JPH0684317A - 光ディスクカートリッジおよびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】本発明は、記録再生時のトラブルの発生および
ヘッドクラッシュの発生の原因とならない光ディスクカ
ートリッジおよびその製造方法を提供するを目的とす
る。 【構成】本発明は、プラスチックからなる光ディスクケ
ース１０２・１０３の内面に該プラスチックより導電性
が高い層１０１を形成したことを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光ディスクカートリッ
ジおよびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、光ディスクケースとしてはポリカ
ーボネイトあるいはＡＢＳ樹脂等のプラスチックを射出
成形して得られる成形品が用いられていた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、前述の従来技
術では、該光ディスクケースの内面が帯電しやすく、光
ディスクを組み込んで光ディスクカートリッジを形成し
た場合、ホコリを該光カートリッジ内部に引きつけやす
く、その結果、ディスク表面にホコリが付着し記録再生
時のトラブルが発生したり、また、光磁気メモリーのオ
ーバライトを行うにあたりフライングヘッドによる磁界
変調方式を用いる場合等は、ヘッドクラッシュが発生す
るするという課題を有する。そこで本発明はこのような
課題を解決するもので、その目的とするところは、記録
再生時のトラブルの発生およびヘッドクラッシュの発生
の原因とならない光ディスクカートリッジおよびその製
造方法を提供するところにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、プラスチックからなる光ディスクケースの内
面に該プラスチックより導電性の高い層を形成したこと
を特徴とする。

【０００５】

【実施例】以下に本発明の実施例を図面に基づいて説明
する。

【０００６】図１は、本発明の実施例における導電性の
高い層１０１を光ディスクケースの内面に形成した光デ
ィスクカートリッジの断面図である。光ディスクケース
は上部のアッパーシェル１０２と下部のローアシェル１
０３とからなり、互いに内面を向かい合わせて単板構造
の光ディスク１０４を組み込んで、ネジ止め等により合
体させて、光ディスクカートリッジが形成される（以
後、ケースの半分を指すときは単にシェルと呼ぶことに
する）。１０５は基板、１０６は記録膜、１０７は記録
膜保護層、１０８は基板表面保護層、１０９はマグネッ
トクランプ用のハブである。該光ディスクとしては１０
４の他に、図２（ａ）に示すような密着貼り合わせ構
造、図２（ｂ）に示すようなエアサンドイッチ構造等に
も適用できる。２０１は基板、２０２は記録膜、２０３
は記録膜保護層、２０４は基板表面保護層、２０５はマ
グネットクランプ用のハブ、２０６は接着層、２０７は
スペーサである。

【０００７】図３（ａ）は本発明の光ディスクカートリ
ッジを製造するのに際し使用した真空蒸着装置の概念図
である。３０１は真空チャンバー、３０２はヒーター、
３０３は防着板であり、３０４は蒸着源であるＣｒ、３
０５は真空ポンプである。図３に示す真空蒸着装置に、
光ディスクケースのシェル３０６の内面が下になるよう
にセットし、真空にてＣｒを蒸着した。その結果できあ
がった光ディスク用カートリッジの断面図が図３（ｂ）
である。

【０００８】本実施例では、導電性の高い層を形成する
ための蒸着源としてＣｒを用いたが、カートリッジの材
料として用いられているプラスチックより導電性の高い
層を形成する材料であれば、例えば、Ａｌ，Ｆｅ，Ｃ
ｏ，Ｎｉ，Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｍｏ，
Ｗ，Ｍｎ，Ｒｕ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ｏｓ，Ｉｒ，Ｐｔ，Ｃ
ｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃ，Ｓｉ，Ｇａ，Ｇｅ，Ｓｅ，
Ｔｅ，Ｐｂ等およびそれらの合金、化合物、酸化物、窒
化物、硅化物、硫化物、炭化物、また、導電性有機材料
等も使用できる。

