JPH0678427B2 - コレステリック液晶性ポリエステルの製造法 - Google Patents
コレステリック液晶性ポリエステルの製造法Info
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- JPH0678427B2 JPH0678427B2 JP62222073A JP22207387A JPH0678427B2 JP H0678427 B2 JPH0678427 B2 JP H0678427B2 JP 62222073 A JP62222073 A JP 62222073A JP 22207387 A JP22207387 A JP 22207387A JP H0678427 B2 JPH0678427 B2 JP H0678427B2
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- acid
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Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は溶融成形が可能であり、高強度、高弾性であつ
て、かつ成形時の機械的特性の異方性の小さい新規な芳
香族ポリエステルの製造法に関するものである。
て、かつ成形時の機械的特性の異方性の小さい新規な芳
香族ポリエステルの製造法に関するものである。
従来の技術 近年、繊維、フイルム、成形品のいずれにおいても剛
性、耐熱性および耐薬品性の優れた素材に対する要望が
高まつている。ポリエステルは一般成形品の用途に広く
使用されているが、多くのポリエステルは曲げ弾性率の
ような機械的特性が劣るために高強度、高弾性が要求さ
れる用途には適していなかつた。この機械的特性を改良
するために炭酸カルシウムやガラス繊維等の充填剤ない
し補強材を配合する方法が知られているが、配合物の比
重が大きくなるため、プラスチツクの特徴である軽量性
が失われ、さらには成形時には成形機の摩耗が激しく実
用上の問題が多い。
性、耐熱性および耐薬品性の優れた素材に対する要望が
高まつている。ポリエステルは一般成形品の用途に広く
使用されているが、多くのポリエステルは曲げ弾性率の
ような機械的特性が劣るために高強度、高弾性が要求さ
れる用途には適していなかつた。この機械的特性を改良
するために炭酸カルシウムやガラス繊維等の充填剤ない
し補強材を配合する方法が知られているが、配合物の比
重が大きくなるため、プラスチツクの特徴である軽量性
が失われ、さらには成形時には成形機の摩耗が激しく実
用上の問題が多い。
補強材等の必要がなく、高強度、高弾性が要求される用
途に適したポリエステルとして近年液晶性ポリエステル
が注目されるようになつた。特に注目を集めるようにな
つたのは、米国特許第3804805号およびジヤーナル・オ
ブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・
エデイシヨン、14巻、2043頁（1976年）にW.J.ジヤクソ
ンがポリエチレンテレフタレートとヒドロキシ安息香酸
とからなる熱可塑性液晶性ポリエステルを発表してから
である。以来、強度、剛性の向上と溶融成形性の両立を
めざして種々の液晶性ポリエステルの開発研究がなされ
ている。しかしながら、これらの液晶性ポリマーは溶融
状態で高度な配向性を示し、その結果機械的特性に多き
な異方性を生じるために、フイルムまたはシートの用途
には不適当であつた。
途に適したポリエステルとして近年液晶性ポリエステル
が注目されるようになつた。特に注目を集めるようにな
つたのは、米国特許第3804805号およびジヤーナル・オ
ブ・ポリマー・サイエンス・ポリマー・ケミストリー・
エデイシヨン、14巻、2043頁（1976年）にW.J.ジヤクソ
ンがポリエチレンテレフタレートとヒドロキシ安息香酸
とからなる熱可塑性液晶性ポリエステルを発表してから
である。以来、強度、剛性の向上と溶融成形性の両立を
めざして種々の液晶性ポリエステルの開発研究がなされ
ている。しかしながら、これらの液晶性ポリマーは溶融
状態で高度な配向性を示し、その結果機械的特性に多き
な異方性を生じるために、フイルムまたはシートの用途
には不適当であつた。
異方性を解消する手段としてW.R.クリグバウムらによつ
てコレステイツク液晶性ポリマーを用いる方法が提案さ
れた（米国特許第4412059号）。しかし、この特許にお
いては、液晶性ポリエステル記述がみられるものの該ポ
リエステルがコレステリツク液晶性を示すかどうかにつ
