JPH07153015A - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH07153015A JPH07153015A JP32615093A JP32615093A JPH07153015A JP H07153015 A JPH07153015 A JP H07153015A JP 32615093 A JP32615093 A JP 32615093A JP 32615093 A JP32615093 A JP 32615093A JP H07153015 A JPH07153015 A JP H07153015A
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- groove
- magnetic head
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 コア半体の機械的強度及び磁束のギャップへ
の集中効果を高めて効率の良い高性能な磁気ヘッドの提
供を目的とする。 【構成】 巻線溝の形成されない磁気コア半体2側にお
ける巻線溝9の頂部に対応する位置近傍領域9aを非磁
性にし、磁気ギャップから磁気テープの摺動方向での磁
気コアの厚みが 600μm以下で有効である。
の集中効果を高めて効率の良い高性能な磁気ヘッドの提
供を目的とする。 【構成】 巻線溝の形成されない磁気コア半体2側にお
ける巻線溝9の頂部に対応する位置近傍領域9aを非磁
性にし、磁気ギャップから磁気テープの摺動方向での磁
気コアの厚みが 600μm以下で有効である。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、記憶媒体への情報信号
を磁気記録したり、記憶媒体に記録された磁気記録を情
報信号として再生する磁気ヘッドに関し、特に、VTR
やデータストレージ等の高度な性能が要求される磁気記
録再生装置に用いて好適な磁気ヘッドに関するものであ
る。
を磁気記録したり、記憶媒体に記録された磁気記録を情
報信号として再生する磁気ヘッドに関し、特に、VTR
やデータストレージ等の高度な性能が要求される磁気記
録再生装置に用いて好適な磁気ヘッドに関するものであ
る。
【0002】
【従来の技術】近年、ビデオテープレコーダやコンピュ
ータの周辺機器として使用されるデータ保存装置の高性
能化に伴ってこれらの装置に使用される磁気ヘッドの高
性能化や特殊な形状化が必要とされてきている。
ータの周辺機器として使用されるデータ保存装置の高性
能化に伴ってこれらの装置に使用される磁気ヘッドの高
性能化や特殊な形状化が必要とされてきている。
【0003】上述したような磁気ヘッドは、具体的に前
記ビデオテープレコーダにおける特殊再生を行う上で必
要とされ、また、データ保存装置では書込み記録データ
のベリファイを行うための再生あるいは転送レートを向
上させるため同時に多数のヘッドを動作させる等の用途
に用いられる。これらの目的を実現するため磁気ヘッド
を多数使用する磁気記録システムが一般化されてきてい
る。
記ビデオテープレコーダにおける特殊再生を行う上で必
要とされ、また、データ保存装置では書込み記録データ
のベリファイを行うための再生あるいは転送レートを向
上させるため同時に多数のヘッドを動作させる等の用途
に用いられる。これらの目的を実現するため磁気ヘッド
を多数使用する磁気記録システムが一般化されてきてい
る。
【0004】このような磁気記録システムの一つとして
は、例えば図16に示すように2個の磁気ヘッド21、
22が所定のギャップ間隔G、ずれ等を保ち規定の位置
関係になるように組合せて一つの摺動面を構成した組合
せ磁気ヘッドが実用化されている。
は、例えば図16に示すように2個の磁気ヘッド21、
22が所定のギャップ間隔G、ずれ等を保ち規定の位置
関係になるように組合せて一つの摺動面を構成した組合
せ磁気ヘッドが実用化されている。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述したよ
うな組合せ磁気ヘッドにおいては、各磁気ヘッドのギャ
ップ間隔をなるべく小さくする必要があり、例えば記録
テープ上の記録ピッチ幅の数倍から数十倍程度に抑えな
ければならない。このため、実用的なギャップ間隔の規
定値として 400μmから1500μm程度に規定される場合
が多い。この規定によって図17に示すように、磁気ヘ
ッド21の隣接するコア半体21aの厚さは、テープの
摺動方向で100〜600μm程度に薄くしなければならな
い。
うな組合せ磁気ヘッドにおいては、各磁気ヘッドのギャ
ップ間隔をなるべく小さくする必要があり、例えば記録
テープ上の記録ピッチ幅の数倍から数十倍程度に抑えな
ければならない。このため、実用的なギャップ間隔の規
定値として 400μmから1500μm程度に規定される場合
が多い。この規定によって図17に示すように、磁気ヘ
ッド21の隣接するコア半体21aの厚さは、テープの
摺動方向で100〜600μm程度に薄くしなければならな
い。
【0006】このように薄い厚さしか有しないコア半体
21aに対して巻線溝21bを形成すると、加工中にこ
の巻線溝21bの部分への応力集中が起こる。また、コ
アの厚さが従来の厚さより一層薄くなるため、コア半体
21aは、加工中の応力集中によってこの巻線溝21b
で破損してしまう。
21aに対して巻線溝21bを形成すると、加工中にこ
の巻線溝21bの部分への応力集中が起こる。また、コ
アの厚さが従来の厚さより一層薄くなるため、コア半体
21aは、加工中の応力集中によってこの巻線溝21b
で破損してしまう。
【0007】しかしながら、磁気ヘッドは、巻線溝21
bを有していない場合に比べて巻線溝21bを有してい
る場合の方がギャップへの磁束の集中効果を高めること
ができるので、出力効率を向上させることができる。こ
れに対して、同じコアの材質を用いて、巻線溝をなくし
ても十分な磁束量の確保を可能にした場合、コア半体は
厚くしなければならなくなる。これによって、コア半体
は体積が増えるため磁気ヘッドのインダクタンスが増加
する。磁気ヘッドの出力は、インダクタンスの値で規格
化して表すと、インダクタンスの増加によって低下し、
出力効率の低下を招いてしまう。
bを有していない場合に比べて巻線溝21bを有してい
る場合の方がギャップへの磁束の集中効果を高めること
ができるので、出力効率を向上させることができる。こ
れに対して、同じコアの材質を用いて、巻線溝をなくし
ても十分な磁束量の確保を可能にした場合、コア半体は
厚くしなければならなくなる。これによって、コア半体
は体積が増えるため磁気ヘッドのインダクタンスが増加
する。磁気ヘッドの出力は、インダクタンスの値で規格
化して表すと、インダクタンスの増加によって低下し、
出力効率の低下を招いてしまう。
【0008】磁気ヘッドの出力効率を向上させるため対
策としては、例えば図18に示すように、深さd=30〜
90μm程度のくさび型断面を有する切欠溝21cを形成
することが考えられる。この切欠溝21cは、磁束の流
れない部分に相当している。この部分を除去することに
よってインダクタンスの減少を図ることができるように
なる。しかしながら、この切削加工を行うと、この加工
によるこの部分の機械的強度が一層低下する。このた
め、磁気ヘッドの加工時に切欠溝21cへの応力集中に
よる破損が生じて磁気ヘッドの歩留まりがさらに低下し
てしまう。
策としては、例えば図18に示すように、深さd=30〜
90μm程度のくさび型断面を有する切欠溝21cを形成
することが考えられる。この切欠溝21cは、磁束の流
れない部分に相当している。この部分を除去することに
よってインダクタンスの減少を図ることができるように
なる。しかしながら、この切削加工を行うと、この加工
によるこの部分の機械的強度が一層低下する。このた
め、磁気ヘッドの加工時に切欠溝21cへの応力集中に
よる破損が生じて磁気ヘッドの歩留まりがさらに低下し
てしまう。
【0009】そこで、本発明は、上述したような実情に
鑑みてなされたものであり、コア半体の機械的強度及び
磁束のギャップへの集中効果を高めて効率の良い高性能
な磁気ヘッドの提供を目的とする。
鑑みてなされたものであり、コア半体の機械的強度及び
磁束のギャップへの集中効果を高めて効率の良い高性能
な磁気ヘッドの提供を目的とする。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明に係る磁気ヘッド
は、上述した課題を解決するため、酸化物軟磁性体及び
/又は金属軟磁性体からなる磁気コア半体を磁気ギャッ
プを介して接合し、その片側の磁気コア半体にのみ巻線
溝が形成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記巻線溝の
形成されない磁気コア半体側における巻線溝の頂部に対
応する位置近傍領域が非磁性となるように形成されたこ
とを特徴としている。
は、上述した課題を解決するため、酸化物軟磁性体及び
/又は金属軟磁性体からなる磁気コア半体を磁気ギャッ
プを介して接合し、その片側の磁気コア半体にのみ巻線
溝が形成されてなる磁気ヘッドにおいて、上記巻線溝の
形成されない磁気コア半体側における巻線溝の頂部に対
応する位置近傍領域が非磁性となるように形成されたこ
とを特徴としている。
【0011】上述したよう磁気コア半体を磁気ギャップ
