JPH0717389B2 - 合成石英ガラスの製造方法 - Google Patents
合成石英ガラスの製造方法Info
- Publication number
- JPH0717389B2 JPH0717389B2 JP1139619A JP13961989A JPH0717389B2 JP H0717389 B2 JPH0717389 B2 JP H0717389B2 JP 1139619 A JP1139619 A JP 1139619A JP 13961989 A JP13961989 A JP 13961989A JP H0717389 B2 JPH0717389 B2 JP H0717389B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silica
- quartz glass
- synthetic quartz
- reduced pressure
- torr
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1095—Thermal after-treatment of beads, e.g. tempering, crystallisation, annealing
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/06—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction
- C03B19/066—Other methods of shaping glass by sintering, e.g. by cold isostatic pressing of powders and subsequent sintering, by hot pressing of powders, by sintering slurries or dispersions not undergoing a liquid phase reaction for the production of quartz or fused silica articles
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B19/00—Other methods of shaping glass
- C03B19/10—Forming beads
- C03B19/1005—Forming solid beads
- C03B19/106—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction
- C03B19/1065—Forming solid beads by chemical vapour deposition; by liquid phase reaction by liquid phase reactions, e.g. by means of a gel phase
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
- C03B—MANUFACTURE, SHAPING, OR SUPPLEMENTARY PROCESSES
- C03B20/00—Processes specially adapted for the production of quartz or fused silica articles, not otherwise provided for
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Dispersion Chemistry (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Glass Melting And Manufacturing (AREA)
- Silicon Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 ［産業上の利用分野］ 本発明は合成石英ガラスの製造方法、特には高純度で粘
度が高く、ガス放出量が少ないことからプロセスチュー
ブ、ボート、カンチレバーなどの半導体用耐熱治具に好
適とされる合成石英ガラスの製造方法に関するものであ
る。
度が高く、ガス放出量が少ないことからプロセスチュー