いては全く記されていない。更に後述するように、高強
度、高弾性であつて異方性の小さいフイルムまたはシー
トとするにはいくつかの重要な特性を備える必要がある
が該ポリエステルがこれらの要件を満たしているかどう
かについては全く不明である。また該ポリエステルには
光学活性モノマーとして、光学活性なジオールは開示さ
れていない。
てコレステイツク液晶性ポリマーを用いる方法が提案さ
れた（米国特許第4412059号）。しかし、この特許にお
いては、液晶性ポリエステル記述がみられるものの該ポ
リエステルがコレステリツク液晶性を示すかどうかにつ
いては全く記されていない。更に後述するように、高強
度、高弾性であつて異方性の小さいフイルムまたはシー
トとするにはいくつかの重要な特性を備える必要がある
が該ポリエステルがこれらの要件を満たしているかどう
かについては全く不明である。また該ポリエステルには
光学活性モノマーとして、光学活性なジオールは開示さ
れていない。
発明が解決しようとする問題点 コレステリツク液晶性ポリマーから、溶融成形が可能で
あり、高強度、高弾性であつてかつ機械的特性の異方性
の小さいフイルムまたはシートを得るためにはいくつか
の大切な要件を満たしていることが必要である。即ち、
（１）ののポリマーがネマチツク状態で配向させた場合
に高強度、高弾性を有すること、（２）コレステリツク
液晶がフイルムまたはシート表面に平行に配向した層状
構造（コレステリツク螺旋軸は表面に垂直）をとること
（Grandjean テクスチヤー）、などである。
あり、高強度、高弾性であつてかつ機械的特性の異方性
の小さいフイルムまたはシートを得るためにはいくつか
の大切な要件を満たしていることが必要である。即ち、
（１）ののポリマーがネマチツク状態で配向させた場合
に高強度、高弾性を有すること、（２）コレステリツク
液晶がフイルムまたはシート表面に平行に配向した層状
構造（コレステリツク螺旋軸は表面に垂直）をとること
（Grandjean テクスチヤー）、などである。
先の米国特許第4412059号に記載された熱可塑性液晶性
ポリエステルはこれらの要件については全く触れられて
いない。従つて、高強度、高弾性であつて機械的特性の
異方性の小さいフイルムまたはシートを得るために上の
条件を満足させるコレステリツク液晶性ポリエステルの
開発が切望されていた。
ポリエステルはこれらの要件については全く触れられて
いない。従つて、高強度、高弾性であつて機械的特性の
異方性の小さいフイルムまたはシートを得るために上の
条件を満足させるコレステリツク液晶性ポリエステルの
開発が切望されていた。
問題点を解決するための手段 本発明は溶融成形が可能であり、高強度、高弾性であつ
てかつ機械的特性の異方性の小さいフイルムまたはシー
トを得るに適した液晶性エステルの製造法に関するもの
である。
てかつ機械的特性の異方性の小さいフイルムまたはシー
トを得るに適した液晶性エステルの製造法に関するもの
である。
本発明は６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸またはそのエ
ステル形成性誘導体５〜50モル％、ｐ−ヒドロキシ安息
香酸またはそのエステル形成性誘導体20〜90モル％、 式 で表されるジオールまたはそのエステル形成性誘導体0.
1〜40モル％、および 式 〔式中、Ｒは炭素数６〜20の２価の芳香族炭化水素基
（ただし、芳香族環の水素原子はハロゲン原子、炭素数
１〜４のアルキル基またはアルコキシ基で置換されてい
てもよい）、炭素数４〜20の２価の脂環式炭化水素基お
よび炭素数１〜40の２価の脂肪族炭化水素基から選ばれ
る基を示す。〕で表されるジカルボン酸たはそのエステ
ル形成性誘導体0.1〜40モル％を重縮合することを特徴
とするコレスエリック液晶性ポリエステルの製造法であ
る。上記においてエステル形成性機能誘導対とはポリエ
ステル成形反応で周知のようにCOOH基又はOH基をエステ
ル形成性の誘導体にしたものをいい以下単に誘導体と称
する。本発明方法で得られる液晶性ポリエステルは、ネ
マチツク状態で配向させた場合の機械的特性に優れ、か
つコレステリツク液晶に基づく層状構造がフィルムまた
はシート表面に平行に成長しやすい特性を有するもので
あり、下記（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）および（Ｄ）の式で
表わされる構造単位から構成される。
ステル形成性誘導体５〜50モル％、ｐ−ヒドロキシ安息
香酸またはそのエステル形成性誘導体20〜90モル％、 式 で表されるジオールまたはそのエステル形成性誘導体0.
