JPH0724094B2 - 磁気ヘッド - Google Patents
磁気ヘッドInfo
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- JPH0724094B2 JPH0724094B2 JP8171189A JP8171189A JPH0724094B2 JP H0724094 B2 JPH0724094 B2 JP H0724094B2 JP 8171189 A JP8171189 A JP 8171189A JP 8171189 A JP8171189 A JP 8171189A JP H0724094 B2 JPH0724094 B2 JP H0724094B2
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- Japan
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- magnetic material
- magnetic
- gap
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、高密度磁気記録再生を可能としたMIG（Metal
in Gap）型の磁気ヘッドに関するものである。
in Gap）型の磁気ヘッドに関するものである。
従来より、高透磁率を有し耐摩耗性等に優れたフェライ
ト材等の酸化物磁性材料の利点と、高透磁率および高飽
和磁束密度を有する合金磁性材料の利点とを併せ持った
MIG型の磁気ヘッドが知られている。この磁気ヘッド
は、コア本体に酸化物磁性材料を使用すると共に、ギャ
ップの近傍を合金磁性材料で形成したものである。
ト材等の酸化物磁性材料の利点と、高透磁率および高飽
和磁束密度を有する合金磁性材料の利点とを併せ持った
MIG型の磁気ヘッドが知られている。この磁気ヘッド
は、コア本体に酸化物磁性材料を使用すると共に、ギャ
ップの近傍を合金磁性材料で形成したものである。
このような磁気ヘッドの製造方法においては、第３図
（ａ）に示すように、コアとなる酸化物磁性材料の一方
のブロック11に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14と内
部巻線用溝15とを形成すると共に、同図（ｂ）に示すよ
うに、同じくコアとなる酸化物磁性材料の他方のブロッ
ク12に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14とを形成す
る。そして、ブロック11・12における各々のギャップ対
向面16とテープ摺動面17とを鏡面状に研磨した後、同図
（ｃ）および（ｄ）に示すように、所定のギャップトラ
ック幅を得るための溝（トラック溝）18…を形成する。
次いで、ギャップ対向面16の表層付近の加工変質層をエ
ッチングにより除去した後、同図（ｅ）（ｆ）（ｇ）に
示すように、ブロック11・12におけるそれぞれのギャッ
プ対向面16上に高透磁率および高飽和磁束密度を有する
合金磁性材料薄膜19をスパッタリング法等により形成す
る。次いで、合金磁性材料薄膜19上におけるギャップ形
成部位にギャップ材としてSiO2等の非磁性材料を約0.3
μｍの厚みで形成した後、同図（ｈ）に示すように、上
記のブロック11・12同士を各々のギャップ対向面16・16
の突き合わせて貼り合わせ、ガラス充填用溝14および内
部巻線用溝15によりそれぞれ形成される空洞部位にガラ
ス20を配置し加熱溶着する。そして、このようにして得
られた磁気ヘッドブロックにおけるテープ摺動面17に、
同図（ｉ）に示すように、曲面を形成した後、仮想線ｂ
…に沿って切断することにより、同図（ｊ）に示すよう
に、磁気ヘッド22（まだ巻線の施されていない段階）を
得る。
（ａ）に示すように、コアとなる酸化物磁性材料の一方
のブロック11に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14と内
部巻線用溝15とを形成すると共に、同図（ｂ）に示すよ
うに、同じくコアとなる酸化物磁性材料の他方のブロッ
ク12に外部巻線用溝13とガラス充填用溝14とを形成す
る。そして、ブロック11・12における各々のギャップ対
向面16とテープ摺動面17とを鏡面状に研磨した後、同図
（ｃ）および（ｄ）に示すように、所定のギャップトラ
ック幅を得るための溝（トラック溝）18…を形成する。
次いで、ギャップ対向面16の表層付近の加工変質層をエ
