JPH0692886A - ６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン類の製造法 - Google Patents
６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン類の製造法Info
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- JPH0692886A JPH0692886A JP24653392A JP24653392A JPH0692886A JP H0692886 A JPH0692886 A JP H0692886A JP 24653392 A JP24653392 A JP 24653392A JP 24653392 A JP24653392 A JP 24653392A JP H0692886 A JPH0692886 A JP H0692886A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 ６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチ
レンビシクロ［３．３．０］オクタン類の効率的な製造
法を提供する。 【構成】 プロパルギルシクロペンタン類を還元剤およ
び特定のプロトン源を用い環化反応せしめることを特徴
とする下記式（１） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は独立にＨ、トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭
化水素シリル基、または水酸基等を表わし、Ｒ3 はＨ、
ＣＨ3 、ビニル基を表わし、Ｒ4 はＣ3 〜Ｃ8 アルキル
基；フェニル基、フェノキシ基；Ｃ3 〜Ｃ10シクロアル
キル基；置換Ｃ1〜Ｃ5 アルキル基を表わし、ｎは０ま
たは１を表わす。］で表わされる６，７―二置換―２―
ヒドロキシ―３―メチルビシクロ［３．３．０］オクタ
ン類の製造法。
レンビシクロ［３．３．０］オクタン類の効率的な製造
法を提供する。 【構成】 プロパルギルシクロペンタン類を還元剤およ
び特定のプロトン源を用い環化反応せしめることを特徴
とする下記式（１） ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は独立にＨ、トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭
化水素シリル基、または水酸基等を表わし、Ｒ3 はＨ、
ＣＨ3 、ビニル基を表わし、Ｒ4 はＣ3 〜Ｃ8 アルキル
基；フェニル基、フェノキシ基；Ｃ3 〜Ｃ10シクロアル
キル基；置換Ｃ1〜Ｃ5 アルキル基を表わし、ｎは０ま
たは１を表わす。］で表わされる６，７―二置換―２―
ヒドロキシ―３―メチルビシクロ［３．３．０］オクタ
ン類の製造法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明はプロパルギルシクロペン
タン類を用いる、医薬品としての応用が期待されるカル
バサイクリン類の合成中間体として有用な６，７―二置
換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類の製造法に関する。
タン類を用いる、医薬品としての応用が期待されるカル
バサイクリン類の合成中間体として有用な６，７―二置
換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】カルバサイクリンは生体内生理活性物質
であるプロスタグランジン（ＰＧと略記することがあ
る）Ｉ2 （ＰＧＩ2 ）の６，９―位の酸素原子がメチレ
ン基で置換されたプロスタグランジンＩ2 類縁体であ
り、分子内にエノールエーテルの部分構造を有する天然
のプロスタグランジンＩ2 に比較して化学的に安定であ
るために抗血栓剤等の医薬品として有用な化合物であ
る。近年カルバサイクリンの二重結合異性体に一種であ
るイソカルバサイクリンすなわち、９（Ｏ）―メタノ―
Δ 6(9α)―プロスタグランジンＩ1 類がこの同族体の
中で最も強い血小板凝集抑制作用を示すことが発見さ
れ、医薬品としての応用が期待されるようになった［池
上ら、テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letter
s), 33, 3493および3497 (1983) 参照）］。
であるプロスタグランジン（ＰＧと略記することがあ
る）Ｉ2 （ＰＧＩ2 ）の６，９―位の酸素原子がメチレ
ン基で置換されたプロスタグランジンＩ2 類縁体であ
り、分子内にエノールエーテルの部分構造を有する天然
のプロスタグランジンＩ2 に比較して化学的に安定であ
るために抗血栓剤等の医薬品として有用な化合物であ
る。近年カルバサイクリンの二重結合異性体に一種であ
るイソカルバサイクリンすなわち、９（Ｏ）―メタノ―
Δ 6(9α)―プロスタグランジンＩ1 類がこの同族体の
中で最も強い血小板凝集抑制作用を示すことが発見さ
れ、医薬品としての応用が期待されるようになった［池
上ら、テトラヘドロン・レターズ（Tetrahedron Letter
s), 33, 3493および3497 (1983) 参照）］。
【０００３】このような９（Ｏ）―メタノールΔ 6(9α
)―プロスタグランジンＩ1 （イソカルバサイクリン）
の鍵中間体として有用な６，７―二置換―２―ヒドロキ
シ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン類の
製造法が特開昭６２―６１９３７号公報に記載されてい
る。その概要は次の通りである。
)―プロスタグランジンＩ1 （イソカルバサイクリン）
の鍵中間体として有用な６，７―二置換―２―ヒドロキ
シ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン類の
製造法が特開昭６２―６１９３７号公報に記載されてい
る。その概要は次の通りである。
【０００４】
【化３】
【０００５】この工程によれば、アリルアルコール
（Ａ）より３工程を経てアリルアルコール（Ｃ）（６，
７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ
［３．３．０］オクタン類）に誘導されるが、この間の
収率は５０％であり（Ａ）の半分が失われることにな
る。
（Ａ）より３工程を経てアリルアルコール（Ｃ）（６，
７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ
［３．３．０］オクタン類）に誘導されるが、この間の
収率は５０％であり（Ａ）の半分が失われることにな
る。
【０００６】また、６，７―二置換―２―ヒドロキシ―
３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン類の製造
法として下記式（１）
３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン類の製造
法として下記式（１）
【０００７】
【化４】
【０００８】［式中、Ｒ11，Ｒ21，Ｒ3 ，Ｒ4 およびｎ
の定義は前記定義に同じ。］で表わされるプロパルギル
シクロペンタン類をアルカリ金属またはアルカリ土類金
属を用いる還元剤によって環化せしめる方法が知られて
いる（特開昭６２―２５８３３０号公報参照）。さらに
また、特開昭６３―３０３９６２号公報には本環化反応
