JPH026341B2 - - Google Patents

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JPH026341B2
JPH026341B2 JP57155116A JP15511682A JPH026341B2 JP H026341 B2 JPH026341 B2 JP H026341B2 JP 57155116 A JP57155116 A JP 57155116A JP 15511682 A JP15511682 A JP 15511682A JP H026341 B2 JPH026341 B2 JP H026341B2
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JP
Japan
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JP57155116A
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JPS5944336A (ja
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Toshio Tanaka
Atsuo Hasato
Seiji Kurozumi
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Teijin Ltd
Original Assignee
Teijin Ltd
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Publication date
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Publication of JPS5944336A publication Critical patent/JPS5944336A/ja
Publication of JPH026341B2 publication Critical patent/JPH026341B2/ja
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/52Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts

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  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
  • Pyrane Compounds (AREA)
  • Catalysts (AREA)
  • Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】
本発明は2−アリルシクロペンタノン類の新規
製造法に関する。 さらに詳しくはプロスタグランジン誘導体を製
造するための汎用的な重要中間体である2−アリ
ルシクロペンタノン類の新規な製造法に関する。 プロスタグランジン類は温血動物の生体内に広
く分布し、生物学的および薬理学的に高度な活性
を有し生体の諸機能を調節する局所ホルモン(オ
ータコイド)として知られている。その特異な生
理活性の故にプロスタグランジン誘導体を合成
し、新たな薬物を発見しようとする試みが広く行
なわれている。本発明者は別途提案した方法によ
り下図で示したように2−アリルシクロペンタノ
ン類を出発物質として有用なプロスタグランジン
誘導体である4−チアプロスタグランジンE1
および4−チアプロスタグランジンI1類の製造に
成功し報告している(1例を紹介すると坂内ら、
Chem.Pharm.Bull.、30、1102(1982)など)。 上記報告では出発原料の2−アリルシクロペン
タノン類は下図に示すようにフルフラールから得
られたフラン誘導体を酸化的にメタノール付加さ
せ、付加体を再環化後に異性化させ、必要に応じ
て光学分割した後に水酸基を保護して2−アリル
−2−シクロペンテノン類とし、これに有機銅化
合物を共役付加させることにより光学活性体およ
びセラミ体の2−アリルシクロペンタノン類に導
びく方法で目的物を得ている。 上記方法は製造工程が長く、しかも光学分割が
可能であるものの困難を極めるという欠点があ
る。 本発明者はこの欠点を克服すべく鋭意研究した
結果本発明に到達したものである。しかるに本発
明は後で詳述するように製造工程が2工程と極め
て簡略化され、しかも出発原料には光学純品とし
ても容易に入手できる4−置換−2−シクロペン
テノン類を用いることができるという点で非常に
優れた方法である。 すなわち本発明の方法は、下記式〔〕 〔式中、R11はトリ(C1〜C6)炭化水素−シリル
基または水酸基の酸素原子と共にアセタール結合
を形成する基を表わす。〕 で表わされる4−置換−2−シクロペンテノン類
