JPH06789B2 - 新規セフエム化合物およびその製造法 - Google Patents

新規セフエム化合物およびその製造法

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JPH06789B2
JPH06789B2 JP60001355A JP135585A JPH06789B2 JP H06789 B2 JPH06789 B2 JP H06789B2 JP 60001355 A JP60001355 A JP 60001355A JP 135585 A JP135585 A JP 135585A JP H06789 B2 JPH06789 B2 JP H06789B2
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隆男 高谷
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07D—HETEROCYCLIC COMPOUNDS
    • C07D501/00—Heterocyclic compounds containing 5-thia-1-azabicyclo [4.2.0] octane ring systems, i.e. compounds containing a ring system of the formula:, e.g. cephalosporins; Such ring systems being further condensed, e.g. 2,3-condensed with an oxygen-, nitrogen- or sulfur-containing hetero ring
    • C07D501/14—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7
    • C07D501/16—Compounds having a nitrogen atom directly attached in position 7 with a double bond between positions 2 and 3
    • C07D501/20—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids
    • C07D501/24—7-Acylaminocephalosporanic or substituted 7-acylaminocephalosporanic acids in which the acyl radicals are derived from carboxylic acids with hydrocarbon radicals, substituted by hetero atoms or hetero rings, attached in position 3
    • C07D501/38—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof
    • C07D501/46—Methylene radicals, substituted by nitrogen atoms; Lactams thereof with the 2-carboxyl group; Methylene radicals substituted by nitrogen-containing hetero rings attached by the ring nitrogen atom; Quaternary compounds thereof with the 7-amino radical acylated by carboxylic acids containing hetero rings
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A61—MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; HYGIENE
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Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は新規セフェム化合物およびその塩に関する。