を介して接合し、その片側の磁気コア半体にのみ巻線溝
が形成されているために、磁気コアの厚さを薄くするこ
とが必要とされる。コアの厚さを薄くし、巻線溝の形成
による機械的強度の著しい低下が起こる。そこで、本発
明においては、巻線溝の頂部に対応する位置近傍領域に
例えば熱的、化学的作用等による非磁性処理を行った
り、他の非磁性材料の基板を埋め込んでいる。
を介して接合し、その片側の磁気コア半体にのみ巻線溝
が形成されているために、磁気コアの厚さを薄くするこ
とが必要とされる。コアの厚さを薄くし、巻線溝の形成
による機械的強度の著しい低下が起こる。そこで、本発
明においては、巻線溝の頂部に対応する位置近傍領域に
例えば熱的、化学的作用等による非磁性処理を行った
り、他の非磁性材料の基板を埋め込んでいる。
【0012】ここで、具体的な例として、熱的な作用に
よる非磁性処理は、還元的な雰囲気内で行い、化学的作
用による非磁性処理としては、イオンビームの打ち込み
を行うイオン注入法を用いて行う。
よる非磁性処理は、還元的な雰囲気内で行い、化学的作
用による非磁性処理としては、イオンビームの打ち込み
を行うイオン注入法を用いて行う。
【0013】また、上記巻線溝の形成されない側のコア
半体における磁気テープの摺動方向での磁気コアの厚み
は、 600μm以下である磁気ヘッドに用いて有意義な効
果を発揮する。
半体における磁気テープの摺動方向での磁気コアの厚み
は、 600μm以下である磁気ヘッドに用いて有意義な効
果を発揮する。
【0014】この磁性コア半体の材質としては、酸化物
軟磁性体である例えば Mn-Znフェライト、 Ni-Znフェラ
イトあるいはこれらの添加物を混合したもの等で構成さ
れる。この酸化物軟磁性体の結晶構造は、単一の結晶か
ら構成される単結晶基板を用いてもよいし、数十μmの
粒径の結晶から構成される多結晶を用いてもよい。さら
に、酸化物軟磁性体は、単結晶と多結晶の接合体により
構成され、ヘッド形成時に摺動面のギャップ近傍が少な
くとも単結晶であるようになっている多結晶−単結晶の
接合基板を用いてもよい。
軟磁性体である例えば Mn-Znフェライト、 Ni-Znフェラ
イトあるいはこれらの添加物を混合したもの等で構成さ
れる。この酸化物軟磁性体の結晶構造は、単一の結晶か
ら構成される単結晶基板を用いてもよいし、数十μmの
粒径の結晶から構成される多結晶を用いてもよい。さら
に、酸化物軟磁性体は、単結晶と多結晶の接合体により
構成され、ヘッド形成時に摺動面のギャップ近傍が少な
くとも単結晶であるようになっている多結晶−単結晶の
接合基板を用いてもよい。
【0015】また、磁気ヘッドは、磁気コア半体に対し
て非磁性部を形成したギャップと並行に軟磁性金属を成
膜したメタル・イン・ギャップヘッドや磁気コア半体に
対し非磁性部を形成し、軟磁性金属膜を非磁性あるいは
磁性材料で狭持した構造を有するものに適用することも
可能である。このとき使用する軟磁性金属としては、例
えばFe-Si-Al系の合金、Fe-Al系の合金、Fe-Si-Co系の
合金、Fe-Al系の合金、Fe-Al-Ge系の合金、Fe-Ga-Ge系
の合金、Fe-Si-Ge系の合金、Fe-CoーSi-Al系の合金等の
金属材料や強磁性非結晶金属合金、いわゆるアモルファ
ス合金(例えばFe,Ni,Coの一つ以上の元素とP,C,B,Siの
一つ以上の元素とからなる合金またはこれを主成分とし
Al,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合
金等のメタル−メタロイド系アモルファス合金、あるい
はCo,Hf,Zr等の遷移元素や希土類元素等を主成分とする
メタル−メタルアモルファス合金)等を使用する。
て非磁性部を形成したギャップと並行に軟磁性金属を成
膜したメタル・イン・ギャップヘッドや磁気コア半体に
対し非磁性部を形成し、軟磁性金属膜を非磁性あるいは
磁性材料で狭持した構造を有するものに適用することも
可能である。このとき使用する軟磁性金属としては、例
えばFe-Si-Al系の合金、Fe-Al系の合金、Fe-Si-Co系の
合金、Fe-Al系の合金、Fe-Al-Ge系の合金、Fe-Ga-Ge系
の合金、Fe-Si-Ge系の合金、Fe-CoーSi-Al系の合金等の
金属材料や強磁性非結晶金属合金、いわゆるアモルファ
ス合金(例えばFe,Ni,Coの一つ以上の元素とP,C,B,Siの
一つ以上の元素とからなる合金またはこれを主成分とし
Al,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合
金等のメタル−メタロイド系アモルファス合金、あるい
はCo,Hf,Zr等の遷移元素や希土類元素等を主成分とする
メタル−メタルアモルファス合金)等を使用する。
【0016】なお、磁気ヘッドにおけるコアブロックに
おける磁気的ギャップにはアジマス角が得られるように
切断してもよい。
おける磁気的ギャップにはアジマス角が得られるように
切断してもよい。
【0017】
【作用】本発明に係る磁気ヘッドでは、例えば2つの磁
気ヘッドを組み合わせて配置する磁気ヘッドにおいて、
これら磁気ヘッドのギャップ間隔を所定の範囲内に収め
るためには、互いに隣接する磁気コアの厚さを薄くする
ことが必要であり、機械的強度等の点からこの厚さの薄
い磁気コアに巻線溝を形成することは難しい。本発明に
おいては、巻線溝を形成する代わりに磁気コアの巻線溝
頂部に対応する位置近傍領域を非磁性としているので、
磁気コアの厚さが薄くても機械的強度が確保され、しか
も磁束が磁気ギャップへ集中される。
気ヘッドを組み合わせて配置する磁気ヘッドにおいて、
これら磁気ヘッドのギャップ間隔を所定の範囲内に収め
るためには、互いに隣接する磁気コアの厚さを薄くする
ことが必要であり、機械的強度等の点からこの厚さの薄
い磁気コアに巻線溝を形成することは難しい。本発明に
おいては、巻線溝を形成する代わりに磁気コアの巻線溝
頂部に対応する位置近傍領域を非磁性としているので、
磁気コアの厚さが薄くても機械的強度が確保され、しか
も磁束が磁気ギャップへ集中される。
【0018】
【実施例】以下、本発明に係る磁気ヘッドの実施例につ
いて、図面を参照しながら説明する。
いて、図面を参照しながら説明する。
【0019】本発明の磁気ヘッドは、例えば2つの磁気
ヘッドを組み合わせて配置する磁気ヘッドに適用され、
これら磁気ヘッドのギャップ間隔を所定の範囲内に収め
るためには、互いに隣接する磁気コアの厚さを薄くする
ことが必要とされる。具体的に、この磁気ヘッドは、V
TRやデータストレージ等の高度な性能が要求される磁
気記録再生装置等に用いられる。
ヘッドを組み合わせて配置する磁気ヘッドに適用され、
これら磁気ヘッドのギャップ間隔を所定の範囲内に収め
るためには、互いに隣接する磁気コアの厚さを薄くする
ことが必要とされる。具体的に、この磁気ヘッドは、V
TRやデータストレージ等の高度な性能が要求される磁
気記録再生装置等に用いられる。
【0020】この磁気ヘッドは、例えば図1に示すよう
に酸化物軟磁性体及び/又は金属軟磁性体からなる磁気
コア半体1、2を磁気ギャップを介して接合している。
ここで、磁性コア半体の材質は、酸化物軟磁性体である
例えば Mn-Znフェライト、 Ni-Znフェライトあるいはこ
れらの添加物を混合したもの等で構成される。この酸化
物軟磁性体の結晶構造は、単一の結晶から構成される単
結晶基板を用いてもよいし、数十μmの粒径の結晶から
構成される多結晶を用いてもよい。さらに、酸化物軟磁
性体は、単結晶と多結晶の接合体により構成され、ヘッ
ド形成時に摺動面のギャップ近傍が少なくとも単結晶で
あるようになっている多結晶−単結晶の接合基板を用い
てもよい。
に酸化物軟磁性体及び/又は金属軟磁性体からなる磁気
コア半体1、2を磁気ギャップを介して接合している。
ここで、磁性コア半体の材質は、酸化物軟磁性体である
例えば Mn-Znフェライト、 Ni-Znフェライトあるいはこ
れらの添加物を混合したもの等で構成される。この酸化
物軟磁性体の結晶構造は、単一の結晶から構成される単
結晶基板を用いてもよいし、数十μmの粒径の結晶から
構成される多結晶を用いてもよい。さらに、酸化物軟磁
性体は、単結晶と多結晶の接合体により構成され、ヘッ
ド形成時に摺動面のギャップ近傍が少なくとも単結晶で
あるようになっている多結晶−単結晶の接合基板を用い
てもよい。
【0021】磁気コアの厚さを薄くしているため、磁気
ヘッドには巻線溝9の形成による機械的強度の著しい低
下が起こる。
ヘッドには巻線溝9の形成による機械的強度の著しい低
下が起こる。
【0022】この磁気コア半体1、2は、片側の磁気コ
ア半体側にのみ巻線溝9を形成する構成によって磁気コ
ア半体2の厚さが薄くされ、このようなコアの厚さを薄
くすることによる機械的強度の低下を防止するため、こ
れらの磁気コア半体を接合する際に融着ガラス11を使
用する。融着ガラス11は、後述するトラック幅規制溝
3、4、5、6に溶融充填されている。また、この磁気
コア半体1には、巻線を巻回させるための巻線溝9が穿
設形成されている。磁気コア半体1における巻線溝9が
形成された位置の反対側には、巻線を巻回する際に巻回
しやすくするため巻線ガイド溝7が形成され、磁気コア
半体2においても磁気コア1と同様に巻線ガイド溝8が
形成されている。このような構成によって磁気ヘッドが
構成されている。
ア半体側にのみ巻線溝9を形成する構成によって磁気コ
