工はＹ方向およびＸ方向の切り込みの合成した
切り込みで行う。つまり、ワーク３から見た切り込み方
向は砥石軸に対して傾斜する。そのため、図１０に示す
ように、Ｙ方向の切り込みを与えず、Ｘ方向の切り込み
を与えるスパークアウトまでの加工途中では、ワーク３
の加工面はロータリーテーブル２の上面に対して傾斜す
る。

【０００４】実際の加工は砥粒層４の側面部と底面部の
両面を使って行う。砥粒層４の側面部と底面部の加工に
寄与する割合は砥石軸、あるいはワーク軸移動による切
り込み速度Ｖ_Y（Ｙ方向切り込み速度）と、ロータリー
テーブル２の回転によるワーク３のある断面に対する周
速度Ｖ_X（Ｘ方向切り込み速度）によって決定する。そ
の加工状態をＸ，Ｙ方向の切り込み速度の関係により以
下に示す３パターンに分けることができる。Ｖ_X＝Ｖ_Y（図１１）Ｖ_X＞Ｖ_Y（図１２）Ｖ_X＜Ｖ_Y（図１３）

【０００５】次に、前記３パターンで研削加工した場合
の砥粒層４の各面のワーク除去断面積について説明す
る。まず、Ｖ_X＝Ｖ_Yの場合を図１１にて説明する。
図１１は図１０のＣ部を拡大し、加工途中のワーク３の
ある断面を示した説明図である。台形ａｂｃｄは約半周
前のカップ型砥石１の砥粒層４の内側面から研削加工し
た断面を示す。単位時間Δｔあたりに砥粒層４の底面断
面がＯＺ_O→Ｏ₁Ｚ₁に移動したとき、Ｙ方向の切り込
み量はＶ_Y・Δｔ、Ｘ方向の切り込み量はＶ_X・Δｔと
なる。いま、Ｖ_X＝Ｖ_Yの関係が成り立つので、ワーク
３から見たカップ型砥石の切り込む方向（矢印Ｂ₁方
向）、すなわち、加工面Ｏ₀Ｚ₁と砥石軸とのなす角α
は４５度となる。

【０００６】また、砥粒層４の側面部の単位長さ、底面
部の単位長さをそれぞれＯＹ₀，ＯＸ₀としたとき、単
位時間あたりにそれぞれの単位長さあたりの砥粒層がワ
ーク３を除去した断面積は以下のようになる。側面部ＯＹ₀：ＯＹ₀×Ｖ_X・Δｔ・・・・・・・（１）底面部ＯＸ₀：ＯＸ₀×Ｖ_Y・Δｔ・・・・・・・（２）いま、Ｖ_X＝Ｖ_Y、ＯＹ₀＝ＯＸ₀なので(1) 式と(2)
式は等しくなる。従って、Ｖ_X＝Ｖ_Yの場合は、砥粒層
４の側面部と底面部の単位時間あたりの除去断面積は等
しいことになる。

【０００７】次にＶ_X＞Ｖ_Yの場合を図１２にて説明
する。図１２は図１０のＣ部を拡大し、加工途中のワー
ク３のある断面を示した説明図である。台形ａｂｃｄは
約半周前のカップ型砥石１の砥粒層４の内側面から加工
した断面を示す。単位時間Δｔあたりに砥粒層４の底面
断面がＯＺ₀→Ｏ₂Ｚ₂に移動したとき、Ｙ方向の切り
込み量はＶ_Y・Δｔ、Ｘ方向の切り込み量はＶ_X・Δｔ
となる。いま、Ｖ_X＞Ｖ_Yの関係が成り立つので、ワー
ク３から見たカップ型砥石の切り込む方向（矢印Ｂ₂方
向）、すなわち加工面Ｚ₀Ｚ₂と砥石軸とのなす角αは
α＞４５度となる。また、単位時間あたりにそれぞれの
単位長さあたりの砥粒層がワーク３を除去した断面積は
以下のようになる。側面部ＯＹ₀：ＯＹ₀×Ｖ_X・Δｔ・・・・・・（３）底面部ＯＸ₀：ＯＸ₀×Ｖ_Y・Δｔ・・・・・・（４）いま、Ｖ_X＞Ｖ_Y、ＯＹ₀＝ＯＸ₀なので、（３）式の
値は（４）式の値より大きくなる。従って、Ｖ_X＞Ｖ_Y
の場合は、砥粒層４の側面部と底面部の単位時間あたり
の除去断面積の割合は側面部の方が多くなる。