さらに詳しくは、抗菌活性を有する新規セフェム化合物
およびその塩、それらの製造法、ならびにそれらを含有
してなる抗菌剤に関する。
すなわち、この発明の一つの目的は、多くの病原菌に対
して活性を示す新規セフェム化合物およびその塩を提供
することにある。
この発明の別の目的は、新規セフェム化合物およびその
塩の製造法を提供することにある。
この発明のもう一つの目的は、前記の新規セフェム化合
物またはその塩を有効成分として含有してなる抗菌剤を
提供することにある。
「問題点を解決するための手段」 目的とするセフェム化合物は新規化合物であり、下記の
一般式(I)： （式中、Ｒ1はアミノまたは保護されたアミノ、Ｒ2は低
級脂肪族炭化水素基、 Ｒ3は適当な置換基を有していてもよい、窒素原子２個
以上を含有する不飽和縮合複素環式カチオン基、 ＸはＮを意味する） で示すことができる。
この発明に従えば、新規セフェム化合物(I)は下記の反
応式で示される方法により製造することができる。
（式中、Ｒ1，Ｒ2，Ｒ3およびＸはそれぞれ前と同じ意
味、 Ｒ4は式Ｒ3で示される基により置換され得る基であり、 Ｒ5は適当な置換基を有していてもよい、窒素原子２個
以上を含有する不飽和縮合複素環式化合物を意味する） 目的化合物(I)および原料化合物(II)については、該目
的化合物および原料化合物はシン異性体、アンチ異性体
およびそれらの混合物を含むものとする。例えば、目的
化合物(I)において、シン異性体は下記の式： （式中、Ｒ1，Ｒ2およびＸはそれぞれ前と同じ意味）で
示される部分構造を有する一つの幾何異性体を意味し、
アンチ異性体は下記の式： （式中、Ｒ1，Ｒ2およびＸはそれぞれ前と同じ意味）で
示される部分構造を有する別の幾何異性体を意味する。
原料化合物(II)については、シン異性体およびアンチ異
性体は、化合物(I)について示した幾何異性体と同じも
のを挙げることができる。
目的化合物(I)の好適な塩は慣用の無毒性塩であり、ア
ルカリ金属塩（例えば、ナトリウム塩、カリウム塩等）
およびアルカリ土類金属塩（例えば、カルシウム塩、マ
グネシウム塩等）のような金属塩、アンモニウム塩、有
機塩基塩（例えば、トリメチルアミン塩、トリエチルア
ミン塩、ピリジン塩、ピコリン塩、ジシクロヘキシルア
ミン塩、Ｎ，Ｎ′−ジベンジルエチレンジアミン塩
等）、有機酸塩（例えば、酢酸塩、マレイン酸塩、酒石
酸塩、メタンスルホン酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、ギ
酸塩、トルエンスルホン酸塩等）、無機酸塩（例えば、
塩酸塩、臭化水素酸塩、ヨウ化水素酸塩、硫酸塩、リン
酸塩等）、またはアミノ酸（例えば、アルギニン、アス
パラギン酸、グルタミン酸等）との塩などがあげられ
る。
この明細書の上記および以下の記載において、この発明
がその範囲内に包含する種々の定義の適切な例と説明と
を以下詳細に述べる。
「低級」とは、特別の指示がなければ炭素原子１〜６個
を意味するものとする。
Ｒ1で示される「保護されたアミノ」の好適な例として
は、アシルアミノまたは適当な置換基（例えば、ベンジ
ル、トリチル等）を有していてもよいアル（低級）アル
キル等の慣用の保護基で置換されたアミノを挙げること
ができる。
「アシルアミノ」および「アシルオキシ」の好適なアシ
ル部分としては、カルバモイル、脂肪族アシル基および
芳香環または複素環を有するアシル基が挙げられる。上
記アシルの好適な例としては、低級アルカノイル（例え
ば、ホルミル、アセチル、プロピオニル、ブチリル、イ
ソブチリル、バレリル、イソバレリル、オキサリル、ス
クシニル、ピバロイル等）； 低級アルコキシカルボニル（例えば、メトキシカルボニ
ル、エトキシカルボニル、プロポキシカルボニル、１−
シクロプロピルエトキシカルボニル、イソプロポキシカ
ルボニル、ブトキシカルボニル、第三級ブトキシカルボ
ニル、ペンチルオキシカルボニル、ヘキシルオキシカル
ボニル等）； 低級アルカンスルホニル（例えば、メシル、エタンスル
ホニル、プロパンスルホニル、イソプロパンスルホニ
ル、ブタンスルホニル等）； アレーンスルホニル（例えば、ベンゼンスルホニル、ト
シル等）； アロイル（例えば、ベンゾイル、トルオイル、キシロイ
ル、ナフトイル、フタロイル、インダンカルボニル
