JPH07129911A - 磁気ヘッドおよびその製造方法 - Google Patents

磁気ヘッドおよびその製造方法

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JPH07129911A
JPH07129911A JP5272769A JP27276993A JPH07129911A JP H07129911 A JPH07129911 A JP H07129911A JP 5272769 A JP5272769 A JP 5272769A JP 27276993 A JP27276993 A JP 27276993A JP H07129911 A JPH07129911 A JP H07129911A
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JP
Japan
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film
magnetic
insulating film
magnetic head
winding groove
Prior art date
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Pending
Application number
JP5272769A
Other languages
English (en)
Inventor
Yasuhiro Nakaya
安広 仲谷
Shunsaku Muraoka
俊作 村岡
Akinaga Natsui
昭長 夏井
Hiroshi Yoda
広 養田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 主磁路が軟磁性合金薄膜と絶縁膜を積層し非
磁性基板で挟み込んだ構造の磁気ヘッドにおいて、巻線
溝部に溶融するガラスが狭ギャップヘッドでは良好な状
態が得られず、また、巻線溝部に形成したCr膜とチッ
プ側面において渦電流損失が生じ高周波特性が劣化する
ので、この問題を解決する磁気ヘッドおよびその製造方
法を実現する。 【構成】 主磁路が軟磁性合金薄膜1と絶縁膜2で構成
され、非磁性基板3で挟み込んだ構造の磁気ヘッドの巻
線溝部4に絶縁膜5(例えばSiO2膜)を成膜し、その上
にギャップ材6を成膜しガラス7を溶融し接合した磁気
ヘッド。または、軟磁性合金薄膜と絶縁膜を積層し、非
磁性基板で挟み込んだ構造の磁気ヘッドにおいて、巻線
溝部に絶縁膜とCr膜を成膜した上にガラスを配し、ギ
ャップ材を成膜し接合された磁気ヘッド。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、VTR(video tape re
corder ),DAT(dynamic addresstranslation)等に使
用する磁気ヘッドおよびその製造方法に関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、磁気記録技術の動向はビデオヘッ
ド等の高周波領域での特性が要求されるに従い、サブミ
クロンの記録波長に十分対応できる磁気ヘッドおよび記
録媒体が要望されている。このような現状の中で磁気ヘ
ッドは、保磁力(Hc)の高い記録媒体(例えば、メタル,
Ba−Feテ−プ)に十分な書き込みを行うため、フェラ
イト等の非金属磁性材料と比べ、より飽和磁束密度(B
s)の高い軟磁性合金薄膜で(例えば、センダスト,非晶
質材料)主磁路を構成した積層型の磁気ヘッドの開発が
行われ、一部は実用化されS−VHS,業務用D−VT
R用などに搭載されている。
【0003】以下、図面を参照しながら従来の磁気ヘッ
ドについて説明する。図6は積層型磁気ヘッドを示す図
であり、軟磁性合金薄膜30と絶縁膜31が積層され非磁性
基板32で挟み込んだ構造であり、一対で磁気ヘッドとな
るコア半体の少なくとも一方に巻線溝33が形成され、ギ
ャップ面は鏡面に研磨された後、ギャップ材34を介して
接合され、ガラス35で接合強度を高めた構造である。ま
た、製造方法は、図7に示すように、軟磁性合金薄膜36
と絶縁膜37が積層され、両側面を非磁性基板38で挟み込
んだコア半体に少なくとも一方に巻線溝39を形成し、ギ
ャップ面を鏡面に研磨した後、ギャップ材40を介して突
き合わせ接合し、同時にガラス41を巻線溝部で溶融す
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
従来の構成,製造方法では、ギャップ長が狭い積層型の
磁気ヘッドでは(業務用D−VTRでは0.2μm)、ガラス
溶融面がセラミックと金属膜で構成されているため、巻
線溝で溶融するガラスの溶融の仕方にムラが生じ、ヘッ
ドチップにしたとき、ガラスがなく強度不足のものや、
ダンゴ状になって巻線のスペ−スが確保できないなどの
課題があった。本発明は上記の従来の問題点を解決する
もので、信頼性の高い磁気ヘッドおよびその製造方法を
提供することを目的とするものである。
【0005】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明の磁気ヘッドは、ギャップ形成時にガラスモ
−ルドするときは、巻線溝部に下地の軟磁性合金薄膜の
影響がガラスの濡れに影響が出ない程度絶縁膜を形成す
る。また、ギャップ接合前にガラスをモ−ルドする方法
として、巻線溝部に絶縁膜とCr膜を成膜してガラスを
溶融させ、後で巻線スペ−スを研削などで除去して確保
し、ギャップ材を介して接合を行うものである。
【0006】
【作用】この構成,製造方法によって、ガラスが下地の
影響を受けずに溶融させることができ、また、ギャップ
形成前にガラスをモ−ルドするものは、巻線溝部に絶縁
膜とCr膜とを成膜することによって、双方ともガラス
の濡れ性が良くなり、巻線溝に良好な状態でモ−ルドで
きるようになるため、接着強度に優れ、また、コアの側
面の積層膜が短絡しないので、渦電流による損失が生じ
ることもなく、高周波特性に優れた磁気ヘッドが得られ
る。
【0007】
【実施例】以下、本発明の第1の実施例の磁気ヘッドに