【０００８】次にＶ_X＜Ｖ_Yの場合を図１３にて説明
する。図１３は図１０のＣ部を拡大し、加工途中のワー
ク３のある断面を示した説明図である。台形ａｂｃｄは
約半周前のカップ型砥石１の砥粒層４の内側面から加工
した断面を示す。単位時間Δｔあたりに砥粒層４の底面
断面がＯＺ₀→Ｏ₃Ｚ₃に移動したとき、Ｙ方向の切り
込み量はＶ_Y・Δｔ、Ｘ方向の切り込み量はＶ_X・Δｔ
となる。いま、Ｖ_X＜Ｖ_Yの関係が成り立つので、ワー
ク３から見たカップ型砥石の切り込む方向（矢印Ｂ₃方
向）、すなわち、加工面Ｚ₀Ｚ₃と砥石軸とのなす角α
はα＜４５度となる。また、単位時間あたりにそれぞれ
の単位長さあたりの砥粒層がワーク３を除去した断面積
は以下のようになるる側面部ＯＹ₀：ＯＹ₀×Ｖ_X・Δｔ・・・・・・（５）底面部ＯＸ₀：ＯＸ₀×Ｖ_Y・Δｔ・・・・・・（６）いま、Ｖ_X＜Ｖ_Y，ＯＹ₀＝ＯＸ₀なので、（５）式の
値は（６）式の値より小さくなる。したがって、Ｖ_X＜
Ｖ_Yの場合は、砥粒層４の側面部と底面部の単位時間あ
たりの除去断面積の割合は底面部の方が多くなる。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、前記従
来技術においては、カップ型導電性砥石とカバー電極と
その両端の仕切り板とで形成した準閉鎖空間に電解液を
満たして電解インプロセスドレッシングを行う。そのた
め、砥粒層表面に作用する電解インプロセスドレッシン
グの強さは均等に作用し、常に砥粒層の側面と底面とは
均等にドレッシングされる。これは一般に電解槽の中に
陰極板と陽極板とを漬けた電気分解の場合と同様な原理
であり、両極板の間隔が変化しても流れる電流値は変化
しないからである。

【００１０】上記で述べたように、切り込み速度比の変
化により砥粒層の側面部と底面部とでは目詰まりの状態
が異なるので、各面に対して適当な電解インプロセスド
レッシングを行う必要がある。例えば、切り込み速度比
がＶ_X／Ｖ_Yが１以上（Ｖ_X＞Ｖ_Y）の場合、目詰まり
の進行は砥粒層の側面部の方が速いので、側面部の電解
インプロセスドレッシングを強めにする必要がある。前
記従来技術で電解インプロセスドレッシングを行なう場
合、側面部と底面部とで電解作用を調整することはでき
ないので、側面部を基準とし、すなわち目詰まりを発生
しやすい面を基準とし、電解強さを調整するため、底面
部では過剰な電解インプロセスドレッシングを行うこと
になる。

【００１１】電解インプロセスドレッシングは電解する
ことにより砥粒を保持する導電性ボンド（結合剤）が溶
解し、砥粒が露出することにより目詰まり、目つぶれを
防止する。過剰な電解インプロセスドレッシングを行う
と、導電性ボンドの溶解速度が上がり、砥粒層が電解に
より減耗してしまう。従って、前記従来技術では砥粒層
の側面部と底面部とに見合った電解インプロセスドレッ
シングを行うことができず、どちらか一方の面が目詰ま
りを起こすか、または、過剰な電解による磨耗が進行
し、砥石寿命が低下するという問題が発生する。

【００１２】本発明は上記問題点を解決すべく創作され
たものである。すなわち、切り込み速度比（Ｖ_X／
Ｖ_Y）により、砥粒層の側面部および底面部に見合った
電解をかけることで、砥石寿命を向上する電解インプロ
セスドレッシング研削方法と装置を提供することを目的
としたものである。