ブ、ボート、カンチレバーなどの半導体用耐熱治具に好
適とされる合成石英ガラスの製造方法に関するものであ
る。
［従来の技術］ 石英ガラスの製造については天然の水晶粉を減圧下に2,
000℃付近の温度で溶融する方法がよく知られており、
これについては炭化けい素を内張りした黒鉛ルツボに水
晶粉を入れ、10-2〜10-4トールの減圧下に2,000℃で溶
融し、冷却の際に減圧を解除し、炭酸ガスによって圧力
を加えて泡を肉眼では見えないように小さくするという
方法がヘルベルゲル法と呼ばれている。そして、この方
法で作られた石英ガラスはOH基含有量が極端に少なく、
−Si−Si−結合を含んでいるので高粘度であり、不純物
拡散も遅いという特性をもっているので、半導体拡散部
材、ランプなどに多く使用されている。
000℃付近の温度で溶融する方法がよく知られており、
これについては炭化けい素を内張りした黒鉛ルツボに水
晶粉を入れ、10-2〜10-4トールの減圧下に2,000℃で溶
融し、冷却の際に減圧を解除し、炭酸ガスによって圧力
を加えて泡を肉眼では見えないように小さくするという
方法がヘルベルゲル法と呼ばれている。そして、この方
法で作られた石英ガラスはOH基含有量が極端に少なく、
−Si−Si−結合を含んでいるので高粘度であり、不純物
拡散も遅いという特性をもっているので、半導体拡散部
材、ランプなどに多く使用されている。
また、この石英ガラスの製造については発煙状シリカを
バインダーを用いて成形し、減圧下に1,300〜1,500℃で
焼結させ、連続的に管引きするという方法、四塩化けい
素の火炎加水分解法で生成した微粉末シリカスートをタ
ーゲットに付着、成長させて得た多孔室ガラス部材を減
圧下で焼結させる方法も知られており、さらにはアルコ
キシシランを加水分解して得たシリカゾルをコロイダル
シリカと混合し、成形したのち、減圧下に焼結するゾル
−ゲル法も知られている。
バインダーを用いて成形し、減圧下に1,300〜1,500℃で
焼結させ、連続的に管引きするという方法、四塩化けい
素の火炎加水分解法で生成した微粉末シリカスートをタ
ーゲットに付着、成長させて得た多孔室ガラス部材を減
圧下で焼結させる方法も知られており、さらにはアルコ
キシシランを加水分解して得たシリカゾルをコロイダル
シリカと混合し、成形したのち、減圧下に焼結するゾル
−ゲル法も知られている。
［発明が解決しようとする課題］ しかし、この天然石英を真空溶解する方法で得られる石
英ガラスは純度がわるく、例えばAlが20ppm、Feが1pp
m、Na,K,Li,Caが１〜2ppmであるために、これを半導体
の拡散炉部材として使用すると不純物の拡散によってシ
リコンウエーハが汚染されてしまい、シリコン素子の集
積度向上に大きな問題を与えるという不利があり、発煙
状シリカを使用する方法には安価であるけれどもこれも
Al,Feが500ppb,Na,K,Li,Caが２〜300ppbで純度がそれ程
良くなく、粘度も高くないという不利がある。
英ガラスは純度がわるく、例えばAlが20ppm、Feが1pp
m、Na,K,Li,Caが１〜2ppmであるために、これを半導体
の拡散炉部材として使用すると不純物の拡散によってシ
リコンウエーハが汚染されてしまい、シリコン素子の集
積度向上に大きな問題を与えるという不利があり、発煙
状シリカを使用する方法には安価であるけれどもこれも
Al,Feが500ppb,Na,K,Li,Caが２〜300ppbで純度がそれ程
良くなく、粘度も高くないという不利がある。
また、上記した四塩化けい素の火炎加水分解によるスー
ト法は使用する酸水素の量が製品重量に比較して多量で
コスト的に不利であるし、量産化、大型化が難しいとい
う欠点がある。なお、シリカゾルとコロイダルシリカと
を混合し成形するゾル−ゲル法は、乾燥と仮焼、焼結の
速度が速いと割れてしまい、特に大型品にその傾向が強
く、コスト高で量産化、大型化が難しいという欠点があ
り、さらに純度を高くするためには試薬、道具類の選択
は勿論のこと、乾燥、仮焼、焼結をクリーンルーム内で
行なわなければならないという不利がある。
ト法は使用する酸水素の量が製品重量に比較して多量で
コスト的に不利であるし、量産化、大型化が難しいとい
う欠点がある。なお、シリカゾルとコロイダルシリカと
を混合し成形するゾル−ゲル法は、乾燥と仮焼、焼結の
速度が速いと割れてしまい、特に大型品にその傾向が強
く、コスト高で量産化、大型化が難しいという欠点があ