ついて図1を参照しながら説明する。図1において、軟
磁性合金薄膜1と絶縁膜2が積層され非磁性基板3で挟
み込んだ構造の一対のコア半体の少なくとも一方に、巻
線溝4を形成した溝部に絶縁膜5を成膜しギャップ材6
を介して突き合わせガラス7を溶融し接合したものであ
る。
【0008】次に、本発明の第2の実施例について図2
を参照しながら説明する。図2(a)は軟磁性合金薄膜8
と絶縁膜9が積層され、非磁性基板10で挟み込んだコア
半体に巻線溝11を形成した後、絶縁膜(SiO2など)12を
成膜したものである。また、図2(b)はギャップ突き合
わせ面を鏡面に研磨した後ギャップ材13を成膜したコア
半体である。さらに、図2(c)は一対のコア半体のギャ
ップ面を突き合わせ、ガラス14を溶融し接合したコアブ
ロックである。
【0009】次に、本発明の第3の実施例の磁気ヘッド
について図3を参照しながら説明する。図3において、
軟磁性合金薄膜15と絶縁膜16が積層され、非磁性基板17
で挟み込んだ構造の一対のコア半体の少なくとも一方
に、巻線溝18を形成した溝部に絶縁膜19とCr膜20を成
膜し、溝部にガラス21を配し、ギャップ材22を介して接
合したものである。
【0010】次に、本発明の第4の実施例について図4
を参照しながら説明する。図4(a)は第2の実施例と同
様の構成のコア半体の巻線溝23を含むギャップ面に絶縁
膜(SiO2など)24とCr膜25を成膜した後、ガラス26を
溶融したものである。また、図4(b)はギャップ面を研
磨し巻線スペ−ス27を研削加工などにより確保したもの
である。また、図4(c)はギャップ材28を成膜したコア
半体である。さらに、図4(d)はギャップ面を突き合わ
せ、ガラス29を溶融させギャップ接合したコアブロック
である。
【0011】図5は上記の発明の磁気特性に関する効果
を示す一例であり、ヘッドの透磁率が従来例では1MHz
付近で急激に低下しているが、本発明のものは、高周波
領域まで高い値を示している。また、ヘッド出力では30
MHzで2〜3dBの差があった。
【0012】
【発明の効果】以上のように本発明は、ギャップ形成時
にガラスをモ−ルドするときは、巻線溝部に下地の軟磁
性合金薄膜の影響がガラスの濡れに影響が出ない程度に
絶縁膜を形成し、また、ギャップ接合前にガラスをモ−
ルドするものは、巻線溝部に絶縁膜とCr膜を成膜した
後に溶融させることによって、双方ともガラスの濡れ性
が良くなり、巻線溝に良好な状態でモ−ルドできるよう
になるため接着強度に優れ、しかも積層膜の短絡がない
ので渦電流による損失が生じることもなく、高周波特性
に優れた磁気ヘッドが得られるという効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第1の実施例におけるヘッドコアの外
観図である。
【図2】本発明の第2の実施例における下地膜成膜後,
ギャップ膜成膜時およびギャップ接合時のヘッドコア等
の外観図である。
【図3】本発明の第3の実施例におけるヘッドコアの外
観図である。
【図4】本発明の第4の実施例におけるガラスのモ−ル
ド後,巻線スペ−スを加工した後,ギャップ膜成膜時の
ヘッドコアおよびギャップ接合時のヘッドコア等の外観
図である。
【図5】本発明の磁気特性に関する効果を示す図であ
る。
【図6】従来の磁気ヘッドの外観形状図である。
【図7】従来の磁気ヘッドのギャップ膜成膜時およびギ
ャップ形成前の外観図である。
【符号の説明】
1,8,15,30,36…軟磁性合金薄膜、 2,5,9,
12,16,19,24,31,37…絶縁膜、 3,10,17,32,
38…非磁性基板、 4、11、18、23、33、39…巻線溝、
6,13,22,28,34,40…ギャップ材、 7,14,2
1,26,29,35,41…ガラス、 20,25…Cr膜。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 養田 広 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 主磁路が軟磁性合金薄膜と絶縁膜で構成
    され、両側面を非磁性基板で挟み込んだ構造の積層型磁
    気ヘッドにおいて、少なくとも一方に形成した巻線溝部
    に絶縁膜を成膜し、ギャップ材を介して突き合わせ接合
    された構造を備えたことを特徴とする磁気ヘッド。
  2. 【請求項2】 主磁路が軟磁性合金薄膜と絶縁膜で構成
    され、両側面を非磁性基板で挟み込んだ構造の積層型磁
    気ヘッドにおいて、少なくとも一方に形成した巻線溝部
    に絶縁膜を成膜する工程と、ギャップ面を研磨し鏡面に
    加工する工程と、ギャップ材を介して突き合わせ接合す
    る工程とを有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方
    法。
  3. 【請求項3】 主磁路が軟磁性合金薄膜と絶縁膜で構成
    され、両側面を非磁性基板で挟み込んだ構造の積層型磁
    気ヘッドにおいて、少なくとも一方に形成した巻線溝部
    に絶縁膜とCr膜を成膜した上にガラスを配し、ギャッ
    プ材を介して突き合わされ接合された構造を備えたこと
    を特徴とする磁気ヘッド。
  4. 【請求項4】 主磁路が軟磁性合金薄膜と絶縁膜で構成
    され、両側面を非磁性基板で挟み込んだ構造の積層型磁
    気ヘッドにおいて、少なくとも一方に形成した巻線溝部
    に絶縁膜とCr膜を成膜する工程と、巻線溝部にガラス
    をモ−ルドする工程と、巻線スペ−スを研削などで確保
    する工程と、ギャップ面を研磨し鏡面に加工する工程
    と、ギャップ材を介して突き合わせ接合する工程とを有
    することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
JP5272769A 1993-10-29 1993-10-29 磁気ヘッドおよびその製造方法 Pending JPH07129911A (ja)

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