ア半体2の厚さが薄くされ、このようなコアの厚さを薄
くすることによる機械的強度の低下を防止するため、こ
れらの磁気コア半体を接合する際に融着ガラス11を使
用する。融着ガラス11は、後述するトラック幅規制溝
3、4、5、6に溶融充填されている。また、この磁気
コア半体1には、巻線を巻回させるための巻線溝9が穿
設形成されている。磁気コア半体1における巻線溝9が
形成された位置の反対側には、巻線を巻回する際に巻回
しやすくするため巻線ガイド溝7が形成され、磁気コア
半体2においても磁気コア1と同様に巻線ガイド溝8が
形成されている。このような構成によって磁気ヘッドが
構成されている。
【0023】また、この磁気ヘッドは、厚さを薄くする
ことにより機械的強度の低下を招くだけでなく、磁束が
ギャップへの集中が行われなくなってしまう。この原因
は、巻線溝9の頂部に対応する位置近傍領域9a近傍の
磁気コア半体1、2間の距離が厚さを薄くすることによ
って極めて短くなる。このため、ギャップ部分に磁束が
向かわないように磁路が形成され磁束の漏れが生じてし
まう。この問題も上記頂部に対応する位置近傍領域9a
を含む領域を非磁性の融着ガラス11で構成することに
よって、磁界の漏れを遮断してギャップに磁束が集中す
るようにしている。
ことにより機械的強度の低下を招くだけでなく、磁束が
ギャップへの集中が行われなくなってしまう。この原因
は、巻線溝9の頂部に対応する位置近傍領域9a近傍の
磁気コア半体1、2間の距離が厚さを薄くすることによ
って極めて短くなる。このため、ギャップ部分に磁束が
向かわないように磁路が形成され磁束の漏れが生じてし
まう。この問題も上記頂部に対応する位置近傍領域9a
を含む領域を非磁性の融着ガラス11で構成することに
よって、磁界の漏れを遮断してギャップに磁束が集中す
るようにしている。
【0024】このように非磁性の材料を埋め込んで構成
することにより、磁気ヘッドを形成する磁気コアの厚さ
を薄くする必要性によって生じる機械的強度を維持しな
がら、磁気ヘッドにおける記録再生効率を向上させるこ
とができる。また、機械的強度を維持できるので、製作
加工時の破損を回避して歩留まりを向上させることがで
きる。
することにより、磁気ヘッドを形成する磁気コアの厚さ
を薄くする必要性によって生じる機械的強度を維持しな
がら、磁気ヘッドにおける記録再生効率を向上させるこ
とができる。また、機械的強度を維持できるので、製作
加工時の破損を回避して歩留まりを向上させることがで
きる。
【0025】次に、この磁気ヘッドの製造方法について
図2〜図11を参照しながら説明する。この製造方法
は、巻線溝9の形成されない側における巻線溝9の頂部
に対応する位置近傍領域9aが非磁性となるように形成
する方法である。この方法を用いると一度に複数の磁気
ヘッドを製造することができる。製造の手順を以下順次
説明する。磁気ヘッドの製造において、先ず、例えば図
2に示すような平板状の基体を成す酸化物軟磁性体12
を準備する。この酸化物軟磁性体12は、前述した材質
のフェライト等で構成されている。後段で詳述するよう
に、この酸化物軟磁性体12に対向するコア材の基体に
なる酸化物軟磁性体13を用意する。この酸化物軟磁性
体13は、磁気ヘッドを形成する際、薄い側の磁性コア
半体2となる部分である。
図2〜図11を参照しながら説明する。この製造方法
は、巻線溝9の形成されない側における巻線溝9の頂部
に対応する位置近傍領域9aが非磁性となるように形成
する方法である。この方法を用いると一度に複数の磁気
ヘッドを製造することができる。製造の手順を以下順次
説明する。磁気ヘッドの製造において、先ず、例えば図
2に示すような平板状の基体を成す酸化物軟磁性体12
を準備する。この酸化物軟磁性体12は、前述した材質
のフェライト等で構成されている。後段で詳述するよう
に、この酸化物軟磁性体12に対向するコア材の基体に
なる酸化物軟磁性体13を用意する。この酸化物軟磁性
体13は、磁気ヘッドを形成する際、薄い側の磁性コア
半体2となる部分である。
【0026】次に、酸化物軟磁性体12の主面12A側
に所定の深さにトラック幅規制溝14をこの主面12A
上に一定方向に形成し、主面12Aに規定のトラック幅
Twを有する断面が残る形状に加工する(図3を参
照)。実際に、このトラック幅規制溝14は、略々断面
形状がU字状を成し、主面12Aとのなす角は下限と上
限をそれぞれ 3゜〜60゜にし、好ましくは 8゜〜45゜で
ある。このようにトラック幅規制溝14を形成すること
により、ギャップ面への磁束の集中効果を得ることがで
き、記録媒体上で隣接するトラックの信号をトラック幅
規制溝14内の端面で再生して発生する、いわゆるクロ
ストークを抑えることができる。本実施例では、トラッ
ク幅Twが15μm、トラック幅規制溝14の角度は30゜
に設定している。
に所定の深さにトラック幅規制溝14をこの主面12A
上に一定方向に形成し、主面12Aに規定のトラック幅
Twを有する断面が残る形状に加工する(図3を参
照)。実際に、このトラック幅規制溝14は、略々断面
形状がU字状を成し、主面12Aとのなす角は下限と上
限をそれぞれ 3゜〜60゜にし、好ましくは 8゜〜45゜で
ある。このようにトラック幅規制溝14を形成すること
により、ギャップ面への磁束の集中効果を得ることがで
き、記録媒体上で隣接するトラックの信号をトラック幅
規制溝14内の端面で再生して発生する、いわゆるクロ
ストークを抑えることができる。本実施例では、トラッ
ク幅Twが15μm、トラック幅規制溝14の角度は30゜
に設定している。
【0027】次に、図4に示すように、主面12Aに形
成したトラック幅規制溝14に対して垂直方向に巻線を
巻回するための巻線溝15が形成される。上述した処理
を酸化物軟磁性体13に対しても行う。この処理によっ
て酸化物軟磁性体12に形成したと同じトラック幅規制
溝16を形成する。
成したトラック幅規制溝14に対して垂直方向に巻線を
巻回するための巻線溝15が形成される。上述した処理
を酸化物軟磁性体13に対しても行う。この処理によっ
て酸化物軟磁性体12に形成したと同じトラック幅規制
溝16を形成する。
【0028】ところで、トラック幅規制溝16を形成す
る前に、酸化物軟磁性体12のフロントギャップのデプ
スゼロの位置近傍に対峙する部分、すなわち前述した位
置近傍領域9aを非磁性にするため、酸化物軟磁性体1
3は、例えば図5に示すように主面13A側に溝13B
を酸化物軟磁性体12の巻線溝15の対応する位置に形
成する。この溝13Bは、断面の形状がくさび型形状に
する。本実施例では、断面形状の深さD=65μm、主面
からの斜面角度40゜が最終形状として切り出した際に磁
気コアが残る形状にしている。この位置近傍領域9aを
非磁性にするため、後述する磁性コア半体の接合に使用
するガラス融着処理を行う際の作業温度でほとんど軟化
しないガラス部材13Cが、図6に示すように上記溝1
3Bに溶融されて充填される。
る前に、酸化物軟磁性体12のフロントギャップのデプ
スゼロの位置近傍に対峙する部分、すなわち前述した位
置近傍領域9aを非磁性にするため、酸化物軟磁性体1
3は、例えば図5に示すように主面13A側に溝13B
を酸化物軟磁性体12の巻線溝15の対応する位置に形
成する。この溝13Bは、断面の形状がくさび型形状に
する。本実施例では、断面形状の深さD=65μm、主面
からの斜面角度40゜が最終形状として切り出した際に磁
気コアが残る形状にしている。この位置近傍領域9aを
非磁性にするため、後述する磁性コア半体の接合に使用
するガラス融着処理を行う際の作業温度でほとんど軟化
しないガラス部材13Cが、図6に示すように上記溝1
3Bに溶融されて充填される。
【0029】このガラス部材13Cを溝13Bに溶融充
填した後に、図7に示すように、トラック幅規制溝16
が主面13Aを穿設してU字状の溝が形成される。この
ように加工された後に主面13Aの表面が平面に加工さ
れる。このように構成して図1における磁気コア半体2
側の基体が形成される。本実施例では、この磁気コアの
厚さが 150μmになるように形成する。切欠部である溝
13Bの深さDを65μmと磁気コアの厚さを 150μmに
する関係にあれば、この位置近傍領域9aが磁束に対す
る抵抗にならないことが確かめられている。このように
して酸化物軟磁性体13は、磁気ヘッドを形成する際、
薄い側の磁性コア半体2の基体となる。
填した後に、図7に示すように、トラック幅規制溝16
が主面13Aを穿設してU字状の溝が形成される。この
ように加工された後に主面13Aの表面が平面に加工さ
れる。このように構成して図1における磁気コア半体2
側の基体が形成される。本実施例では、この磁気コアの
厚さが 150μmになるように形成する。切欠部である溝
13Bの深さDを65μmと磁気コアの厚さを 150μmに
する関係にあれば、この位置近傍領域9aが磁束に対す
る抵抗にならないことが確かめられている。このように
して酸化物軟磁性体13は、磁気ヘッドを形成する際、
薄い側の磁性コア半体2の基体となる。
【0030】このようにして処理した酸化物軟磁性体1
2は、酸化物軟磁性体12の主面12Aと酸化物軟磁性
体13の主面13Aを磁気的ギャップとなる非磁性膜を
挟んで対向する部分を向い合わせ、融着ガラス等の非磁
性材を用いてトラック幅規制溝内に充填接着させて、図
8に示すようなコアブロック17を形成する。
