JPH0686057B2 - マイクロ波乾燥装置 - Google Patents
マイクロ波乾燥装置Info
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- JPH0686057B2 JPH0686057B2 JP1127336A JP12733689A JPH0686057B2 JP H0686057 B2 JPH0686057 B2 JP H0686057B2 JP 1127336 A JP1127336 A JP 1127336A JP 12733689 A JP12733689 A JP 12733689A JP H0686057 B2 JPH0686057 B2 JP H0686057B2
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- dried
- drying chamber
- drying
- door
- chamber
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Description
【発明の詳細な説明】 (イ)産業上の利用分野 本発明はマイクロ波乾燥装置に関する。
(ロ)従来の技術 特願平1−47803号には、粒状または粉状被乾燥物が供
給された乾燥室内にマイクロ波を供給して被乾燥物のマ
イクロ波乾燥を行ない、且つこの時均一なマイクロ波乾
燥が行なわれるように被乾燥物を攪拌するマイクロ波乾
燥装置が開示されている。
給された乾燥室内にマイクロ波を供給して被乾燥物のマ
イクロ波乾燥を行ない、且つこの時均一なマイクロ波乾
燥が行なわれるように被乾燥物を攪拌するマイクロ波乾
燥装置が開示されている。
しかるに、この場合、マイクロ波を乾燥室に供給するた
めの給電口は乾燥室の側壁に形成されており、この給電
口を覆うマイクロ波透過性カバーは乾燥室の側壁に位置
している。又、被乾燥物は攪拌により側方へ飛散する。
従って、攪拌時には、被乾燥物が乾燥室側壁に位置する
上記カバーに頻繁に当ってしまい、上記カバーの摩耗が
激しいと云う欠点がある。
めの給電口は乾燥室の側壁に形成されており、この給電
口を覆うマイクロ波透過性カバーは乾燥室の側壁に位置
している。又、被乾燥物は攪拌により側方へ飛散する。
従って、攪拌時には、被乾燥物が乾燥室側壁に位置する
上記カバーに頻繁に当ってしまい、上記カバーの摩耗が
激しいと云う欠点がある。
また、乾燥室内を清掃する際、側壁にあると、乾燥運転
直後はマグネトロンは熱くなっているので、誤って清掃
する人が触って火傷する恐れもある。
直後はマグネトロンは熱くなっているので、誤って清掃
する人が触って火傷する恐れもある。
(ハ)発明が解決しようとする課題 本発明は、マイクロ波の給電口を覆うカーが摩耗しにく
く、かつ清掃などのメンテナンスを安全に行えるマイク
ロ波乾燥装置を提供しようとするものである。
く、かつ清掃などのメンテナンスを安全に行えるマイク
ロ波乾燥装置を提供しようとするものである。
(ニ)課題を解決するための手段 本発明のマイクロ波乾燥装置は、上部開口を有し、粒状
または粉状被乾燥物が供給される乾燥室と、該乾燥室内
の被乾燥物を攪拌する攪拌手段と、上部乾燥室内を清掃
などのメンテナンスをするために上記乾燥室の上部開口
を開閉するドアと、該ドアに設けられた給電口と、上記
ドアに固定され、上記給電口から上記乾燥室内にマイク
ロ波を供給するマイクロ波発振手段と、上記給電口を覆
うマイクロ波透過性カバーとを備える構成である。
または粉状被乾燥物が供給される乾燥室と、該乾燥室内
の被乾燥物を攪拌する攪拌手段と、上部乾燥室内を清掃
などのメンテナンスをするために上記乾燥室の上部開口
を開閉するドアと、該ドアに設けられた給電口と、上記
ドアに固定され、上記給電口から上記乾燥室内にマイク
ロ波を供給するマイクロ波発振手段と、上記給電口を覆
うマイクロ波透過性カバーとを備える構成である。
(ホ)作用 即ち、給電口は乾燥室の上部開口を開閉するドアに設け
られており、この給電口を覆うカバーは乾燥室の上壁に
対応するドアに位置している。従って、被乾燥物は攪拌
において側方向へは簡単に飛散するが、上方へは飛散し
にくく、上方のドアに位置するカバーに被乾燥物が当る
頻度は小さく、上記カバーは摩耗しにくい。
られており、この給電口を覆うカバーは乾燥室の上壁に
対応するドアに位置している。従って、被乾燥物は攪拌
において側方向へは簡単に飛散するが、上方へは飛散し
にくく、上方のドアに位置するカバーに被乾燥物が当る
頻度は小さく、上記カバーは摩耗しにくい。
また、乾燥室内の清掃などのメンテナンスを行う際、乾
燥室の上部開口を閉塞しているドアは開放され、メンテ
ナンスをする人からはなれた側に移動させるので、マグ
ネトロンに当って火傷する恐れがなく安全である。
燥室の上部開口を閉塞しているドアは開放され、メンテ
ナンスをする人からはなれた側に移動させるので、マグ
ネトロンに当って火傷する恐れがなく安全である。
(へ)実施例 第1図乃至第4図は本発明実施例のマイクロ波乾燥装置
の構造を示し、同装置は乾燥装置本体(1)とその周辺
機構とからなる。
の構造を示し、同装置は乾燥装置本体(1)とその周辺
機構とからなる。
上記乾燥装置本体(1)は、主要部として、上部開口
(3a)がドア(2)にて開閉される円筒状乾燥室(3)
が設けられている。該乾燥室には左上部に供給パイプ
(4)が連接されており、該供給パイプの先端は、粒状
又は粉状被乾燥物(5)を貯留する貯槽(6)内に至っ
ている。斯る被乾燥物(5)としては、例えば樹脂ぺレ
ット、米、薬品粉粒物などがある。樹脂ペレットは溶融
された後成形されるものであるが、斯る溶融成形に先立
って樹脂ペレットを乾燥させるとその後の成形が良好に
なされるのである。本実施例では被乾燥物(5)として
樹脂ペレットが選ばれている。
(3a)がドア(2)にて開閉される円筒状乾燥室(3)
が設けられている。該乾燥室には左上部に供給パイプ
(4)が連接されており、該供給パイプの先端は、粒状
又は粉状被乾燥物(5)を貯留する貯槽(6)内に至っ
ている。斯る被乾燥物(5)としては、例えば樹脂ぺレ