り、さらに純度を高くするためには試薬、道具類の選択
は勿論のこと、乾燥、仮焼、焼結をクリーンルーム内で
行なわなければならないという不利がある。
［課題を解決するための手段］ 本発明はこのような不利、欠点を解決した合成石英ガラ
スの製造方法に関するものであり、これはメチルシリケ
ートをアルコールの添加なしで水の存在下に40〜50℃で
水よりなる系で加水分解し、重縮合させて粒径400〜1,0
00nmのシリカ粒子を生成させ、固液分離し、脱水し、乾
燥して粉末としたのち、これを酸化雰囲気において加熱
して脱炭後、耐熱ケースに詰め、10-2〜10-4トールの減
圧下に1,500〜1,700℃で焼結し、ついで常圧下あるいは
加圧下に1,800〜2,200℃に加熱することを特徴とするも
のである。
スの製造方法に関するものであり、これはメチルシリケ
ートをアルコールの添加なしで水の存在下に40〜50℃で
水よりなる系で加水分解し、重縮合させて粒径400〜1,0
00nmのシリカ粒子を生成させ、固液分離し、脱水し、乾
燥して粉末としたのち、これを酸化雰囲気において加熱
して脱炭後、耐熱ケースに詰め、10-2〜10-4トールの減
圧下に1,500〜1,700℃で焼結し、ついで常圧下あるいは
加圧下に1,800〜2,200℃に加熱することを特徴とするも
のである。
すなわち、本発明者らは高純度で粘度が高く、無泡で透
明性のよい合成石英ガラスを得る方法について種々検討
した結果、ゾル−ゲル法において始発材とされるアルコ
キシシランを粘度が低いためにアルコールなどの溶媒に
希釈する必要がなく、そのまま添加できるメチルシリケ
ートに特定し、これを充分精製したうえでアルコールの
添加なしでアンモニア水の存在下に40〜50℃で水よりな
る系で加水分解させると、固液分離が容易にできる粒径
が大きく、孔径も大きい三次元マトリックス構造をもつ
球状のシリカが容易に得られ、これを粉末にしてカーボ
ンケースなどの耐熱容器に詰め、10-2〜10-4トールの減
圧下で焼結し、ついで1,800℃以上の高温で加熱すれば
透明、高純度で、粘度の高く、しかも不純物の拡散速度
の極めて遅い合成石英ガラスを得ることができることを
見出し、この焼結条件、事後の加熱処理条件についての
研究を進めて本発明を完成させた。
明性のよい合成石英ガラスを得る方法について種々検討
した結果、ゾル−ゲル法において始発材とされるアルコ
キシシランを粘度が低いためにアルコールなどの溶媒に
希釈する必要がなく、そのまま添加できるメチルシリケ
ートに特定し、これを充分精製したうえでアルコールの
添加なしでアンモニア水の存在下に40〜50℃で水よりな
る系で加水分解させると、固液分離が容易にできる粒径
が大きく、孔径も大きい三次元マトリックス構造をもつ
球状のシリカが容易に得られ、これを粉末にしてカーボ
ンケースなどの耐熱容器に詰め、10-2〜10-4トールの減
圧下で焼結し、ついで1,800℃以上の高温で加熱すれば
透明、高純度で、粘度の高く、しかも不純物の拡散速度
の極めて遅い合成石英ガラスを得ることができることを
見出し、この焼結条件、事後の加熱処理条件についての
研究を進めて本発明を完成させた。
以下にこれをさらに詳述する。
［作用］ 本発明の合成石英ガラスの製造方法はメチルシリケート
をアルコールの添加なしでアンモニア水の存在下に40〜
50℃で水よりなる系で加水分解してシリカ粒子を生成さ
せたのち、これを脱炭し、焼結し、加熱処理して石英ガ
ラスとするものである。
をアルコールの添加なしでアンモニア水の存在下に40〜
50℃で水よりなる系で加水分解してシリカ粒子を生成さ
せたのち、これを脱炭し、焼結し、加熱処理して石英ガ
ラスとするものである。
本発明の方法における始発材は粘度が低くアルコール希
釈が不要で、また反応性に富んでおり、アンモニア水の
存在下でアルコールのような溶媒なしの水よりなる系に
添加してでも容易に反応して粒径が400〜1,000nmである
径の大きな球状シリカを生成し、殆どが水よりなる系で
あることから分離が容易にできるということからメチル
シリケートが選択されるが、このメチルシリケートは目
的とする合成石英ガラスを高純度のものとするというこ
とから事前に蒸留操作などにより充分に精製したものと
して供給する必要がある。
釈が不要で、また反応性に富んでおり、アンモニア水の
存在下でアルコールのような溶媒なしの水よりなる系に
添加してでも容易に反応して粒径が400〜1,000nmである