の一層の効果率を企るために、アルコール、特にｔ―ブ
タノールの共存化に実施する方法が開示されている。こ
れらの製造法も有用な方法であるが、より一層の収率向
上の余地がある。
の定義は前記定義に同じ。］で表わされるプロパルギル
シクロペンタン類をアルカリ金属またはアルカリ土類金
属を用いる還元剤によって環化せしめる方法が知られて
いる（特開昭６２―２５８３３０号公報参照）。さらに
また、特開昭６３―３０３９６２号公報には本環化反応
の一層の効果率を企るために、アルコール、特にｔ―ブ
タノールの共存化に実施する方法が開示されている。こ
れらの製造法も有用な方法であるが、より一層の収率向
上の余地がある。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は９
（Ｏ）―メタノ―Δ 6(9α)―プロスタグランジンＩ1
類（イソカルバサイクリン類）の有用な鍵中間体である
６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシク
ロ［３．３．０］オクタン類の効果的な製造法を提供す
ることにある。
（Ｏ）―メタノ―Δ 6(9α)―プロスタグランジンＩ1
類（イソカルバサイクリン類）の有用な鍵中間体である
６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシク
ロ［３．３．０］オクタン類の効果的な製造法を提供す
ることにある。
【００１０】本発明者らは９（Ｏ）―メタノ―Δ 6(9α
)―プロスタグランジンＩ1 類（イソカルバサイクリン
類）の有用な合成鍵中間体である６，７―二置換―２―
ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オク
タン類のより一層の収率向上を目指した効果的な製造法
を見出すべく鋭意研究した結果、特定のプロパルギルシ
クロペンタン類を用い、これを還元剤および特定のｐＫ
ａを有するプロトン源を用い環化せしめることにより、
目的とする６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチ
レンビシクロ［３．３．０］オクタン類が高収率で効率
的に得られることを見出し、本発明に到達したものであ
る。
)―プロスタグランジンＩ1 類（イソカルバサイクリン
類）の有用な合成鍵中間体である６，７―二置換―２―
ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オク
タン類のより一層の収率向上を目指した効果的な製造法
を見出すべく鋭意研究した結果、特定のプロパルギルシ
クロペンタン類を用い、これを還元剤および特定のｐＫ
ａを有するプロトン源を用い環化せしめることにより、
目的とする６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチ
レンビシクロ［３．３．０］オクタン類が高収率で効率
的に得られることを見出し、本発明に到達したものであ
る。
【００１１】
【課題を解決するための手段】すなわち本発明は下記式
（１）
（１）
【００１２】
【化５】
【００１３】［式中、Ｒ11，Ｒ21は同一もしくは異な
り、トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭化水素シリル基、または水酸
基の酸素原子とともにアセタール結合を形成する基を表
わし、Ｒ 3 は水素原子、メチル基またはビニル基を表わ
し、Ｒ4 は酸素原子を含んでいてもよい直鎖もしくは分
岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルキル基、アルケニル基もしくはアル
キニル基；置換もしくは非置換のフェニル基；置換もし
くは非置換のフェノキシ基；置換もしくは非置換のＣ3
〜Ｃ10シクロアルキル基；またはＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ
基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていて
もよいフェノキシ基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ10
シクロアルキル基で置換されている直鎖もしくは分岐鎖
Ｃ1 〜Ｃ5 アルキル基を表わし、ｎは０または１を表わ
す。］で表わされる化合物及びその鏡像体あるいはそれ
らの任意の割合の混合物であるプロパルギルシクロペン
タン類を金属種を含有する還元剤およびプロトン源とし
てｐＫａ５以上〜１７未満の活性水素を有する化合物を
用い環化反応せしめ、また必要により脱保護反応せしめ
ることを特徴とする下記式（２）
り、トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭化水素シリル基、または水酸
基の酸素原子とともにアセタール結合を形成する基を表
わし、Ｒ 3 は水素原子、メチル基またはビニル基を表わ
し、Ｒ4 は酸素原子を含んでいてもよい直鎖もしくは分
岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルキル基、アルケニル基もしくはアル
キニル基；置換もしくは非置換のフェニル基；置換もし
くは非置換のフェノキシ基；置換もしくは非置換のＣ3
〜Ｃ10シクロアルキル基；またはＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ
基、置換されていてもよいフェニル基、置換されていて
もよいフェノキシ基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ10
シクロアルキル基で置換されている直鎖もしくは分岐鎖
Ｃ1 〜Ｃ5 アルキル基を表わし、ｎは０または１を表わ
す。］で表わされる化合物及びその鏡像体あるいはそれ
らの任意の割合の混合物であるプロパルギルシクロペン
タン類を金属種を含有する還元剤およびプロトン源とし
てｐＫａ５以上〜１７未満の活性水素を有する化合物を
用い環化反応せしめ、また必要により脱保護反応せしめ
ることを特徴とする下記式（２）
【００１４】
【化６】
【００１５】［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一もしくは異な
り、水素原子、トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭化水素シリル基、
または水酸基の酸素原子とともにアセタール結合を形成
する基を表わし、Ｒ3 ，Ｒ4 およびｎは前記式（１）の
定義に同じ。］で表わされる化合物及びその鏡像体ある
いはそれらの任意の割合の混合物である６，７―二置換
―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類の製造法である。
り、水素原子、トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭化水素シリル基、
または水酸基の酸素原子とともにアセタール結合を形成
する基を表わし、Ｒ3 ，Ｒ4 およびｎは前記式（１）の
定義に同じ。］で表わされる化合物及びその鏡像体ある
いはそれらの任意の割合の混合物である６，７―二置換
―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類の製造法である。
【００１６】上記式（１）においてＲ11およびＲ21は同