2は、酸化物軟磁性体12の主面12Aと酸化物軟磁性
体13の主面13Aを磁気的ギャップとなる非磁性膜を
挟んで対向する部分を向い合わせ、融着ガラス等の非磁
性材を用いてトラック幅規制溝内に充填接着させて、図
8に示すようなコアブロック17を形成する。
【0031】この後、コアブロック17は、酸化物軟磁
性体13からなる主面13Aに対する裏面13D側の研
削が行われる。この研削処理は、一般的に規定の位置関
係を示すギャップ間隔を記録テープ上の記録ピッチ幅の
数倍から数十倍程度にするため用途に応じた値になるま
で行わなければならない。このギャップ間隔を実現させ
た状態が図9に示されている。
性体13からなる主面13Aに対する裏面13D側の研
削が行われる。この研削処理は、一般的に規定の位置関
係を示すギャップ間隔を記録テープ上の記録ピッチ幅の
数倍から数十倍程度にするため用途に応じた値になるま
で行わなければならない。このギャップ間隔を実現させ
た状態が図9に示されている。
【0032】次に、図10に示すように酸化物軟磁性体
13の裏面13D側と酸化物軟磁性体12の裏面12B
にそれぞれ対向する位置に所定の幅及び深さからなる巻
線ガイド溝17A、17Bを穿設形成する。このように
形成されたコアブロック17は、図10に示すようにト
ラック幅規制溝15、16の形成した方向と平行な方向
の切断線a、b、c、d、eに沿って切断する。この切
断によって、少なくとも4個の磁気ヘッドコア17a、
17b、17c、17dが作られる。
13の裏面13D側と酸化物軟磁性体12の裏面12B
にそれぞれ対向する位置に所定の幅及び深さからなる巻
線ガイド溝17A、17Bを穿設形成する。このように
形成されたコアブロック17は、図10に示すようにト
ラック幅規制溝15、16の形成した方向と平行な方向
の切断線a、b、c、d、eに沿って切断する。この切
断によって、少なくとも4個の磁気ヘッドコア17a、
17b、17c、17dが作られる。
【0033】なお、この際に図11に示すように磁気ヘ
ッドの進行方向と磁気的ギャップが非垂直となりいわゆ
るアジマス角θを持つように磁気的ギャップGpを形成
するため、磁気的なコアブロック17を斜めに切断して
もよい。この実施例ではコアブロック17がアジマス角
が20゜となるように切断されている。
ッドの進行方向と磁気的ギャップが非垂直となりいわゆ
るアジマス角θを持つように磁気的ギャップGpを形成
するため、磁気的なコアブロック17を斜めに切断して
もよい。この実施例ではコアブロック17がアジマス角
が20゜となるように切断されている。
【0034】このような処理手順で磁気ヘッドの形成を
行い、巻線のない側に非磁性部の形成されない同一外径
寸法の比較用の磁気ヘッドと同一のインダクタンスにな
るように巻線の巻回を施して各種の磁気テープでの磁気
ヘッドからの再生出力の比較を行ったところ、位置近傍
領域9aを非磁性からなる部材で構成することにより、
約 0.7dBの再生信号特性の向上が確認されている。ま
た、この際に溝13Bの形成により応力に対して脆弱に
なっても、この溝13Bに非磁性部材を埋め込むことに
よって機械的強度の減少を10% 程度に抑えることができ
るようになる。これにより、加工時の歩留まり低下をほ
とんどなくすことができる。
行い、巻線のない側に非磁性部の形成されない同一外径
寸法の比較用の磁気ヘッドと同一のインダクタンスにな
るように巻線の巻回を施して各種の磁気テープでの磁気
ヘッドからの再生出力の比較を行ったところ、位置近傍
領域9aを非磁性からなる部材で構成することにより、
約 0.7dBの再生信号特性の向上が確認されている。ま
た、この際に溝13Bの形成により応力に対して脆弱に
なっても、この溝13Bに非磁性部材を埋め込むことに
よって機械的強度の減少を10% 程度に抑えることができ
るようになる。これにより、加工時の歩留まり低下をほ
とんどなくすことができる。
【0035】つぎに、本発明に係る磁気ヘッドの他の実
施例について図12及び前述した図5を参照しながら説
明する。ここで、共通する部分に同じ参照番号を付して
説明を省略する。還元雰囲気中で酸化物軟磁性体13に
は、図12(a)に示すようにレーザビームLBが照射
されている。このレーザビームLBは、図5に示した溝
13Bの位置に照射される。このようなレーザビームL
Bの照射された酸化物軟磁性体13では局所的に基板加
熱されることになる。この局所的な加熱は、酸化物軟磁
性体13の酸素濃度を下げる。酸化物軟磁性体13は、
図12(b)に示すように化学量論組成からの酸素濃度
変位とヘマタイトの形成によって、加熱を受けた領域1
3Eは軟磁気特性の劣化または非磁性化される。
施例について図12及び前述した図5を参照しながら説
明する。ここで、共通する部分に同じ参照番号を付して
説明を省略する。還元雰囲気中で酸化物軟磁性体13に
は、図12(a)に示すようにレーザビームLBが照射
されている。このレーザビームLBは、図5に示した溝
13Bの位置に照射される。このようなレーザビームL
Bの照射された酸化物軟磁性体13では局所的に基板加
熱されることになる。この局所的な加熱は、酸化物軟磁
性体13の酸素濃度を下げる。酸化物軟磁性体13は、
図12(b)に示すように化学量論組成からの酸素濃度
変位とヘマタイトの形成によって、加熱を受けた領域1
3Eは軟磁気特性の劣化または非磁性化される。
【0036】上述した還元雰囲気としては、真空、水素
中あるいはアンモニアガス等の還元ガス等が充満してい
るような環境を示す。また、例えばイオンビームの照射
等によって窒素等を酸化物軟磁性体13に打ち込みを行
うことで化学量論組成からずらしてもよい。このように
磁気的な劣化部分を形成する場合には、予め磁気的な劣
化する厚みを定量化しておき、磁気的な劣化部分の形状
を図5の溝13Bの形状に相当するようにする。このよ
うな形状にすることによって磁気ヘッドは、フロントギ
ャップ部分への磁束の集中効果を高めることができる。
これにより、磁気ヘッドは、前述したと同様に磁気ヘッ
ドの効率を向上させることができる。もちろん、磁気的
な劣化を受けずに残留する磁性コアの厚みは、コアに十
分な磁束を流せるだけの断面積が必要であり、磁気的な
劣化層、すなわち非磁性部の形成により、コア効率の低
下を招かないように制御しなければならない。
中あるいはアンモニアガス等の還元ガス等が充満してい
るような環境を示す。また、例えばイオンビームの照射
等によって窒素等を酸化物軟磁性体13に打ち込みを行
うことで化学量論組成からずらしてもよい。このように
磁気的な劣化部分を形成する場合には、予め磁気的な劣
化する厚みを定量化しておき、磁気的な劣化部分の形状
を図5の溝13Bの形状に相当するようにする。このよ
うな形状にすることによって磁気ヘッドは、フロントギ
ャップ部分への磁束の集中効果を高めることができる。
これにより、磁気ヘッドは、前述したと同様に磁気ヘッ
ドの効率を向上させることができる。もちろん、磁気的
な劣化を受けずに残留する磁性コアの厚みは、コアに十
分な磁束を流せるだけの断面積が必要であり、磁気的な
劣化層、すなわち非磁性部の形成により、コア効率の低
下を招かないように制御しなければならない。
【0037】このように非磁性材を埋め込まずに用いる
と磁気コア半体は、機械的強度が60% 程度劣化してしま
う。上述したレーザビームLBを使用する方法では、非
磁性部材を埋め込むのでなく、照射位置における化学量
論組成を熱的に変成させたり、イオンビームの打ち込み
によって他の元素を照射した位置に注入して化学的な組
成を変化させて軟磁性特性を劣化させている。それぞれ
の方法共に化学量論組成の変化を起こすが、機械的強度
の減少はみられない。このようにしても加工時における
歩留まりの低下をほとんど防ぐことができる。
と磁気コア半体は、機械的強度が60% 程度劣化してしま
う。上述したレーザビームLBを使用する方法では、非
磁性部材を埋め込むのでなく、照射位置における化学量
論組成を熱的に変成させたり、イオンビームの打ち込み
によって他の元素を照射した位置に注入して化学的な組
成を変化させて軟磁性特性を劣化させている。それぞれ
の方法共に化学量論組成の変化を起こすが、機械的強度
の減少はみられない。このようにしても加工時における
歩留まりの低下をほとんど防ぐことができる。
【0038】なお、酸化物軟磁性体としてフェライトを
使用した場合について説明してきたが、本発明は、フェ
ライトヘッドのみに限定されるものでなく、金属軟磁性
体を使用してもよい。この金属軟磁性体の材質として
は、いわゆるセンダストと呼ばれるFe-Si-Al系の合金、
Fe-Al系の合金、Fe-Si-Co系の合金、Fe-Al系の合金、Fe
-Al-Ge系の合金、Fe-Ga-Ge系の合金、Fe-Si-Ge系の合
金、Fe-CoーSi-Al系の合金等の金属材料や強磁性非結晶
金属合金、いわゆるアモルファス合金(例えばFe,Ni,Co
の一つ以上の元素とP,C,B,Siの一つ以上の元素とからな
る合金またはこれを主成分とし Al,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,T
i,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合金等のメタル−メタロイ
ド系アモルファス合金、あるいはCo,Hf,Zr等の遷移元素
や希土類元素等を主成分とするメタル−メタルアモルフ