【００１３】

【課題を解決するための手段および作用】本発明は、カ
ップ状の導電性砥石に弱電性クーラントを供給しつつ電
流を印加してワークを加工するにあたり、前記導電性砥
石における切り込み速度の小さい側の砥粒層へ電流を印
加する時間と、切り込み速度の大きい側の砥粒層へ電流
を印加する時間とをその切り込み速度の割合に対応さ
せ、切り込み速度の小さい側の砥粒層へ電流を印加する
時間よりも、切り込み速度の大きい側の砥粒層へ電流を
印加する時間を長く設定して加工する方法である。ま
た、カップ状の導電性砥石と、導電性砥石の砥粒層の側
面部を電解ドレスする電極と、導電性砥石の砥粒層の底
面部を電解ドレスする電極と、前記各電極に電流を印加
する電源と、前記各電極と電源との間に設けたタイマー
スイッチとを具備したものでる。さらに、カップ状の導
電性砥石と、導電性砥石の砥粒層の側面部を電解ドレス
する電極と、導電性砥石の砥粒層の底面部を電解ドレス
する電極と、前記各電極に電流を印加する直流電源と、
該直流電源からの電流をパルス電流に変換する変換装置
とを具備したものである。

【００１４】図１１は本発明を達成するための装置の概
念図である。カップ型導電性砥石１１を砥石軸方向に一
定の速度で切り込みを与えながら、または、ロータリー
テーブル１６をテーブル軸方向に一定の速度で切り込み
を与えながら、ロータリーテーブル１６を回転させてワ
ーク１５の研削加工を行うインフィード方式の平面研削
装置において、砥粒層１０の両側面および底面に対向し
て側面用電極１７および底面用電極１８が配置されてお
り、この両電極１７，１８は絶縁されている。側面用電
極１７および底面用電極１８はスイッチング装置１９を
介して電源１４の陰極と接続している。このスイッチン
グ装置１９は電源１４から流れてくる電流を間欠的に流
す装置で、各砥粒層面に流す電流の調整を行う。

【００１５】電源１４の陽極は給電ブラシ１２を介して
カップ型導電性砥石１１と接続している。側面用電極１
７と前記砥石の砥粒層１０の両側面との間には隙間
ｔ₁、底面用電極１８と砥粒層１０の底面との間には隙
間ｔ₂を設ける。この隙間ｔ₁，ｔ₂にクーラントノズ
ル１３からの弱電性クーラントが介在するように構成さ
れている。

【００１６】以上の構成から成る装置を用いての電解イ
ンプロセスドレッシング方法は、電解インプロセスドレ
ッシングの際、パルス電流を用いているので、ある一定
時間（ｔ₀）における電解量は、ピーク電流（Ａ_p）と
パルス電流を流した総電解時間（ｔ_p）との積（Ａ_p×
ｔ_p）で表すことができる。この電解量（Ａ_p×ｔ_p）
の総電解時間（ｔ_p）をスイッチング装置１９により調
整することで、電解量が設定できる。

【００１７】切り込み速度比（Ｖ_X／Ｖ_Y）により砥粒
層の各面のワーク除去量が変わる。砥粒層の各面に適当
な電解インプロセスドレッシングを行うには、そのワー
ク除去量に見合った電解量を各面に与える。すなわち、
切り込み速度が大きい方を基準としたとき、切り込み速
度の小さい方の電解量はその比率に合わせて小さくす
る。Ｘ方向の切り込みは砥粒層１０の側面部で、Ｙ方向
の切り込みは砥粒層１０の底面部で加工を行う。また、
側面用電極１７は砥粒層１０の側面部を、底面用電極１
８は砥粒層１０の底面部をそれぞれ電解する。

【００１８】切り込み速度比（Ｖ_X／Ｖ_Y）に見合った
電解量の割合を図２および図３に示す。図２はＸ方向の
切り込みが大きいとき（Ｖ_X＞Ｖ_Y、すなわちＶ_X／Ｖ
_Y＞１）の切り込み速度比（Ｖ_X／Ｖ_Y）と、砥粒層１
０の側面部を基準とした底面部の電解量の比率（比電解
量）との関係を示す。図３はＹ方向の切り込みが大きい
とき（Ｖ_X＜Ｖ_Y、すなわち、０＜Ｖ_X／Ｖ_Y＜１）の
切り込み速度比（Ｖ_X／Ｖ_Y）と、砥粒層１０の底面部
を基準とした側面部の電解量の比率（比電解量）との関
係を示す。