またはその鏡像体あるいはそれらの任意の割合の
混合物を、下記式〔〕 〔式中、R21はトリ(C1〜C6)炭化水素−シリル
基または水酸基の酸素原子と共にアセタール結合
を形成する基を表わし、Yはヨウ素原子、フエニ
ルチオ基、C1〜C5アルキル置換エチニル基、ま
たはシアノ基を表わし、R3はC5〜C8の直鎖もし
くは分岐のアルキル基、5〜6員の脂環式基、ま
たは5〜6員の脂環式基が置換したC1〜C2のア
ルキル基を表わす。〕 で表わされる有機銅リチウム化合物またはその鏡
像体あるいはそれら任意の割合の混合物と、非プ
ロトン性有機溶媒と三価の有機リン化合物の存在
下に共役付加反応せしめ、次いでクロロギ酸アリ
ルを反応せしめ、場合によつて保護された水酸基
の脱保護反応に付すことにより、下記式〔〕 〔式中、R1、R2、およびR3は前記定義と同じで
ある。〕 で表わされる2−アリルオキシカルボニルシクロ
ペンタノン類またはその立体異性体あるいはそれ
ら任意の割合の混合物を製造し、次いでこの2−
アリルオキシカルボニルシクペンタノン類を0価
または1価の遷移金属錯体と反応せしめることを
特徴とする、下記式〔〕 〔式中、R1、R2、およびR3は前記定義に同じで
ある。〕 で表わされる2−アリルシクロペンタノン類また
はその立体異性体あるいはそれら任意の混合物の
新規製造法である。 すなわち本発明の方法は2工程からなつてい
る。第1段階は4−置換−2−シクロペンテノン
類に有機銅リチウム化合物を共役付加させて得ら
れるエノレート中間体をクロロギ酸アリルで捕捉
して2−アリルオキシカルボニルシクロペンタノ
ン類を製造する工程であり、第2段階はその製造
された2−アリルオキシカルボニルシクロペンタ
ノン類の脱炭酸アリル化反応による2−アリルシ
クロペンタノン類の製造工程である。以下順を追
つて説明する。 第1段階の反応に用いる出発原料は、上記式
〔〕で表わされる4−置換−2−シクロペンテ
ノン類またはその鏡像体あるいはそれらの任意の
割合の混合物であり、本発明者が別途提案した方
法により容易に入手可能な既知物質である。 上記式〔〕においてR11はトリ(C1〜C6)炭
化水素−シリル基または水酸基の酸素原子と共に
アセタール結合を形成する基を表わす。 トリ(C1〜C6)炭化水素−シリル基としては、
例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル
基、t−ブチルジメチルシリル基、t−ブチルジ
フエニル基などがあげられるがt−ブチルジメチ
ルシリル基が特に好ましい。 水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成
する基としては、例えば、メトキシメチル基、1
−エトキシエチル基、2−メトキシ−2−プロピ
ル基、2−エトキシ−2−プロピル基、(2−メ
トキシエトキシ)メチル基、ベンジルオキシメチ
ル基、2−テトラヒドロピラニル基、2−テトラ
ヒドロフラニル基、または(1S,5R)−および/
または(1R,5S)−6,6−ジメチル−3−オキ
サ−2−オキソビシクロ〔3,1,0〕ヘキス−
4−イル基をあげることができるが、2−テトラ
ヒドロピラニル基が好ましい。これらのシリル基
およびアセタール結合を形成する基は水素基の保
護基であると理解されるべきである。これらの保
護基は最終生成物の段階で弱酸性から中性の条件
下で容易に除去されて薬剤として有用な遊離の水
酸基とすることができる。従つてこのような性状
を有している水酸基の保護基はシリル基やアセタ
ール結合を形成する基の代わりとして使用するこ
とができる。 上記式〔〕で表わされる4−置換−2−シク
ロペンテノン類の具体例としては上記R11が置換
したものすべてをあげることができる。 ここで特記すべきは上記式〔〕の化合物は不
斉炭素を有しており、このため光学異性体が存在
するということである。プロスタグランジン誘導
体を合成するという立場からいえば4位の絶体配
置はRが好ましいがdl体であつても後の工程の適
当な段階で立体異性体を分離することが可能であ
るから十分その目的を達成する。 特に好ましい形として化合物を例示すると、 4(R)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
−シクロペンテノン、 4(RS)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−
2−シクロペンテノン、 4(S)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2
−シクロペンテノン、 4(R)−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−
2−シクロペンテノン、 4(RS)−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)
−2−シクロペンテノン、 4(S)−(2−テトラヒドロピラニルオキシ)−