ット、米、薬品粉粒物などがある。樹脂ペレットは溶融
された後成形されるものであるが、斯る溶融成形に先立
って樹脂ペレットを乾燥させるとその後の成形が良好に
なされるのである。本実施例では被乾燥物(5)として
樹脂ペレットが選ばれている。
上記乾燥室(3)のドア(2)には吸引ホッパ(7)が
連接固定れている。ホッパ内内には上記被乾燥物(5)
の材料径より小さいメッシュを有するフィルタ金網(8
a)及びフィルタ紙(8)が配置され、且つ該フィルタ
紙の上部に位置してポペット弁(9)が設けられてい
る。そして、斯るポペット弁(9)の上部において、上
記吸引ホッパ(7)には吸気パイプ(10)を介して吸引
ブロワ(11)が連結されている。この場合、ポペット弁
(9)が開放駆動された状態で上記ブロワ(11)を駆動
すると、斯るブロワ(11)の吸気作用が吸気パイプ(1
0)、吸引ホッパ(7)及び乾燥室(3)を介して供給
パイプ(4)まで及び、上記貯槽(6)内の被乾燥物
(5)が供給パイプ(4)を通って乾燥室(3)に亘
る。被乾燥物(5)は乾燥室(3)に至ると該乾燥室内
に自重により落下して溜る。
連接固定れている。ホッパ内内には上記被乾燥物(5)
の材料径より小さいメッシュを有するフィルタ金網(8
a)及びフィルタ紙(8)が配置され、且つ該フィルタ
紙の上部に位置してポペット弁(9)が設けられてい
る。そして、斯るポペット弁(9)の上部において、上
記吸引ホッパ(7)には吸気パイプ(10)を介して吸引
ブロワ(11)が連結されている。この場合、ポペット弁
(9)が開放駆動された状態で上記ブロワ(11)を駆動
すると、斯るブロワ(11)の吸気作用が吸気パイプ(1
0)、吸引ホッパ(7)及び乾燥室(3)を介して供給
パイプ(4)まで及び、上記貯槽(6)内の被乾燥物
(5)が供給パイプ(4)を通って乾燥室(3)に亘
る。被乾燥物(5)は乾燥室(3)に至ると該乾燥室内
に自重により落下して溜る。
上記ドア(2)には、更に、供給口(2a)が形成さてお
り、且つ斯る給電口(2a)に連通する導波管(13)を介
してマイクロ波発振手段即ちマグネトロン(12)が固定
されている。又、斯るマグネトロン(12)に冷却風を供
給する冷却ファン(12a)も固定されている。上記マグ
ネトロン(12)からのマイクロ波は導波管(13)及び給
電口(2a)を介して上記乾燥室(3)内に供給される。
上記給電口(2a)はマイクロ波透過性カバー(2b)にて
覆われている。
り、且つ斯る給電口(2a)に連通する導波管(13)を介
してマイクロ波発振手段即ちマグネトロン(12)が固定
されている。又、斯るマグネトロン(12)に冷却風を供
給する冷却ファン(12a)も固定されている。上記マグ
ネトロン(12)からのマイクロ波は導波管(13)及び給
電口(2a)を介して上記乾燥室(3)内に供給される。
上記給電口(2a)はマイクロ波透過性カバー(2b)にて
覆われている。
上記乾燥室(3)において、底壁部にはモータ(14)に
て駆動され被乾燥物(5)を攪拌する攪拌体(15)が設
けられ、側壁部にはレベルセンサ(16)及びサーミスタ
ット等の温度センサ(17)が配置されている。斯るベル
センサ(16)は乾燥室(3)内に乾燥物(5)が所定量
溜ったか否かを検知し、上記温度センサ(17)は被乾燥
物(5)の温度を検知する。又、上記乾燥室(3)の左
底部に吸気弁(18)を介してコンプレッサ(19)が連結
され、これに対応して上記乾燥室(3)のドア(2)に
更に排気弁(20)が設けられている。これらコンプレッ
サ(19)の駆動と、吸気弁(18)及び排気弁(20)の開
放は、被乾燥物(5)のマイクロ波による乾燥時等に行
なわれ、乾燥時等に発生する水蒸気がコンプレッサ(1
9)からの空気と共に排気弁(20)を通って外部へ排出
される。
て駆動され被乾燥物(5)を攪拌する攪拌体(15)が設
けられ、側壁部にはレベルセンサ(16)及びサーミスタ
ット等の温度センサ(17)が配置されている。斯るベル
センサ(16)は乾燥室(3)内に乾燥物(5)が所定量
溜ったか否かを検知し、上記温度センサ(17)は被乾燥
物(5)の温度を検知する。又、上記乾燥室(3)の左
底部に吸気弁(18)を介してコンプレッサ(19)が連結
され、これに対応して上記乾燥室(3)のドア(2)に
更に排気弁(20)が設けられている。これらコンプレッ
サ(19)の駆動と、吸気弁(18)及び排気弁(20)の開
放は、被乾燥物(5)のマイクロ波による乾燥時等に行
なわれ、乾燥時等に発生する水蒸気がコンプレッサ(1
9)からの空気と共に排気弁(20)を通って外部へ排出
される。
上記乾燥室(3)の右底部には排出弁(21)が設けられ
ており、該排出弁は乾燥終了された被乾燥物(5)を排
出する時に開放される。斯る排出弁(21)の開放に基づ
いて排出される被乾燥物(5)は排出パイプ(22)を介
して下方の予備室(23)に落下して溜る。該予備室の下
部傾斜壁には温度ヒータ(24)が配置されており、且つ
上記予備室(23)には回転体(25)を有するレベルセン
サ(26)が設けられている。斯るレベルセンサ(26)
は、通常回転体(25)を回転させ、予備室(23)内に僅
かな所定量の被乾燥物(5)が溜って回転体(25)を回
転させようとするにも被乾燥物(5)が負荷となって回
転体(25)を満足に回転させることができない状態の時
に、所定信号を出力し、被乾燥物(5)が僅かな所定量
溜っていることを検知する。
ており、該排出弁は乾燥終了された被乾燥物(5)を排
出する時に開放される。斯る排出弁(21)の開放に基づ
いて排出される被乾燥物(5)は排出パイプ(22)を介
して下方の予備室(23)に落下して溜る。該予備室の下
部傾斜壁には温度ヒータ(24)が配置されており、且つ
上記予備室(23)には回転体(25)を有するレベルセン
サ(26)が設けられている。斯るレベルセンサ(26)
は、通常回転体(25)を回転させ、予備室(23)内に僅
かな所定量の被乾燥物(5)が溜って回転体(25)を回
転させようとするにも被乾燥物(5)が負荷となって回
転体(25)を満足に回転させることができない状態の時
に、所定信号を出力し、被乾燥物(5)が僅かな所定量
溜っていることを検知する。
上記予備室(23)の下部は、予備室(23)より高所に位
置する他の吸引ホッパ(27)に搬送パイプ(28)を通し
て連結されている。斯る吸引ホッパ(27)にも上記吸引
ホッパ(7)と同様に、被乾燥物(5)の材料径より小
さいメッシュを有するフィルタ金網(29a)及びフィル
タ紙(29)が配置され、且つ該フィルタ紙の上部に位置
してポペット弁(30)が設けられている。そして、斯る
ポペット弁(30)の上部において、上記吸引ホッパ(2
7)にも吸気パイプ(31)を介して上記吸気ブロワ(1
1)が連結されている。この場合、ポペット弁(30)が
開放された状態でブロワ(11)を駆動すると、斯るブロ
ワ(11)の吸気作用が吸気パイプ(31)、吸引ホッパ
(27)を介して搬送パイプ(28)まで及び、上記予備室
(23)に溜った被乾燥物(5)が搬送パイプ(28)を通
って上記吸引ホッパ(27)に至る。被乾燥物(5)は斯
る吸引ホッパ(27)に至ると該ホッパ内に自重により落
下する。
置する他の吸引ホッパ(27)に搬送パイプ(28)を通し
て連結されている。斯る吸引ホッパ(27)にも上記吸引
ホッパ(7)と同様に、被乾燥物(5)の材料径より小
さいメッシュを有するフィルタ金網(29a)及びフィル
タ紙(29)が配置され、且つ該フィルタ紙の上部に位置
してポペット弁(30)が設けられている。そして、斯る
ポペット弁(30)の上部において、上記吸引ホッパ(2
7)にも吸気パイプ(31)を介して上記吸気ブロワ(1
1)が連結されている。この場合、ポペット弁(30)が
開放された状態でブロワ(11)を駆動すると、斯るブロ
ワ(11)の吸気作用が吸気パイプ(31)、吸引ホッパ
(27)を介して搬送パイプ(28)まで及び、上記予備室
(23)に溜った被乾燥物(5)が搬送パイプ(28)を通
って上記吸引ホッパ(27)に至る。被乾燥物(5)は斯
る吸引ホッパ(27)に至ると該ホッパ内に自重により落
下する。
上記吸引ホッパ(27)において、下部傾斜壁に保温ヒー
タ(32)が配置され、下端に開閉弁(33)が設けられて
おり、又上、下部に上限及び下限レベルセンサ(34)
(35)が配置されている。上記開閉弁(33)の閉成にお
いて、上記吸気作用が働き上記吸引ホッパ(27)内に被
乾燥物(5)が落下すると吸引ホッパ(27)内に被乾燥
物(5)が溜り、一方上記開閉弁(33)が開放されると
この様に溜った被乾燥物(5)が下方へ落下し次段処理
部へ至り、斯る処理部にて乾燥された被乾燥物(5)即
ち樹脂ペレットが溶融成形される。
タ(32)が配置され、下端に開閉弁(33)が設けられて
おり、又上、下部に上限及び下限レベルセンサ(34)
(35)が配置されている。上記開閉弁(33)の閉成にお
いて、上記吸気作用が働き上記吸引ホッパ(27)内に被
乾燥物(5)が落下すると吸引ホッパ(27)内に被乾燥
物(5)が溜り、一方上記開閉弁(33)が開放されると
この様に溜った被乾燥物(5)が下方へ落下し次段処理
部へ至り、斯る処理部にて乾燥された被乾燥物(5)即
ち樹脂ペレットが溶融成形される。
而して、上記ドア(2)の開閉機構を説明するに、上記
乾燥室(3)の側壁に軸受け体(36)が固定されてお
り、、斯る軸受け体(36)は上部径大部(37)及び下部
径小部(38)からなる貫通孔が形成されている。斯る下
部径小部(38)の内面にはネジが切られている。一方、
上部に固定ハンドル(39)を有し下部にネジ部(40)を
有するネジ軸(41)が設けられており、斯るネジ軸(4
1)の下部のネジ部(40)は上記下部径小部(38)に螺
合している。そして、上記ネジ軸(41)には該軸に固定
されているベアリング部(42)によりパイプ軸(43)が
支持されており、これによりパイプ軸(43)はネジ軸
(41)に対し回動自在となっている。斯るパイプ軸(4
3)の下部は上記上部径大部(37)内に至っている。そ
して、上記パイプ軸(43)には腕体(44)が固定されて
おり、斯る腕体(44)は先端(45)(45)にて上記ドア
(2)の上面に固定されている。
乾燥室(3)の側壁に軸受け体(36)が固定されてお
り、、斯る軸受け体(36)は上部径大部(37)及び下部
径小部(38)からなる貫通孔が形成されている。斯る下
部径小部(38)の内面にはネジが切られている。一方、
上部に固定ハンドル(39)を有し下部にネジ部(40)を
有するネジ軸(41)が設けられており、斯るネジ軸(4
1)の下部のネジ部(40)は上記下部径小部(38)に螺
合している。そして、上記ネジ軸(41)には該軸に固定
されているベアリング部(42)によりパイプ軸(43)が
支持されており、これによりパイプ軸(43)はネジ軸
(41)に対し回動自在となっている。斯るパイプ軸(4
3)の下部は上記上部径大部(37)内に至っている。そ
して、上記パイプ軸(43)には腕体(44)が固定されて
おり、斯る腕体(44)は先端(45)(45)にて上記ドア
(2)の上面に固定されている。
このようなドア開閉機構において、ドア(2)を開成操
作する場合は、まずハンドル(39)を反時計方向(第2
図)に回動する。すると、ネジ部(40)と下部径小部
(38)との螺合関係に基づいて、ネジ軸(41)が回動し
ながら上動し、これに伴ってベアリング部(42)がパイ
プ軸(43)を上方へ付勢することにより、パイプ軸(4
3)も上動し、よって、斯るパイプ軸(43)に腕体(4
4)を介して連なっているドア(2)が上動する。しか
る後、ドア(2)を手で操作してネジ軸(41)に対しパ
イプ軸(43)を回動し、ドア(2)を第2図破線の位置
へ移動させると、ドア(2)の開成操作が完了し、乾燥
室(3)の上部開口(3a)が開く。このようにドア
(2)の開成操作がなされた状態においては、攪拌体
(15)の取外しがやり易く、又乾燥室(3)の清掃等が
極めてやり易い、尚、上記ドア(2)の開成操作におい
ては上述と逆の作業を行なえば良い。
作する場合は、まずハンドル(39)を反時計方向(第2
図)に回動する。すると、ネジ部(40)と下部径小部
(38)との螺合関係に基づいて、ネジ軸(41)が回動し
ながら上動し、これに伴ってベアリング部(42)がパイ
プ軸(43)を上方へ付勢することにより、パイプ軸(4
3)も上動し、よって、斯るパイプ軸(43)に腕体(4
4)を介して連なっているドア(2)が上動する。しか
る後、ドア(2)を手で操作してネジ軸(41)に対しパ
イプ軸(43)を回動し、ドア(2)を第2図破線の位置
へ移動させると、ドア(2)の開成操作が完了し、乾燥
室(3)の上部開口(3a)が開く。このようにドア
(2)の開成操作がなされた状態においては、攪拌体
(15)の取外しがやり易く、又乾燥室(3)の清掃等が
極めてやり易い、尚、上記ドア(2)の開成操作におい
ては上述と逆の作業を行なえば良い。
さて、上述の如き構成において、給電口(2a)は乾燥室
(3)の上記開口(3a)を開閉するドア(2)に形成さ
れており、この給電口(2a)を覆うカバー(2b)は乾燥
室(3)の上壁に対応するドア(2)に位置している。
従って、被乾燥物(5)は攪拌体(15)による攪拌にお
いて側方へ簡単に飛散するのであるが上方へは飛散しに
くく、上方のドア(2)に位置するカバー(2b)に被乾
燥物(5)が当たる頻度が小さく、上記カバー(5)は
摩耗しにくい。
(3)の上記開口(3a)を開閉するドア(2)に形成さ
れており、この給電口(2a)を覆うカバー(2b)は乾燥
室(3)の上壁に対応するドア(2)に位置している。
従って、被乾燥物(5)は攪拌体(15)による攪拌にお
いて側方へ簡単に飛散するのであるが上方へは飛散しに
くく、上方のドア(2)に位置するカバー(2b)に被乾
燥物(5)が当たる頻度が小さく、上記カバー(5)は
摩耗しにくい。
第5図は上記マイクロ波乾燥装置の回路を示し、主制御
部として三洋電気株式会社製の品番LC−65PG23のマイク
ロコンピュータ(46)が設けられており、該コンピュー
タは、乾燥装置体(1)の前面に配設されている操作部
(47)からの操作情報、上記温度センサ(17)からの温
度情報、上記各種レベルセンサ(16)(26)(34)(3
5)からの情報等に基づいて、上記マグネトロン(1
2)、冷却ファン(12a)、モータ(14)、吸気弁(1
8)、排気弁(20)、コンプレッサ(19)、排出弁(2
1)、保温ヒータ(24)(32)、吸引ブロワ(11)、ポ
ペット弁(9)(30)、開閉弁(33)を駆動制御する。
部として三洋電気株式会社製の品番LC−65PG23のマイク
ロコンピュータ(46)が設けられており、該コンピュー
タは、乾燥装置体(1)の前面に配設されている操作部
(47)からの操作情報、上記温度センサ(17)からの温
度情報、上記各種レベルセンサ(16)(26)(34)(3
5)からの情報等に基づいて、上記マグネトロン(1
2)、冷却ファン(12a)、モータ(14)、吸気弁(1
8)、排気弁(20)、コンプレッサ(19)、排出弁(2
1)、保温ヒータ(24)(32)、吸引ブロワ(11)、ポ
ペット弁(9)(30)、開閉弁(33)を駆動制御する。
第6図は上記マイクロコンピュータ(46)に組込まれた
動作プログラムのフローチャートを示し、以下同チャー
トに沿ってマイクロ波乾燥装置の動作を説明する。
動作プログラムのフローチャートを示し、以下同チャー
トに沿ってマイクロ波乾燥装置の動作を説明する。
電源投入後、S1ステップを経て、通常S2、S3、S3a、S
4、S5の各ステップが循環実行される。S1ステップでは
初期設定動作が行なわれる。即ち、マイクロコンピュー
タ(46)内の書込み可能な全ての領域のクリア動作がな
され、且つ、マグネトロン(12)、冷却ファン(12
a)、モータ(14)、コンプレッサ(19)、保温ヒータ
(24)(32)、吸引ブロワ(11)が駆動停止状態に置か
れると共に、吸気弁(18)、排気弁(20)、排出弁(2
1)、ポペット弁(9)(30)、開閉弁(31)が各々閉
成状態に置かれる。S2ステップでは上記操作部(47)か
らの操作情報が入力され、S3ステップでは上記下限レベ
ルセンサ(35)により吸引ポッパ(27)に被乾燥物
(5)が溜っていないか否かが判断され、S3aステップ
では上記レベルセンサ(26)の検知に基づいて予備室
(23)に被乾燥物(5)が僅かな所定量溜っているか否
かが判断される。S4ステップではコンピュータ(46)内
のスタートフラグのセットの有無が調べられ、S5ステッ
プではS2ステップでの入力情報に基づいて現在操作部
(47)によりスタートキーが操作されているか否かが判
断される。
4、S5の各ステップが循環実行される。S1ステップでは
初期設定動作が行なわれる。即ち、マイクロコンピュー
タ(46)内の書込み可能な全ての領域のクリア動作がな
され、且つ、マグネトロン(12)、冷却ファン(12
a)、モータ(14)、コンプレッサ(19)、保温ヒータ
(24)(32)、吸引ブロワ(11)が駆動停止状態に置か
れると共に、吸気弁(18)、排気弁(20)、排出弁(2
1)、ポペット弁(9)(30)、開閉弁(31)が各々閉
成状態に置かれる。S2ステップでは上記操作部(47)か
らの操作情報が入力され、S3ステップでは上記下限レベ
ルセンサ(35)により吸引ポッパ(27)に被乾燥物
(5)が溜っていないか否かが判断され、S3aステップ
では上記レベルセンサ(26)の検知に基づいて予備室
(23)に被乾燥物(5)が僅かな所定量溜っているか否
かが判断される。S4ステップではコンピュータ(46)内
のスタートフラグのセットの有無が調べられ、S5ステッ
プではS2ステップでの入力情報に基づいて現在操作部
(47)によりスタートキーが操作されているか否かが判
断される。
而して、樹脂ペットである被乾燥物(5)を溶融成形す
るに際し、斯る成形が良好になされるように被乾燥物
(5)を事前に乾燥する場合、まず操作部(47)にて、
20〜60分の範囲内及び70〜170℃の範囲内で各々所望の
乾燥時間及び乾燥温度キーを操作設定し、且つ連続スイ
ッチ(48)をオン操作する。これら操作情報はS2ステッ
プで入力される。その後操作部(47)にてスタートキー
を操作すると、同様にS2ステップで斯る情報が入力され
て、S5ステップで肯定判断がなされ、続いてS6ステップ
にてスタートフラグがセットされ、S7ステップにて上記
各保温ヒータ(24)(32)の駆動制御が開始される。即
ち、上記予備室(23)及び吸引ホッパ(27)内が上記設
定された乾燥温度におよそ維持されるように上記各保温
ヒータ(24)(32)が所望比率で断続駆動され、従って
予備室(23)及び吸引ホッパ(27)内が上記温度で保温
される。
るに際し、斯る成形が良好になされるように被乾燥物
(5)を事前に乾燥する場合、まず操作部(47)にて、
20〜60分の範囲内及び70〜170℃の範囲内で各々所望の
乾燥時間及び乾燥温度キーを操作設定し、且つ連続スイ
ッチ(48)をオン操作する。これら操作情報はS2ステッ
プで入力される。その後操作部(47)にてスタートキー
を操作すると、同様にS2ステップで斯る情報が入力され
て、S5ステップで肯定判断がなされ、続いてS6ステップ
にてスタートフラグがセットされ、S7ステップにて上記
各保温ヒータ(24)(32)の駆動制御が開始される。即
ち、上記予備室(23)及び吸引ホッパ(27)内が上記設
定された乾燥温度におよそ維持されるように上記各保温
ヒータ(24)(32)が所望比率で断続駆動され、従って
予備室(23)及び吸引ホッパ(27)内が上記温度で保温
される。
次いでS8、S9、S10の各ステップが順次実行される。S8
ステップではコンピュータ(46)内の搬送フラグのセッ
トの有無が調べられる。(今の場合セットされていない
ことが調べられる。)S9ステップでは乾燥室(3)へ被
乾燥物(5)を供給する動作が実行される。即ち、ポペ
ット弁(9)が開放されて吸引ブロワ(11)が駆動さ
れ、ブロワ(11)の吸気作用により貯槽(6)から乾燥
室(3)内に被乾燥物(5)が供給され、且つ、モータ
(14)が駆動されて攪拌体(15)が回動し、乾燥室
(3)内に供給された被乾燥物(5)の上面が滑らかな
水平面にそろえられる。S10ステップでは上記レベルセ
ンサ(16)の検知により被乾燥物(5)の上面がこのセ
ンサ(16)の位置まで至り乾燥室(3)内に被乾燥物
(5)が所定量溜ったか否かが判断される(今の場合所
定量溜っていないと判断される)。
ステップではコンピュータ(46)内の搬送フラグのセッ
トの有無が調べられる。(今の場合セットされていない
ことが調べられる。)S9ステップでは乾燥室(3)へ被
乾燥物(5)を供給する動作が実行される。即ち、ポペ
ット弁(9)が開放されて吸引ブロワ(11)が駆動さ
れ、ブロワ(11)の吸気作用により貯槽(6)から乾燥
室(3)内に被乾燥物(5)が供給され、且つ、モータ
(14)が駆動されて攪拌体(15)が回動し、乾燥室
(3)内に供給された被乾燥物(5)の上面が滑らかな
水平面にそろえられる。S10ステップでは上記レベルセ
ンサ(16)の検知により被乾燥物(5)の上面がこのセ
ンサ(16)の位置まで至り乾燥室(3)内に被乾燥物
(5)が所定量溜ったか否かが判断される(今の場合所
定量溜っていないと判断される)。
その後、S2、S3、S3a、S4、S11、S8〜S11の各ステップ
が循環実行される。この時S11ステップではコンピュー
タ(46)内の供給終了フラグのセットの有無が調べられ
る。そして、乾燥室(3)に被乾燥物(5)が所定量溜
り、これがS10ステップで判断されると、次いでS12、S1
3ステップが実行される。S12ステップでは、S9ステップ
で実行された被乾燥物(5)の乾燥室(3)への供給動
作が終了される。S13ステップでは上記供給終了フラグ
がセットされる。
が循環実行される。この時S11ステップではコンピュー
タ(46)内の供給終了フラグのセットの有無が調べられ
る。そして、乾燥室(3)に被乾燥物(5)が所定量溜
り、これがS10ステップで判断されると、次いでS12、S1
3ステップが実行される。S12ステップでは、S9ステップ
で実行された被乾燥物(5)の乾燥室(3)への供給動
作が終了される。S13ステップでは上記供給終了フラグ
がセットされる。
その後、S2、S3、S3a、S4、S11、S14〜S17の各ステップ
が循環実行される。この時、S14ステップではコンピュ
ータ(46)内の供給終了フラグのセットの有無が調べら
れ、S15のステップでは乾燥動作が実行される。即ち、
温度センサ(17)により検知された被乾燥物(5)の温
度が設定された乾燥温度に到達したか否かによりマグネ
トロン(12)が断続駆動され(この時マグネトロン(1
2)を冷却すべく冷却ファン(12a)が駆動される)、被
乾燥物(5)が乾燥温度に維持されマイクロ波乾燥さ
れ、且つ、モータ(14)が再駆動されて攪拌体(15))
が回動され被乾燥物(5)がムラなく乾燥されるように
攪拌されると共に、コンプレッサ(19)の駆動と吸気弁
(18)、排気弁(20)の開放が成されて被乾燥物(5)
から発生する水蒸気が外部へ排出される。更に、S15ス
テップではこのような乾燥動作と共に、乾燥経過時間の
計時が開始される。S16ステップでは斯る乾燥経過時間
が設定された乾燥時間に到達したか否かが判断され、S1
7ステップではS8ステップと同様に搬送フラグのセット
の有無が調べられる。
が循環実行される。この時、S14ステップではコンピュ
ータ(46)内の供給終了フラグのセットの有無が調べら
れ、S15のステップでは乾燥動作が実行される。即ち、
温度センサ(17)により検知された被乾燥物(5)の温
度が設定された乾燥温度に到達したか否かによりマグネ
トロン(12)が断続駆動され(この時マグネトロン(1
2)を冷却すべく冷却ファン(12a)が駆動される)、被
乾燥物(5)が乾燥温度に維持されマイクロ波乾燥さ
れ、且つ、モータ(14)が再駆動されて攪拌体(15))
が回動され被乾燥物(5)がムラなく乾燥されるように
攪拌されると共に、コンプレッサ(19)の駆動と吸気弁
(18)、排気弁(20)の開放が成されて被乾燥物(5)
から発生する水蒸気が外部へ排出される。更に、S15ス
テップではこのような乾燥動作と共に、乾燥経過時間の
計時が開始される。S16ステップでは斯る乾燥経過時間
が設定された乾燥時間に到達したか否かが判断され、S1
7ステップではS8ステップと同様に搬送フラグのセット
の有無が調べられる。
而して、乾燥経過時間が設定乾燥時間に到達すると、S1
6ステップの後S18、S19ステップが実行される。S18ステ
ップでは、S15ステップで実行された乾燥動作及び乾燥
経過時間の計時が終了され且つ斯る計時された時間がリ
セットされる。S19ステップでは上記乾燥終了フラグが
セットされる。
6ステップの後S18、S19ステップが実行される。S18ステ
ップでは、S15ステップで実行された乾燥動作及び乾燥
経過時間の計時が終了され且つ斯る計時された時間がリ
セットされる。S19ステップでは上記乾燥終了フラグが
セットされる。
そして、S17、S2、S3、S3a、S4、S11、S14ステップを経
た後、S20、S21、S22、S23、S24の各ステップが順次実
行される。S20ステップではコンピュータ(36)内の排
出フラグのセットの有無が調べられる。S21ステップで
は上記レベルセンサ(26)の検知に基づいて予備室(2
3)に既に被乾燥物(5)が僅かな所定量溜っているか
否かが判断される。S22ステップでは乾燥室(3)での
保温動作(後述する)が行われている時にはこれが終了
され且つ上記排出フラグがセットされる。S23ステップ
は上記S21ステップにて予備室(23)に被乾燥物(5)
が所定量溜っていないために乾燥室(3)から予備室
(23)へ乾燥された被乾燥物(5)を新たに排出するの
を許容した場合に実行されるもので、斯かるS23ステッ
プでは乾燥された被乾燥物(5)を乾燥室(3)から予
備室(23)へ排出する動作が実行される。即ち、上記排
出弁(21)が開放されると共に上記モータ(14)が引続
いて駆動されて攪拌体(15)が回動され、この攪拌体
(15)の回動に伴って攪拌体(15)近辺の被乾燥物
(5)が周囲に押しやられ、被乾燥物(5)が排出弁
(21)から排出パイプ(22)を介して予備室(23)へ落
下排出される。このように排出された被乾燥物(5)
は、予備室(23)が上記S7ステップから保温されている
ことにより、自然冷却することがなく、自然冷却に伴っ
て被乾燥物(5)が再び吸湿してしまうことが防止され
る。又、上記S23ステップでは斯る排出の経過時間の計
時が開始される。S24ステップでは、斯る排出経過時間
が予め決められている排出時間(これは乾燥室(3)に
溜められた所定量の被乾燥物(5)を全て排出するのに
充分な時間である)に到達したか否かが判断される。
た後、S20、S21、S22、S23、S24の各ステップが順次実
行される。S20ステップではコンピュータ(36)内の排
出フラグのセットの有無が調べられる。S21ステップで
は上記レベルセンサ(26)の検知に基づいて予備室(2
3)に既に被乾燥物(5)が僅かな所定量溜っているか
否かが判断される。S22ステップでは乾燥室(3)での
保温動作(後述する)が行われている時にはこれが終了
され且つ上記排出フラグがセットされる。S23ステップ
は上記S21ステップにて予備室(23)に被乾燥物(5)
が所定量溜っていないために乾燥室(3)から予備室
(23)へ乾燥された被乾燥物(5)を新たに排出するの
を許容した場合に実行されるもので、斯かるS23ステッ
プでは乾燥された被乾燥物(5)を乾燥室(3)から予
備室(23)へ排出する動作が実行される。即ち、上記排
出弁(21)が開放されると共に上記モータ(14)が引続
いて駆動されて攪拌体(15)が回動され、この攪拌体
(15)の回動に伴って攪拌体(15)近辺の被乾燥物
(5)が周囲に押しやられ、被乾燥物(5)が排出弁
(21)から排出パイプ(22)を介して予備室(23)へ落
下排出される。このように排出された被乾燥物(5)
は、予備室(23)が上記S7ステップから保温されている
ことにより、自然冷却することがなく、自然冷却に伴っ
て被乾燥物(5)が再び吸湿してしまうことが防止され
る。又、上記S23ステップでは斯る排出の経過時間の計
時が開始される。S24ステップでは、斯る排出経過時間
が予め決められている排出時間(これは乾燥室(3)に
溜められた所定量の被乾燥物(5)を全て排出するのに
充分な時間である)に到達したか否かが判断される。
その後、S2、S3、S3a、S4、S11、S14、S20、S23、S24、
S17の各ステップが循環実行され、そして上記排出に伴
って予備室(23)に僅かな所定量の被乾燥物(5)が溜
ると、斯る循環においてS3aステップからS25、S26、S2
7、S28の各ステップが順次実行される。S25ステップで
は搬送フラグがセットされ、S26ステップでは、上記S9
ステップにより被乾燥物供給動作が実行されている場合
に斯る動作が停止される。S27ステップでは保温されて
いる上記予備室(23)から上記吸引ホッパ(27)へ乾燥
された被乾燥物(5)を搬送する動作が実行される。即
ち、ポペット弁(30)が開放されて吸引ブロワ(11)が
駆動され、ブロワ(11)の吸気作用により予備室(23)
から吸引ホッパ(27)へ被乾燥物(5)が搬送される。
このように搬送された被乾燥物(5)は、吸引ホッパ
(27)が上記S7ステップから保温されていることによ
り、自然冷却するとがなく、被乾燥物が再び吸湿してし
まうことが防止される。S28ステップでは、上記上限レ
ベルセンサ(34)の検知により吸引ホッパ(27)に被乾
燥物(5)が斯るセンサの位置まで溜ったか否かが判断
される(今の場合、否と判断される)。その後、S4、S1
1、S14、S20、S23、S24、S17、S27、S28の各ステップが
循環実行され、この間、予備室(23)への排出動作と吸
引ホッパ(27)への搬送動作とが平行処理され、予備室
(23)へ排出された被乾燥物(5)は直ちに吸引ホッパ
(27)へ搬送される。
S17の各ステップが循環実行され、そして上記排出に伴
って予備室(23)に僅かな所定量の被乾燥物(5)が溜
ると、斯る循環においてS3aステップからS25、S26、S2
7、S28の各ステップが順次実行される。S25ステップで
は搬送フラグがセットされ、S26ステップでは、上記S9
ステップにより被乾燥物供給動作が実行されている場合
に斯る動作が停止される。S27ステップでは保温されて
いる上記予備室(23)から上記吸引ホッパ(27)へ乾燥
された被乾燥物(5)を搬送する動作が実行される。即
ち、ポペット弁(30)が開放されて吸引ブロワ(11)が
駆動され、ブロワ(11)の吸気作用により予備室(23)
から吸引ホッパ(27)へ被乾燥物(5)が搬送される。
このように搬送された被乾燥物(5)は、吸引ホッパ
(27)が上記S7ステップから保温されていることによ
り、自然冷却するとがなく、被乾燥物が再び吸湿してし
まうことが防止される。S28ステップでは、上記上限レ
ベルセンサ(34)の検知により吸引ホッパ(27)に被乾
燥物(5)が斯るセンサの位置まで溜ったか否かが判断
される(今の場合、否と判断される)。その後、S4、S1
1、S14、S20、S23、S24、S17、S27、S28の各ステップが
循環実行され、この間、予備室(23)への排出動作と吸
引ホッパ(27)への搬送動作とが平行処理され、予備室
(23)へ排出された被乾燥物(5)は直ちに吸引ホッパ
(27)へ搬送される。
そして、排出経過時間が予め決められている排出時間に
到達すると(乾燥室(3)から予備室(23)へ被乾燥物
(5)が全て排出される)、続いてS29、S30、S31の各
ステップが順次実行される。S29ステップでは、S23ステ
ップで実行された排出動作及び排出経過時間の計時が終
了され且つ斯る計時された時間がリセットされる。S30
ステップでは、上記の供給終了フラグ、乾燥終了フラ
グ、排出フラグの全てがリセットされる。S31ステップ
では操作部(47)で連続スイッチ(48)がオンされてい
るか否かが判断される。
到達すると(乾燥室(3)から予備室(23)へ被乾燥物
(5)が全て排出される)、続いてS29、S30、S31の各
ステップが順次実行される。S29ステップでは、S23ステ
ップで実行された排出動作及び排出経過時間の計時が終
了され且つ斯る計時された時間がリセットされる。S30
ステップでは、上記の供給終了フラグ、乾燥終了フラ
グ、排出フラグの全てがリセットされる。S31ステップ
では操作部(47)で連続スイッチ(48)がオンされてい
るか否かが判断される。
今の場合、連続ステップ(48)はオン状態にあり、その
後S17ステップを経てからS4、S11、S8、S27、28の各ス
テップが循環実行される。そして、予備室(23)内の被
乾燥物(5)の搬送がなされて、吸引ホッパ(27)に上
限レベルセンサ(34)の位置まで被乾燥物(5)が溜る
と、S28ステップからS32、S33ステップが実行される。S
32ステップでは上記S27ステップで実行されている搬送
動作が停止され、S33ステップでは搬送フラグがリセッ
トされる。
後S17ステップを経てからS4、S11、S8、S27、28の各ス
テップが循環実行される。そして、予備室(23)内の被
乾燥物(5)の搬送がなされて、吸引ホッパ(27)に上
限レベルセンサ(34)の位置まで被乾燥物(5)が溜る
と、S28ステップからS32、S33ステップが実行される。S
32ステップでは上記S27ステップで実行されている搬送
動作が停止され、S33ステップでは搬送フラグがリセッ
トされる。
而して、このように吸引ホッパ(27)に溜った被乾燥物
(5)は、次段処理部で溶融成形されるのであるが、こ
れは、吸引ホッパ(27)内に上限レベルセンサ(34)の
位置まで被乾燥物(5)が溜っている状態で溶融成形を
指令するための外部指令信号Pがコンピュータ(46)内
に与えられたときに実行される。即ち、この時、コンピ
ュータ(46)により上記開閉弁(33)が開放され、被乾
燥物(5)が吸引ホッパ(27)から次段処理部へ放出さ
れる。上記開閉弁(33)は吸引ホッパ(27)内の被乾燥
物(5)が全て放出された頃に再び閉じられる。そし
て、上記放出された被乾燥物(5)は次段処理部で溶融
成形されるのであり、この場合樹脂ペレット即ち被乾燥
物(5)は事前に乾燥されているため成形が良好になさ
れる。
(5)は、次段処理部で溶融成形されるのであるが、こ
れは、吸引ホッパ(27)内に上限レベルセンサ(34)の
位置まで被乾燥物(5)が溜っている状態で溶融成形を
指令するための外部指令信号Pがコンピュータ(46)内
に与えられたときに実行される。即ち、この時、コンピ
ュータ(46)により上記開閉弁(33)が開放され、被乾
燥物(5)が吸引ホッパ(27)から次段処理部へ放出さ
れる。上記開閉弁(33)は吸引ホッパ(27)内の被乾燥
物(5)が全て放出された頃に再び閉じられる。そし
て、上記放出された被乾燥物(5)は次段処理部で溶融
成形されるのであり、この場合樹脂ペレット即ち被乾燥
物(5)は事前に乾燥されているため成形が良好になさ
れる。
ここで、上記溶融成形するための上記次段処理部の処理
能力が遅い場合、上記被乾燥物供給動作から搬送動作ま
でが繰返し行われるために、上記吸引ホッパ(27)及び
予備室(23)に被乾燥物(5)が溜ったままとなる。而
して、予備室(23)に被乾燥物(5)が溜った状態で、
更に乾燥室(3)から被乾燥物(5)が排出されようと
すると、これはS21ステップで判断され、即ち予備室(2
3)に被乾燥物(5)が所定量以上溜っていて乾燥室
(3)から予備室(23)へ被乾燥物(5)を新たに排出
するのを許容しないことが判断される。すると、乾燥さ
れた被乾燥物(5)は乾燥後もそのまま乾燥室(3)内
に放置される。斯る放置が単に行なわれると、被乾燥物
(5)は折角乾燥されても自然冷却されて再び吸湿する
のであるが、本発明実施例ではこれを防ぐべくこの時S3
4ステップが実行される。即ち、斯るS34ステップでは、
S15ステップでの乾燥動作と全く同一の制御がなされ被
乾燥物(5)がマイクロ波で設定乾燥温度に保温され、
従って被乾燥物(5)が乾燥室(3)で再び吸湿するの
が防止される。
能力が遅い場合、上記被乾燥物供給動作から搬送動作ま
でが繰返し行われるために、上記吸引ホッパ(27)及び
予備室(23)に被乾燥物(5)が溜ったままとなる。而
して、予備室(23)に被乾燥物(5)が溜った状態で、
更に乾燥室(3)から被乾燥物(5)が排出されようと