1〜40モル％、および 式 〔式中、Ｒは炭素数６〜20の２価の芳香族炭化水素基
（ただし、芳香族環の水素原子はハロゲン原子、炭素数
１〜４のアルキル基またはアルコキシ基で置換されてい
てもよい）、炭素数４〜20の２価の脂環式炭化水素基お
よび炭素数１〜40の２価の脂肪族炭化水素基から選ばれ
る基を示す。〕で表されるジカルボン酸たはそのエステ
ル形成性誘導体0.1〜40モル％を重縮合することを特徴
とするコレスエリック液晶性ポリエステルの製造法であ
る。上記においてエステル形成性機能誘導対とはポリエ
ステル成形反応で周知のようにCOOH基又はOH基をエステ
ル形成性の誘導体にしたものをいい以下単に誘導体と称
する。本発明方法で得られる液晶性ポリエステルは、ネ
マチツク状態で配向させた場合の機械的特性に優れ、か
つコレステリツク液晶に基づく層状構造がフィルムまた
はシート表面に平行に成長しやすい特性を有するもので
あり、下記（Ａ），（Ｂ），（Ｃ）および（Ｄ）の式で
表わされる構造単位から構成される。
〔式中、Ｒは炭素数６〜20の２価の芳香族炭化水素基
（ただし、芳香族環の水素原子はハロゲン原子、炭素数
１〜４のアルキル基またはアルコキシ基で置換されてい
てもよい）、炭素数４〜20の２価の脂環式炭化水素基お
よび炭素数１〜40の２価の脂肪族炭化水素基から選ばれ
る基を示す。〕 構造単位（Ａ）は６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸また
はその誘導体（例えば６−アセトキシ−２−ナフトエ酸
等のアシル化物）から誘導される。構造単位（Ａ）は通
常５〜50モル％、好ましくは10〜40モル％の割合で存在
する。
（ただし、芳香族環の水素原子はハロゲン原子、炭素数
１〜４のアルキル基またはアルコキシ基で置換されてい
てもよい）、炭素数４〜20の２価の脂環式炭化水素基お
よび炭素数１〜40の２価の脂肪族炭化水素基から選ばれ
る基を示す。〕 構造単位（Ａ）は６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸また
はその誘導体（例えば６−アセトキシ−２−ナフトエ酸
等のアシル化物）から誘導される。構造単位（Ａ）は通
常５〜50モル％、好ましくは10〜40モル％の割合で存在
する。
構造単位（Ｂ）はＰ−ヒドロキシ安息香酸またはその誘
導体（例えばＰ−アセトキシ安息香酸等のアシル化物）
から誘導される。構造単位（Ｂ）は通常20〜90モル％、
好ましくは30〜80モル％の割合で存在する。
導体（例えばＰ−アセトキシ安息香酸等のアシル化物）
から誘導される。構造単位（Ｂ）は通常20〜90モル％、
好ましくは30〜80モル％の割合で存在する。
構造単位（Ｄ）はジカルボン酸またはその誘導体（例え
ばジメチルエステルなど）から誘導される。ジカルボン
酸の例を示すとテレフタル酸、メトキシテレフタル酸、
エトキシテレフタル酸、フルオロテレフタル酸、クロロ
テレフタル酸、メチルテレフタル酸、イソフタル酸、フ
タル酸、メトキシイソフタル酸、ジフエニルメタン−4,
4′−ジカルボン酸、ジフエニルメタン−3,3′−ジカル
ボン酸、ジフエニルエーテル−4,4′−ジカルボン酸、
ナフタリン−2,6−ジカルボン酸、ナフタリン−1,5−ジ
カルボン酸、ナフタリン−1,4−ジカルボン酸、4,4′−
ビフエニルジカルボン酸、シクロヘキサン−1,4−ジカ
ルボン酸、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸、シク
ロペンタン−1,3−ジカルボン酸、アジピン酸、セバシ
ン酸などが挙げられる。これらは混合して使用いてもよ
く、単独で使用してもよい。構造単位（Ｄ）はポリマー
中に通常0.1〜40モル％、好ましくは１〜10モル％の割
合で含まれる。
ばジメチルエステルなど）から誘導される。ジカルボン
酸の例を示すとテレフタル酸、メトキシテレフタル酸、
エトキシテレフタル酸、フルオロテレフタル酸、クロロ
テレフタル酸、メチルテレフタル酸、イソフタル酸、フ
タル酸、メトキシイソフタル酸、ジフエニルメタン−4,
4′−ジカルボン酸、ジフエニルメタン−3,3′−ジカル
ボン酸、ジフエニルエーテル−4,4′−ジカルボン酸、