ッチングにより除去した後、同図（ｅ）（ｆ）（ｇ）に
示すように、ブロック11・12におけるそれぞれのギャッ
プ対向面16上に高透磁率および高飽和磁束密度を有する
合金磁性材料薄膜19をスパッタリング法等により形成す
る。次いで、合金磁性材料薄膜19上におけるギャップ形
成部位にギャップ材としてSiO2等の非磁性材料を約0.3
μｍの厚みで形成した後、同図（ｈ）に示すように、上
記のブロック11・12同士を各々のギャップ対向面16・16
の突き合わせて貼り合わせ、ガラス充填用溝14および内
部巻線用溝15によりそれぞれ形成される空洞部位にガラ
ス20を配置し加熱溶着する。そして、このようにして得
られた磁気ヘッドブロックにおけるテープ摺動面17に、
同図（ｉ）に示すように、曲面を形成した後、仮想線ｂ
…に沿って切断することにより、同図（ｊ）に示すよう
に、磁気ヘッド22（まだ巻線の施されていない段階）を
得る。
ところが、上記従来の磁気ヘッドでは、酸化物磁性材料
であるブロック11・12の各々のギャップ対向面16と合金
磁性材料薄膜19との境界面がギャップに対し平行である
ため、第４図に示すように、再生出力−周波数特性に生
じるうねりが約3dBにもなる。これは酸化物磁性材料と
合金磁性材料との磁気特性の相違や、境界面において形
成された酸素等の拡散による反応層や前記の変質層の不
完全除去部分等が疑似ギャップとして作用する、いわゆ
る形状効果（コンター効果）のためと考えられる。な
お、上記の第４図において、磁気記録媒体と磁気ヘッド
との相対速度は5.8m/sec.、磁気記録媒体としては保磁
力900エルステッドのものを用いている。
であるブロック11・12の各々のギャップ対向面16と合金
磁性材料薄膜19との境界面がギャップに対し平行である
ため、第４図に示すように、再生出力−周波数特性に生
じるうねりが約3dBにもなる。これは酸化物磁性材料と
合金磁性材料との磁気特性の相違や、境界面において形
成された酸素等の拡散による反応層や前記の変質層の不
完全除去部分等が疑似ギャップとして作用する、いわゆ
る形状効果（コンター効果）のためと考えられる。な
お、上記の第４図において、磁気記録媒体と磁気ヘッド
との相対速度は5.8m/sec.、磁気記録媒体としては保磁
力900エルステッドのものを用いている。
かかる問題点を解消するものとして、本願発明の発明者
は、酸化物磁性材料と合金磁性材料との間にクロムを介
装してなる磁気ヘッドを既に提案している。この磁気ヘ
ッドは、第５図（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示すよう
に、前述した磁気ヘッド22と同様の製造工程を経た後
（加工変質層を除去した後）、同図（ｅ）（ｆ）（ｇ）
に示すように、クロム（Cr）膜23をスパッタリング法等
により10Å〜200Åの厚みでギャップ対向面16上に形成
する。その後、合金磁性材料薄膜19をスパッタリング法
等により膜厚２〜６μｍで上記のクロム膜23上において
ギャップに対し平行に形成する。そして、合金磁性材料
薄膜19におけるギャップ形成部位にギャップ材としてSi
O2等の非磁性材料を約0.3μｍの厚みで形成する。以後
の製造工程は、同図（ｈ）（ｉ）（ｊ）に示すように、
前述の磁気ヘッドの製造と同様の加工が行われる。
は、酸化物磁性材料と合金磁性材料との間にクロムを介
装してなる磁気ヘッドを既に提案している。この磁気ヘ
ッドは、第５図（ａ）（ｂ）（ｃ）（ｄ）に示すよう
に、前述した磁気ヘッド22と同様の製造工程を経た後
（加工変質層を除去した後）、同図（ｅ）（ｆ）（ｇ）
に示すように、クロム（Cr）膜23をスパッタリング法等
により10Å〜200Åの厚みでギャップ対向面16上に形成
する。その後、合金磁性材料薄膜19をスパッタリング法
等により膜厚２〜６μｍで上記のクロム膜23上において
ギャップに対し平行に形成する。そして、合金磁性材料
薄膜19におけるギャップ形成部位にギャップ材としてSi
O2等の非磁性材料を約0.3μｍの厚みで形成する。以後
の製造工程は、同図（ｈ）（ｉ）（ｊ）に示すように、
前述の磁気ヘッドの製造と同様の加工が行われる。
しかしながら、このように、酸化物磁性材料であるブロ
ック11・12と合金磁性材料薄膜19との間にクロム膜23を
介装した磁気ヘッドといえども、第６図に示すように、
再生出力−周波数特性に1dB程度のうねりが依然として
残り、十分な性能とはいえず、より一層の改善が望まれ