【００１９】設定した切り込み速度比（Ｖ_X／Ｖ_Y）よ
り、図２あるいは図３を見て切り込み速度が小さい方の
電解量の比率を求める。次に、切り込み速度の小さい方
の電解量が求めた比率になるように各砥粒層面の電流を
流す時間をスイッチング装置１９により設定する。次に
砥粒層１０の側面部および低面部と側面用電極１７およ
び底面用電極１８との各隙間ｔ₁，ｔ₂を好ましくは0.
１〜0.３ｍｍに設定する。弱電性クーラントをクーラン
トノズル１３より隙間ｔ₁，ｔ₂に供給する。電源１４
を作動し、砥粒層１０と各電極１７，１８との間で電解
作用を発生して電解インプロセスドレッシングすると、
スイッチング装置１９により切り込み速度の小さい方の
砥粒層面への電解量が制御できる。

【００２０】

【実施例１】図４〜図６は本実施例で用いる装置を示
し、図４は概略構成図、図５は電極部の拡大平面図、図
６は電極部の拡大斜視図である。カップ型導電性砥石２
１を砥石軸方向に一定の速度で切り込みを与えながら、
または、ロータリーテーブル２６をテーブル軸方向に一
定の速度で切り込みを与えながら、前記テーブルを回転
させてワーク２５の研削加工を行うインフィード方式の
平面研削装置において、電極部３３がカップ状導電性砥
石２１の砥粒層２０に対向配置されている。

【００２１】電極部３３は側面用電極２７，３４および
底面用電極２８と、これら電極２７，３４，２８を取着
する電極絶縁体２９とから構成され、各電極２７，３
４，２８は絶縁されている。図５および図６に示すよう
に、電極絶縁体２９は周方向に溝２９ａが設けられてお
り、溝２９ａの底部２９ｂには底面用電極２８が、溝２
９ａの内周側側面２９ｃには内周側の側面用電極２７
が、溝２９ａの外周側側面２９ｄには外周側の側面用電
極３４がそれぞれ取着されている。

【００２２】図５に示すように、上記側面用電極２７，
３４、底面用電極２８および電極絶縁体２９の各部材の
上面２７ａ，３４ａ，２８ａ，２９ｃ，２９ｅはそれぞ
れ扇形を呈しており、上記各部材２７，３４，２８，２
９の扇形状部の曲率中心は、砥石の回転軸中心Ｏと一致
している。また、上記側面用電極２７，３４および底面
用電極２８の側面部２７ｂ，３４ｂ，２８ｂは、ともに
上記砥石２１の回転軸中心Ｏから半径方向に引いた直線
と一致している。従って、上記側面用電極２７，３４の
電極面２７ｃ，３４ｃは、砥石２１の回転が遅い砥石２
１の内周部側の電極２７ほど小さく、砥石２１の回転が
早い砥石２１の外周部側の電極６０ほど大きく形成され
ている。

【００２３】電源２４と前記電極２７，３４，２８との
間にはスイッチング装置３０が接続されている。このス
イッチング装置は砥粒層２０の側面部２０ａ，２０ｂと
底面部２０ｃに、ある間隔で交互に電流を流す。さら
に、前記スイッチング装置と底面用電極２８との間には
可変抵抗３１、電流計３２が接続している。電源２４の
陽極は給電ブラシ２２を介してカップ型導電性砥石２１
と接続している。側面用電極２７と前記砥石２１の砥粒
層２０の両側面２０ａ，２０ｂとの間には隙間ｔ₁、底
面用電極２８と砥粒層２０の底面２０ｃとの間には隙間
ｔ₂を設ける。この隙間ｔ₁，ｔ₂にクーラントノズル
２３からの弱電性クーラントが介在するように構成され
ている。