ナフタリン−2,6−ジカルボン酸、ナフタリン−1,5−ジ
カルボン酸、ナフタリン−1,4−ジカルボン酸、4,4′−
ビフエニルジカルボン酸、シクロヘキサン−1,4−ジカ
ルボン酸、シクロヘキサン−1,3−ジカルボン酸、シク
ロペンタン−1,3−ジカルボン酸、アジピン酸、セバシ
ン酸などが挙げられる。これらは混合して使用いてもよ
く、単独で使用してもよい。構造単位（Ｄ）はポリマー
中に通常0.1〜40モル％、好ましくは１〜10モル％の割
合で含まれる。
構造単位（Ｃ）は、コレステリツク液晶性を発現させる
のに不可欠な成分であり、ラセミ混合物から分割された
Ｒ体あるいはＳ体のいずれか一方を用いることができ
る。さらにはR,Sの混合物であつてもいずれかが多い場
合には光学活性を示すのであるが、このような混合物で
あつても使用することができる。しかしこの場合にはコ
レステリツク液晶における螺旋ピツチが純Ｒ体または純
Ｓ体からのものに比べると大きくなり、コレステリツク
化の効率は悪くなる。一般にＲ体含有率とＳ体含有率と
の差が15％以上あることが好ましく、30％以上であるこ
とが特に好ましい。
のに不可欠な成分であり、ラセミ混合物から分割された
Ｒ体あるいはＳ体のいずれか一方を用いることができ
る。さらにはR,Sの混合物であつてもいずれかが多い場
合には光学活性を示すのであるが、このような混合物で
あつても使用することができる。しかしこの場合にはコ
レステリツク液晶における螺旋ピツチが純Ｒ体または純
Ｓ体からのものに比べると大きくなり、コレステリツク
化の効率は悪くなる。一般にＲ体含有率とＳ体含有率と
の差が15％以上あることが好ましく、30％以上であるこ
とが特に好ましい。
コレステリツク液晶性ポリマーにおいてはネマチツク液
晶層が光学活性単位によつて誘起され、ある一定角度づ
つねじれた螺旋状の構造をとつている。この螺旋のピツ
チが可視光の波長の大きさに対応するとき入射光を選択
反射し、コレステリツクカラーと称される特有の呈色が
認められる。剛直鎖を有し、主鎖中に光学活性モノマー
が共重合されているコレステリツク液晶性ポリマーにお
いてはあたかも積層構造のように多軸方向に補強された
フイルムまたはシートが得られることが期待されてい
る。
晶層が光学活性単位によつて誘起され、ある一定角度づ
つねじれた螺旋状の構造をとつている。この螺旋のピツ
チが可視光の波長の大きさに対応するとき入射光を選択
反射し、コレステリツクカラーと称される特有の呈色が
認められる。剛直鎖を有し、主鎖中に光学活性モノマー
が共重合されているコレステリツク液晶性ポリマーにお
いてはあたかも積層構造のように多軸方向に補強された
フイルムまたはシートが得られることが期待されてい
る。
本発明のコレステリツク液晶性ポリエステルのような熱
可塑性ポリマーでは大きい剪断速度で成形された成形物
であつても高い機械的特性を保持しながら物性の異方性
の小さい成形物が得られることに特徴がある。
可塑性ポリマーでは大きい剪断速度で成形された成形物
であつても高い機械的特性を保持しながら物性の異方性
の小さい成形物が得られることに特徴がある。
熱可塑性コレステリツク液晶性ポリマーをホツトステー
ジを装置した偏光顕微鏡下で徐々に昇温してゆくと、結
晶状態からある温度を境に液晶状態なり、コレステリツ
ク液晶性ポリマーに特有のoily streaksを伴つたGrand
jean textureがみられるようになる。また成形してフ
イルム化した後急冷するとコレステリツク液晶構造が保
存され、コレステリツク螺旋ピツチ長が可視光線波長に
近い場合には構造単位（Ｃ）のキラル成分の含有量によ
つて変化するあざやかなコレステリツクカラーが観察で
きる。
ジを装置した偏光顕微鏡下で徐々に昇温してゆくと、結
晶状態からある温度を境に液晶状態なり、コレステリツ
ク液晶性ポリマーに特有のoily streaksを伴つたGrand
jean textureがみられるようになる。また成形してフ
イルム化した後急冷するとコレステリツク液晶構造が保
存され、コレステリツク螺旋ピツチ長が可視光線波長に
近い場合には構造単位（Ｃ）のキラル成分の含有量によ
つて変化するあざやかなコレステリツクカラーが観察で
きる。