2−シクロペンテノン、 などである。 本発明方法における今一方の原料化合物である
上記式〔〕で表わされる有機銅リチウム化合物
またはその鏡像体あるいはそれらの任意の割合の
混合物はそれ自身公知の方法(例えばG.H.
Posner、Organic Reaction、Vol.19、1(1972)
などを参照)あるいは本発明者が別途提案した方
法により、対応する有機リチウム化合物と第1銅
塩とを反応させることにより容易に得られる。 上記式〔〕においてR21はトリ(C1〜C6)炭
化水素−シリル基または水酸基の酸素原子と共に
アセタール結合を形成する基を表わし、R11であ
げられたものが同様にあげられる。R3はC5〜C8
の直鎖もしくは分岐のアルキル基、5〜6員の脂
環式基、または5〜6員の脂環式基が置換した
C1〜C2のアルキル基を表わす。 C5〜C8の直鎖もしくは分岐のアルキル基とし
ては、ペンチル基、ヘキシル基、2−ヘキシル
基、2−ヘキシル基、2−メチルヘキシル基、ヘ
プチル基、オクチル基など、好ましくはペンチル
基、ヘキシル基、2−ヘキシル基、2−メチルヘ
キシル基など、さらに好ましくはペンチル基、2
−メチルヘキシル基などをあげることができる。
5〜6員の脂環式基としてはシクロペンチル基、
シクロヘキシル基、5〜6員の脂環式基が置換し
たC1〜C2のアルキル基としてはシクロペンチル
メチル基、シクロヘキシルメチル基、2−シクロ
ペンチルエチル基、2−シクロヘキシルエチル
基、1−シクロペンチルエチル基、1−シクロヘ
キシルエル基などをあげることができる。Yはヨ
ウ素原子、フエニルチオ基、C1〜C5アルキル置
換エチニル基(例えばペンチルエチニル基、t−
ブチルエチニル基など)、またはシアノ基を表わ
すが、ヨウ素原子、フエニルチオ基、ペンチルエ
チニル基などが特に好ましい。 上記式〔〕の化合物も不斉炭素を有しており
光学異性体が存在するが、プロスタグランジン誘
導体を合成する目的からは、絶体配置がSの異性
体が好ましい。しかし光学活性な上記式〔〕の
化合物を用いれば後の適当な段階で光学異性体を
分離できるのでdl体でもその目的を達することが
できる。 本発明方法はまず4−置換−2−シクロペンテ
ノン類と有機銅リチウム化合物とを非プロトン性
有機溶媒と三価の有機リン化合物の存在下に共役
付加反応させることによつて実施される。 三価の有機リン化合物としては、例えば、トリ
アルキルホスフイン(例えば、トリエチルホスフ
イン、トリブチルホスフインなど)、トリアルキ
ルホスフアイト(例えば、トリメチルホスフアイ
ト、トリエチルホスフアイト、トリイソプロピル
ホスフアイト、トリブチルホスフアイトなど)、
あるいはヘキサメチルホスホラストリアミドなど
があげられる。 4−置換−2−シクロペンテノン類に対して有
機銅リチウム化合物は0.9〜1.5倍モル、好ましく
は1.0〜1.2倍モル使用し、三価の有機リン化合物
は有機銅リチウム化合物に対して2.0〜2.5倍モル
の範囲で使用される。 反応は通常、4−置換−2−シクロペンテノン
類を有機溶媒に溶解した溶液を、有機溶媒に溶解
した有機銅リチウム化合物の溶液に添加し、撹拌
することにより達成される。ここで用いられる有
機溶媒としてはエチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、ペンタン、ヘキサン、ヘプタンなどが好適
にあげられ、二種以上の混合溶媒として用いるこ
とも可能であり、通常の実施態様である。すなわ
ち有機銅リチウム化合物を製造する時に用いられ
た有機溶媒を含有している反応系に、該4−置換
−2−シクロペンテノン類を適当な有機溶媒に溶
解させて添加される結果、混合溶媒系となる。有
機溶媒の使用量は反応を円滑に進行させるに十分
な量があれば良く、通常は反応剤の容量の1〜
100倍容量、好ましくは5〜30倍容量が用いられ
る。 反応温度は−100℃〜−20℃、特に好ましくは
−80℃〜−40℃の範囲の温度で行なわれ、反応の
終点は薄層クロマトグラフイー等の追跡手段によ
つて追跡し決定し、15分〜3時間行なえば十分で
あるが、通常−78℃で1時間程度行なわれる。 本発明方法ではこれまでの操作で反応系内には
該4−置換−2−シクロペンテノン類の3位に郭
有機銅リチウム化合物の有機基部分であるアルケ
ニル基が4位の置換基とはトランスの立体関係で
付加し、2位に陰イオンが生成したいわゆる共役
付加エノレートの形になつていると想定されてい
る。本発明方法ではこの共役付加エノレートに対
してクロロギ酸アリルを反応させ、該エノレート
の2位をアリルオキシカルボニル化することによ
り達成される。 従来、4−置換−2−シクロペンテノン類への
共役付加によつて生成したエノレートをクロロギ
酸エステルで捕捉し、2位にアルコキシカルボニ
ル基を導入する方法は本発明者らによつて試みら
れており、低収率ながら、アルコキシカルボニル
基の導入に成功している(例えば、融ら、
Tetrahedron Letters、4087(1976)や、R.G.