【００２４】以上の構成から成る装置を用いての電解イ
ンプロセスドレッシング方法は、砥粒層２０の側面部２
０ａ，２０ｂおよび底面部２０ｃと側面用電極２７，３
４および底面用電極２８との隙間ｔ₁，ｔ₂を好ましく
は0.１〜0.３ｍｍに設定し、弱電性クーラントをクーラ
ントノズル２３より隙間ｔ₁，ｔ₂に供給する。スイッ
チング装置３０は側面用電極２７，３４側の端子ａと接
続する。電源２４を作動し、砥粒層２０の側面部２０
ａ，２０ｂを電解インプロセスドレッシングする。電源
２４によりピーク電流を調整し、その実効値が0.３〜3.
０Ａになるように調整する。次に、スイッチング装置３
０は底面用電極２８側の端子ｂと接続する。電流計３２
を見ながら、可変抵抗３１を調整し、パルス電流の実効
値が側面用電極側の約１／２になるようにする。これに
より、砥粒層２０の両側面部２０ａ，２０ｂおよび底面
部２０ｃの３ヵ所に流れる電流値はほぼ等しくなる。

【００２５】すなわち、内周部側の電極２７と外周部側
の電極３４と底面用の電極２８とを、砥石２１の回転中
心を中心とする扇形状としたことにより、各電極２７，
３４，２８の電極面２７ｃ，３４ｃ，２８ｃの面積の比
率と、砥粒層２０の内周部２０ｂと外周部２０ａと底面
部２０ｃとの面積の比率とは等しくなっている。そのた
め、内周部２０ｂ，外周部２０ａおよび底面部２０ｃと
もに同一の電解電圧を同一時間印加したときの電解量は
等しくなる。

【００２６】次に、設定加工条件より切り込み速度比
（Ｖ_X／Ｖ_Y）を求め、その値が１以上ならば図２を、
１以下ならば図３を見て切り込み速度の小さい塗料層面
の比電解量を求める。砥粒層２０の側面部２０ａ，２０
ｂと底面部２０ｃに交互に流れる電流時間を求めた値と
同等の割合となるようにスイッチング装置３０を設定す
る。例えば、切り込み速度比がＶ_X／Ｖ_Y＝１００のと
きは、Ｖ_X＞Ｖ_Yの関係なので図２を見ると、側面部を
基準とした底面部の比電解量は１／１００となる。これ
は電流を流す時間の割合が側面部：底面部＝１００：１
となる。この割合になるようにスイッチング装置３０を
設定すると、各端子が接触する時間は、側面側の端子
ａ：底面側の端子ｂ＝１００：１という割合になり、こ
の割合で交互にスイッチングする。

【００２７】本実施例によれば、切り込み速度の小さい
方向の砥粒層面の電解量を制御することができ、過剰な
電解による減耗を抑えることができる。従って、カップ
型導電性砥石における高い形状精度および形状の維持性
を得ることがてき、これにともないワークも高精度な形
状を維持することができる。

【００２８】尚、クーラント供給方法として、砥石軸中
心を中空にし、その孔に弱電性クーラントを供給する。
あるいは、クーラントノズルを電極端面部から供給して
も同様な効果が得られた。

【００２９】

【実施例２】図７は本実施例を示す概略構成図である。
本実施例では、前記実施例１における構成部分と同一な
構成部分には同一番号を付してその説明を省略する。図
７にて、カップ型導電性砥石２１を砥石軸方向に一定の
速度で切り込みを与えながら、または、ロータリーテー
ブル２６をテーブル軸方向に一定の速度で切り込みを与
えながら、前記テーブルを回転させてワーク２５の研削
加工を行うインフィード方式の平面研削装置において、
直流電源４０の陽極は陽極給電ブラシ５０を介してカッ
プ型導電性砥石２１と接続している。また、直流電源４
０の陰極は電流計３２および陰極給電ブラシ４３を介し
て変換装置５２の導電性の給電回転体４４と接続してい
る。