本発明のコレステリツク液晶性ポリエステルの製造条件
は特に制限されるものではなく、公知の溶融重合法に準
じて実施し得るが、構造単位（Ｃ）を構成するジオール
を共重合させるには以下に述べる重合法が推奨される。
すなわち構造単位（Ｃ）を構成するジオールをあらかじ
め構造単位（Ｂ）および／または（Ｄ）を構成するモノ
マーと反応させてオリゴマー化しておきこれに構造単位
（Ａ）を構成するモノマーおよび必要に応じて（Ｂ）お
よび／または（Ｄ）を構成するモノマーを加えて重縮合
させることによつて共重合モノマーが得られる。この場
合オリゴマー化された（Ｃ）および（Ａ），（Ｂ）を構
成するモノマーは重縮合に先だちアシル化しておくこと
が望ましい。オリゴマー化された（Ｃ）は再結晶等によ
つて単離精製してもよいし、単離することなく重合に供
することも可能である。重縮合反応の最終段階では高
温、高真空下に重縮合を進めて所望の分子量の共重合ポ
リエステルを得ることができる。
は特に制限されるものではなく、公知の溶融重合法に準
じて実施し得るが、構造単位（Ｃ）を構成するジオール
を共重合させるには以下に述べる重合法が推奨される。
すなわち構造単位（Ｃ）を構成するジオールをあらかじ
め構造単位（Ｂ）および／または（Ｄ）を構成するモノ
マーと反応させてオリゴマー化しておきこれに構造単位
（Ａ）を構成するモノマーおよび必要に応じて（Ｂ）お
よび／または（Ｄ）を構成するモノマーを加えて重縮合
させることによつて共重合モノマーが得られる。この場
合オリゴマー化された（Ｃ）および（Ａ），（Ｂ）を構
成するモノマーは重縮合に先だちアシル化しておくこと
が望ましい。オリゴマー化された（Ｃ）は再結晶等によ
つて単離精製してもよいし、単離することなく重合に供
することも可能である。重縮合反応の最終段階では高
温、高真空下に重縮合を進めて所望の分子量の共重合ポ
リエステルを得ることができる。
重合反応を促進させるためには、従来から公知のポリエ
ステル重合触媒であるアルカリ金属塩や、Fe,Mn,Cd,M
g、Ba,Ti,Zn,Pb,Co,Sb,Sn等の金属塩を単独もしくは組
合わせて使用することもできる。また分解抑制剤として
リン化合物を添加してもよい。
ステル重合触媒であるアルカリ金属塩や、Fe,Mn,Cd,M
g、Ba,Ti,Zn,Pb,Co,Sb,Sn等の金属塩を単独もしくは組
合わせて使用することもできる。また分解抑制剤として
リン化合物を添加してもよい。
以上のようにして得られたコレステリツク液晶性ポリエ
ステルは350℃以下の温度で溶融成形でき、成形物は高
い機械的特性を有しながら物性の異方性が少ないという
特徴を有する。
ステルは350℃以下の温度で溶融成形でき、成形物は高
い機械的特性を有しながら物性の異方性が少ないという
特徴を有する。
実施例 以下に実施例を述べるが、これらは本発明を実施するた
めの説明のものであり、本発明はこれらに制限されるも
のではない。
めの説明のものであり、本発明はこれらに制限されるも
のではない。
実施例１ （１） 構造単位（Ｃ）を有するオリゴマーの合成 ヒドロキシ安息香酸メチル21.0g、（Ｓ）−２−メチル
−1,4−ブタンジオール7.12g、オルトチタン酸ｎ−ブチ
ル8mgを撹拌機のついた反応器に仕込み窒素気流下180℃
から200℃で20時間反応させた。反応混合物をエタノー
ルに溶解させ、大過剰の水に投じると固形物が析出し
た。固形を遠心分離で分離し粗（Ｓ）−２−メチル−1,
4−ビス〔４−ヒドロキシベンゾイロキシ〕ブタンを収
率38％で得た。
−1,4−ブタンジオール7.12g、オルトチタン酸ｎ−ブチ
ル8mgを撹拌機のついた反応器に仕込み窒素気流下180℃
から200℃で20時間反応させた。反応混合物をエタノー
ルに溶解させ、大過剰の水に投じると固形物が析出し
た。固形を遠心分離で分離し粗（Ｓ）−２−メチル−1,
4−ビス〔４−ヒドロキシベンゾイロキシ〕ブタンを収
率38％で得た。
これを硫酸触媒下無水酢酸でアセチル化したのにエタノ
ール溶液から再結晶し70％の収率でmp46℃の白色結晶、
（Ｓ）−２−メチル−1,4−ビス〔４−アセトキシベン
ゾイロキシ〕ブタンを得た（以下MABBと略す）を得た。
構造は1H−NMRで確認した。