ている。なお、第６図においての諸条件は第４図におけ
る諸条件と同様に設定されている。
ック11・12と合金磁性材料薄膜19との間にクロム膜23を
介装した磁気ヘッドといえども、第６図に示すように、
再生出力−周波数特性に1dB程度のうねりが依然として
残り、十分な性能とはいえず、より一層の改善が望まれ
ている。なお、第６図においての諸条件は第４図におけ
る諸条件と同様に設定されている。
本発明に係る磁気ヘッドは、上記の課題を解決するため
に、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャ
ップ対向面側でギャップに対し平行に形成されている磁
気ヘッドにおいて、上記の酸化物磁性材料コアのギャッ
プ対向面上と合金磁性材料薄膜との間に炭化クロムが形
成されていることを特徴としている。
に、高透磁率および高飽和磁束密度を有する合金磁性材
料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料コアのギャ
ップ対向面側でギャップに対し平行に形成されている磁
気ヘッドにおいて、上記の酸化物磁性材料コアのギャッ
プ対向面上と合金磁性材料薄膜との間に炭化クロムが形
成されていることを特徴としている。
上記の構成によれば、ギャップ対向面上に形成された炭
化クロムにより、合金磁性材料薄膜と酸化物磁性材料コ
ア間の酸素等の相互拡散を抑制することができる。この
ため、酸化物磁性材料コアと合金磁性材料薄膜の境界面
付近での酸化物磁性材料コアおよび合金磁性材料薄膜の
軟磁気特性の劣化を防止でき、軟磁気特性が劣化した部
分が再生時にギャップとして作用することがなくなるた
め、形状効果を抑制して再生出力−周波数特性における
うねりを低減することができる。
化クロムにより、合金磁性材料薄膜と酸化物磁性材料コ
ア間の酸素等の相互拡散を抑制することができる。この
ため、酸化物磁性材料コアと合金磁性材料薄膜の境界面
付近での酸化物磁性材料コアおよび合金磁性材料薄膜の
軟磁気特性の劣化を防止でき、軟磁気特性が劣化した部
分が再生時にギャップとして作用することがなくなるた
め、形状効果を抑制して再生出力−周波数特性における
うねりを低減することができる。
本発明の一実施例を第１図および第２図に基づいて説明
すれば、以下の通りである。
すれば、以下の通りである。
本発明に係る磁気ヘッドにおいて、第１図（ｊ）に示す
ように、高透磁率を有する酸化物磁性材料コア１・２に
おけるギャップ対向面３・３の各々には、所定幅を有し
且つギャップに対し平行な面を有する突出部3a・3aが形
成されている。この突出部3a・3aを含むギャップ対向面
３・３上には、10Å〜200Åの厚みで炭化クロム膜４が
形成されており、この炭化クロム膜４を介してギャップ
対向面３上には２μｍ〜６μｍの厚みで高透磁率および
高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜５が形成され
ている。そして、これら炭化クロム膜４および合金磁性
材料薄膜５の形成された酸化物磁性材料コア１・２同士
は、その突出部3a・3aの間にギャップ材として厚みが約
0.3μｍのSiO2等の非磁性材料を介装した状態でギャッ
プ対向面３・３を互いに突き合わせて溶融ガラス６にて
固着されている。
ように、高透磁率を有する酸化物磁性材料コア１・２に
おけるギャップ対向面３・３の各々には、所定幅を有し
且つギャップに対し平行な面を有する突出部3a・3aが形
成されている。この突出部3a・3aを含むギャップ対向面
３・３上には、10Å〜200Åの厚みで炭化クロム膜４が
形成されており、この炭化クロム膜４を介してギャップ
対向面３上には２μｍ〜６μｍの厚みで高透磁率および
高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜５が形成され
ている。そして、これら炭化クロム膜４および合金磁性
材料薄膜５の形成された酸化物磁性材料コア１・２同士
は、その突出部3a・3aの間にギャップ材として厚みが約
0.3μｍのSiO2等の非磁性材料を介装した状態でギャッ
プ対向面３・３を互いに突き合わせて溶融ガラス６にて
固着されている。
上記磁気ヘッドを製造するには、同図（ａ）に示すよう
に、コアとなる酸化物磁性材料の一方のブロック１′に
外部巻線用溝１′ａとガラス充填用溝１′ｂと内部巻線
用溝１′ｃとを形成すると共に、同図（ｂ）に示すよう
に、同じくコアとなる酸化物磁性材料の他方のブロック
２′に外部巻線用溝２′ａとガラス充填用溝２′ｂとを
形成する。そして、ブロック１′・２′におけるそれぞ
れのギャップ対向面３とテープ摺動面７を鏡面状に研磨
した後、同図（ｃ）および（ｄ）に示すように、所定の
ギャップトラック幅を得るための溝（トラック溝）８…
を形成する。次に、ギャップ対向面３の表層付近の加工
変質層をエッチングにより除去した後、同図（ｅ）
（ｆ）（ｇ）に示すように、炭化クロム膜４を、窒素ガ
スとアセチレンガスとの混合ガスを用いる反応性スパッ
タリング法等により10Å〜200Åの厚みでギャップ対向
面３上に形成する。若しくは、炭化クロムターゲットを
用いてスパッタリング法により形成する。ここで、炭化
クロム膜４の膜厚が10Åよりも薄いと、当該炭化クロム
膜４が不連続となって島状に形成されるため、形状効果
抑制の機能が発揮されず、一方、200Åよりも厚いと炭
化クロム膜４がギャップ層として作用するため、前述の
通り炭化クロム膜４の厚みには概ね10Å〜200Å程度が
好適となる。なお、炭化クロム膜４は、10Å〜200Åの
厚みの範囲内で薄ければ薄いほど形状効果抑止の機能が
顕著となる。
に、コアとなる酸化物磁性材料の一方のブロック１′に
外部巻線用溝１′ａとガラス充填用溝１′ｂと内部巻線
用溝１′ｃとを形成すると共に、同図（ｂ）に示すよう
に、同じくコアとなる酸化物磁性材料の他方のブロック
２′に外部巻線用溝２′ａとガラス充填用溝２′ｂとを
形成する。そして、ブロック１′・２′におけるそれぞ
れのギャップ対向面３とテープ摺動面７を鏡面状に研磨
した後、同図（ｃ）および（ｄ）に示すように、所定の
ギャップトラック幅を得るための溝（トラック溝）８…
を形成する。次に、ギャップ対向面３の表層付近の加工
変質層をエッチングにより除去した後、同図（ｅ）
（ｆ）（ｇ）に示すように、炭化クロム膜４を、窒素ガ
スとアセチレンガスとの混合ガスを用いる反応性スパッ
タリング法等により10Å〜200Åの厚みでギャップ対向
面３上に形成する。若しくは、炭化クロムターゲットを
用いてスパッタリング法により形成する。ここで、炭化
クロム膜４の膜厚が10Åよりも薄いと、当該炭化クロム
膜４が不連続となって島状に形成されるため、形状効果
抑制の機能が発揮されず、一方、200Åよりも厚いと炭
化クロム膜４がギャップ層として作用するため、前述の
通り炭化クロム膜４の厚みには概ね10Å〜200Å程度が
好適となる。なお、炭化クロム膜４は、10Å〜200Åの
厚みの範囲内で薄ければ薄いほど形状効果抑止の機能が
顕著となる。
炭化クロム膜４の形成後、合金磁性材料薄膜５を炭化ク
ロム膜４上にスパッタリング法等により２〜６μｍの厚
みで形成する。そして、合金磁性材料薄膜５上における
ギャップ形成部位にギャップ材としてSiO2等の非磁性材
料を約0.3μｍの厚みで形成する。次に、同図（ｈ）に
示すように、上記のブロック１′・２′同士を各々のギ
ャップ対向面３・３を突き合わせて貼り合わせ、ガラス
充填用溝１′ｂ・２′ｂおよび内部巻線用溝１′ｃによ
りそれぞれ形成される空洞部位に溶融ガラス６を配置し
加熱溶着する。そして、このようにして得られた磁気ヘ
ッドブロークにおけるテープ摺動面７に、同図（ｉ）に
示すように、曲面を形成した後、仮想線ａ…に沿って切
断することにより、同図（ｊ）に示すように、磁気ヘッ
ド（まだ巻線の施されていない段階）が得られる。従っ
て、従来の製造工程とほぼ同様の製造工程で磁気ヘッド
を得ることができ、磁気ヘッドの量産性や品質の均一性
はそのまま維持され、磁気ヘッドの低価格化も可能であ
る。
ロム膜４上にスパッタリング法等により２〜６μｍの厚
みで形成する。そして、合金磁性材料薄膜５上における
ギャップ形成部位にギャップ材としてSiO2等の非磁性材
料を約0.3μｍの厚みで形成する。次に、同図（ｈ）に
示すように、上記のブロック１′・２′同士を各々のギ
ャップ対向面３・３を突き合わせて貼り合わせ、ガラス
充填用溝１′ｂ・２′ｂおよび内部巻線用溝１′ｃによ
りそれぞれ形成される空洞部位に溶融ガラス６を配置し
加熱溶着する。そして、このようにして得られた磁気ヘ
ッドブロークにおけるテープ摺動面７に、同図（ｉ）に
示すように、曲面を形成した後、仮想線ａ…に沿って切
断することにより、同図（ｊ）に示すように、磁気ヘッ
ド（まだ巻線の施されていない段階）が得られる。従っ
て、従来の製造工程とほぼ同様の製造工程で磁気ヘッド
を得ることができ、磁気ヘッドの量産性や品質の均一性
はそのまま維持され、磁気ヘッドの低価格化も可能であ
る。
上記の構成によれば、ギャップ対向面３・３上に形成さ
れた炭化クロム膜４により、合金磁性材料薄膜５と酸化
物磁性材料コア１・２間の酸素等の相互拡散を抑制する
ことができる。このため、酸化物磁性材料コア１・２と
合金磁性材料薄膜５の境界面付近での酸化物磁性材料コ
ア１・２および合金磁性材料薄膜５の軟磁気特性の劣化
を防止でき、軟磁気特性が劣化した部分が再生時にギャ
ップとして作用することがなくなるため、形状効果を抑
制して再生出力−周波数特性におけるうねりを低減する
ことができる。
れた炭化クロム膜４により、合金磁性材料薄膜５と酸化
物磁性材料コア１・２間の酸素等の相互拡散を抑制する
ことができる。このため、酸化物磁性材料コア１・２と
合金磁性材料薄膜５の境界面付近での酸化物磁性材料コ
ア１・２および合金磁性材料薄膜５の軟磁気特性の劣化
を防止でき、軟磁気特性が劣化した部分が再生時にギャ
ップとして作用することがなくなるため、形状効果を抑
制して再生出力−周波数特性におけるうねりを低減する
ことができる。
第２図は、スパッタリング法により厚み50Åの炭化クロ
ム膜４を形成した後に合金磁性材料薄膜５としてセンダ
スト合金薄膜を４μｍの厚みで形成して得られた磁気ヘ
ッドにおける再生出力−周波数特性図である。この特性
試験において、磁気ヘッドと記録媒体の相対速度は5.8m
/sec.、記録媒体として保磁力900エルステッドのものを
用いている。この図から明らかなように、再生出力−周
波数特性におけるうねりは0.3dBの範囲に低減され、再
生信号の品質を著しく向上することができた。
ム膜４を形成した後に合金磁性材料薄膜５としてセンダ
スト合金薄膜を４μｍの厚みで形成して得られた磁気ヘ
ッドにおける再生出力−周波数特性図である。この特性
試験において、磁気ヘッドと記録媒体の相対速度は5.8m
/sec.、記録媒体として保磁力900エルステッドのものを
用いている。この図から明らかなように、再生出力−周
波数特性におけるうねりは0.3dBの範囲に低減され、再
生信号の品質を著しく向上することができた。
本発明に係る磁気ヘッドは、以上のように、高透磁率お
よび高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜が、高透
時率を有する酸化物磁性材料コアのギャップ対向面側で
ギャップに対し平行に形成されている磁気ヘッドにおい
て、上記の酸化物磁性材料コアのギャップ対向面上と合
金磁性材料薄膜との間に炭化クロムが形成されている構
成である。
よび高飽和磁束密度を有する合金磁性材料薄膜が、高透
時率を有する酸化物磁性材料コアのギャップ対向面側で
ギャップに対し平行に形成されている磁気ヘッドにおい
て、上記の酸化物磁性材料コアのギャップ対向面上と合
金磁性材料薄膜との間に炭化クロムが形成されている構
成である。
これにより、いわゆる形状効果を抑制して再生出力−周
波数特性におけるうねりを低減することができ、再生信
号の品質を著しく向上することができるという効果を奏
する。
波数特性におけるうねりを低減することができ、再生信
号の品質を著しく向上することができるという効果を奏
する。
第１図および第２図は本発明の一実施例を示すものであ
る。 第１図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）は
それぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図、
同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図である。 第２図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性のグ
ラフである。 第３図および第４図は従来例を示すものである。 第３図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）は
それぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図、
同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図である。 第４図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性のグ
ラフである。 第５図および第６図は他従来例を示すものである。 第５図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）は
それぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図、
同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図である。 第６図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性のグ
ラフである。 １・２は酸化物磁性材料コア、１′・２′は酸化物磁性
材料のブロック、３はギャップ対向面、４は炭化クロム
膜、５は合金磁性材料薄膜、６は溶融ガラスである。
る。 第１図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）は
それぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図、
同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図である。 第２図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性のグ
ラフである。 第３図および第４図は従来例を示すものである。 第３図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）は
それぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図、
同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図である。 第４図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性のグ
ラフである。 第５図および第６図は他従来例を示すものである。 第５図（ａ）ないし（ｆ）および（ｈ）ないし（ｊ）は
それぞれ磁気ヘッドの製造工程の各段階を示す斜視図、
同図（ｇ）は同図（ｆ）における要部の断面図である。 第６図は磁気ヘッドにおける再生出力−周波数特性のグ
ラフである。 １・２は酸化物磁性材料コア、１′・２′は酸化物磁性
材料のブロック、３はギャップ対向面、４は炭化クロム
膜、５は合金磁性材料薄膜、６は溶融ガラスである。
Claims (1)
- 【請求項１】高透磁率および高飽和磁束密度を有する合
金磁性材料薄膜が、高透磁率を有する酸化物磁性材料コ
アのギャップ対向面側でギャップに対し平行に形成され
ている磁気ヘッドにおいて、 上記の酸化物磁性材料コアのギャップ対向面上と合金磁
性材料薄膜との間に炭化クロムが形成されていることを
特徴とする磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8171189A JPH0724094B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8171189A JPH0724094B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 磁気ヘッド |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02260210A JPH02260210A (ja) | 1990-10-23 |
| JPH0724094B2 true JPH0724094B2 (ja) | 1995-03-15 |
Family
ID=13753976
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8171189A Expired - Fee Related JPH0724094B2 (ja) | 1989-03-31 | 1989-03-31 | 磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0724094B2 (ja) |
-
1989
- 1989-03-31 JP JP8171189A patent/JPH0724094B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02260210A (ja) | 1990-10-23 |
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