【００３０】変換装置５２は、給電回転体４４と側面用
回転体４８と底面用回転体４９とから構成されている。
給電回転体４４は、モーター４７により回転自在な回転
軸５１に保持されている。さらに、給電回転体４４の上
面および下面にはそれぞれ円筒状で、かつ絶縁体の側面
用回転体４８および底面用回転体４９が回転軸５１に保
持されている。前記側面用回転体４８および底面用回転
体４９の外周面には一定間隔で側面用給電板４５および
底面用給電板４６が貼付けられている。これらの給電板
４５，４６の端面はその間にある給電回転体４４と接触
している。また、側面用給電板４５および底面用給電板
４６のもう一方の外側端面にはそれぞれ側面用給電ブラ
シ４１および底面用給電ブラシ４２が接触しており、こ
れらのブラシ４１，４２を介して側面用電極２７，３４
および底面用電極２８と接続している。さらに、前記底
面用給電ブラシ４２と底面用電極２８の間には可変抵抗
３１が接続している。

【００３１】以上の構成から成る装置を用いての電解イ
ンプロセスドレッシング方法は、砥粒層２０の側面部２
０ａ，２０ｂおよび底面部２０ｃと、側面用電極２７，
３４および底面用電極２８との隙間ｔ₁，ｔ₂を好まし
くは0.１〜0.３ｍｍに設定する。直流電源４０の陰極か
ら各電極２７，３４，２８までの流れは、直流電源４０
→電流計３２→陰極給電ブラシ４３→給電回転体４４→
側面用給電板４５（底面用給電板４６）→側面用給電ブ
ラシ４１（底面用給電ブラシ４２）→側面用電極２７，
３４（→可変抵抗３１→底面用電極２８）となる。

【００３２】この中の側面用給電板４５（底面用給電板
４６）と側面用給電ブラシ４１（底面用給電ブラシ４
２）の接触では、モーター４７により回転軸５１が回転
し、この軸に保持した側面用回転体４８（底面用回転体
４９）が同様に回転する。側面用回転体４８（底面用回
転体４９）に保持した側面用給電板４５（底面用給電板
４６）も同様に回転する。この回転により側面用給電ブ
ラシ４１（底面用給電ブラシ４２）は側面用給電板４５
（底面用給電板４６）と絶縁体の側面用回転体４８（底
面用回転体４９）とが交互に接触することになる。従っ
て、側面用給電板４５（底面用給電板４６）と側面用給
電ブラシ４１（底面用給電ブラシ４２）とが接触すると
きのみ電流が流れることになり、流れ出る電流はパルス
電流となる。また、側面用回転体４８（底面用回転体４
９）の１回転当たりの側面用給電板４５（底面用給電板
４６）と側面用回転体４８（底面用回転体４９）との割
合により電流の流れる時間が設定できる。すなわち、１
回転当たりの電解量が設定できる。

【００３３】側面用給電板４５と側面用給電ブラシ４１
および底面用給電板４６と底面用給電ブラシ４２の接触
するタイミングが等しい場合、流れる電流は２分割され
てしまう。従って、側面用給電板４５から側面用給電ブ
ラシ４１と、底面用給電板４６から底面用電極ブラシ４
２とが同時に接触しないように、各給電板４５，４６の
位置を同位置にならないように設定する。あるいは、各
給電板４５，４６の位置を同位置にし、どちらか一方の
給電ブラシ４１，４２の接触位置をずらす。

【００３４】次に、弱電性クーラントをクーラントノズ
ル２３より隙間ｔ₁，ｔ₂に供給する。側面用給電板４
５と側面用給電ブラシ４１が接触し、底面用給電板４６
と底面用給電ブラシ４２が接触する位置に回転軸５１を
固定する。これにより、側面用電極２７，３４のみに電
流が流れるようになる。この状態で直流電源４０を作動
し、砥粒層２０の側面部２０ａ，２０ｂを電解する。直
流電源４０を調整し、電流計３２を見ながら、電流値が
０．５〜４０Ａとなるように調整する。

【００３５】次に、側面用給電板４５と側面用給電ブラ
シ４１が接触せず、底面用給電板４６と底面用給電ブラ
シ４２が接触する位置に回転軸５１を固定する。これに
より、底面用電極２８のみに電流が流れるようになる。
電流計３２を見ながら、可変抵抗３１を調整し、電流値
が側面用電極側の約１／２になるようにする。これによ
り、砥粒層２０の両側面部２０ａ，２０ｂおよび底面部
２０ｃの３ヵ所に流れる電流値はほぼ等しくなる。