等）； アル（低級）アルカノイル（例えば、フェニルアセチ
ル、フェニルプロピオニル等； アル（低級）アルコキシカルボニル（例えば、ベンジル
オキシカルボニル、フェネチルオキシカルボニル等）等
が挙げられる。
上記のアシル部分はアシル（例えば、低級アルカノイ
ル）、ハロゲン（例えば、塩素、臭素、ヨウ素またはフ
ッ素）等の適当な置換基を有していてもよい。
好適な低級脂肪族炭化水素基としては、低級アルキル、
低級アルケニル、低級アルキニル等が挙げられる。
好適な「低級アルキル」とは、炭素原子１〜６個を有す
るものであり、メチル、エチル、プロピル、イソプロピ
ル、ブチル、イソブチル、第三級ブチル、ペンチル、第
三級ペンチル、ヘキシル等が挙げられるが、好ましいも
のは炭素原子１〜４個を有するものである。
好適な「低級アルケニル」とは、炭素原子２〜６個を有
するものであり、ビニル、アリル、イソプロペニル、１
−プロペニル、２−ブテニル、３−ペンテニル等が挙げ
られるが、好ましいものは炭素原子２〜４個を有するも
のである。
好適な「低級アルキニル」とは、炭素原子２〜６個を有
するものであり、エチニル、２−プロピニル、２−ブチ
ニル、３−ペンチニル、３−ヘキシニル等が挙げられる
が、好ましいものは炭素原子２〜４個を有するものであ
る。
好適なＲ4としては、アシルオキシ、ハロゲン（例え
ば、塩素、臭素、ヨウ素またはフッ素）、アジド等の酸
残基が挙げられるが、ここでいう「アシルオキシ」にお
けるアシル部分としては上記で例示したものと同じもの
を挙げることができる。
Ｒ3で示される窒素原子２個以上を含有する不飽和縮合
複素環式カチオン基の好適な例としては式： （式中、ｍは０または１、ｎは１または２をそれぞれ意
味する）で示される基を挙げることができる。
上記Ｒ3の好適な例としては、5,6−ジヒドロ−１Ｈ，４
Ｈ−シクロペンタ〔ｃ〕ピラゾリオ、5,6−ジヒドロ−
２Ｈ，４Ｈ−シクロペンタ〔ｃ〕ピラゾリオ、5,6−ジ
ヒドロ−３Ｈ，４Ｈ−シクロペンタ〔c〕ピラゾリオ、
4,5,6,7−テトラヒドロ−１Ｈ−インダゾリオ、4,5,6,7
−テトラヒドロ−２Ｈ−インダゾリオ、4,5,6,7−テト
ラヒドロ−３Ｈ−インダゾリオ、5,6,7,8−テトラヒド
ロフタラジニオ等が挙げられる。
Ｒ5で示される窒素原子２個以上を含有する不飽和縮合
複素環式化合物の好適な例としては、式： （式中、ｍおよびｎはそれぞれ前と同じ意味）で示され
る化合物を挙げることができる。
上記Ｒ5の好適な例としては、5,6−ジヒドロ−１Ｈ，４
Ｈ−シクロペンタ〔c〕ピラゾール、5,6−ジヒドロ−２
Ｈ，４Ｈ−シクロペンタ〔c〕ピラゾール、5,6−ジヒド
ロ−３Ｈ，４Ｈ−シクロペンタ〔c〕ピラゾール、4,5,
6,7−テトラヒドロ−１Ｈ−インダゾール、4,5,6,7−テ
トラヒドロ−２Ｈ−インダゾール、4,5,6,7−テトラヒ
ドロ−３Ｈ−インダゾール、5,6,7,8−テトラヒドロフ
タラジン等が挙げられる。
上記の窒素原子２個以上を含有する不飽和縮合複素環式
カチオン基および窒素原子２個以上を含有する不飽和縮
合複素環式化合物はどちらも、低級アルキル（例えば、
メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ペ
ンチル、ヘキシル等）等の適当な置換基を有していても
よい。
目的化合物(I)の好ましい実施態様は以下のとおりであ
る。
Ｒ1の好ましい実施態様は、アミノである。
Ｒ2の好ましい実施態様は、低級アルキルまたは低級ア
ルケニルである。
Ｒ3の好ましい実施態様は、低級アルキルを有していて
もよい式： （式中、ｍおよびｎはそれぞれ前と同じ意味）で示され
る基、さらに好ましくは、それぞれメチルを有していて
もよい5,6−ジヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−シクロペンタ
〔ｃ〕ピラゾリオ、4,5,6,7−テトラヒドロ−１Ｈ−イ
ンダゾリオ、4,5,6,7−テトラヒドロ−２Ｈ−インダゾ
リオ、または5,6,7,8−テトラヒドロフタラジニオであ
る。
以下にこの発明の目的化合物の製造法を詳しく説明す
る。
製造法： 目的化合物(I)またはその塩は、化合物(II)またはその
塩に化合物(III)またはその塩を反応させることによっ
て製造することができる。
化合物(II)の好適な塩としては、化合物(I)について例