ァス合金)等を使用する。これらの金属軟磁性体は、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真空薄
膜形成技術が採用される。
使用した場合について説明してきたが、本発明は、フェ
ライトヘッドのみに限定されるものでなく、金属軟磁性
体を使用してもよい。この金属軟磁性体の材質として
は、いわゆるセンダストと呼ばれるFe-Si-Al系の合金、
Fe-Al系の合金、Fe-Si-Co系の合金、Fe-Al系の合金、Fe
-Al-Ge系の合金、Fe-Ga-Ge系の合金、Fe-Si-Ge系の合
金、Fe-CoーSi-Al系の合金等の金属材料や強磁性非結晶
金属合金、いわゆるアモルファス合金(例えばFe,Ni,Co
の一つ以上の元素とP,C,B,Siの一つ以上の元素とからな
る合金またはこれを主成分とし Al,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,T
i,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合金等のメタル−メタロイ
ド系アモルファス合金、あるいはCo,Hf,Zr等の遷移元素
や希土類元素等を主成分とするメタル−メタルアモルフ
ァス合金)等を使用する。これらの金属軟磁性体は、真
空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング
法、クラスター・イオンビーム法等に代表される真空薄
膜形成技術が採用される。
【0039】金属軟磁性体を使用した磁気ヘッドは、例
えば図13(a)に示すように、磁気コア半体18A上
の並行な面に対して斜めに軟磁性金属18aを成膜し配
置する。磁気コア半体18Aは、この成膜した軟磁性金
属18aにおける位置近傍領域9aに相当する部分を非
磁性部NMにしている。例えば図13(b)に示すよう
に、ギャップを介して並行に軟磁性金属18aが成膜さ
れた磁気コア半体18Aと巻線溝が形成されている側の
磁気コアと突き合わせてメタル・イン・ギャップヘッド
18が構成される。
えば図13(a)に示すように、磁気コア半体18A上
の並行な面に対して斜めに軟磁性金属18aを成膜し配
置する。磁気コア半体18Aは、この成膜した軟磁性金
属18aにおける位置近傍領域9aに相当する部分を非
磁性部NMにしている。例えば図13(b)に示すよう
に、ギャップを介して並行に軟磁性金属18aが成膜さ
れた磁気コア半体18Aと巻線溝が形成されている側の
磁気コアと突き合わせてメタル・イン・ギャップヘッド
18が構成される。
【0040】また、磁気ヘッドは、例えば図14(a)
に示すように、磁気コア半体18A上の並行な面に軟磁
性金属19aを成膜し配置する。磁気コア半体19A
は、この成膜した軟磁性金属19aにおける位置近傍領
域9aに相当する部分を非磁性部NMにしている。例え
ば図14(b)に示すように、ギャップを介して並行に
軟磁性金属19aが成膜された磁気コア半体19Aと巻
線溝が形成されている側の磁気コアと突き合わせてメタ
ル・イン・ギャップヘッド19が構成される。
に示すように、磁気コア半体18A上の並行な面に軟磁
性金属19aを成膜し配置する。磁気コア半体19A
は、この成膜した軟磁性金属19aにおける位置近傍領
域9aに相当する部分を非磁性部NMにしている。例え
ば図14(b)に示すように、ギャップを介して並行に
軟磁性金属19aが成膜された磁気コア半体19Aと巻
線溝が形成されている側の磁気コアと突き合わせてメタ
ル・イン・ギャップヘッド19が構成される。
【0041】さらに、例えば図15(a)に示すよう
な、いわゆるラミネートタイプの磁気ヘッドにおいて、
この磁気ヘッドにおける磁気コア半体20Aは、非磁性
材料(あるいは磁性材料)が例えば複数の薄い軟磁性金
属膜を狭持する構造になっている。この軟磁性金属膜は
巻線溝の頂部である位置近傍領域9aに相当する部分を
非磁性部NMにする。例えば図15(b)のように、ギ
ャップを介して並行に軟磁性金属を狭持する磁気コア半
体20Aと巻線溝が形成されている側の磁気コアと突き
合わせて、いわゆるラミネートタイプの磁気ヘッド20
を構成してもよい。
な、いわゆるラミネートタイプの磁気ヘッドにおいて、
この磁気ヘッドにおける磁気コア半体20Aは、非磁性
材料(あるいは磁性材料)が例えば複数の薄い軟磁性金
属膜を狭持する構造になっている。この軟磁性金属膜は
巻線溝の頂部である位置近傍領域9aに相当する部分を
非磁性部NMにする。例えば図15(b)のように、ギ
ャップを介して並行に軟磁性金属を狭持する磁気コア半
体20Aと巻線溝が形成されている側の磁気コアと突き
合わせて、いわゆるラミネートタイプの磁気ヘッド20
を構成してもよい。
【0042】このように金属軟磁性体を用いてメタル・
イン・ギャップタイプの磁気ヘッドやいわゆるラミネー
トタイプの磁気ヘッドでも機械的強度を確保し、しかも
磁束を磁気ギャップへ集中させることができる。
イン・ギャップタイプの磁気ヘッドやいわゆるラミネー
トタイプの磁気ヘッドでも機械的強度を確保し、しかも
磁束を磁気ギャップへ集中させることができる。
【0043】以上の構成から明かなように、片側の磁気
ヘッドコア半体の厚みが 600μm以下の巻線溝を形成で
きないような磁気ヘッドコアを有する磁気ヘッドでは、
磁束の伝達に寄与しない部分を非磁性化して機械的強度
の劣化をほとんど招かないようにして磁気コアの効率を
向上させて高性能な磁気ヘッドを提供することができ
る。これにより、磁気コアの効率と共に、加工時の歩留
まりをよくして生産性を上げることができる。
ヘッドコア半体の厚みが 600μm以下の巻線溝を形成で
きないような磁気ヘッドコアを有する磁気ヘッドでは、
磁束の伝達に寄与しない部分を非磁性化して機械的強度
の劣化をほとんど招かないようにして磁気コアの効率を
向上させて高性能な磁気ヘッドを提供することができ
る。これにより、磁気コアの効率と共に、加工時の歩留
まりをよくして生産性を上げることができる。
【0044】
【発明の効果】本発明に係る磁気ヘッドでは、例えば2
つの磁気ヘッドを組み合わせて配置する磁気ヘッドにお
いて、これら磁気ヘッドのギャップ間隔を所定の範囲内
に収めるためには、互いに隣接する磁気コアの厚さを薄
くすることが必要であり、機械的強度等の点からこの厚
さの薄い磁気コアに巻線溝を形成することは難しく、本
発明においては、巻線溝を形成する代わりに磁気コアの
巻線溝頂部に対応する位置近傍領域を非磁性としている
ので、磁気コアの厚さが薄くても機械的強度が確保さ
れ、歩留まりを上げることで生産性の向上に大きく寄与
することができる。
つの磁気ヘッドを組み合わせて配置する磁気ヘッドにお
いて、これら磁気ヘッドのギャップ間隔を所定の範囲内
に収めるためには、互いに隣接する磁気コアの厚さを薄
くすることが必要であり、機械的強度等の点からこの厚
さの薄い磁気コアに巻線溝を形成することは難しく、本
発明においては、巻線溝を形成する代わりに磁気コアの
巻線溝頂部に対応する位置近傍領域を非磁性としている
ので、磁気コアの厚さが薄くても機械的強度が確保さ
れ、歩留まりを上げることで生産性の向上に大きく寄与
することができる。
【0045】この磁気ヘッドは、磁束が磁気ギャップへ
集中されることにより、磁気ヘッドの電磁変換特性を向
上させ効率の良い高性能な磁気ヘッドを提供することが
できる。
集中されることにより、磁気ヘッドの電磁変換特性を向
上させ効率の良い高性能な磁気ヘッドを提供することが
できる。
【0046】磁気ヘッドは、巻線溝の形成されない側の
コア半体における磁気テープの摺動方向での磁気コアの
厚みが、 600μm以下でこの機械的強度の確保と電磁変
換特性を向上を同時に成し得る著しい効果を発揮する。
コア半体における磁気テープの摺動方向での磁気コアの
厚みが、 600μm以下でこの機械的強度の確保と電磁変
換特性を向上を同時に成し得る著しい効果を発揮する。
【図1】本発明に係る磁気ヘッドの概略的な構成を示す
外観斜視図である。
外観斜視図である。
【図2】上記磁気ヘッドを製造する際の酸化物軟磁性体
の基体を示す外観斜視図である。
の基体を示す外観斜視図である。
【図3】上記基体の主面にトラック幅規制溝を形成した
状態の外観斜視図である。
状態の外観斜視図である。
【図4】上記基体のトラック幅規制溝の直交方向に穿設
形成した巻線溝を示す酸化物軟磁性体の外観斜視図であ
る。
形成した巻線溝を示す酸化物軟磁性体の外観斜視図であ
る。
【図5】上記基体に対して対向する酸化物軟磁性体にく
さび型形状の溝を形成した際の外観斜視図である。
さび型形状の溝を形成した際の外観斜視図である。
【図6】上記酸化物軟磁性体の溝をガラス部材で埋め込
んだ際の外観斜視図である。
んだ際の外観斜視図である。
【図7】上記ガラス部材の埋め込み後、トラック幅規制
溝を主面に形成した際の外観斜視図である。
溝を主面に形成した際の外観斜視図である。
【図8】上記酸化物軟磁性体を融着ガラスで張り合わせ
た際のコアブロックの外観斜視図である。
た際のコアブロックの外観斜視図である。
【図9】上記コアブロックを研削してギャップ間隔が調
整されているコアブロックの外観斜視図である。
整されているコアブロックの外観斜視図である。
【図10】上記コアブロックに巻線ガイド溝を形成し、
各磁気ヘッドコアの切断方向を示すコアブロックの外観
斜視図である。
各磁気ヘッドコアの切断方向を示すコアブロックの外観