【００３６】次に、設定加工条件より切り込み速度比
（Ｖ_X／Ｖ_Y）を求め、その値が１以上ならば図２を、
１以下ならば図３を見て切り込み速度の小さい砥粒層面
の比電解量を求める。砥粒層２０の側面部２０ａ，２０
ｂと底面部２０ｃに交互に流れる回転軸５１の１回転当
たりの電流時間を求めた値と同等の割合になるように、
側面用給電板４５および底面用給電板４６を配置する。

【００３７】例えば、切り込み速度比がＶ_X／Ｖ_Y＝１
００のときは、Ｖ_X＞Ｖ_Yの関係なので図２を見ると、
側面部を基準とした底面部の比電解量は１／１００とな
る。これは電流を流す時間の割合が側面部：底面部＝１
００：１となる。この割合になるように設定する。側面
用回転体４８の外周面に側面用給電板４５を１００個、
あるいはその倍数だけ貼り付ける。底面用回転体４９の
外周面に底面用給電板４６を側面側の１／１００の割合
の個数だけ貼付け、モーター４７を回転して電解インプ
ロセスドレッシングを行う。なお、切り込み速度比の各
条件により通電部（前記給電板４５，４６）が適当な割
合に配置された前記回転体４４，４８，４９を着脱自在
とすることで、広範囲の設定が速く行える。

【００３８】本実施例によれば、これにより前記実施例
１と同様な効果が得られるとともに、高価なパルス電流
を発生する電源のかわりに直流タイプの電源を使用する
ので低価格になる。

【００３９】

【発明の効果】以上説明した様に、本発明に係る電解イ
ンプロセスドレッシング方法および装置によれば、カッ
プ型導電性砥石を用いたインフィード方式の平面研削加
工装置において、砥石寿命が向上するとともに、形状精
度および形状の維持性が向上することによって、ワーク
の精度が向上し、形状維持性が向上する。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明を示す概念図である。

【図２】本発明を示すグラフである。

【図３】本発明を示すグラフである。

【図４】実施例１を示す概略構成図である。

【図５】実施例１を示す拡大平面図である。

【図６】実施例１を示す拡大斜視図である。

【図７】実施例２を示す概略構成図である。

【図８】従来例を示す概略構成図である。

【図９】従来例を示す説明図である。

【図１０】従来例を示す側面図である。

【図１１】従来例を示す説明図である。

【図１２】従来例を示す説明図である。

【図１３】従来例を示す説明図である。

【符号の説明】

１０砥粒層１１カップ型導電性砥石１２給電ブラシ１３クーラントノズル１４電源１５ワーク１６ロータリーテーブル１７側面用電極１８底面用電極１９スイッチング装置

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】カップ状の導電性砥石に弱電性クーラン
トを供給しつつ電流を印加してワークを加工するにあた
り、前記導電性砥石における切り込み速度の小さい側の
砥粒層へ電流を印加する時間と、切り込み速度の大きい
側の砥粒層へ電流を印加する時間とをその切り込み速度
の割合に対応させ、切り込み速度の小さい側の砥粒層へ
電流を印加する時間よりも、切り込み速度の大きい側の
砥粒層へ電流を印加する時間を長く設定して加工するこ
とを特徴とする電解インプロセスドレッシング方法。
【請求項２】カップ状の導電性砥石と、導電性砥石の
砥粒層の側面部を電解ドレスする電極と、導電性砥石の
砥粒層の底面部を電解ドレスする電極と、前記各電極に
電流を印加する電源と、前記各電極と電源との間に設け
たタイマースイッチとを具備したことを特徴とする電解
インプロセスドレッシング装置。
【請求項３】カップ状の導電性砥石と、導電性砥石の
砥粒層の側面部を電解ドレスする電極と、導電性砥石の
砥粒層の底面部を電解ドレスする電極と、前記各電極に
電流を印加する直流電源と、該直流電源からの電流をパ
ルス電流に変換する変換装置とを具備したことを特徴と
する電解インプロセスドレッシング装置。