示したものと同じものを挙げることができる。
化合物(III)の好適な塩としては、化合物(I)について例
示したものと同じ酸付加塩を挙げることができる。
この反応は、水、リン酸緩衝液、アセトン、クロロホル
ム、アセトニトリル、ニトロベンゼン、塩化メチレン、
塩化エチレン、ホルムアミド、ジメチルホルムアミド、
アルコール（例えば、メタノール、エタノール等）、エ
ーテル、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシドの
ような溶媒または反応に悪影響を及ぼさないその他のあ
らゆる有機溶媒中で、好ましくは強い極性を有する溶媒
中で行えばよい。これらの溶媒のうち、親水性の溶媒は
水と混合して使用してもよい。反応はほぼ中性の媒質中
で行なうことが好ましい。化合物(II)を遊離形で用いる
場合は、反応を例えば、アルカリ金属水酸化物、アルカ
リ金属炭酸塩、アルカリ金属炭酸水素塩等の無機塩基、
トリアルキルアミン等の有機塩基、等の塩基の存在下に
行なうことが好ましい。
反応温度は特に限定されず、反応は通常室温、加温下ま
たは加熱下で行なわれる。
この反応は、アルカリ金属ハロゲン化物（例えば、ヨウ
化ナトリウム、ヨウ化カリウム等）、チオシアン酸アル
カリ金属（例えば、チオシアン酸ナトリウム、チオシア
ン酸カリウム等）等の存在下に行なうことが好ましい。
この発明の目的化合物(I)は高い抗菌活性を示し、グラ
ム陽性およびグラム陰性病原菌を含む多数の病原菌の発
育を阻止する。
治療にあたっては、この発明のセファロスポリン化合物
は、経口投与、非経口投与または外用に適した有機また
は無機の固体状もしくは液状賦形剤のような医薬として
許容される担体と混合されて、前記化合物を含有する医
薬製剤の形で使用される。医薬製剤はカプセル剤、錠
剤、糖衣錠、軟膏剤、坐剤のような固定状もしくは溶
液、懸濁液または乳剤のような液状の剤形であってもよ
い。所望によっては、上記製剤に助剤、安定剤、湿潤剤
または乳化剤、緩衝液およびその他の通常使用される添
加剤が含まれていてもよい。
この化合物の投与量は患者の年令および症状によって変
化するが、この発明による化合物は、平均１回投与量約
５０mg、１００mg、２５０mgおよび５００mgで多くの病
原菌感染症治療に有効である。一般的には、１日１mg／
固体〜１０００mg／個体またはそれ以上の量を投与して
もよい。
「発明の効果」 次に、目的化合物(I)の有用性を示すために、この発明
の代表的な化合物の抗菌活性試験データを以下に示す。
試験法 各試験菌株をトリプチケース・ソイ・ブロス中で一夜培
養してその１白金耳（生菌数１０8個／ml）を各濃度段
階の抗生物質を含むハート・インフュージョン寒天（Ｈ
Ｉ寒天）に接種し、３７℃で20時間培養した後、最小発
育阻止濃度（ＭＩＣ）をμg/mlで表わした。
試験化合物 (1)７−［２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］−３
−［１−メチル−5,6−ジヒドロ−２（１Ｈ，４Ｈ）−
シクロペンタ［ｃ］ピラゾリオ］メチル−３−セフェム
−４−カルボキシレート（シン異性体） (2)７−［２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］−３
−［１−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ−２（１Ｈ）
−インダゾリル］メチル−３−セフェム−４−カルボキ
シレート（シン異性体） (3)７−［２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］−３
−（5,6,7,8−テトラヒドロ−２−フタラジニオ）メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体） 試験結果 「実施例」 以下、実施例に従ってこの発明を説明する。
実施例１ ７−〔２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
−アセトキシメチル−３−セフェム−４−カルボン酸の
ナトリウム塩（シン異性体）（6.43ｇ）、１−メチル−
5,6−ジヒドロ−1H,4H−シクロペンタ〔ｃ〕ピラゾール
（3.2ｇ）、ヨウ化ナトリウム（20.54ｇ）、リン酸（0.