斜視図である。
【図11】上記コアブロックにおいてアジマス角と磁気
的ギャップとの関係を説明するための模式図である。
的ギャップとの関係を説明するための模式図である。
【図12】本発明に係る磁気ヘッドの他の実施例におけ
る熱的な作用による磁気的劣化を説明する模式的な外観
斜視図である。
る熱的な作用による磁気的劣化を説明する模式的な外観
斜視図である。
【図13】本発明に係る磁気ヘッドを適用した場合のメ
タル・イン・ギャップヘッドの外観斜視図である。
タル・イン・ギャップヘッドの外観斜視図である。
【図14】本発明に係る磁気ヘッドを適用した場合のメ
タル・イン・ギャップヘッドの外観斜視図である。
タル・イン・ギャップヘッドの外観斜視図である。
【図15】本発明に係る磁気ヘッドを適用したいわゆる
ラミネートタイプの磁気ヘッドの外観斜視図である。
ラミネートタイプの磁気ヘッドの外観斜視図である。
【図16】従来の特殊な用途で使用される磁気ヘッドの
ギャップ間隔を示す外観斜視図である。
ギャップ間隔を示す外観斜視図である。
【図17】従来の磁気ヘッドにおけるコア半体を示す外
観斜視図である。
観斜視図である。
【図18】上記コア半体が有するインダクタンスを低減
させるための対策を施したコア半体の外観斜視図であ
る。
させるための対策を施したコア半体の外観斜視図であ
る。
1、2・・・・・・・・磁気コア半体 3、4、5、6、14、16・・・トラック幅規制溝 7、8・・・・・・・・巻線ガイド溝 9、15・・・・・・・巻線溝 11・・・・・・・・・融着ガラス 12、13・・・・・・酸化物軟磁性体 13B・・・・・・・・溝 17・・・・・・・・・コアブロック
【手続補正書】
【提出日】平成6年8月29日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0006
【補正方法】変更
【補正内容】
【0006】このように薄い厚さしか有しないコア半体
21aに対して巻線ガイド溝21bを形成すると、加工
中にこの巻線ガイド溝21bの部分への応力集中が起こ
る。また、コアの厚さが従来の厚さより一層薄くなるた
め、コア半体21aは、加工中の応力集中によってこの
巻線ガイド溝21bで破損してしまう。
21aに対して巻線ガイド溝21bを形成すると、加工
中にこの巻線ガイド溝21bの部分への応力集中が起こ
る。また、コアの厚さが従来の厚さより一層薄くなるた
め、コア半体21aは、加工中の応力集中によってこの
巻線ガイド溝21bで破損してしまう。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0007
【補正方法】変更
【補正内容】
【0007】しかしながら、磁気ヘッドは、巻線ガイド
溝21bを有していない場合に比べて巻線ガイド溝21
bを有している場合の方がギャップへの磁束の集中効果
を高めることができるので、出力効率を向上させること
ができる。これに対して、同じコアの材質を用いて、巻
線溝をなくしても十分な磁束量の確保を可能にした場
合、コア半体は厚くしなければならなくなる。これによ
って、コア半体は休積が増えるため磁気ヘッドのインダ
クタンスが増加する。磁気ヘッドの出力は、インダクタ
ンスの値で規格化して表すと、インダクタンスの増加に
よって低下し、出力効率の低下を招いてしまう。
溝21bを有していない場合に比べて巻線ガイド溝21
bを有している場合の方がギャップへの磁束の集中効果
を高めることができるので、出力効率を向上させること
ができる。これに対して、同じコアの材質を用いて、巻
線溝をなくしても十分な磁束量の確保を可能にした場
合、コア半体は厚くしなければならなくなる。これによ
って、コア半体は休積が増えるため磁気ヘッドのインダ
クタンスが増加する。磁気ヘッドの出力は、インダクタ
ンスの値で規格化して表すと、インダクタンスの増加に
よって低下し、出力効率の低下を招いてしまう。
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】磁気ヘッドの出力効率を向上させるため対
策としては、例えば図18に示すように、深さd=30
〜90μm程度のくさび型断面を有する切欠溝21cを
形成することが考えられる。この切欠溝21cは、磁束
の伝達への寄与の少ない部分に相当している。この部分
を除去することによってインダクタンスの減少を図るこ
とができるようになる。しかしながら、この切削加工を
行うと、この加工によるこの部分の機械的強度が一層低
下する。このため、磁気ヘッドの加工時に切欠溝21c
への応力集中による破損が生じて磁気ヘッドの歩留まり
がさらに低下してしまう。これは、巻線ガイド溝21b
を有しない場合も同様である。
策としては、例えば図18に示すように、深さd=30
〜90μm程度のくさび型断面を有する切欠溝21cを
形成することが考えられる。この切欠溝21cは、磁束
の伝達への寄与の少ない部分に相当している。この部分
を除去することによってインダクタンスの減少を図るこ
とができるようになる。しかしながら、この切削加工を
行うと、この加工によるこの部分の機械的強度が一層低
下する。このため、磁気ヘッドの加工時に切欠溝21c
への応力集中による破損が生じて磁気ヘッドの歩留まり
がさらに低下してしまう。これは、巻線ガイド溝21b
を有しない場合も同様である。
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0015
【補正方法】変更
【補正内容】
【0015】また、磁気ヘッドは、磁気コア半体に対し
て非磁性部を形成したギャップと並行に軟磁性金属を成
膜したメタル・イン・ギャップヘッドや磁気コア半体に
対し非磁性部を形成し、軟磁性金属膜を非磁性あるいは
磁性材料で狭持した構造を有するものに適用することも
可能である。このとき使用する軟磁性金属としては、例
えばFe−Si−Al系の合金、Fe−Al系の合金、
Fe−Si−Co系の合金、Fe−Al系の合金、Fe
−Al−Ge系の合金、Fe−Ga−Ge系の合金、F
e−Si−Ge系の合金、Fe−Co−Si−Al系の
合金、Fe−Si−Ga−Ru系の合金等の金属材料や
強磁性非結晶金属合金、いわゆるアモルファス合金(例
えばFe,Ni,Coの一つ以上の元素とP,C,B,
Siの一つ以上の元素とからなる合金またはこれを主成
分としAl,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,T
i,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合金等の
メタル−メタロイド系アモルファス合金、あるいはC
o,Hf,Zr等の遷移元素や希土類元素等を主成分と
するメタル−メタルアモルファス合金)またはFeやC
o基のC,N,Oの内1種以上を含む雰囲気中でスパッ
タにより形成されたTa,Zr等を含んだ微結晶系合金
等を使用する。
て非磁性部を形成したギャップと並行に軟磁性金属を成
膜したメタル・イン・ギャップヘッドや磁気コア半体に
対し非磁性部を形成し、軟磁性金属膜を非磁性あるいは
磁性材料で狭持した構造を有するものに適用することも
可能である。このとき使用する軟磁性金属としては、例
えばFe−Si−Al系の合金、Fe−Al系の合金、
Fe−Si−Co系の合金、Fe−Al系の合金、Fe
−Al−Ge系の合金、Fe−Ga−Ge系の合金、F
e−Si−Ge系の合金、Fe−Co−Si−Al系の
合金、Fe−Si−Ga−Ru系の合金等の金属材料や
強磁性非結晶金属合金、いわゆるアモルファス合金(例
えばFe,Ni,Coの一つ以上の元素とP,C,B,
Siの一つ以上の元素とからなる合金またはこれを主成
分としAl,Ge,Be,Sn,In,Mo,W,T
i,Mn,Cr,Zr,Hf,Nb等を含んだ合金等の
メタル−メタロイド系アモルファス合金、あるいはC
o,Hf,Zr等の遷移元素や希土類元素等を主成分と
するメタル−メタルアモルファス合金)またはFeやC
o基のC,N,Oの内1種以上を含む雰囲気中でスパッ
タにより形成されたTa,Zr等を含んだ微結晶系合金
等を使用する。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0021
【補正方法】変更
【補正内容】
【0021】磁気コア半体2の厚さを薄くしているた
め、磁気ヘッドには磁気コア半体1における巻線溝9と
同様の形状の溝を形成した場合機械的強度の著しい低下
が起こる。
め、磁気ヘッドには磁気コア半体1における巻線溝9と
同様の形状の溝を形成した場合機械的強度の著しい低下
が起こる。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】この磁気コア半体1、2は、片側の磁気コ
ア半体側にのみ巻線溝9を形成する構成によって磁気コ
ア半体2の厚さが薄くされ、これらの磁気コア半体を接
合する際に融着ガラス11を使用する。融着ガラス11
は、後述するトラック幅規制溝3、4、5、6に溶融充
填されている。また、この磁気コア半体1には、巻線を
巻回させるための巻線溝9が穿設形成されている。磁気
コア半体1における巻線溝9が形成された位置の反対側
には、巻線を巻回する際に巻回しやすくするため巻線ガ
イド溝7が形成され、磁気コア半体2においても必要で
あれば磁気コア1と同様に巻線ガイド溝8が形成され
る。このような構成によって磁気ヘッドが構成される。