ール溶液から再結晶し70％の収率でmp46℃の白色結晶、
（Ｓ）−２−メチル−1,4−ビス〔４−アセトキシベン
ゾイロキシ〕ブタンを得た（以下MABBと略す）を得た。
構造は1H−NMRで確認した。
（２） コレステリツク液晶性ポリエステルの合成 ６−アセトキシ−２−ナフトエ酸7.67g（33.3mmol）、
４−アセトキシ安息香酸10.8g（60.0mmol）、テレフタ
ル酸2.32g（20mmol）、前記（１）で合成した（Ｓ）−
２−メチル−1,4−ビス〔４−アセトキシベンゾイロキ
シ〕ブタン8.56g（20mmol）および酢酸カリウム5mgを撹
拌機のついてた反応器に仕込み窒素でパージしたのち室
温から240℃まで2.5℃/minの昇温速度で加熱し、240℃
に達したらなば窒素を流しはじめ１℃/minの昇温速度で
300℃まで加熱した。昇温過程で反応混合物は濁りはじ
め淡い緑色に着色してコレステリツク液晶が生成してい
ることが確認された。300℃で0.5mmHgの真空下に１時間
加熱撹拌を続け重合を完了した。
４−アセトキシ安息香酸10.8g（60.0mmol）、テレフタ
ル酸2.32g（20mmol）、前記（１）で合成した（Ｓ）−
２−メチル−1,4−ビス〔４−アセトキシベンゾイロキ
シ〕ブタン8.56g（20mmol）および酢酸カリウム5mgを撹
拌機のついてた反応器に仕込み窒素でパージしたのち室
温から240℃まで2.5℃/minの昇温速度で加熱し、240℃
に達したらなば窒素を流しはじめ１℃/minの昇温速度で
300℃まで加熱した。昇温過程で反応混合物は濁りはじ
め淡い緑色に着色してコレステリツク液晶が生成してい
ることが確認された。300℃で0.5mmHgの真空下に１時間
加熱撹拌を続け重合を完了した。
ポリマーをペンタフルオロフエノールに0.1wt％の濃度
で溶解し60℃で測定したηinhは2.8dl/gであつた。ポリ
マーを二枚のガラス板ではさみホツトステージのついた
偏光顕微鏡で観察したところ235℃で融解の兆候を示し
はじめた。300℃にてガラス板をずらせて剪断力をかけ
るとGrandjeanテクスチヤーが観測されコレステリツク
液晶が形成されていることが確認された。コレステリツ
ク選択反射スペクトルが最大値を示す波長は800nmであ
つた。
で溶解し60℃で測定したηinhは2.8dl/gであつた。ポリ
マーを二枚のガラス板ではさみホツトステージのついた
偏光顕微鏡で観察したところ235℃で融解の兆候を示し
はじめた。300℃にてガラス板をずらせて剪断力をかけ
るとGrandjeanテクスチヤーが観測されコレステリツク
液晶が形成されていることが確認された。コレステリツ
ク選択反射スペクトルが最大値を示す波長は800nmであ
つた。
実施例２ ヒドロキシ安息香酸メチル7.89g（57.2mmol）、６−ヒ
ドロキシ−２−ナフトエ酸3.59g（19.1mmol）、テレフ
タル酸0.63（3.8mmol）および（Ｓ）−２−メチル−1,4
−ブタンジオール0.59（5.7mmol）を撹拌機のついた反
応器に仕込み窒素でパージした後230℃に加熱して30分
間反応させた。次に酢酸カリウム5mgと無水酢酸8.58g
（84.1mmol）を加え還流下に２時間反応させた。次いで
150℃から240℃まで2.5℃/minの昇温度速度で加熱しな
がら過剰の無水酢酸、生成してきた酢酸等を留去しなが
ら加熱してゆき、240℃からは１℃/minの昇温速度で340
℃まで加熱した。240℃からは窒素を流しながら加熱を
行なつた。最後に340℃で0.5mmHgの減圧下に１時間加熱
して重合を完了した。
ドロキシ−２−ナフトエ酸3.59g（19.1mmol）、テレフ
タル酸0.63（3.8mmol）および（Ｓ）−２−メチル−1,4
−ブタンジオール0.59（5.7mmol）を撹拌機のついた反
応器に仕込み窒素でパージした後230℃に加熱して30分
間反応させた。次に酢酸カリウム5mgと無水酢酸8.58g
（84.1mmol）を加え還流下に２時間反応させた。次いで
150℃から240℃まで2.5℃/minの昇温度速度で加熱しな
がら過剰の無水酢酸、生成してきた酢酸等を留去しなが
ら加熱してゆき、240℃からは１℃/minの昇温速度で340
℃まで加熱した。240℃からは窒素を流しながら加熱を
行なつた。最後に340℃で0.5mmHgの減圧下に１時間加熱
して重合を完了した。
実施例１と同じ方法で測定したηinhは3.5dl/gであつ
た。ポリマーをホツトステージのついた偏光顕微鏡で観
察したところ280℃で融解の兆候を示した。300℃にてガ
ラス板をずらせて剪断力をかけるとオイリーストリーク
スを伴つたGrandjeanテクスチヤーが観測されコレステ
リツク液晶が形成されていることが確認された。
た。ポリマーをホツトステージのついた偏光顕微鏡で観
察したところ280℃で融解の兆候を示した。300℃にてガ
ラス板をずらせて剪断力をかけるとオイリーストリーク
スを伴つたGrandjeanテクスチヤーが観測されコレステ
リツク液晶が形成されていることが確認された。
比較例１ ６−アセトキシ−２−ナフトエ酸6.22g（27.0mmol）、
４−アセトキシ安息香酸13.16g（73.0mmol）および酢酸
カリウム5mgを撹拌機のついた反応器に仕込み窒素でパ
ージしたのち室温から240℃まで2.5℃/minの昇温速度で
加熱し、240℃に達したならば窒素を流しはじめ１℃/mi
nの昇温速度で340℃まで加熱した。最後に340℃で0.5mm
Hgの減圧下に10分間加熱して重合を完了した。
４−アセトキシ安息香酸13.16g（73.0mmol）および酢酸
カリウム5mgを撹拌機のついた反応器に仕込み窒素でパ
ージしたのち室温から240℃まで2.5℃/minの昇温速度で
加熱し、240℃に達したならば窒素を流しはじめ１℃/mi
nの昇温速度で340℃まで加熱した。最後に340℃で0.5mm
Hgの減圧下に10分間加熱して重合を完了した。
実施例１と同じ方法で測定したηinhは7.1dl/gであつ
た。ポリマーをホツトステージのついた偏光顕微鏡で観
測したところ280℃で融解の兆候を示した。300℃および
320℃でガラス板をずらせて剪断力をかけてもGrandjean
テクスチヤーは現れず、ネマチレステリツク液晶である
ことが確認された。
た。ポリマーをホツトステージのついた偏光顕微鏡で観
測したところ280℃で融解の兆候を示した。300℃および
320℃でガラス板をずらせて剪断力をかけてもGrandjean
テクスチヤーは現れず、ネマチレステリツク液晶である
ことが確認された。
比較例２ 実施例２において６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸を加
えない他は全く同じ処方で反応させた。240℃から１℃/
minの昇温速度で加熱している際に300℃付近から固化
し、撹拌が不可能となつた。350℃まで加熱したが溶融
する徴候がみえないので重合を中止した。
えない他は全く同じ処方で反応させた。240℃から１℃/
minの昇温速度で加熱している際に300℃付近から固化
し、撹拌が不可能となつた。350℃まで加熱したが溶融
する徴候がみえないので重合を中止した。
ポリマーは実施例１と同じ溶媒に溶かそうとしたが全く
溶解しなかつた。またホツトステージのついて偏光顕微
鏡で観察したところ少くとも350℃まで全く溶解しなか
つた。
溶解しなかつた。またホツトステージのついて偏光顕微
鏡で観察したところ少くとも350℃まで全く溶解しなか
つた。
このように６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸と一成分と
して用いると光学活性モノマーを除き全成分が芳香族化
合物であつても溶融成形が可能なコレステリツク液晶性
ポリマーとなることが明らかである。
して用いると光学活性モノマーを除き全成分が芳香族化
合物であつても溶融成形が可能なコレステリツク液晶性
ポリマーとなることが明らかである。
以上実施例でも例証したように本発明のポリエステルは
コレステリツク液晶性を示すことが確認され、またフイ
ルム、シートは機械的特性に優れたものである。
コレステリツク液晶性を示すことが確認され、またフイ
ルム、シートは機械的特性に優れたものである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−90219（ＪＰ，Ａ) 特開 昭64−65124（ＪＰ，Ａ) 特開 昭62−41221（ＪＰ，Ａ) 特開 昭61−78831（ＪＰ，Ａ)
Claims (1)
- 【請求項１】６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸またはそ
のエステル形成性誘導体５〜50モル％、ｐ−ヒドロキシ
安息香酸またはそのエステル形成性誘導体20〜90モル
％、 式 で表されるジオールまたはそのエステル形成性誘導体0.
1〜40モル％、および 式 〔式中、Ｒは炭素数６〜20の２価の芳香族炭化水素基
（ただし、芳香族環の水素原子はハロゲン原子、炭素数
１〜４のアルキル基またはアルコキシ基で置換されてい
てもよい）、炭素数４〜20の２価の脂環式炭化水素基お
よび炭素数１〜40の２価の脂肪族炭化水素基から選ばれ
る基を示す。〕で表されるジカルボン酸またはそのエス
テル形成性誘導体0.1〜40モル％を重縮合することを特
徴とするコレステリック液晶性ポリエステルの製造法。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62222073A JPH0678427B2 (ja) | 1987-09-07 | 1987-09-07 | コレステリック液晶性ポリエステルの製造法 |
| US07/240,952 US4891418A (en) | 1987-09-07 | 1988-09-06 | Cholesteric liquid crystal polyester |
| DE8888308262T DE3870794D1 (de) | 1987-09-07 | 1988-09-07 | Polyester, die cholesterische fluessige kristalle bilden. |
| EP88308262A EP0311257B1 (en) | 1987-09-07 | 1988-09-07 | Cholesteric liquid crystal polyesters |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62222073A JPH0678427B2 (ja) | 1987-09-07 | 1987-09-07 | コレステリック液晶性ポリエステルの製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6466233A JPS6466233A (en) | 1989-03-13 |
| JPH0678427B2 true JPH0678427B2 (ja) | 1994-10-05 |
Family
ID=16776694
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62222073A Expired - Lifetime JPH0678427B2 (ja) | 1987-09-07 | 1987-09-07 | コレステリック液晶性ポリエステルの製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0678427B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6178831A (ja) * | 1984-09-27 | 1986-04-22 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 共重合ポリエステル |
| JPS6241221A (ja) * | 1985-08-19 | 1987-02-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | 共重合ポリエステル |
-
1987
- 1987-09-07 JP JP62222073A patent/JPH0678427B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6466233A (en) | 1989-03-13 |
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