径の大きな球状シリカを生成し、殆どが水よりなる系で
あることから分離が容易にできるということからメチル
シリケートが選択されるが、このメチルシリケートは目
的とする合成石英ガラスを高純度のものとするというこ
とから事前に蒸留操作などにより充分に精製したものと
して供給する必要がある。
このメチルシリケートは加水分解によってシリカゾルと
されるのであるが、この加水分解は公知の塩酸のような
酸触媒の存在下で行なうと得られるシリカが粒子の小さ
いものとなるので、アンモニア触媒の存在下で行なう必
要がある。したがってこのメチルシリケートをアルコー
ルの添加なしでアンモニア水の存在下に40〜50℃で水よ
りなる系で加水分解すると、得られるシリカは粒径が40
0〜1,000nmの大きい球状物となるし、このものはその表
面に大きな孔をもっている非常に規則的な三次元マトリ
ックス構造をもつものになる。
されるのであるが、この加水分解は公知の塩酸のような
酸触媒の存在下で行なうと得られるシリカが粒子の小さ
いものとなるので、アンモニア触媒の存在下で行なう必
要がある。したがってこのメチルシリケートをアルコー
ルの添加なしでアンモニア水の存在下に40〜50℃で水よ
りなる系で加水分解すると、得られるシリカは粒径が40
0〜1,000nmの大きい球状物となるし、このものはその表
面に大きな孔をもっている非常に規則的な三次元マトリ
ックス構造をもつものになる。
この水系での加水分解反応は40℃未満ではシリカの粒径
が400nm未満となり、また50℃を超えると大きな塊とな
っていしまうので、40〜50℃で行なわせることが必要
で、このようにして得られたシリカはフィルタープレス
を使用すれば水系より容易に固液分離してシリカとす
る。
が400nm未満となり、また50℃を超えると大きな塊とな
っていしまうので、40〜50℃で行なわせることが必要
で、このようにして得られたシリカはフィルタープレス
を使用すれば水系より容易に固液分離してシリカとす
る。
このようにして得られたシリカを乾燥して得られたシリ
カ粉末はついでこれをカーボンケースに詰め、減圧下で
焼結するのであるが、この減圧は10-2トールを超えると
脱泡が充分でなくなるため10-2トール以下、好ましくは
10-2〜10-4トールとすることが必要である。また、この
焼結温度は1,500℃未満では充分な焼結が行なわれず、
したがって次段における加熱によって外観上不透明なも
のとなるし、1,700℃より高い温度とするとシリカ粒子
に含有されている泡が成長して大きくなり、この泡が最
後まで残るようになるので、これは1,500〜1,700℃の範
囲とする必要がある。
カ粉末はついでこれをカーボンケースに詰め、減圧下で
焼結するのであるが、この減圧は10-2トールを超えると
脱泡が充分でなくなるため10-2トール以下、好ましくは
10-2〜10-4トールとすることが必要である。また、この
焼結温度は1,500℃未満では充分な焼結が行なわれず、
したがって次段における加熱によって外観上不透明なも
のとなるし、1,700℃より高い温度とするとシリカ粒子
に含有されている泡が成長して大きくなり、この泡が最
後まで残るようになるので、これは1,500〜1,700℃の範
囲とする必要がある。
この焼結によってシリカは合成ガラスとされるが、本発
明の方法ではこのようにして得た石英ガラスをさらに1,
800〜2,200℃に加熱処理する。すなわち、このようにし
て得られた焼結物としての石英ガラスは炉外に取り出し
たのち再度加熱するのであるが、この加熱温度は1,800
〜2,200℃とすると石英ガラスの粘度が低くなって前段
の減圧焼結で発生した泡が圧力差でつぶれ易くなり、目
視でわかる泡がなくなるという有利性が与えられるけれ
ども、これを2,000℃以上とするとSiOの蒸気が激しく発
生するので、これは好ましくは1,800〜2,000℃の範囲と
することがよい。なお、この加熱は常圧で行なえばよい
が、これは１〜10気圧での加圧下で行なってもよく、加
圧とすればますます泡がつぶれ、目視では全く分らなく
なるという有利性が与えられる。
明の方法ではこのようにして得た石英ガラスをさらに1,
800〜2,200℃に加熱処理する。すなわち、このようにし
て得られた焼結物としての石英ガラスは炉外に取り出し
たのち再度加熱するのであるが、この加熱温度は1,800
〜2,200℃とすると石英ガラスの粘度が低くなって前段