すると、これはS21ステップで判断され、即ち予備室(2
3)に被乾燥物(5)が所定量以上溜っていて乾燥室
(3)から予備室(23)へ被乾燥物(5)を新たに排出
するのを許容しないことが判断される。すると、乾燥さ
れた被乾燥物(5)は乾燥後もそのまま乾燥室(3)内
に放置される。斯る放置が単に行なわれると、被乾燥物
(5)は折角乾燥されても自然冷却されて再び吸湿する
のであるが、本発明実施例ではこれを防ぐべくこの時S3
4ステップが実行される。即ち、斯るS34ステップでは、
S15ステップでの乾燥動作と全く同一の制御がなされ被
乾燥物(5)がマイクロ波で設定乾燥温度に保温され、
従って被乾燥物(5)が乾燥室(3)で再び吸湿するの
が防止される。
上記一連の動作は連続スイッチ(48)をオフすることに
より終了される。即ち、斯るオフ時にてS31ステップが
実行されると、次いでS35ステップが実行され、上記ス
タートフラグがリセットされると共に上記各保温ヒータ
(24)(32)が駆動停止される。その後S2、S3、S3a、S
4、S5ステップが循環実行される。
より終了される。即ち、斯るオフ時にてS31ステップが
実行されると、次いでS35ステップが実行され、上記ス
タートフラグがリセットされると共に上記各保温ヒータ
(24)(32)が駆動停止される。その後S2、S3、S3a、S
4、S5ステップが循環実行される。
(ト)発明の効果 本発明によれば、マイクロ波給電部を覆うカバーが摩耗
しにくい実用的なマイクロ波乾燥装置を提供することが
できる。
しにくい実用的なマイクロ波乾燥装置を提供することが
できる。
因に、本実施例においては、給電口(2a)はドア(2)
に形成されており、円筒状乾燥室(3)の湾曲した側壁
に形成されておらず、従ってこのような弯曲した側壁に
カバー(2b)や導波管(13)を取付けると云う困難な作
業を必要とせず、この点でも実用的である。
に形成されており、円筒状乾燥室(3)の湾曲した側壁
に形成されておらず、従ってこのような弯曲した側壁に
カバー(2b)や導波管(13)を取付けると云う困難な作
業を必要とせず、この点でも実用的である。
また、乾燥室内の清掃などのメンテナンス時、火傷など
の心配がなく、安全な作業ができる。
の心配がなく、安全な作業ができる。
図面は本発明の実施例を示し、第1図は断面図、第2図
は要部平面図、第3図は第2図のIII-III線断面図、第
4図は第2図のIV-IV線断面図、第5図は回路図、第6
図はマイクロコンピュータの動作プログラムのフローチ
ャートである。 (3a)……上部開口、(2)……ドア、(3)……乾燥
室、(2a)……給電口、(12)……マグネトロン、(2
b)……マイクロ波透過性カバー、(15)……攪拌体。
は要部平面図、第3図は第2図のIII-III線断面図、第
4図は第2図のIV-IV線断面図、第5図は回路図、第6
図はマイクロコンピュータの動作プログラムのフローチ
ャートである。 (3a)……上部開口、(2)……ドア、(3)……乾燥
室、(2a)……給電口、(12)……マグネトロン、(2
b)……マイクロ波透過性カバー、(15)……攪拌体。
フロントページの続き (56)参考文献 特開 昭64−58511(JP,A) 特開 昭61−262585(JP,A) 特開 昭48−95456(JP,A) 特開 昭60−31919(JP,A)
Claims (1)
- 【請求項1】上部開口を有し、粒状または粉状被乾燥物
が供給される乾燥室と、該乾燥室内の被乾燥物を攪拌す
る攪拌手段と、上記乾燥室内を清掃などのメンテナンス
をするために上記乾燥室の上記開口を開閉するドアと、
該ドアに設けられた給電口と、上記ドアに固定され、上
記給電口から上記乾燥室内にマイクロ波を供給するマイ
クロ波発振手段と、上記給電口を覆うマイクロ波透過性
カバーとを備えたことを特徴とするマイクロ波乾燥装
置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1127336A JPH0686057B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | マイクロ波乾燥装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1127336A JPH0686057B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | マイクロ波乾燥装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02305607A JPH02305607A (ja) | 1990-12-19 |
| JPH0686057B2 true JPH0686057B2 (ja) | 1994-11-02 |
Family
ID=14957403
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1127336A Expired - Fee Related JPH0686057B2 (ja) | 1989-05-19 | 1989-05-19 | マイクロ波乾燥装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0686057B2 (ja) |
Family Cites Families (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6458511A (en) * | 1987-08-29 | 1989-03-06 | Matsuji Nakagome | Apparatus for drying plastic particle |
-
1989
- 1989-05-19 JP JP1127336A patent/JPH0686057B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02305607A (ja) | 1990-12-19 |
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