Salmonら、J.Org.Chem.、40、1488(1975)など
を参照)。これらの例ではクロロギ酸メチルでの
捕捉反応について報告されてはいるが、アリルエ
ステルの例は報告されていない。ところが本発明
方法では第2段階目の反応について後で詳述する
ように、このアリルエステルこそが本発明方法を
完遂するために必須な条件となり、それ故、クロ
ロギ酸アリルでエノレートの捕捉が成功したこと
が本発明方法の完成の本質であるといえるわけで
ある。 クロロギ酸アリルはもとの4−置換−2−シク
ロペンテノン類に対して1.0〜5.0倍モル、好まし
くは1.2〜3.0倍モル使用し、前述の有機溶媒に溶
解させて添加する。反応温度は−20℃〜−100℃、
好ましくは−40℃〜−78℃の範囲が採用され、反
応時間は15分〜2時間、通常は30分〜1時間で十
分である。 反応後、得られる生成物は通常の手段により反
応液から分離、精製、単離される。例えば抽出、
洗浄、クロマトグラフイーによる分離などであ
る。 かくして、前記式〔〕で表わされる化合物の
うち、その水酸基がすべて保護されたものが得ら
れる。しかもクロロギ酸アリル処理によるアリル
オキシカルボニル基は3位の共役付加により導入
されたアルケニル基とはトランスの立体関係を保
持して導入される。 すなわち、4−置換−2−シクロペンテノン類
と有機銅リチウム化合物とクロロギ酸アリルの三
成分は位置特異的、立体特異的な反応を行なつて
最終生成物に到るわけで、この経緯をもつてわか
りやすく説明すると次の式に示したようになる。 つまり光学活性4−置換−2−シクロペンテノ
ン類と光学活性有機銅リチウム化合物とを反応さ
せると(式1)〜(式4)のいずれか1つの反応
が進行するがdl体どうしを反応させると(式1)
〜(式4)のすべての反応が、いずれか一方がdl
体の場合は(式1)と(式2)あるいは(式3)
と(式4)が進行し、立体異性混合物を与える。 生成物は場合によつて保護された水酸基の脱保
護反応に付して遊離の水酸基とする。脱保護反応
自身は公知の反応であり、その一例を示すと保護
基がトリ(C1〜C6)炭化水素−シリル基の場合
には、例えば、酢酸、フツ化水素酸、テトラブチ
ルアンモニウムフルオライド、セシウムフルオラ
イドなどを触媒とし、水、テトラヒドロフラン、
エチルエーテル、ジオキサン、メタノール、エタ
ノール、アセトン、アセトニトリルなどを反応溶
媒として行なう。反応は通常−78℃〜−100℃の
温度範囲で10分〜3日間程度行なわれる。保護基
が水酸基の保護基と共にアセタール結合を形成す
る基の場合には、例えば酢酸、p−トルエンスル
ホン酸およびそのピリジン塩または陽イオン交換
樹脂などを触媒として上記溶媒中で同様の温度範
囲で同様の時間実施される。 かくして前記式〔〕で表わされる2−アリル
オキシカルボニルシクロペンタノン類またはその
立体異性体あるいはそれら任意の割合の混合物が
得られるが、その具体例を(式1)で示したプロ
スタグランジン骨格を有する誘導体をその代表例
にとり、以下例示する。 (1) (2R,3R,4R)−2−アリルオキシカルボ
ニル−3−((S)−(E)−3−ヒドロキシ−1−
オクテニル)−4−ヒドロキシシクロペンタノ
ン (2) (2R,3R,4R)−2−アリルオキシカルボ
ニル−3−((S)−(E)−3−ヒドロキシ−1−
ノネニル)−4−ヒドロキシシクロペンタノン (3) (2R,3R,4R)−2−アリルオキシカルボ
ニル−3−((S)−(E)−3−ヒドロキシ−1−
デセニル)−4−ヒドロキシシクロペンタノン (4) (2R,3R,4R)−2−アリルオキシカルボ
ニル−3−((3S,5S)−(E)−3−ヒドロキシ−
5−メチル−1−ノネニル)−4−ヒドロキシ
シクロペンタノン (5) (2R,3R,4R)−2−アリルオキシカルボ
ニル−3−((3S,5R)−(E)−3−ヒドロキシ−
5−メチル−1−ノネニル)−4−ヒドロキシ
シクロペンタノン (6) (2R,3R,4R)−2−アリルオキシカルボ
ニル−3−((S)−(E)−3−ヒドロキシ−3−
シクロペンチル−プロペニル)−4−ヒドロキ
シシクロペンタノン (7) (2R,3R,4R)−2−アリルオキシカルボ
ニル−3−((S)−(E)−3−ヒドロキシ−3−
シクロヘキシル−1−プロペニル)−4−ヒド
ロキシシクロペンタノン (8) (2R,3R,4R)−2−アリルオキシカルボ
ニル−3−((S)−(E)−3−ヒドロキシ−4−
シクロヘキシル−1−ブチニル)−4−ヒドロ
キシシクロペンタノン (9) (2R,3R,4R)−2−アリルオキシカルボ