ア半体側にのみ巻線溝9を形成する構成によって磁気コ
ア半体2の厚さが薄くされ、これらの磁気コア半体を接
合する際に融着ガラス11を使用する。融着ガラス11
は、後述するトラック幅規制溝3、4、5、6に溶融充
填されている。また、この磁気コア半体1には、巻線を
巻回させるための巻線溝9が穿設形成されている。磁気
コア半体1における巻線溝9が形成された位置の反対側
には、巻線を巻回する際に巻回しやすくするため巻線ガ
イド溝7が形成され、磁気コア半体2においても必要で
あれば磁気コア1と同様に巻線ガイド溝8が形成され
る。このような構成によって磁気ヘッドが構成される。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0023
【補正方法】変更
【補正内容】
【0023】また、この磁気ヘッドは、厚さを薄くする
ことにより機械的強度の低下を招くだけでなく、磁束が
ギャップへの集中が行われなくなってしまう。この原因
は、巻線溝9の頂部に対応する位置近傍領域9a近傍の
磁気コア半体1、2間の距離が厚さを薄くすることによ
って極めて短くなる。このため、ギャップ部分に磁束が
向かわないように磁路が形成され磁束の漏れが生じてし
まう。この問題も上記頂部に対応する位置近傍領域9a
を含む領域を非磁性の融着ガラス11で構成することに
よって、磁束の漏れを遮断してギャップに磁束が集中す
るようにしている。
ことにより機械的強度の低下を招くだけでなく、磁束が
ギャップへの集中が行われなくなってしまう。この原因
は、巻線溝9の頂部に対応する位置近傍領域9a近傍の
磁気コア半体1、2間の距離が厚さを薄くすることによ
って極めて短くなる。このため、ギャップ部分に磁束が
向かわないように磁路が形成され磁束の漏れが生じてし
まう。この問題も上記頂部に対応する位置近傍領域9a
を含む領域を非磁性の融着ガラス11で構成することに
よって、磁束の漏れを遮断してギャップに磁束が集中す
るようにしている。
【手続補正8】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0026
【補正方法】変更
【補正内容】
【0026】次に、酸化物軟磁性体12の主面12A側
に所定の深さにトラック幅規制溝14をこの主面12A
上に一定方向に形成し、主面12Aに規定のトラック幅
Twを有する断面が残る形状に加工する(図3を参
照)。実際に、このトラック幅規制溝14は、略々断面
形状がU字状を成し、主面12Aとのなす角は下限と上
限をそれぞれ3°〜60゜にし、好ましくは8°〜45
゜である。このようにトラック幅規制溝14を形成する
ことにより、ギャップ面への磁束の集中効果を得ること
ができ、記録媒体上で隣接するトラックの信号をトラッ
ク幅規制溝14内の端面で再生して発生する、いわゆる
クロストークを抑えることができる。本実施例では、ト
ラック幅Twが15μm、トラック幅規制溝14の角度
は30゜に設定している。上述した処理を酸化物軟磁性
体13に対しても行う。この処理によって酸化物軟磁性
体12に形成したと同じトラック幅規制溝16を形成す
る。
に所定の深さにトラック幅規制溝14をこの主面12A
上に一定方向に形成し、主面12Aに規定のトラック幅
Twを有する断面が残る形状に加工する(図3を参
照)。実際に、このトラック幅規制溝14は、略々断面
形状がU字状を成し、主面12Aとのなす角は下限と上
限をそれぞれ3°〜60゜にし、好ましくは8°〜45
゜である。このようにトラック幅規制溝14を形成する
ことにより、ギャップ面への磁束の集中効果を得ること
ができ、記録媒体上で隣接するトラックの信号をトラッ
ク幅規制溝14内の端面で再生して発生する、いわゆる
クロストークを抑えることができる。本実施例では、ト
ラック幅Twが15μm、トラック幅規制溝14の角度
は30゜に設定している。上述した処理を酸化物軟磁性
体13に対しても行う。この処理によって酸化物軟磁性
体12に形成したと同じトラック幅規制溝16を形成す
る。
【手続補正9】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0027
【補正方法】変更
【補正内容】
【0027】次に、図4に示すように、主面12Aに形
成したトラック幅規制溝14に対して垂直方向に巻線を
巻回するための巻線溝15が形成される。
成したトラック幅規制溝14に対して垂直方向に巻線を
巻回するための巻線溝15が形成される。
【手続補正10】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0028
【補正方法】変更
【補正内容】
【0028】ところで、トラック幅規制溝16を形成す
る前に、酸化物軟磁性体12のフロントギャップのデプ
スゼロの位置近傍に対峙する部分、すなわち前述した位
置近傍領域9aを非磁性にするため、酸化物軟磁性体1
3は、例えば図5に示すように主面13A側に溝13B
を酸化物軟磁性体12の巻線溝15に対応する位置に形
成する。この溝13Bは、断面の形状がくさび型形状に
する。本実施例では、断面形状の深さD=65μm、主
面からの斜面角度40゜が最終形状として切り出した際
に磁気コアに残る形状にしている。この位置近傍領域9
aを非磁性にするため、後述する磁性コア半体の接合に
使用するガラス融着処理を行う際の作業温度でほとんど
軟化しないガラス部材13cが、図6に示すように上記
溝13Bに溶融されて充填される。
る前に、酸化物軟磁性体12のフロントギャップのデプ
スゼロの位置近傍に対峙する部分、すなわち前述した位
置近傍領域9aを非磁性にするため、酸化物軟磁性体1
3は、例えば図5に示すように主面13A側に溝13B
を酸化物軟磁性体12の巻線溝15に対応する位置に形
成する。この溝13Bは、断面の形状がくさび型形状に
する。本実施例では、断面形状の深さD=65μm、主
面からの斜面角度40゜が最終形状として切り出した際
に磁気コアに残る形状にしている。この位置近傍領域9
aを非磁性にするため、後述する磁性コア半体の接合に
使用するガラス融着処理を行う際の作業温度でほとんど
軟化しないガラス部材13cが、図6に示すように上記
溝13Bに溶融されて充填される。
【手続補正11】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0029
【補正方法】変更
【補正内容】
【0029】このガラス部材13Cを溝13Bに溶融充
填した後に、図7に示すように、トラック幅規制溝16
が主面13Aを穿設してU字状の溝が形成される。この
ように加工された後に主面13Aの表面が平面に加工さ
れる。このように構成して図1における磁気コア半体2
側の基体が形成される。
填した後に、図7に示すように、トラック幅規制溝16
が主面13Aを穿設してU字状の溝が形成される。この
ように加工された後に主面13Aの表面が平面に加工さ
れる。このように構成して図1における磁気コア半体2
側の基体が形成される。
【手続補正12】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0031
【補正方法】変更
【補正内容】
【0031】この後、コアブロック17は、酸化物軟磁
性体13からなる主面13Aに対する裏面13D側の研
削が行われる。この研削処理は、一般的に規定の位置関
係を示すギャップ間隔を記録テープ上の記録ピッチ幅の
数倍から数十倍程度にするため用途に応じた値になるま
で行わなければならない。このギャップ間隔を実現させ
た状態が図9に示されている。本実施例では、この磁気
コアの厚さが150μmになるように形成する。切欠部
である溝13Bの深さDを65μmと磁気コアの厚さを
150μmにする関係にあれば、この位置近傍領域9a
が磁束に対する抵抗にならないことが確かめられてい
る。
性体13からなる主面13Aに対する裏面13D側の研
削が行われる。この研削処理は、一般的に規定の位置関
係を示すギャップ間隔を記録テープ上の記録ピッチ幅の
数倍から数十倍程度にするため用途に応じた値になるま
で行わなければならない。このギャップ間隔を実現させ
た状態が図9に示されている。本実施例では、この磁気
コアの厚さが150μmになるように形成する。切欠部
である溝13Bの深さDを65μmと磁気コアの厚さを
150μmにする関係にあれば、この位置近傍領域9a
が磁束に対する抵抗にならないことが確かめられてい
る。
【手続補正13】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0032
【補正方法】変更
【補正内容】
【0032】次に、必要に応じて図10に示すように酸
化物軟磁性体13の裏面13D側と酸化物軟磁性体12
の裏面12Bにそれぞれ対向する位置に所定の幅及び深
さからなる巻線ガイド溝17A、17Bを穿設形成す
る。このように形成されたコアブロック17は、図10
に示すようにトラック幅規制溝15、16の形成した方
向と平行な方向の切断線a、b、c、d、eに沿って切
断する。この切断によって、少なくとも4個の磁気ヘッ
ドコア17a、17b、17c、17dが作られる。
化物軟磁性体13の裏面13D側と酸化物軟磁性体12
の裏面12Bにそれぞれ対向する位置に所定の幅及び深
さからなる巻線ガイド溝17A、17Bを穿設形成す
る。このように形成されたコアブロック17は、図10
に示すようにトラック幅規制溝15、16の形成した方