【０００９】次に、導電性の高い層の形成方法として、
紫外線硬化樹脂を塗布し硬化させた場合について説明す
る。

【００１０】図４は、光ディスクケースの内面に紫外線
硬化樹脂を塗布および紫外線露光するに際し使用した、
紫外線硬化樹脂塗布装置（ａ）および紫外線露光装置
（ｂ）の概念図である。４０１は紫外線硬化樹脂タン
ク、４０２は塗布パット、４０３はエアシンダー、４０
５は紫外線ランプ、４０６はコンベアである。塗布パッ
トはメッシュ状になっていて、エアシリンダーにより光
ディスクケースのシェルに押さえつけられると、タンク
から送られてきた紫外線硬化樹脂が表面にしみ出てくる
ようになっている。図４（ａ）に示す装置に、光ディス
クケースのシェルの内面が上になるようにセットし、紫
外線硬化樹脂を塗布する。これを、図４（ｂ）に示す紫
外線露光装置で紫外線を露光して紫外線硬化樹脂を硬化
させる。その結果できあがった光ディスクカートリッジ
の断面図が図４（ｃ）である。

【００１１】層の形成方法としてはこの他に、スパッタ
リング、イオンプレーティング、ＣＶＤ、メッキ、溶射
等も用いることができる。

【００１２】次に、光ディスクケースの内面にフィルム
を貼り付けることにより、導電性の高い層を形成した場
合について説明する。

【００１３】図５は、本発明光ディスクカートリッジを
製造するに際し使用した、帯電防止剤を添加したポリエ
チレンテレフタレートフィルムの上視図（ａ）および断
面図（ｂ）である。このフィルムの片面にロールコート
等により紫外線硬化樹脂を図６（ａ）に示したように塗
布し、図６（ｂ）に示したように光ディスクケースのシ
ェルの内面に重ね合わせる。これを図４（ｂ）に示した
紫外線露光装置により紫外線を露光して硬化させる。そ
の結果できあがった光ディスクカートリッジの断面図が
図６（ｃ）である。本実施例では接着剤として紫外線硬
化樹脂型の接着剤を用いたが、それ以外にエポキシ系、
ウレタン系、ビニル系、エステル系の接着剤等も用いる
ことができる。

【００１４】また、フィルムを貼り付ける方法として、
両面粘着テープを用いてもよい。図５に示したフィルム
の片面に、図７（ａ）に示したように両面粘着テープを
貼る。ここで、７０３は保護フィルムである。この保護
フィルムを剥して、図７（ｂ）に示したように光ディス
クケースのシェルの内面に貼り付ける。その結果できあ
がった光ディスクカートリッジの断面図が図７（ｃ）で
ある。

【００１５】本実施例では、フィルム材料としてポリエ
チレンテレフタレートフィルムを用いたが、アクリル
系、ポリカーボネイト系、シリコン系、ビニル系、フッ
素系、ウレタン系、セルロース系、ビニロン系、オレフ
ィン系、イミド系、スチレン系、ポリエーテル系等の樹
脂、および、これらに帯電防止剤として界面活性剤を添
加したもの、Ｃまたは金属などを分散させたもの、ま
た、ガラス、金属フィルム等も使用できる。

【００１６】このような実施例に基づき作成した光ディ
スクカートリッジにおいて、光ディスクの回転と静止の
繰り返しテストを行った結果、ケース材料に用いられて
いるプラスチックより導電性の高い層を内面に形成した
光ディスクカートリッジは、従来の光ディスクカートリ
ッジに比べ、記録再生エラーの発生率は１／１０００に
減少した。また、光磁気メモリーのオーバライトを行う
にあたりフライングヘッドによる磁界変調方式を用いる
場合等は、ヘッドクラッシュの発生率は１／１００であ
った。

【００１７】以上、本発明をある特別な実施例において
説明したが、本発明はそれらに限定されるものと考えら
れるべきではなく、本発明の主旨を逸脱しない限り種々
の変更は可能である。