ニル−3−((S)−(E)−3−ヒドロキシ−5−
シクロペンチル−1−ペンテニル)−4−ヒド
ロキシシクロペンタノン (10) (1)〜(9)のビス(2−テトラヒドロピラニル)
エーテル (11) (1)〜(9)のビス(t−ブチルジメチルシリル)
エーテル (12) (1)〜(9)の4−t−ブチルジメチルシリル−
3′−(2−テトラヒドロピラニル)エーテル (13) (1)〜(9)の4−(2−テトラヒドロピラニル)
−3′−t−ブチルジメチルシリルエーテル 本発明方法の第2段階はこうして得られた前記
式〔〕で表わされる2−アリルオキシカルボニ
ルシクロペンタノン類またはその立体異性体ある
いはそれらの任意の割合の混合物を低原子価の遷
移金属錯体と反応せしめることにより達成され
る。 0価または1価の遷移金属としては0価のパラ
ジウム、0価のニツケル、0価の白金、1価のロ
ジウムなどがあげられるが0価のパラジウムが特
に好ましい。これらの低原子価の遷移金属は適当
な配位子を配位させた錯体の形で使用するのが都
合が良い。かかる錯体としては特に配位の性質で
その反応性が大きく変化することはないが通常最
も一般的に用いられるのはトリフエニルホスフイ
ンを配位子とした錯体であり、しかるにトリフエ
ニルホスフイン錯体を例にとつて具体例をあげる
とテトラキス(トリフエニルホスフイン)パラジ
ウム(O)、テトラキス(トリフエニルホスフイ
ン)ニツケル(O)、テトラキス(トリフエニル
ホスフイン)白金(O)、またはトリス(トリフ
エニルホスフイン)ロジウム(I)などである。 上記遷移金属錯体は2−アリルオキシカルボニ
ルシクロペンタノン類の脱炭酸アリル化反応に対
して触媒的に作用するため、その使用量は2−ア
リルオキシカルボニルシクロペンタノン類に対し
て1モル%〜30モル%、通常は3〜10モル%、好
ましくは5モル%量で触媒として十分の機能を発
揮する。 一般にこの種の反応は用いる溶媒によつて反応
の進行状況が微妙に変化することが知られている
が、本発明方法において溶媒を用いる場合は、
N,N−ジメチルホルムアミド、テトラヒドロフ
ラン、ベンゼンなどを用いることができ、特に
N,N−ジメチルホルムアミドが好ましく用いら
れる。溶媒の使用量は反応剤の容量に対して1〜
100倍容量、好ましくは5〜30倍容量用いられる。 反応温度は0℃〜60℃、好ましくは20℃〜40℃
の範囲が選ばれ、反応時間は反応温度によつて異
なるため薄層クロマトグラフイーなどで追跡しな
がら行なうが30分〜5時間も行なえば十分であ
る。通常は20℃〜30℃で2時間実施される。 反応後は通常の方法により抽出、洗浄、クロマ
トグラフイーなどによる単離操作を経て、前記式
〔〕で表わされる2−アリルシクロペンタノン
類またはその立体異性体あるいはそれら任意の割
合の混合物が得られる。本発明の第二段階の脱炭
酸アリル化反応は位置特異性を保持しながら、し
かも立体特異的に進行することが知られている。
そのために出発物質である2−アリルオキシカル
ボニルシクロペンタノン類の2位の立体配置はそ
のまま生成物である2−アリルシクロペンタノン
類にひきつがれ、結果的に2位の立体配置は一義
的に決定される。このことを言いかえると今まで
詳述してきた第一段階と第二段階の工程をかけて
最初の4−置換−2−シクロペンテノン類の3位
に有機銅リチウム化合物の有機基部分であるアル
ケニル基を4位の置換基とはトランスの立体関係
を保持して導入し、続いて2位にアリル基を3位
のアルケニル基とトランスの立体関係を保つて導
入し、結果的に最終目的物である2−アリルシク
ロペンタノン類を立体特異的に得たことになるわ
けである。すなわち有機銅リチウム化合物が4−
置換−2−シクロペンテノン類に共役付加して生
成したエノレートの間接的な位置、立体特異的ア
リル化が達成できたことになる。 従来、このようなエノレートのアリルハライド
(例えばアリルクロライド、アリルブロマイド、
アリルアイオダイドなど)を用いた捕捉反応によ
る直接的なアリル化は非常に困難を極めることが
知られている。例えばG.H.Posnerら、J.Am.
Chem.Soc.、97、107(1975)の報告によると2−
シクロペンテノンに対してビニル基を共役付加し
て得られた銅エノレートでさえそのアリル化は位
置特異性を失なつた3−ビニル−5−アリルシク
ロペンタノン類を生成する。さらに本発明方法の
ように4位に置換基を有している2−シクロペン
テノン類は4位の置換基が生成したエノレートの
2位に対して立体障害として作用し、位置特異性
が失なわれたり、ポリアリル化が進行し、目的物
の収率は極めて低いことも知られている(G.
Storkら、J.Am.Chem.Soc.、97、6260(1975))。
このような背景のなかで本発明方法は従来不可能
に近かつた3,4−ジ置換シクロペンタノンエノ
レートの2位に間接的にではあるが、位置および
立体特異的にアリル化が可能になつた意義は誠に
大きいといえる。 なお、従来、α−アリルオキシカルボニルケト
ンを低原子価の遷移金属錯体触媒による脱炭酸的
アリル化反応自身は三枝らによつて知られてい
る。例えば三枝ら、J.Am.Chem.Soc.、102
6381(1980)などが参考となる。しかしこの報告
ではシクロヘキサン系、シクロペンタノン系の比
較的単純な系での反応についての記載しかなく、
前述したように3,4−ジ置換−2−アリルオキ
シカルボニルシクロペンタノン類のような2位で
比較的に立体障害が予想される系に対する応用例
はなく、この点からも本発明方法の有用性が明ら
かとなるところである。 かくして得られた前記式〔〕で表わされる2
−アリルシクロペンタノン類またはその立体異性
体あるいはそれら任意の割合の混合物は前述のよ
うに、4−チアプロスタグランジンE1類、およ
びI1類の出発物質となる有用な中間体であり、そ
の具体例は前出の2−アリルオキシカルボニルシ
クロペンタノン類に対応する誘導体をそのままあ
げることができる。 以下、本発明方法を実施例により更に詳細に説
明する。 実施例 1 dl−(E)−3−t−ブチルジメチルシリルオキシ
−1−オクテン(1.84g、5.0mmol)のエーテル
(15ml)溶液に2.1Mのt−ブチルリチウムのペン
タン溶液(4.8ml、10.0mmol)を−78℃で加え、
2時間撹拌した。この溶液にフエニルチオ銅(I)
(863mg、5.0mmol)、ヘキサメチルホスホラスト
リアミド(1.63g、10.0mmol)のエーテル(10
ml)溶液を加え、−78℃で1時間撹拌した。この
溶液にdl−4−t−ブチルジメチルオキシ−2−
シクロペンテノン(880mg、4.15mmol)のエー
テル(10ml)溶液を加え、−78℃で15分、−40℃で
1時間撹拌した。クロロギ酸アリル(1.5g、
12.5mmol)のエーテル(5ml)溶液を加え、−
40℃で1時間撹拌を継続した。アンモニア性塩化
アンモニウム水溶液を加え、エーテル抽出し、塩
化アンモニウム水溶液で洗浄後、有機層と硫酸マ
グネシウムで乾燥し、濃縮して4gの粗生成物を
得た。このものをシリカゲルカラムクロマトグラ
フイー(ベンゼン)に付して分離し、(2R,3R,
4R)−および(2S,3S,4S)−2−アリルオキシ
カルボニル−3−((RS)−(E)−3−t−ブチルジ
メチルシリルオキシ−1−オクテニル)−4−t
−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノン
(547mg、1.02mmol、25%)を得た。 NMR(CDCl3、δ(ppm)); 0.08(12H、s)、0.85(21H、s)、1.3(8H、
m)、1.9〜2.7(3H、m)、3.10(1H、m)、3.9〜
4.2(2H、m)、4.60(2H、d、J=5Hz)、5.0
〜5.7(5H、m)。 IR(液膜、cm-1); 3100、1760、1735、1655、1460、1360、1255、
1120、1080、965、935、850、835、770、670。 Mass(20eV;m/e、%); 538(0.1)、523(0.1)、497(0.5)、481(5)、423
(23)、397(9)、383(8)、323(8)、292(8)

282(7)、266(24)、240(19)、239(100)、215
(8)、197(8)、195(7)、147(11)、77(19)

75(14)。 実施例 2 実施例1とほぼ同じ条件で(E)−3(S)−t−ブ
チルジメチルシリルオキシ−1−ヨード−1−オ
クテン(2.02g、5.5mmol;〔α〕21 D30.6゜)と4
(R)−t−ブチルジメチルシリルオキシ−2−シ
クロペンテノン(1.06g、5.0mmol)とをヨウ化
第一銅(1.05g、5.5mmol)とトリブチルホスフ
イン(2.2g、11mmol)の存在下に反応させた
後、クロロギ酸アリル(723mg、6mmol)をさ
らに反応させた。5.63gの粗生成物をカラムクロ
マトグラフイー(ヘキサン:酢酸エチル=19:
1)に対して(2R,3R,4R)−2−アリルオキ
シカルボニル−3−((S)−(E)−3−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−1−オクテニル)−4−
t−ブチルジメチルシリルオキシシクロペンタノ
ン(714mg、1.33mmol、27%)を得た。このも
ののNMR、IR、Massは実施例1で得られたも
のと全く一致した。 実施例 3〜5 実施例1と同様にして次の化合物を合成した。
(2R,3R,4R)−および(2S,3S,4S)−2−ア
リルオキシカルボニル−3−((RS)−(E)−3−t
−ブチルジメチルシリルオキシ−3−シクロヘキ
シル−1−プロペニル)−4−t−ブチルジメチ
ルシリルオキシシクロペンタノン(収率32%;実
施例3)、(2R,3R,4R)−および(2S,3S,
4S)−2−アリルオキシカルボニル−3−((RS)
−(E)−3−ブチルジメチルシリルオキシ−4−シ
クロヘキシル−1−ブテニル)−4−t−ブチル
ジメチルシリルオキシシクロペンタノン(収率29
%;実施例4)、(2R,3R,4R)−2−アリルオ
キシカルボニル−3−((S)−(E)−3−t−ブチ
ルジメチルシリルオキシ−5−メチル−1−ノネ
ニル)−4−t−ブチルジメチルシリルオキシシ
クロペンタノン(収率23%;実施例5)。これら
化合物の特徴的なスペクトルデータを次の表に列
挙する。
【表】 実施例 6 実施例1で得られた(2R,3R,4R)−および
(2S,3S,4S)−2−アリルオキシカルボニル−
3−((RS)−(E)−3−t−ブチルジメチルシリル
オキシ−1−オクテニル)−4−t−ブチルジメ
チルシリルオキシシクロペンタノン(97mg、0.18
mmol)をmlのN,N−ジメチルホルムアミドに
溶かし、テトラキス(トリフエニルホスフイン)
パラジウム(O)(10mg、0.009mmol)を窒素雰
囲気下で加え、室温にて2時間撹拌した。酢酸エ
チルと飽和食塩水を加えて抽出し、得られた有機
層を硫酸マグネシウムで乾燥後濃縮して150mgの
粗生成物を得、これを調製用薄層クロマトグラフ
イー(ヘキサン:酢エチル=10:1)にかけて
(2R,3R,4R)−および(2S,3S,4S)−2−ア
リル−3−((RS)−(E)−3−tブチルジメチルシ
リルオキシ−1−オクテニル)−4−t−ブチル
ジメチルシリルオキシシクロペンタノン(59mg、
0.12mmol、67%)を得た。このものは別途合成
した標品とtlc、NMR、IR、およびMassスペク
トルが完全に一致した。 NMR(CDCl3、δ(ppm)); 0.04(12H、s)、0.86(21H、s)、1.1〜1.5
(8H、m)、1.6〜2.8(6H、m)、3.8〜4.3(2H、
m)、4.75〜4.95(1H、m)、4.95〜5.15(1H、
m)、5.35〜5.60(3H、m)。 IR(液膜、cm-1); 3100、2970、2950、2870、1745、1640、1460、
1360、1255、1110、1000、965、910、875、
835、805、770。 Mass(20eV;m/e); 494(M+)、479、437、379。 実施例 7〜10 実施例6と同様にして実施例2〜5で得られた
化合物からそれぞれ対応する脱炭酸アリル化生成
物である(2R,3R,4R)−2−アリル−3−
((S)−(E)−3−t−ブチルジメチルシリルオキ
シ−1−オクテニル)−4−t−ブチルジメチル
シリルオキシシクロペンタノン(実施例7、収率
71%)、(2R,3R,4R)−および(2S,3S,4S)
−2−アリル−3−((RS)−(E)−3−t−ブチル
ジメチルシリルオキシ−3−シクロヘキシル−1
−プロペニル)−4−t−ブチルジメチルシリル
オキシシクロペンタノン(実施例8、収率69%)、
(2R,3R,4R)−および(2S,3S,4S)−2−ア
リル−3−((RS)−(E)−3−t−ブチルジメチル
シリルオキシ−4−シクロヘキシル−1−ブテニ
ル)−4−t−ブチルジメチルシリルオキシシク
ロペンタノン(実施例9、収率61%)、および
(2R,3R,4R)−2−アリル−3−((S)−(E)−
3−t−ブチルジメチルシリルオキシ−5−メチ
ル−1−ノネニル)−4−t−ブチルジメチルシ
リルオキシシクロペンタノン(実施例10、収率74
%)を得た。これらの生成物は別途合成した標品
と薄層クロマトグラフイー、NMR、IR、および
Massスペクトルがすべて一致した。特徴的なス
ペクトルデーターを次の表に列挙する。
【表】 実施例 11 実施例例1と同様にして、(E)−3(S)−(2−
テトラヒドロピラニル)オキシ−1−ヨード−1
−オクテンと4(R)−(2−テトラヒドンロピラ
ニル)オキシ−2−シクロペンテノンを出発原料
として用いて、(2R,3R,4R)−2−アリルオキ
シカルボニル−3−〔(S)−(E)−3−(2−テトラ
ヒドロピラニル)オキシ−1−オクテニル〕−4
−(2−テトラヒドロピラニル)オキシシクロペ
ンタノンを得た。 収率は、58%であつた。 この化合物のスペクトルデータを以下に示す。 NMR〔CDCl3、δ(ppm)〕; 0.87(3H、t)、1.0〜2.7(23H、m)、3.1(1H、
m)、3.4〜4.2(6H、m)、4.6(4H、m)、5.0〜
5.7(5H、m)。 IR(液膜、cm-1); 3100、1760、1735、1655、1460、1360、1255、
1120、1080、1030、970。 EI−MS(m/e); 478、437、393、376。 実施例 12 実施例6と同様にして実施例11で得られた化合
物から(2R,3R,4R)−2−アリル−3−〔(S)
−(E)−3−(2−テトラヒドロピラニル)オキシ
−1−オクテニル〕−4−(2−テトラヒドロピラ
ニル)オキシシクロペンタノンを収率73%で得
た。 この化合物のスペクトルデータを以下に示す。 NMR(CDCl3、δ(ppm); 0.87(3H、t)、1.0〜2.8(26H、m)、3.4〜4.2
(6H、m)、4.6(2H、m)、5.0〜5.7(5H、m)。 IR(液膜、cm-1); 3100、2970、2950、2870、1745、1640、1460、
1360、1255、1120、1030、1000、970。 EI−MS(m/e); 434、308、332。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 下記式〔〕 〔式中、R1、R2は同一もしくは異なり、水素原
    子、トリ(C1〜C6)炭化水素−シリル基、また
    は水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成
    する基であり、R3はC5〜C8の直鎖もしくは分岐
    のアルキル基、5〜6員の脂環式基、または5〜
    6員の脂環式基が置換したC1〜C2のアルキル基
    を表わす。〕 で表わされる2−アリルオキシカルボニルシクロ
    ペンタノン類、またはその立体異性体あるいはそ
    れら任意の割合の混合物を0価または1価の遷移
    金属錯体と反応せしめることを特徴とする下記式
    〔〕 〔式中、R1、R2、およびR3は前記定義に同じで
    ある。〕 で表わされる2−アリルシクロペンタノン類また
    はその立体異性体あるいはそれら任意の割合の混
    合物の新規製造法。 2 0価または1価の遷移金属錯体がテトラキス
    (トリフエニルホスフイン)パラジウム(0)、テ
    トラキス(トリフエニルホスフイン)ニツケル
    (0)、テトラキス(トリフエニルホスフイン)白
    金(0)、またはトリス(トリフエニルホスフイ
    ン)ロジウム()クロライドであるである特許
    請求の範囲第1項記載の製造法。 3 0価または1価の遷移金属錯体との反応を
    N,N−ジメチルホルムアミド中で実施する特許
    請求の範囲第1項又は第2項に記載の製造法。 4 下記式〔〕 〔式中、R11はトリ(C1〜C6)炭化水素−シリル
    基または水酸基の酸素原子と共にアセタール結合
    を形成する基を表わす。〕 で表わされる4−置換−2−シクロペンテノン類
    またはその鏡像体あるいはそれらの任意の割合の
    混合物を、 下記式〔〕 〔式中、R21はトリ(C1〜C6)炭化水素−シリル
    基または水酸基の酸素原子と共にアセタール結合
    を形成する基を表わし、Yはヨウ素原子、フエニ
    ルチオ基、C1〜C5アルキル置換エチニル基、ま
    たはシアノ基を表わし、R3はC5〜C8の直鎖もし
    くは分岐のアルキル基、5〜6員の脂環式基、ま
    たは5〜6員の脂環式基が置換したC1〜C2のア
    ルキル基を表わす。〕 で表わされる有機銅リチウム化合物またはその鏡
    像体あるいはそれらの任意の割合の混合物と、非
    プロトン性有機溶媒と三価の有機リン化合物の存
    在下に共役付加反応せしめ、次いでクロロギ酸ア
    リルを反応せしめ、場合によつて保護された水酸
    基の脱保護反応に付すことにより、下記式〔〕 〔式中、R1、R2は同一もしくは異なり、水素原
    子、トリ(C1〜C6)炭化水素−シリル基、また
    は水酸基の酸素原子と共にアセタール結合を形成
    する基であり、R3はC5〜C8の直鎖もしくは分岐
    のアルキル基、5〜6員の脂環式基、または5〜
    6員の脂環式基が置換したC1〜C2のアルキル基
    を表わす。〕 で表わされる2−アリルオキシカルボニルシクロ
    ペンタノン類またはその立体異性体あるいはそれ
    ら任意の割合の混合物を製造し、次いで0価また
    は1価の遷移金属錯体と反応せしめることを特徴
    とする、下記式〔〕 〔式中、R1、R2、およびR3は前記定義に同じで
    ある。〕 で表わされる2−アリルシクロペンタノン類また
    はその立体異性体あるいはそれら任意の割合の混
    合物の新規製造法。
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