の減圧焼結で発生した泡が圧力差でつぶれ易くなり、目
視でわかる泡がなくなるという有利性が与えられるけれ
ども、これを2,000℃以上とするとSiOの蒸気が激しく発
生するので、これは好ましくは1,800〜2,000℃の範囲と
することがよい。なお、この加熱は常圧で行なえばよい
が、これは１〜10気圧での加圧下で行なってもよく、加
圧とすればますます泡がつぶれ、目視では全く分らなく
なるという有利性が与えられる。
［実施例］ つぎに本発明の実施例および比較例をあげる。
実施例１ １m3のグラスライニング反応器に20重量％のNH4OH水300
lを入れ、これに充分精製したメチルシリケート265lを
滴下し、40〜50℃で加水分解反応を行なわせ、この反応
液をフィルタープレスで固液分離してシリカ粉135kgを
作った。
lを入れ、これに充分精製したメチルシリケート265lを
滴下し、40〜50℃で加水分解反応を行なわせ、この反応
液をフィルタープレスで固液分離してシリカ粉135kgを
作った。
ついで、このシリカを石英製容器に入れ、清浄な空気の
存在下に800℃で20時間加熱処理して脱水し、脱炭した
ところ、シリカ粉は95kgとなったので、この50kgを外径
300mmφ×内径280mmφの容積1,000lのカーボンケースに
詰め、10-3トールの減圧下に50℃／時の昇温速度で1,60
0℃まで昇温して２時間焼結し、降温後取り出したとこ
ろ、外観上不透明な径が278mmφで容積75lの石英インゴ
ットが得られた。
存在下に800℃で20時間加熱処理して脱水し、脱炭した
ところ、シリカ粉は95kgとなったので、この50kgを外径
300mmφ×内径280mmφの容積1,000lのカーボンケースに
詰め、10-3トールの減圧下に50℃／時の昇温速度で1,60
0℃まで昇温して２時間焼結し、降温後取り出したとこ
ろ、外観上不透明な径が278mmφで容積75lの石英インゴ
ットが得られた。
つぎにこのインゴットをアルゴンガス雰囲気下で2,000
℃に１時間加熱処理したところ、径が470mmφで容積が2
5lの透明なインゴット44kgが得られ、このものの不純物
量（化学分析値）、粘度、不純物の拡散速度（Na+イオ
ンの拡散係数）をしらべたところ、第１表に示したとお
りの結果が得られた。
℃に１時間加熱処理したところ、径が470mmφで容積が2
5lの透明なインゴット44kgが得られ、このものの不純物
量（化学分析値）、粘度、不純物の拡散速度（Na+イオ
ンの拡散係数）をしらべたところ、第１表に示したとお
りの結果が得られた。
しかし、比較のために天然の水晶粉を10-3トールの減圧
下に2,000℃で溶融して作った石英（比較例１）、発煙
状シリカをポリビニルアルコールを用いて円柱状に成形
し、10-3トールの減圧下に1,500℃で焼結して作った石
英（比較例２）、テトラエチルシリケートを塩酸の存在
下で加水分解して得たシリカゾルをコロイダルシリカと
混合し、成形したのち、10-1トールの減圧下に1,800℃
で焼結して得た石英（比較例３）について、その化学分
析値、粘度、不純物の拡散速度をしらべたところ、第１
表に併記したとおりの結果が得られ、本発明の方法で得
られた石英がすぐれた物性を示すことが確認された。
下に2,000℃で溶融して作った石英（比較例１）、発煙
状シリカをポリビニルアルコールを用いて円柱状に成形
し、10-3トールの減圧下に1,500℃で焼結して作った石
英（比較例２）、テトラエチルシリケートを塩酸の存在
下で加水分解して得たシリカゾルをコロイダルシリカと
混合し、成形したのち、10-1トールの減圧下に1,800℃
で焼結して得た石英（比較例３）について、その化学分
析値、粘度、不純物の拡散速度をしらべたところ、第１
表に併記したとおりの結果が得られ、本発明の方法で得
られた石英がすぐれた物性を示すことが確認された。
実施例２ 実施例１で得られた不透明な石英インゴットを円研加工
して250mmφ×70lのインゴットを作り、この中心に50mm
φの穴をあけ、1,950℃の電気炉中で延伸して外径70m
m、内径60mmのパイプを作り、また上記の不透明インゴ
ットについてはこれを円研加工によって100mmφ×70lの
インゴットとしたのち酸水素火炎バーナーを用いて10mm
φのムク棒を試作した。
して250mmφ×70lのインゴットを作り、この中心に50mm
φの穴をあけ、1,950℃の電気炉中で延伸して外径70m
m、内径60mmのパイプを作り、また上記の不透明インゴ