【００１８】

【発明の効果】以上に述べたように本発明によれば、プ
ラスチックからなる光ディスクケースの内面に該プラス
チックより導電性の高い層を形成することは、光ディス
クカートリッジの内部にホコリを引きつけにくくなり、
光ディスクの表面にホコリが付着することによる記録再
生のトラブルやフラインッグヘッドのヘッドクラッシュ
の発生する頻度が低減されるという効果が得られた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施例における導電性の高い層を内面
に形成した光ディスクカートリッジの断面図。

【図２】光ディスクケースに組み込まれる光ディスクの
一例である、密着貼り合わせ構造の光ディスクの断面図
（ａ）とエアサンドイッチ構造の光ディスクの断面図
（ｂ）。

【図３】請求項４に示す光ディスクカートリッジの製造
方法を説明するための概念図。

【図４】請求項５に示す光ディスクカートリッジの製造
方法を説明するための概念図。

【図５】請求項６、７、８に示す光ディスクカートリッ
ジを製造するに際し、使用したフィルムの上視図（ａ）
と断面図（ｂ）。

【図６】請求項７に示す光ディスクカートリッジの製造
方法を説明するための概念図。

【図７】請求項８に示す光ディスクカートリッジの製造
方法を説明するための概念図。

【符号の説明】

１０１ 導電性の高い層 １０２ 光ディスクケースのアッパーシェル １０３ 光ディスクケースのローアシェル １０４ 単板構造の光ディスク １０５ 基板 １０６ 記録膜 １０７ 記録膜保護層 １０８ 基板表面ハードコート層 １０９ マグネットクランプ用ハブ ２０１ 基板 ２０２ 記録膜 ２０３ 記録膜保護層 ２０４ 基板表面保護層 ２０５ マグネットクランプ用ハブ ２０６ 接着層 ２０７ スペーサ ３０１ 真空チャンバー ３０２ ヒーター ３０３ 防着板 ３０４ Ｃｒ蒸着源 ３０５ 真空ポンプ ３０６ 光ディスクケースのシェル ３０７ Ｃｒ層 ４０１ 紫外線硬化樹脂タンク ４０２ 塗布パット ４０３ エアシリンダー ４０４ 光ディスクケースのシェル ４０５ 紫外線ランプ ４０６ コンベア ４０７ （硬化前の）紫外線硬化樹脂層 ４０８ （硬化後の）紫外線硬化樹脂層 ６０１ ポリエチレンテレフタレートフィルム ６０２ 紫外線硬化樹脂 ６０３ 光ディスクケースのシェル ７０１ ポリエチレンテレフタレートフィルム ７０２ 両面粘着テープ ７０３ 保護フィルム ７０４ 光ディスクケースのシェル

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 プラスチックからなる光ディスクケース
   の内面に該プラスチックより導電性の高い層を形成した
   ことを特徴とする光ディスクカートリッジ。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の導電性の高い層とし
   て、金属薄膜を光ディスクケースの内面に形成したこと
   を特徴とする光ディスクカートリッジ。
3. 【請求項３】 請求項１に記載の導電性の高い層とし
   て、樹脂層を光ディスクケースの内面に形成したことを
   特徴とする光ディスクカートリッジ。
4. 【請求項４】 請求項２に記載の金属薄膜の形成方法と
   して、真空蒸着を用いたことを特徴とする請求項１に記
   載の光ディスクカートリッジの製造方法。
5. 【請求項５】 請求項３に記載の樹脂層の形成方法とし
   て、紫外線硬化樹脂を内面に塗布、硬化させたことを特
   徴とする光ディスクカートリッジの製造方法。
6. 【請求項６】 請求項３に記載の樹脂層の形成方法とし
   て、フィルムを内面に貼り付けたことを特徴とする光デ
   ィスクカートリッジの製造方法。
7. 【請求項７】 請求項６に記載のフィルムを内面に貼り
   付けるに際し、接着剤として紫外線硬化樹脂を用いたこ
   とを特徴とする請求項１に記載の光ディスクカートリッ
   ジの製造方法。
8. 【請求項８】 請求項６に記載のフィルムを内面に貼り
   付けるに際し、貼り付け材料として両面粘着テープを用
   いたことを特徴とする請求項１に記載の光ディスクカー
   トリッジの製造方法。