向と平行な方向の切断線a、b、c、d、eに沿って切
断する。この切断によって、少なくとも4個の磁気ヘッ
ドコア17a、17b、17c、17dが作られる。
【手続補正14】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0034
【補正方法】変更
【補正内容】
【0034】このような処理手順で磁気ヘッドの形成を
行い、巻線のない側に非磁性部の形成されない同一外径
寸法の比較用の磁気ヘッドと同一のインダクタンスにな
るように巻線の巻回を施して各種の磁気テープでの磁気
ヘッドからの再生出力の比較を行ったところ、巻線溝9
の頂部に対応する位置近傍領域9aを非磁性からなる部
材で構成することにより、約0.7dBの再生信号特性
の向上が確認されている。また、この際に溝13Bの形
成により応力に対して脆弱になっても、この溝13Bに
非磁性部材を埋め込むことによって機械的強度の減少を
10%程度に抑えることができるようになる。これによ
り、加工時の歩留まり低下をほとんどなくすことができ
る。
行い、巻線のない側に非磁性部の形成されない同一外径
寸法の比較用の磁気ヘッドと同一のインダクタンスにな
るように巻線の巻回を施して各種の磁気テープでの磁気
ヘッドからの再生出力の比較を行ったところ、巻線溝9
の頂部に対応する位置近傍領域9aを非磁性からなる部
材で構成することにより、約0.7dBの再生信号特性
の向上が確認されている。また、この際に溝13Bの形
成により応力に対して脆弱になっても、この溝13Bに
非磁性部材を埋め込むことによって機械的強度の減少を
10%程度に抑えることができるようになる。これによ
り、加工時の歩留まり低下をほとんどなくすことができ
る。
【手続補正15】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0037
【補正方法】変更
【補正内容】
【0037】このように非磁性材を埋め込まずに溝13
Bを形成すると磁気コア半体は、機械的強度が60%程
度劣化してしまう。上述したレーザビームLBを使用す
る方法では、非磁性部材を埋め込むのでなく、照射位置
における化学量論組成を熱的に変成させたり、イオンビ
ームの打ち込みによって他の元素を照射した位置に注入
して化学的な組成を変化させて軟磁性特性を劣化させて
いる。それぞれの方法共に化学量論組成の変化を起こす
が、機械的強度の減少はみられない。このようにしても
加工時における歩留まりの低下をほとんど防ぐことがで
きる。
Bを形成すると磁気コア半体は、機械的強度が60%程
度劣化してしまう。上述したレーザビームLBを使用す
る方法では、非磁性部材を埋め込むのでなく、照射位置
における化学量論組成を熱的に変成させたり、イオンビ
ームの打ち込みによって他の元素を照射した位置に注入
して化学的な組成を変化させて軟磁性特性を劣化させて
いる。それぞれの方法共に化学量論組成の変化を起こす
が、機械的強度の減少はみられない。このようにしても
加工時における歩留まりの低下をほとんど防ぐことがで
きる。
【手続補正16】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0038
【補正方法】変更
【補正内容】
【0038】なお、酸化物軟磁性体としてフェライトを
使用した場合について説明してきたが、本発明は、フェ
ライトヘッドのみに限定されるものでなく、金属軟磁性
体を使用してもよい。この金属軟磁性体の材質として
は、いわゆるセンダストと呼ばれるFe,Si−Al系
の合金、Fe−Al系の合金、Fe−Si−Co系の合
金、Fe−Al系の合金、Fe−Al−Ge系の合金、
Fe−Ga−Ge系の合金、Fe−Si−Ge系の合
金、Fe−Co−Si−Al系の合金、Fe−Si−G
a−Ru系の合金等の金属材料や強磁性非結晶金属合
金、いわゆるアモルファス合金(例えばFe,Ni,C
oの一つ以上の元素とP,C,B,Siの一つ以上の元
素とからなる合金またはこれを主成分としAl,Ge,
Be,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Z
r,Hf,Nb等を含んだ合金等のメタル−メタロイド
系アモルファス合金、あるいはCo,Hf,Zr等の遷
移元素や希土類元素等を主成分とするメタル−メタルア
モルファス合金)またはFeやCo基のC,N,Oの内
1種以上を含む雰囲気中でスパッタにより形成されたT
a,Zr等を含んだ微結晶系合金等を使用する。これら
の金属軟磁性体は、真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法、クラスター・イオンビーム法等
に代表される真空薄膜形成技術が採用される。
使用した場合について説明してきたが、本発明は、フェ
ライトヘッドのみに限定されるものでなく、金属軟磁性
体を使用してもよい。この金属軟磁性体の材質として
は、いわゆるセンダストと呼ばれるFe,Si−Al系
の合金、Fe−Al系の合金、Fe−Si−Co系の合
金、Fe−Al系の合金、Fe−Al−Ge系の合金、
Fe−Ga−Ge系の合金、Fe−Si−Ge系の合
金、Fe−Co−Si−Al系の合金、Fe−Si−G
a−Ru系の合金等の金属材料や強磁性非結晶金属合
金、いわゆるアモルファス合金(例えばFe,Ni,C
oの一つ以上の元素とP,C,B,Siの一つ以上の元
素とからなる合金またはこれを主成分としAl,Ge,
Be,Sn,In,Mo,W,Ti,Mn,Cr,Z
r,Hf,Nb等を含んだ合金等のメタル−メタロイド
系アモルファス合金、あるいはCo,Hf,Zr等の遷
移元素や希土類元素等を主成分とするメタル−メタルア
モルファス合金)またはFeやCo基のC,N,Oの内
1種以上を含む雰囲気中でスパッタにより形成されたT
a,Zr等を含んだ微結晶系合金等を使用する。これら
の金属軟磁性体は、真空蒸着法、スパッタリング法、イ
オンプレーティング法、クラスター・イオンビーム法等
に代表される真空薄膜形成技術が採用される。
【手続補正17】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0039
【補正方法】変更
【補正内容】
【0039】金属軟磁性体を使用した磁気ヘッドは、例
えば図13(a)に示すように、磁気コア半体18A上
のギャップ面に対して斜めに軟磁性金属18aを成膜し
配置する。磁気コア半体18Aは、この成膜した軟磁性
金属18aにおける位置近傍領域9aに相当する部分を
非磁性部NMにしている。例えば図13(b)に示すよ
うに、ギャップを介して一連続平面になるように軟磁性
金属18aが成膜された磁気コア半体18Aと巻線溝が
形成されている側の磁気コアと突き合わせてメタル・イ
ン・ギャップヘッド18が構成される。
えば図13(a)に示すように、磁気コア半体18A上
のギャップ面に対して斜めに軟磁性金属18aを成膜し
配置する。磁気コア半体18Aは、この成膜した軟磁性
金属18aにおける位置近傍領域9aに相当する部分を
非磁性部NMにしている。例えば図13(b)に示すよ
うに、ギャップを介して一連続平面になるように軟磁性
金属18aが成膜された磁気コア半体18Aと巻線溝が
形成されている側の磁気コアと突き合わせてメタル・イ
ン・ギャップヘッド18が構成される。
【手続補正18】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図5
【補正方法】変更
【補正内容】
【図5】
Claims (2)
- 【請求項1】 酸化物軟磁性体及び/又は金属軟磁性体
からなる磁気コア半体を磁気ギャップを介して接合し、
その片側の磁気コア半体にのみ巻線溝が形成されてなる
磁気ヘッドにおいて、 上記巻線溝の形成されない磁気コア半体側における巻線
溝の頂部に対応する位置近傍領域が非磁性となるように
形成されたことを特徴とする磁気ヘッド。 - 【請求項2】 上記巻線溝の形成されない側のコア半体
における磁気テープの摺動方向での磁気コアの厚みは、
600μm以下であることを特徴とする請求項1記載の磁
気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32615093A JPH07153015A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP32615093A JPH07153015A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07153015A true JPH07153015A (ja) | 1995-06-16 |
Family
ID=18184614
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP32615093A Withdrawn JPH07153015A (ja) | 1993-11-30 | 1993-11-30 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07153015A (ja) |
-
1993
- 1993-11-30 JP JP32615093A patent/JPH07153015A/ja not_active Withdrawn
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20010130 |