ットについてはこれを円研加工によって100mmφ×70lの
インゴットとしたのち酸水素火炎バーナーを用いて10mm
φのムク棒を試作した。
つぎにこのようにして作った石英パイプおよび棒の物性
をしらべたところ、実施例１の第１表と同じ特性を示し
た。
をしらべたところ、実施例１の第１表と同じ特性を示し
た。
［発明の効果］ 本発明の合成石英ガラスの製造方法は前記したように、
メチルシリケートをアルコールの添加なしでアンモニア
水の存在下に40〜50℃で、水よりなる系で加水分解し、
縮重合させて得たシリカ粉末を酸化雰囲気で加熱して脱
炭後、これを耐熱容器に入れ、10-2〜10-4トールの減圧
下に1,500〜1,700℃で焼結し、ついで1,800〜2,200℃に
加熱するものであるが、これによれば高純度で粘度が高
く、無泡で透明性がよく、不純物の拡散速度が極めて遅
い合成石英ガラスを得ることができるので、プロセスチ
ューブ、ボート、カンチレバーなどの半導体用耐熱治具
として、またハロゲンランプ、赤外線ヒーターなどの封
管材として有用とされる合成石英ガラスを容易に、かつ
安価に得ることができるという有利性が与えられる。
メチルシリケートをアルコールの添加なしでアンモニア
水の存在下に40〜50℃で、水よりなる系で加水分解し、
縮重合させて得たシリカ粉末を酸化雰囲気で加熱して脱
炭後、これを耐熱容器に入れ、10-2〜10-4トールの減圧
下に1,500〜1,700℃で焼結し、ついで1,800〜2,200℃に
加熱するものであるが、これによれば高純度で粘度が高
く、無泡で透明性がよく、不純物の拡散速度が極めて遅
い合成石英ガラスを得ることができるので、プロセスチ
ューブ、ボート、カンチレバーなどの半導体用耐熱治具
として、またハロゲンランプ、赤外線ヒーターなどの封
管材として有用とされる合成石英ガラスを容易に、かつ
安価に得ることができるという有利性が与えられる。
Claims (1)
- 【請求項１】メチルシリケートをアルコールの添加なし
で、アンモニア水の存在下に40〜50℃で水よりなる系で
加水分解し、縮重合させて粒径400〜1,000nmのシリカ粒
子を生成させ、固液分離し、脱水し、乾燥して粉末とし
たのち、これを酸化雰囲気において加熱して脱炭後、耐
熱ケースに詰め、10-2トール以下の減圧下に1,500〜1,7
00℃で焼結し、ついで常圧あるいは加圧下に1,800〜2,2
00℃に加熱することを特徴とする合成石英ガラスの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1139619A JPH0717389B2 (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1139619A JPH0717389B2 (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH035329A JPH035329A (ja) | 1991-01-11 |
| JPH0717389B2 true JPH0717389B2 (ja) | 1995-03-01 |
Family
ID=15249509
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1139619A Expired - Fee Related JPH0717389B2 (ja) | 1989-06-01 | 1989-06-01 | 合成石英ガラスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0717389B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0912322A (ja) * | 1995-06-29 | 1997-01-14 | Tosoh Corp | 高純度透明石英ガラス及びその製造方法 |
| JPH0940434A (ja) * | 1995-07-28 | 1997-02-10 | Tosoh Corp | 高純度石英ガラス及びその製造方法 |
| US6826927B2 (en) | 2000-06-28 | 2004-12-07 | Mitsubishi Materials Quartz Corporation | Synthetic quartz powder, its production process, and synthetic quartz crucible |