67ｇ）、水（2.8ml）およびアセトニトリル（8.5ml）の
混合物を７０〜７５℃で２時間撹拌する。反応混合物を
水（100ml）中に注ぎ、水層を10%塩酸でpH2.0に調整す
る。沈殿を去した後、水溶液を酢酸エチルで４回洗浄
する。水層を５％炭酸水素ナトリウム水溶液でpH2.5に
調整し、非イオン性吸着樹脂ダイヤイオンＨＰ−２０
（商標；三菱化成社製）を使用するカラムクロマトグラ
フィーに付す。カラムを水洗し、５０％水性メタノール
で溶出する。目的化合物を含む画分を合わせ、減圧下で
メタノールを留去して、得られる水溶液を凍結乾燥し
て、７−〔２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕
−３−〔１−メチル−5,6−ジヒドロ−２（１Ｈ，４
Ｈ）−シクロペンタ〔c〕ピラゾリオ〕メチル−３−セ
フェム−４−カルボキシレート（シン異性体）（1.3
ｇ）を得る。
IR(ヌジョ-ル):3300,1770,1668,1630,1605cm-1 NMR(D2O,δ):2.5-3.0(6H,m),3.35(2H,br.s),3.96(3H,
s),4.8(2H,m),5.30(1H,d,J=5Hz),5.1-5.5(2H,m),5.93(1
H,d,J=5Hz),6.0(1H,m),7.84(1H,s) 実施例２ 実施例１の方法に準じて下記の化合物を得る。
(1)７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
−〔１−メチル−5,6−ジヒドロ−２（1H,4H）−シクロ
ペンタ〔ｃ〕ピラゾリオ〕メチル−３−セフェム−４−
カルボキシレート（シン異性体） IR(ヌジョ-ル):3300,1773,1668,1610cm-1 NMR(D2O,δ):1.33(3H,t,J=7Hz),2.8(6H,m),3.32(2H,m),
3.93(3H,s),4.36(2H,q,J=7Hz),5.26(1H,d,J=5Hz),5.30
(2H,m),5.88(1H,d,J=5Hz),7.78(6H,s) (2)７−〔２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕
−３−〔１−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ−２（１
Ｈ）−インダゾリオ〕メチル−３−セフェム−４−カル
ボキシレート（シン異性体） IR(ヌジョ-ル):3250,1765,1653,1600cm-1 NMR(D2O-アセトン-d6,δ):1.73(4H,m),2.50 3.23(2H,m),3.8
0(3H,s),5.26(1H,d,J=5Hz),5.4(2H,m),5.93(1H,d,J=5H
z),6.0(1H,m),7.98(1H,s) (3)７−〔２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ
−1,2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕
−３−〔２−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ−１（２
Ｈ）−インダゾリオ〕メチル−３−セフェム−４−カル
ボキシレート（シン異性体） IR(ヌジョ-ル):3300,1770,1672,1610cm-1 ＮＭＲ（Ｄ２Ｏ−アセトン−ｄ６，δ）：１．８４（４
Ｈ，ｍ），２．５６（２ｈ，ｍ），２．８８（２Ｈ，
ｍ），３．０４，３．４０（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝１６H
z），４．１６（３Ｈ，ｓ），４．７６（２Ｈ，ｄ，Ｊ
＝６Hz），５．２０（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Hz），５．２
４，５．５２（２Ｈ，ＡＢｑ，Ｊ＝８Hz），５．９２
（１Ｈ，ｄ，Ｊ＝５Hz），６．００（１Ｈ，ｍ），８．
０４（１Ｈ，ｓ） (4)７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトンアミド〕−
３−〔１−メチル−4,5,6,7−テトラヒドロ−２（１
Ｈ）−インダゾリオ〕メチル−３−セフェム−４−カル
ボキシレート（シン異性体） IR(ヌジョ-ル):3300,1765,1668,1607cm-1 NMR(D2O,δ):1.33(3H,t,J=7Hz),1.80(4H,m),2.60(4H,
m),3.30(2H,m),3.87(3H,s),4.33(2H,q,J=7z),5.25(1H,
d,J=5Hz),5.37(2H,m),5.89(1H,d,J=5Hz),7.92(1H,s) (5)７−〔２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−1,
2,4−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド〕−３
−（5,6,7,8−テトラヒドロ−２−フタラジニオ）メチ
ル−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
体） IR(ヌジョ-ル):3300,1777,1663,1610cm-1 NMR(D2O-アセトン-d6,δ):1.30(3H,t,J=7Hz),1.90(4H,m),3.
05(4H,m),3.63(2H,m),4.30(2H,q,J=7Hz),5.25(1H,d,J=5
Hz),5.58(2H,m),5.83(1H,d,J=5Hz),9.05(1H,s),9.53(1
H,s)

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】式： （式中、Ｒ１はアミノまたは保護されたアミノ、Ｒ２は
    低級脂肪族炭化水素基、 Ｒ３は適当な置換基を有していてもよい、窒素原子２個
    以上を含有する不飽和縮合複素環式カチオン基、 ＸはＮを意味する） で示される新規セフェム化合物およびその塩。
  2. 【請求項２】 で示される基が である特許請求の範囲第１項記載の化合物のシン異性
    体。
  3. 【請求項３】Ｒ１がアミノ、 Ｒ２が低級アルキルまたは低級アルケニル、 Ｒ３が低級アルキルを有していてもよい式： （式中、ｍは０または１を、ｎは１または２をそれぞれ
    意味する。） で示される基である特許請求の範囲第２項記載の化合
    物。
  4. 【請求項４】Ｒ２がメチル、エチルまたはアリル、 Ｒ３が、それぞれメチルを有していてもよい５，６−ジ
    ヒドロ−１Ｈ，４Ｈ−シクロペンタ［ｃ］ピラゾリオ、
    ４，５、６、７−テトラヒドロ−１Ｈ−インダゾリオ、
    ４，５，６，７−テトラヒドロ−２Ｈ−インダゾリオま
    たは５，６，７，８−テトラヒドロフタラジニオである
    特許請求の範囲第３項記載の化合物。
  5. 【請求項５】７−［２−アリルオキシイミノ−２−（５
    −アミノ−１，２，４−チアジアゾール−３−イル）ア
    セトアミド］−３−［１−メチル−５，６−ジヒドロ−
    ２（１Ｈ，４Ｈ）−シクロペンタ［ｃ］ピラゾリオ］メ
    チル−３−セフェム−４−カルボキシレート（シン異性
    体）、 ７−［２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，
    ２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］−
    ３−［１−メチル−５，６−ジヒドロ−２（１Ｈ，４
    Ｈ）−シクロペンタ［ｃ］ピラゾリオ］メチル−３−セ
    フェム−４−カルボキシレート（シン異性体）、７ −［２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ−
    １，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミ
    ド］−３−［１−メチル−４，５，６，７−テトラヒド
    ロ−２（１Ｈ）−インダゾリオ］メチル−３−セフェム
    −４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−［２−アリルオキシイミノ−２−（５−アミノ−
    １，２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミ
    ド］−３−［２−メチル−４，５，６，７−テトラヒド
    ロ−１（２Ｈ）−インダゾリオ］メチル−３−セフェム
    −４−カルボキシレート（シン異性体）、 ７−［２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，
    ２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］−
    ３−［１−メチル−４，５，６，７−テトラヒドロ−２
    （１Ｈ）−インダゾリオ］メチル−３−セフェム−４−
    カルボキシレート（シン異性体）、および７ −［２−エトキシイミノ−２−（５−アミノ−１，
    ２，４−チアジアゾール−３−イル）アセトアミド］−
    ３−（５，６，７，８−テトラヒドロ−２−フタラジニ
    オ）メチル−３−セフェム−４−カルボキシレート（シ
    ン異性体） よりなる化合物群から選択された特許請求の範囲第４項
    記載の化合物。
  6. 【請求項６】式： （式中、Ｒ１はアミノまたは保護されたアミノ、Ｒ２は
    低級脂肪族炭化水素基、 Ｒ４は式Ｒ３で示される基により置換され得る基、 ＸはＮを意味する） で示される化合物またはその塩に、式Ｒ５ （Ｒ５は適当な置換基を有していてもよい、窒素原子２
    個以上を含有する不飽和縮合複素環式化合物を意味す
    る） で示される化合物またはその塩を反応させて、 式： （式中、Ｒ１、Ｒ２およびＸはそれぞれ前と同じ意味で
    あり、 Ｒ３は適当な置換基を有していてもよい、窒素原子２個
    以上を含有する不飽和縮合複素環式カチオン基を意味す
    る） で示される化合物またはその塩を得ることを特徴とする
    製造法。
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