一もしくは異なり、トリ（Ｃ1 〜Ｃ 7 ）炭化水素シリル
基、または水酸基の酸素原子とともにアセタール結合を
形成する基を表わす。
一もしくは異なり、トリ（Ｃ1 〜Ｃ 7 ）炭化水素シリル
基、または水酸基の酸素原子とともにアセタール結合を
形成する基を表わす。
【００１７】トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭化水素シリル基とし
ては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリイソプロピルシリル基、ｔ―ブチルジメチル基
のようなトリ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルシリル基、ｔ―ブ
チルジフェニルシリル基のようなジフェニル（Ｃ1 〜Ｃ
4 ）アルキルシリル基、ジメチルフェニル基のようなジ
（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルフェニル基、またはトリベンジ
ルシリル基などを好ましいものとして挙げることができ
る。トリ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルシリル、ジフェニル
（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルシリル、フェニルジ（Ｃ1 〜Ｃ
4 ）アルキルシリル基が好ましく、なかでもｔ―ブチル
ジメチルシリル基、トリメチルシリル基が特に好まし
い。
ては、例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、トリイソプロピルシリル基、ｔ―ブチルジメチル基
のようなトリ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルシリル基、ｔ―ブ
チルジフェニルシリル基のようなジフェニル（Ｃ1 〜Ｃ
4 ）アルキルシリル基、ジメチルフェニル基のようなジ
（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルフェニル基、またはトリベンジ
ルシリル基などを好ましいものとして挙げることができ
る。トリ（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルシリル、ジフェニル
（Ｃ1 〜Ｃ4 ）アルキルシリル、フェニルジ（Ｃ1 〜Ｃ
4 ）アルキルシリル基が好ましく、なかでもｔ―ブチル
ジメチルシリル基、トリメチルシリル基が特に好まし
い。
【００１８】水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を
形成する基としては、例えば、メトキシメチル基、１―
エトキシエチル基、２―メトキシ―２―プロピル基、２
―エトキシ―２―プロピル基、（２―メトキシエトキ
シ）メチル基、ベンジルオキシメチル基、２―テトラヒ
ドロピラニル基、２―テトラヒドロフラニル基、または
６，６―ジメチル―３―オキサ―２―オキソビシクロ
［３．１．０］ヘキス―４―イル基を挙げることができ
る。２―テトラヒドロピラニル基、２―テトラヒドロフ
ラニル、１―エトキシエチル、２―エトキシ―２―プロ
ピル、（２―メトキシエトキシ）メチル、６，６―ジメ
チル―３―オキサ―２―オキソビシクロ［３．１．０］
ヘキス―４―イル基が特に好ましい。なかでも２―テト
ラヒドロピラニル基が特に好ましい。
形成する基としては、例えば、メトキシメチル基、１―
エトキシエチル基、２―メトキシ―２―プロピル基、２
―エトキシ―２―プロピル基、（２―メトキシエトキ
シ）メチル基、ベンジルオキシメチル基、２―テトラヒ
ドロピラニル基、２―テトラヒドロフラニル基、または
６，６―ジメチル―３―オキサ―２―オキソビシクロ
［３．１．０］ヘキス―４―イル基を挙げることができ
る。２―テトラヒドロピラニル基、２―テトラヒドロフ
ラニル、１―エトキシエチル、２―エトキシ―２―プロ
ピル、（２―メトキシエトキシ）メチル、６，６―ジメ
チル―３―オキサ―２―オキソビシクロ［３．１．０］
ヘキス―４―イル基が特に好ましい。なかでも２―テト
ラヒドロピラニル基が特に好ましい。
【００１９】これらのシリル基およびアセタール結合を
形成する基は水酸基の保護基であると理解されるべきで
ある。これらの保護基は最終生成物の段階で容易に除去
されて薬剤として有用な遊離の水酸基とすることができ
る。したがってこのような性状を有している水酸基の保
護基はシリル基やアセタール結合を形成する基の代わり
として使用することができる。
形成する基は水酸基の保護基であると理解されるべきで
ある。これらの保護基は最終生成物の段階で容易に除去
されて薬剤として有用な遊離の水酸基とすることができ
る。したがってこのような性状を有している水酸基の保
護基はシリル基やアセタール結合を形成する基の代わり
として使用することができる。
【００２０】上記式（１）においてＲ3 は水素原子、メ
チル基、またはビニル基を表わす。
チル基、またはビニル基を表わす。
【００２１】上記式（１）においてＲ4 は酸素原子を含
んでいてもよい直鎖もしくは分岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルキル
基、アルケニル基もしくはアルキニル基；置換もしくは
非置換のフェニル基；置換もしくは非置換のフェノキシ
基；置換もしくは非置換のＣ 3 〜Ｃ10シクロアルキル
基；またはＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、置換されていても
よいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基も
しくは置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ10シクロアルキル
基で置換されている直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1 〜Ｃ 5 アル
キル基を表わす。
んでいてもよい直鎖もしくは分岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルキル
基、アルケニル基もしくはアルキニル基；置換もしくは
非置換のフェニル基；置換もしくは非置換のフェノキシ
基；置換もしくは非置換のＣ 3 〜Ｃ10シクロアルキル
基；またはＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、置換されていても
よいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ基も
しくは置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ10シクロアルキル
基で置換されている直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1 〜Ｃ 5 アル
キル基を表わす。
【００２２】酸素原子を含んでいてもよい直鎖もしくは
分岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルキル基としては２―メトキシエチ
ル基、２―エトキシエチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２―ヘキシル
基、２―メチル―２―ヘキシル基、２―メチルブチル
基、２―メチルペンチル基、２―メチルヘキシル基、
２，２―ジメチルヘキシル基などを挙げることができ
る。ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
２―ヘキシル基、２―メチル―２―ヘキシル基、２―メ
チルブチル基、２―メチルペンチル基、２―メチルヘキ
シル基が好ましい。酸素原子を含んでいてもよい直鎖も
しくは分岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルケニル基としては、例えば
１―ブチルビニル、２―プロピルアリル、２―ペンテニ
ル、４―ペンテニル、２―メチル―３―ペンテニル、４
―ヘキセニル、１，４―ジメチル―３―ペンテニル、５
―ヘプテニル、１―メチル―５―ヘキセニル、６―メチ
ル―５―ヘプテニル、２，６―ジメチル―５―ヘプテニ
ルなどが好ましい。
分岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルキル基としては２―メトキシエチ
ル基、２―エトキシエチル基、プロピル基、ブチル基、
ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、２―ヘキシル
基、２―メチル―２―ヘキシル基、２―メチルブチル
基、２―メチルペンチル基、２―メチルヘキシル基、
２，２―ジメチルヘキシル基などを挙げることができ
る。ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、
２―ヘキシル基、２―メチル―２―ヘキシル基、２―メ
チルブチル基、２―メチルペンチル基、２―メチルヘキ
シル基が好ましい。酸素原子を含んでいてもよい直鎖も
しくは分岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルケニル基としては、例えば
１―ブチルビニル、２―プロピルアリル、２―ペンテニ
ル、４―ペンテニル、２―メチル―３―ペンテニル、４
―ヘキセニル、１，４―ジメチル―３―ペンテニル、５
―ヘプテニル、１―メチル―５―ヘキセニル、６―メチ
ル―５―ヘプテニル、２，６―ジメチル―５―ヘプテニ
ルなどが好ましい。
【００２３】酸素原子を含んでいてもよい直鎖もしくは
分岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルキニル基としては、例えば、２―
ブチニル、２―ペンチニル、３―ペンチニル、１―メチ
ル―２―ペンチニル、１―メチル―３―ペンチニルが好
ましい。
分岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8 アルキニル基としては、例えば、２―
ブチニル、２―ペンチニル、３―ペンチニル、１―メチ
ル―２―ペンチニル、１―メチル―３―ペンチニルが好
ましい。
【００２４】置換フェニル基、置換フェノキシ基、もし
くはＣ3 〜Ｃ10の置換シクロアルキル基の置換基として
は、例えばハロゲン原子、保護された水酸基（例えばシ
リルオキシ基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ基など）、Ｃ1 〜
Ｃ4 アルキル基などが挙げられる。Ｃ3 〜Ｃ10のシクロ
アルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基
などを挙げることができる。シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基が好ましい。
くはＣ3 〜Ｃ10の置換シクロアルキル基の置換基として
は、例えばハロゲン原子、保護された水酸基（例えばシ
リルオキシ基、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ基など）、Ｃ1 〜
Ｃ4 アルキル基などが挙げられる。Ｃ3 〜Ｃ10のシクロ
アルキル基としては、例えばシクロプロピル基、シクロ
ペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、
シクロヘプチル基、シクロオクチル基、シクロデシル基
などを挙げることができる。シクロペンチル基、シクロ
ヘキシル基が好ましい。
【００２５】Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、置換されていて
もよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ
基、もしくは置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ10シクロア
ルキル基で置換されている直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1 〜Ｃ
5 アルキル基において、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ基として
は、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ
基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、ｔ―ブトキシ
基、ヘキシルオキシ基などが挙げられる。置換されてい
てもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ
基、もしくは置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ10シクロア
ルキル基としては前述の例示と同じものを挙げることが
できる。直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1 〜Ｃ5 アルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ―ブチル
基、ｔ―ブチル基、ペンチル基などを挙げることができ
る。かかるＲ4 としてはブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、２―ヘキシル、２―メチル―２―ヘキシル、
２―メチルブチル、２―メチルペンチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、フェニル、フェノキシ、シクロペ
ンチルメチル、シクロヘキシルメチル基などを好ましい
ものとして挙げることができる。なお、置換基はその任
意の位置に結合していてもよい。
もよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ
基、もしくは置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ10シクロア
ルキル基で置換されている直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1 〜Ｃ
5 アルキル基において、Ｃ1 〜Ｃ6 アルコキシ基として
は、例えばメトキシ基、エトキシ基、プロピルオキシ
基、イソプロピルオキシ基、ブトキシ基、ｔ―ブトキシ
基、ヘキシルオキシ基などが挙げられる。置換されてい
てもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキシ
基、もしくは置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ10シクロア
ルキル基としては前述の例示と同じものを挙げることが
できる。直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1 〜Ｃ5 アルキル基とし
ては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソ
プロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ―ブチル
基、ｔ―ブチル基、ペンチル基などを挙げることができ
る。かかるＲ4 としてはブチル、ペンチル、ヘキシル、
ヘプチル、２―ヘキシル、２―メチル―２―ヘキシル、
２―メチルブチル、２―メチルペンチル、シクロペンチ
ル、シクロヘキシル、フェニル、フェノキシ、シクロペ
ンチルメチル、シクロヘキシルメチル基などを好ましい
ものとして挙げることができる。なお、置換基はその任
意の位置に結合していてもよい。
【００２６】上記（１）においてｎは０または１を表わ
す。
す。
【００２７】また上記式（２）においてＲ1 およびＲ2
は同一もしくは異なり、水素原子、トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）
炭化水素シリル基または水酸基の酸素原子とともにアセ
タール結合を形成する基を表わす。ここでトリ（Ｃ1 〜
Ｃ7 ）炭化水素シリル基および水酸基の酸素原子ととも
にアセタール結合を形成する基としては上記式（１）の
場合と同じものが挙げられる。
は同一もしくは異なり、水素原子、トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）
炭化水素シリル基または水酸基の酸素原子とともにアセ
タール結合を形成する基を表わす。ここでトリ（Ｃ1 〜
Ｃ7 ）炭化水素シリル基および水酸基の酸素原子ととも
にアセタール結合を形成する基としては上記式（１）の
場合と同じものが挙げられる。
【００２８】上記式（１）で表わされるプロパルギルシ
クロペンタン類を原料とする環化反応に用いられる金属
種を含有する還元剤の金属種としては、アルカリ金属、
アルカリ土類金属、亜鉛を挙げることができる。アルカ
リ金属としてはリチウム、ナトリウム、カリウムなどを
挙げることができるが、ナトリウムとリチウムが特に好
ましい。
クロペンタン類を原料とする環化反応に用いられる金属
種を含有する還元剤の金属種としては、アルカリ金属、
アルカリ土類金属、亜鉛を挙げることができる。アルカ
リ金属としてはリチウム、ナトリウム、カリウムなどを
挙げることができるが、ナトリウムとリチウムが特に好
ましい。
【００２９】アルカリ土類金属のなかでも、例えばカル
シウム、マグネシウム等が好ましいものとして挙げるこ
とができる。これらは単独であるいは２以上を混合して
用いることができる。かかるアルカリ金属および／また
はアルカリ土類金属の使用量は、式（１）で代表される
プロパルギルシクロペンタン類１モルに対して１．０〜
４０．０、好ましくは１．２〜２０．０倍モル用いて行
なわれる。
シウム、マグネシウム等が好ましいものとして挙げるこ
とができる。これらは単独であるいは２以上を混合して
用いることができる。かかるアルカリ金属および／また
はアルカリ土類金属の使用量は、式（１）で代表される
プロパルギルシクロペンタン類１モルに対して１．０〜
４０．０、好ましくは１．２〜２０．０倍モル用いて行
なわれる。
【００３０】かかるアルカリ金属および／またはアルカ
リ土類金属の還元剤はアニオンラジカル溶液として環化
反応に用いられる。アニオンラジカル溶液の溶媒として
は、液体アンモニアまたはナフタレン、１―（Ｎ，Ｎ―
ジメチルアミノ）―ナフタレンまたは４，４′―ジ―ｔ
―ブチルビフェニルをアルカリ金属またはアルカリ土類
金属と等モル以上に含有しているジエチルエーテル、テ
トラヒドロフランジメトキシエタン等のエーテル系溶媒
が好ましく、なかでもナフタレンまたは４，４′―ジ―
ｔ―ブチルビフェニルを含有しているテトラヒドロフラ
ンが最も好ましい。その使用量は反応を円滑に進行させ
るに十分な量であれば良く、通常は原料化合物の１〜１
０００倍容量、好ましくは２〜５０倍容量が用いられ
る。
リ土類金属の還元剤はアニオンラジカル溶液として環化
反応に用いられる。アニオンラジカル溶液の溶媒として
は、液体アンモニアまたはナフタレン、１―（Ｎ，Ｎ―
ジメチルアミノ）―ナフタレンまたは４，４′―ジ―ｔ
―ブチルビフェニルをアルカリ金属またはアルカリ土類
金属と等モル以上に含有しているジエチルエーテル、テ
トラヒドロフランジメトキシエタン等のエーテル系溶媒
が好ましく、なかでもナフタレンまたは４，４′―ジ―
ｔ―ブチルビフェニルを含有しているテトラヒドロフラ
ンが最も好ましい。その使用量は反応を円滑に進行させ
るに十分な量であれば良く、通常は原料化合物の１〜１
０００倍容量、好ましくは２〜５０倍容量が用いられ
る。
【００３１】この環化反応を効果的に行なうためには反
応種を捕捉し、生成物に導くための特定のｐＫａを有す
るプロトン源が必要である。このプロトン源として活性
水素を有する化合物を用いるが、かかるプロトン源とし
て好ましい化合物は、フェノール、ｐ―メトキシフェノ
ールカテコールなどのフェノール誘導体、トリフロロエ
タノール、コハク酸イミドなどが挙げられ、このなかで
も特にフェノール、トリフロロエタノール、コハク酸イ
ミドが好ましい。使用量は式（１）で代表されるプロパ
ルギルシクロペンタン類１モルに対して１．０〜２０．
０、好ましくは１．５〜１０倍モル用いて行なわれる。
プロトン源のｐＫａがこの範囲外にある場合には、還元
環化反応に活性水素が使用されず、また、反応の結果生
成したアルコキシドが塩基として作用して基質のアルデ
ヒド置換基のメチン水素の引き抜きに起因する、異性化
が起り、式（２）で代表される化合物の収率が低下する
ため好ましくない。
応種を捕捉し、生成物に導くための特定のｐＫａを有す
るプロトン源が必要である。このプロトン源として活性
水素を有する化合物を用いるが、かかるプロトン源とし
て好ましい化合物は、フェノール、ｐ―メトキシフェノ
ールカテコールなどのフェノール誘導体、トリフロロエ
タノール、コハク酸イミドなどが挙げられ、このなかで
も特にフェノール、トリフロロエタノール、コハク酸イ
ミドが好ましい。使用量は式（１）で代表されるプロパ
ルギルシクロペンタン類１モルに対して１．０〜２０．
０、好ましくは１．５〜１０倍モル用いて行なわれる。
プロトン源のｐＫａがこの範囲外にある場合には、還元
環化反応に活性水素が使用されず、また、反応の結果生
成したアルコキシドが塩基として作用して基質のアルデ
ヒド置換基のメチン水素の引き抜きに起因する、異性化
が起り、式（２）で代表される化合物の収率が低下する
ため好ましくない。
【００３２】反応温度は−１００℃〜＋１００℃、好ま
しくは−７８℃〜＋５０℃、特に好ましくは−７８℃〜
０℃程度の温度範囲が採用される。反応時間は反応温度
により異なるが、通常−７８℃〜０℃で１時間以内に反
応は終了する。
しくは−７８℃〜＋５０℃、特に好ましくは−７８℃〜
０℃程度の温度範囲が採用される。反応時間は反応温度
により異なるが、通常−７８℃〜０℃で１時間以内に反
応は終了する。
【００３３】また還元剤として用いられる金属種として
亜鉛も好ましく用いられる。かかる亜鉛による環化反応
は通常トリメチルクロルシランと塩基の共存下に実施さ
れる。かかる亜鉛の使用量は式（１）で代表されるプロ
パルギルシクロペンタン類１モルに対して１〜５０倍モ
ル、好ましくは１０〜３０倍モル用いて行なわれる。ま
た亜鉛は塩酸や銅、銀、水銀等によって活性化されたも
のが用いられる。またトリメチルクロロシランは式
（１）で代表される化合物に対して１〜２０倍モル、好
ましくは５〜１０倍モル用いられる。また塩基としては
２，６―ルチジンが好ましく用いられる。塩基は式
（１）で代表される化合物に対して１〜１０倍モル、好
ましくは１〜５倍モル用いられる。
亜鉛も好ましく用いられる。かかる亜鉛による環化反応
は通常トリメチルクロルシランと塩基の共存下に実施さ
れる。かかる亜鉛の使用量は式（１）で代表されるプロ
パルギルシクロペンタン類１モルに対して１〜５０倍モ
ル、好ましくは１０〜３０倍モル用いて行なわれる。ま
た亜鉛は塩酸や銅、銀、水銀等によって活性化されたも
のが用いられる。またトリメチルクロロシランは式
（１）で代表される化合物に対して１〜２０倍モル、好
ましくは５〜１０倍モル用いられる。また塩基としては
２，６―ルチジンが好ましく用いられる。塩基は式
（１）で代表される化合物に対して１〜１０倍モル、好
ましくは１〜５倍モル用いられる。
【００３４】かくして得られた生成物は飽和塩化アンモ
ニウム水を用いたクエンチまたは塩化アンモニウム、ア
ルコール類などであらかじめクエンチして、飽和塩化ア
ンモニウム水等および抽出溶媒を用い抽出等を行なうこ
とによって粗生成物として反応系から取り出すことがで
きる。粗生成物は所望によりカラムクロマトグラフィ
ー、薄層クロマトグラフィー、液体クロマトグラフィ
ー、再結晶等の精製手段により精製することができる。
ニウム水を用いたクエンチまたは塩化アンモニウム、ア
ルコール類などであらかじめクエンチして、飽和塩化ア
ンモニウム水等および抽出溶媒を用い抽出等を行なうこ
とによって粗生成物として反応系から取り出すことがで
きる。粗生成物は所望によりカラムクロマトグラフィ
ー、薄層クロマトグラフィー、液体クロマトグラフィ
ー、再結晶等の精製手段により精製することができる。
【００３５】上記式（２）で表わされる６，７―二置換
―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類の７位および６位の３′位（あるいは
４′位）が保護された水酸基の場合には、必要に応じて
脱保護することによって遊離の水酸基とすることができ
る。
―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類の７位および６位の３′位（あるいは
４′位）が保護された水酸基の場合には、必要に応じて
脱保護することによって遊離の水酸基とすることができ
る。
【００３６】水酸基の保護基の除去は、保護基が水酸基
の酸素原子と共にアセタール結合を形成する基の場合に
は、例えば酢酸、ｐ―トルエンスルホン酸のピリジニウ
ム塩または陽イオン交換樹脂等を触媒とし、例えば水、
テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、ア
セトン、アセトニトリル等を反応溶媒とすることにより
好適に実施される。反応は通常−７８℃〜＋５０℃の温
度範囲で１０分〜３日間程度行なわれる。また、保護基
がトリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭化水素シリル基の場合には、例
えば酢酸、テトラブチルアンモニウムフルオライド、セ
シウムフルオライド、フッ化水素、ピリジン―フッ化水
素の存在下に、上記したような反応溶媒中で同様の温度
で同様の時間実施される。
の酸素原子と共にアセタール結合を形成する基の場合に
は、例えば酢酸、ｐ―トルエンスルホン酸のピリジニウ
ム塩または陽イオン交換樹脂等を触媒とし、例えば水、
テトラヒドロフラン、エチルエーテル、ジオキサン、ア
セトン、アセトニトリル等を反応溶媒とすることにより
好適に実施される。反応は通常−７８℃〜＋５０℃の温
度範囲で１０分〜３日間程度行なわれる。また、保護基
がトリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭化水素シリル基の場合には、例
えば酢酸、テトラブチルアンモニウムフルオライド、セ
シウムフルオライド、フッ化水素、ピリジン―フッ化水
素の存在下に、上記したような反応溶媒中で同様の温度
で同様の時間実施される。
【００３７】また上記式（１）、（２）で表わされる化
合物においてシクロペンタン環およびビシクロ［３．
３．０］オクタン環自身およびそれらの環上に結合して
いる置換基の結合している炭素は不斉な開環のために立
体異性体が存在するが、本発明ではいずれの立体異性体
をも含むものであり、またこれらの任意の割合の立体異
性体混合物でもさしつかえない。また式で代表される化
合物とはこれらの立体異性体すべて、およびそれらの異
性体の任意の割合の混合物をあらわすが、式で表わされ
た立体構造を有する化合物が最も好ましいものとして挙
げられる。
合物においてシクロペンタン環およびビシクロ［３．
３．０］オクタン環自身およびそれらの環上に結合して
いる置換基の結合している炭素は不斉な開環のために立
体異性体が存在するが、本発明ではいずれの立体異性体
をも含むものであり、またこれらの任意の割合の立体異
性体混合物でもさしつかえない。また式で代表される化
合物とはこれらの立体異性体すべて、およびそれらの異
性体の任意の割合の混合物をあらわすが、式で表わされ
た立体構造を有する化合物が最も好ましいものとして挙
げられる。
【００３８】なお、本反応に用いられる上記式（１）で
表わされるプロパルギルシクロペンタン類は、例えば、
特開平１―２５４６３５号公報に記載の方法、その他の
公知の方法に基づいて得ることができる。
表わされるプロパルギルシクロペンタン類は、例えば、
特開平１―２５４６３５号公報に記載の方法、その他の
公知の方法に基づいて得ることができる。
【００３９】かくして本発明方法によって６，７―二置
換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類を極めて高収率で製造することができ
る。
換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類を極めて高収率で製造することができ
る。
【００４０】
【実施例】以下、本発明を実施例、比較例により更に詳
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
【００４１】
【実施例１】
【００４２】
【化７】
【００４３】金属リチウム８．３３ｇ（１．２mol ）お
よびナフタレン１５３．６ｇ（１．２mol ）を蒸留テト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）１リットル中に加えて、氷冷
下２時間攪拌し、濃緑黒色のアニオンラジカル懸濁液を
調製し、これを−３５℃に冷却した。ここに［１ａ］５
０．６ｇ（０．１mol ）およびトリフロロエタノール２
０ｇ（０．２mol ）の蒸留テトラヒドロフラン１リット
ルの溶液を−３５℃に冷却し、ステンレス製チューブを
用いてアルゴンガス加圧下１０分間で滴下した。−３５
℃で２０分間攪拌し、塩化アンモニウム５０ｇおよびエ
タノール３０mlを反応液に加えて反応を終結し、氷水
１．５リットルおよび酢酸エチル１リットルを加えて、
分液抽出した。水層は酢酸エチル０．５リットルで再度
抽出した。抽出液を飽和食塩水１リットルで２回洗浄
し、抽出液を硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過濃縮
し、粗生成物２００ｇを得た。これをシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによりヘキサン―酢酸エチル２０：
１の混合液で溶出させ［３ａ］４１．１５ｇ（８１mmo
l）を得た。収率８１％。
よびナフタレン１５３．６ｇ（１．２mol ）を蒸留テト
ラヒドロフラン（ＴＨＦ）１リットル中に加えて、氷冷
下２時間攪拌し、濃緑黒色のアニオンラジカル懸濁液を
調製し、これを−３５℃に冷却した。ここに［１ａ］５
０．６ｇ（０．１mol ）およびトリフロロエタノール２
０ｇ（０．２mol ）の蒸留テトラヒドロフラン１リット
ルの溶液を−３５℃に冷却し、ステンレス製チューブを
用いてアルゴンガス加圧下１０分間で滴下した。−３５
℃で２０分間攪拌し、塩化アンモニウム５０ｇおよびエ
タノール３０mlを反応液に加えて反応を終結し、氷水
１．５リットルおよび酢酸エチル１リットルを加えて、
分液抽出した。水層は酢酸エチル０．５リットルで再度
抽出した。抽出液を飽和食塩水１リットルで２回洗浄
し、抽出液を硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過濃縮
し、粗生成物２００ｇを得た。これをシリカゲルカラム
クロマトグラフィーによりヘキサン―酢酸エチル２０：
１の混合液で溶出させ［３ａ］４１．１５ｇ（８１mmo
l）を得た。収率８１％。
【００４４】
【比較例１】金属リチウム１５mgとナフタレン２６６mg
を蒸留ＴＨＦ７mlに加えて、室温で２時間攪拌し、濃緑
色のアニオンラジカル溶液を調製した。これを−５０℃
に冷却し、ここに［１ａ］５０mgのＴＨＦ３ml溶液を加
えた。５分後塩化アンモニウム飽和溶液を加えて反応を
終結し、酢酸エチルで抽出し、水層を再度酢酸エチルで
抽出し、飽和食塩水で有機層を洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで脱水乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮して粗生成物３
４６mgを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーによりヘキサン―酢酸エチル９：１の混合溶媒で溶
出させ［３ａ］３４mgを得た。収率６７％。
を蒸留ＴＨＦ７mlに加えて、室温で２時間攪拌し、濃緑
色のアニオンラジカル溶液を調製した。これを−５０℃
に冷却し、ここに［１ａ］５０mgのＴＨＦ３ml溶液を加
えた。５分後塩化アンモニウム飽和溶液を加えて反応を
終結し、酢酸エチルで抽出し、水層を再度酢酸エチルで
抽出し、飽和食塩水で有機層を洗浄後、硫酸マグネシウ
ムで脱水乾燥後濾過し、濾液を減圧濃縮して粗生成物３
４６mgを得た。これをシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーによりヘキサン―酢酸エチル９：１の混合溶媒で溶
出させ［３ａ］３４mgを得た。収率６７％。
【００４５】
【比較例２】
【００４６】
【化８】
【００４７】リチウムのミネラルオイルディスパージョ
ン（含量２５％；１％のナトリウムを含む）１５．３Ｇ
（５５２mmol）にテトラヒドロフラン５５０mlを加え、
氷冷、窒素雰囲気下ナフタレン７０．３ｇ（５５０mmo
l）を加えた。氷冷下２時間攪拌し濃緑色のアニオンラ
ジカル溶液を調製した。アセチレンアルデヒド（２１）
２５．１ｇ（５０mmol）およびｔ―ブタノール１８．７
ml（３２０mmol）をテトラヒドロフラン１２０mlに溶解
し−７０℃に冷却した後、−７０℃に冷却した上記アニ
オンラジカル溶液に加えた。−７０℃で１５分間攪拌
後、塩化アンモニウム５０ｇを加え、さらにエタノール
をアニオンラジカルの暗緑色が消えるまで加えた。飽和
塩化アンモニウム水溶液９００mlを加えた後、酢酸エチ
ルで抽出（２×７００ml）した。合わせた有機層を飽和
食塩水で２回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより分離精製すると、ヘキサン―
酢酸エチル＝１９：１溶出部に５．３４ｇ（収率２１
％）の［（２０）α］を、またヘキサン―酢酸エチル＝
９：１溶出部に１２．９５ｇ（収率５１％）の［（２
９）β］を得た。
ン（含量２５％；１％のナトリウムを含む）１５．３Ｇ
（５５２mmol）にテトラヒドロフラン５５０mlを加え、
氷冷、窒素雰囲気下ナフタレン７０．３ｇ（５５０mmo
l）を加えた。氷冷下２時間攪拌し濃緑色のアニオンラ
ジカル溶液を調製した。アセチレンアルデヒド（２１）
２５．１ｇ（５０mmol）およびｔ―ブタノール１８．７
ml（３２０mmol）をテトラヒドロフラン１２０mlに溶解
し−７０℃に冷却した後、−７０℃に冷却した上記アニ
オンラジカル溶液に加えた。−７０℃で１５分間攪拌
後、塩化アンモニウム５０ｇを加え、さらにエタノール
をアニオンラジカルの暗緑色が消えるまで加えた。飽和
塩化アンモニウム水溶液９００mlを加えた後、酢酸エチ
ルで抽出（２×７００ml）した。合わせた有機層を飽和
食塩水で２回洗浄後、硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒
を減圧留去した。得られた粗生成物をシリカゲルカラム
クロマトグラフィーにより分離精製すると、ヘキサン―
酢酸エチル＝１９：１溶出部に５．３４ｇ（収率２１
％）の［（２０）α］を、またヘキサン―酢酸エチル＝
９：１溶出部に１２．９５ｇ（収率５１％）の［（２
９）β］を得た。
【００４８】
【実施例２】
【００４９】
【化９】
【００５０】金属リチウム８．３３ｇ（１．２mol ）お
よびナフタレン１５３．６ｇ（１．２mol ）を蒸留ＴＨ
Ｆ１リットル中に加えて氷冷下２時間攪拌し、アニオン
ラジカル懸濁液を調製し、−３５℃に冷却した。ここに
［１ｂ］５３．４ｇ（０．１mol ）およびトリフロロエ
タノール２０ｇ（０．２mol ）の蒸留ＴＨＦ１リットル
の溶液を−３５℃に冷却した溶液を１０分間で滴下し
た。−３５℃で２０分間攪拌し、塩化アンモニウム５０
ｇおよびエタノール３０mlを反応液に加えて反応を終結
し、氷水１．５リットルおよび酢酸エチル１リットルを
加えて分液抽出した。水層は酢酸エチル０．５リットル
で再度抽出した。抽出液を飽和食塩水１リットルで２回
洗浄し、抽出液を硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過
濃縮し粗生成物２３０ｇを得た。これをシリカゲルクロ
マトグラフィーによりヘキサン―酢酸エチル２０：１の
混合溶媒で溶出させ［３ｂ］４２．３５ｇ（７９mmol）
を得た。収率７９％。
よびナフタレン１５３．６ｇ（１．２mol ）を蒸留ＴＨ
Ｆ１リットル中に加えて氷冷下２時間攪拌し、アニオン
ラジカル懸濁液を調製し、−３５℃に冷却した。ここに
［１ｂ］５３．４ｇ（０．１mol ）およびトリフロロエ
タノール２０ｇ（０．２mol ）の蒸留ＴＨＦ１リットル
の溶液を−３５℃に冷却した溶液を１０分間で滴下し
た。−３５℃で２０分間攪拌し、塩化アンモニウム５０
ｇおよびエタノール３０mlを反応液に加えて反応を終結
し、氷水１．５リットルおよび酢酸エチル１リットルを
加えて分液抽出した。水層は酢酸エチル０．５リットル
で再度抽出した。抽出液を飽和食塩水１リットルで２回
洗浄し、抽出液を硫酸マグネシウムで脱水乾燥し、濾過
濃縮し粗生成物２３０ｇを得た。これをシリカゲルクロ
マトグラフィーによりヘキサン―酢酸エチル２０：１の
混合溶媒で溶出させ［３ｂ］４２．３５ｇ（７９mmol）
を得た。収率７９％。
【００５１】
【実施例３〜７および比較例３〜８】実施例１におい
て、プロトン源および反応温度は各々表１記載のｐＫａ
を有する化合物および温度とし、またアニオンラジカル
溶液としては金属リチウム／ナフタレン（１ａに対して
１２倍mol 使用）を、反応時間は２０分間とする以外は
同様にして、原料［１ａ］から目的物［３ａ］を得た
（実施例３〜７、比較例３〜８）。
て、プロトン源および反応温度は各々表１記載のｐＫａ
を有する化合物および温度とし、またアニオンラジカル
溶液としては金属リチウム／ナフタレン（１ａに対して
１２倍mol 使用）を、反応時間は２０分間とする以外は
同様にして、原料［１ａ］から目的物［３ａ］を得た
（実施例３〜７、比較例３〜８）。
【００５２】
【表１】
【００５３】表１から明らかなようにｐＫａ１７以上ま
たは４．７０以下のプロトン源の使用は実施例に比較し
て収率が低い。なお、比較例６、７では置換基のアルデ
ヒドがαからβへ異性化した化合物が多量生成した。
たは４．７０以下のプロトン源の使用は実施例に比較し
て収率が低い。なお、比較例６、７では置換基のアルデ
ヒドがαからβへ異性化した化合物が多量生成した。
Claims (10)
- 【請求項１】 下記式（１） 【化１】 ［式中、Ｒ11，Ｒ21は同一もしくは異なり、トリ（Ｃ1
〜Ｃ7 ）炭化水素シリル基、または水酸基の酸素原子と
ともにアセタール結合を形成する基を表わし、Ｒ 3 は水
素原子、メチル基またはビニル基を表わし、Ｒ4 は酸素
原子を含んでいてもよい直鎖もしくは分岐鎖Ｃ3 〜Ｃ8
アルキル基、アルケニル基もしくはアルキニル基；置換
もしくは非置換のフェニル基；置換もしくは非置換のフ
ェノキシ基；置換もしくは非置換のＣ3 〜Ｃ10シクロア
ルキル基；またはＣ1 〜Ｃ6 アルコキシ基、置換されて
いてもよいフェニル基、置換されていてもよいフェノキ
シ基、置換されていてもよいＣ3 〜Ｃ10シクロアルキル
基で置換されている直鎖もしくは分岐鎖Ｃ1 〜Ｃ5 アル
キル基を表わし、ｎは０または１を表わす。］で表わさ
れる化合物及びその鏡像体あるいはそれらの任意の割合
の混合物であるプロパルギルシクロペンタン類を金属種
を含有する還元剤およびプロトン源としてｐＫａ５以上
〜１７未満の活性水素を有する化合物を用い環化反応せ
しめ、また必要により脱保護反応せしめることを特徴と
する下記式（２） 【化２】 ［式中、Ｒ1 ，Ｒ2 は同一もしくは異なり、水素原子、
トリ（Ｃ1 〜Ｃ7 ）炭化水素シリル基、または水酸基の
酸素原子とともにアセタール結合を形成する基を表わ
し、Ｒ3 ，Ｒ4 およびｎは前記式（１）の定義に同
じ。］で表わされる化合物及びその鏡像体あるいはそれ
らの任意の割合の混合物である６，７―二置換―２―ヒ
ドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタ
ン類の製造法。 - 【請求項２】 金属種がアルカリ金属である請求項１記
載の６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビ
シクロ［３．３．０］オクタン類の製造法。 - 【請求項３】 アルカリ金属がナトリウムおよび／また
はリチウムである請求項２記載の６，７―二置換―２―
ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オク
タン類の製造法。 - 【請求項４】 金属種がアルカリ土類金属である請求項
１記載の６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレ
ンビシクロ［３．３．０］オクタン類の製造法。 - 【請求項５】 アルカリ土類金属がカルシウムおよび／
またはマグネシウムである請求項４記載の６，７―二置
換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類の製造法。 - 【請求項６】 金属種が亜鉛である請求項１記載の６，
７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ
［３．３．０］オクタン類の製造法。 - 【請求項７】 プロトン源として用いられる化合物のｐ
Ｋａが８〜１４である請求項１記載の６，７―二置換―
２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］
オクタン類の製造法。 - 【請求項８】 プロトン源として用いられる化合物がト
リフロロエタノールである請求項７記載の６，７―二置
換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．
０］オクタン類の製造法。 - 【請求項９】 プロトン源として用いられる化合物がフ
ェノールおよび／または置換基を有していてもよいフェ
ノールである請求項７記載の６，７―二置換―２―ヒド
ロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン
類の製造法。 - 【請求項１０】 プロトン源として用いられる化合物が
コハク酸イミドである請求項７記載の６，７―二置換―
２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］
オクタン類の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24653392A JP2664841B2 (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | ６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン類の製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24653392A JP2664841B2 (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | ６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン類の製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0692886A true JPH0692886A (ja) | 1994-04-05 |
| JP2664841B2 JP2664841B2 (ja) | 1997-10-22 |
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ID=17149829
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP24653392A Expired - Fee Related JP2664841B2 (ja) | 1992-09-16 | 1992-09-16 | ６，７―二置換―２―ヒドロキシ―３―メチレンビシクロ［３．３．０］オクタン類の製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2664841B2 (ja) |
-
1992
- 1992-09-16 JP JP24653392A patent/JP2664841B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2664841B2 (ja) | 1997-10-22 |
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