Family Cites Families (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2529110B1 (fr) * | 1982-06-23 | 1985-08-23 | Valeo | Procede de montage d'au moins un tube sur une plaque, outillage pour la mise en oeuvre de ce procede et les radiateurs notamment pour vehicules automobiles obtenus par ce procede, et autres applications |
| JPS60226418A (ja) * | 1984-04-20 | 1985-11-11 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | 石英ガラス塊の製造方法 |
| JPS63100025A (ja) * | 1986-10-15 | 1988-05-02 | Seiko Epson Corp | 石英ガラスの製造方法 |
-
1989
- 1989-06-01 JP JP1139619A patent/JPH0717389B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH035329A (ja) | 1991-01-11 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP3751326B2 (ja) | 高純度透明石英ガラスの製造方法 | |
| JPH072513A (ja) | 合成石英ガラス粉の製造方法 | |
| JP4038137B2 (ja) | ケイ素−チタン−混合酸化物粉末を含有する分散液、その製造方法、それにより製造された成形体、その製造方法、ガラス成形品、その製造方法及びその使用 | |
| KR100501759B1 (ko) | 3차원 무수 겔을 제조하기 위한 졸-겔 방법 및 이로부터 제조된 실리카 무수 겔 및 실리카 유리 제품 | |
| JP3092675B2 (ja) | オキシナイトライドガラス及びその製造方法 | |
| JPH0826742A (ja) | 合成石英ガラス粉 | |
| JPH07300324A (ja) | 耐熱性合成石英ガラスの製造方法 | |
| JPH0717389B2 (ja) | 合成石英ガラスの製造方法 | |
| EP0767761B1 (en) | Sintered quartz glass products and methods for making same | |
| JPH03109223A (ja) | 石英ガラスおよびその製造方法 | |
| JPH0912322A (ja) | 高純度透明石英ガラス及びその製造方法 | |
| JP2732643B2 (ja) | 高純度・高粘性シリカガラスの製造方法 | |
| JPH0517172B2 (ja) | ||
| JP3187510B2 (ja) | 半導体ウエハ熱処理用部材の製造方法 | |
| JP3724084B2 (ja) | 合成石英粉の製造方法及び石英ガラス成形体 | |
| JPH0450263B2 (ja) | ||
| JPH0264027A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPH0541565B2 (ja) | ||
| JP3114936B2 (ja) | 高耐熱性合成石英ガラス | |
| JP4297578B2 (ja) | 不透明石英ガラスの製造方法 | |
| JPH01320232A (ja) | 石英ガラスの製造方法 | |
| JPH02180723A (ja) | 合成石英ガラスの製造方法 | |
| JPH0745326B2 (ja) | 合成石英ガラスインゴットの製造方法および合成石英ルツボ | |
| JPH0729790B2 (ja) | 無水合成石英ガラスの製造方法 | |
| JPH04224135A (ja) | 泡ガラスおよびその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |