JPH07261436A

JPH07261436A - 電子写真感光体

Info

Publication number: JPH07261436A
Application number: JP6047239A
Authority: JP
Inventors: Akira Kinoshita; 昭木下; Tomoko Suzuki; 友子鈴木; 友男 ▲崎▼村; Tomoo Sakimura
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 1994-03-17
Filing date: 1994-03-17
Publication date: 1995-10-13
Anticipated expiration: 2016-11-19
Also published as: JP3230173B2

Abstract

(57)【要約】（修正有）【目的】高速の複写機、プリンタ、ファックス等に広
く用いることができる高感度な電子写真感光体を提供す
る。【構成】構造式（１）または（２）のイミダゾールペ
リレン化合物を含み、その感光体中における結晶状態が
Ｃｕ−Ｋα線に対するＸ線回折スペクトルの6.3±0.2
°、12.4±0.2°、25.3±0.2°、27.1±0.2°にピーク
を有する結晶で、12.4±0.2°のピーク強度が最大であ
ると同時に同ピークの半値幅が0.65゜以上であり、かつ
11.5±0.2°に明瞭なピークを示さない状態で存在させ、
キャリア輸送物質として構造式(３）の化合物を含有さ
せるものである。式中、Ａｒ₁〜Ａｒ₄は芳香族炭化水素基または複素環基
を、Ｒ₂は水素原子もしくは芳香族炭化水素基または複
素環基を表す。ｎは１もしくは２である。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は電子写真感光体に関する
ものであり、特にプリンタ、複写機等に有効な高感度の
感光体に関する。

【０００２】

【従来の技術】電子写真システムの感光体としては、セ
レン、硫化カドミウム等の無機光電導性物質を主成分と
する無機感光体と種々の有機光導電性化合物を主成分と
する有機感光体に大別することができる。従来、高速の
複写機用には感度特性に優れる無機感光体が用いられて
きたが、製造原料や製品化合物の毒性による制約が大き
く、また環境保護の観点からも近年は無害な有機感光体
に置き換えることの要請が強くなってきている。このよ
うな流れに基づいて有機感光体の高性能化の要求は強
く、特に高感度化のための技術開発は緊急の課題となっ
ている。

【０００３】有機感光体の性能向上のために用いられる
最も一般的な方法は光キャリアの発生機能とキャリア輸
送機能を異なる物質に個別に分担させる機能分離の技術
である。キャリアの発生とキャリアの輸送を別々の物質
に担わせることにより、それぞれに適した物質を広い範
囲のものから選択することが可能となった。特に有機感
光体では化合物の種類が豊富であるためこのような機能
分離による高性能化において有利であり、多くのキャリ
ア発生物質及びキャリア輸送物質が提案されてきてい
る。

【０００４】有機感光体のキャリア発生物質としては例
えば、ジブロムアンスアンスロンに代表される多環キノ
ン化合物や、無金属フタロシアニン、チタニルフタロシ
アニン等のフタロシアニン化合物、ビスアゾ化合物やト
リスアゾ化合物、チアピリリウム化合物とポリカーボネ
ートとの共晶錯体、スクエアリウム化合物などが実用化
されてきた。またキャリア輸送物質としては例えば、ピ
ラゾリン化合物、ポリアリールアルカン化合物、トリフ
エニルアミン化合物、ヒドラゾン化合物、テトラフエニ
ルベンジジン化合物、スチリル化合物などが実用化され
てきた。

【０００５】なかでもキャリア発生物質の性能は直接に
感度特性を決定してしまうが、その基本機能であるとこ
ろの入射光を吸収して電子キャリアを生成させる能力
は、キャリア発生物質の分子構造に依存するばかりでな
くそれらの分子の集合形態によっても著しく影響され
る。例えば上記の無金属フタロシアニンやチタニルフタ
ロシアニンでは多くの結晶多形が知られており、分子構
造が同じでも結晶型が異なるとキャリア発生の量子効率
は全く異なるため、結果としての電子写真感度に大きな
差が見られる。無金属フタロシアニンのＸ型結晶やτ型
結晶はα型結晶やβ型結晶に比べて１オーダー大きい感
度を示すことやチタニルフタロシアニンのＹ型結晶がＡ
型結晶やＢ型結晶に比べて３〜４倍高い感度を示すこと
はよく知られたことである。同様にアゾ化合物やスクエ
アリウム化合物においても分子凝集構造の違いによって
感度が著しく変化する。

【０００６】このようにキャリア発生物質の開発におい
ては化学構造の最適化と同様にその結晶構造或いは分子
凝集構造の最適化が不可欠な要素となっている。

【０００７】本発明を構成する構造式（１）または
（２）のイミダゾールペリレン化合物は特公昭61-8423
号（米国特許3,972,717号）においてキャリア発生物質
として用いる技術が公開され、その後本化合物をキャリ
ア発生物質とした多くの電子写真感光体が検討されてき
ている。特開昭59-59686号には主として本化合物を分散
塗布して感光体を作製する技術が示され、特開昭61-275
848号（米国特許4,587,189号）、特開昭63-180956号、
特開昭63-291061号、特開平4-186363号、特開平4-18636
4号には本化合物と特定のキャリア輸送物質とを組み合
わせて用いる技術が示されている。また特開昭64-56444
号、特開平4-204850号にはアシッドペースト処理によっ
て本化合物を微粒化する技術が示されており、特公昭63
-41054号には本化合物を含むペリレン系化合物を昇華精
製して用いる技術が示されている。

【０００８】しかしながら、これらの従来技術において
は本化合物の結晶状態に関する検討が行われていないた
めに十分な感度特性を引き出すことが出来ず、近年の高
感度化の要求に応えることができていない。

【０００９】構造式（１）または（２）の化合物の結晶
型については、J.Imag.Sci.,vol.33,P151-159(1989)に
いくつかのＸ線回折スペクトルが開示されている。しか
しながらこれらは粉末結晶に関するものであり、本発明
者らの検討においてはこれらの粉末を用いて感光体塗布
液を調製した場合に、塗布液調製の条件や化学的純度に
依存して感光体塗布物のＸ線回折スペクトルが変化し、
同時に感光体特性も大きく変化することが明らかとなっ
た。

【００１０】このような観点から特開平5-249719号及び
特開平5-281769号においては該化合物の結晶状態を制御
する技術が公開されている。これらの技術は乾式粉砕法
によって結晶状態を調節するものであるが、このような
乾式粉砕は局所的に強いせん断力がかかるため、粉砕の
均一化の点で問題があり電子写真画像に黒点を生じ易い
という欠点がある。また乾式粉砕は結晶粉末に対する機
械的衝撃が大きいために結晶欠陥が導入され易く、その
結果として帯電電位保持能の低下が起こる。このように
本化合物に対しては結晶制御技術がまだ不十分であり、
その性能が引き出されていない。

【００１１】また一方でこのようなキャリア発生物質と
組み合わせて用いるキャリア輸送物質は感光体の性能を
決定する重要な要因となる。感度性能はもちろんのこと
電子写真感光体として使用するときに要求される感光層
の物性はキャリア輸送物質によって大きく変化する。特
開平5-249719号及び特開平5-281769号にはベンジジン系
のキャリア輸送物質を用いる技術が開示されているが、
この化合物を含有して作製した感光体は感光層の微視的
な亀裂（クラックと呼ぶ）を生じ易く、クラックに基づ
く画像欠陥が現れ易いという問題を有している。

【００１２】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は高速の
複写機、プリンタ、ファックス等に広く用いることがで
きる高感度で画像安定性に優れた電子写真感光体を提供
することである。

【００１３】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記構
成によって達成される。

【００１４】〔１〕少なくとも構造式（１）または
（２）のイミダゾールペリレン化合物を含有する感光体
において、該イミダゾールペリレン化合物がＣｕ−Ｋα
線に対するＸ線回折スペクトルの6.3±0.2°、12.4±0.
2°、25.3±0.2°、27.1±0.2°にピークを有する結晶
であって、12.4±0.2°のピーク強度が最大であると同
時に同ピークの半値幅が0.65゜以上であり、かつ11.5±
0.2°に明瞭なピークを示さない状態で存在することを
特徴とする電子写真感光体であり、

【００１５】

【化５】

【００１６】そしてさらに、構造式（３），（４），
（５）もしくは（６）で表される化合物をキャリア輸送
物質として用いることにより、感度特性及び画像安定性
に優れた感光体が得られるものである。なかでも、一般
式（３）のキャリア輸送物質を用いた場合は特に高感度
特性が得られる。

【００１７】

【化６】

【００１８】式中、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃、Ａｒ₄は置
換、無置換の芳香族炭化水素基または複素環基を表し、
Ｒ₂は水素原子もしくは置換、無置換の芳香族炭化水素
基または複素環基を表す。ｎは１もしくは２である。芳
香族炭化水素基または複素環基として好ましいのは、ベ
ンゼン、ナフタレン、アントラセン、チオフェン、ピリ
ジン、カルバゾールであり、特に好ましいのは、ベンゼ
ン、ナフタレンである。芳香族炭化水素基または複素環
基上の置換基としては、アルキル、アリール、アルコキ
シ、アリールオキシ、アシル、アシロキシ、ハロゲン、
アミノ、シアノ等が挙げられるが、特に好ましいのは、
炭素数１〜６のアルキル、炭素数１〜６のアルコキシ、
炭素数１〜６のアシル、ハロゲン、アミノである。ま
た、Ａｒ₄とＲ₂は互いに結合していてもよい。

【００１９】

【化７】

【００２０】式中、Ｒ₃、Ｒ₄は置換、無置換の芳香族炭
化水素基、複素環基またはアルキル基を表し、Ｒ₅は水
素原子もしくは置換、無置換の芳香族炭化水素基、複素
環基、アルキル基をを表し、Ａｒ₅は置換、無置換の芳
香族炭化水素基または複素環基を表す。ｍは０もしくは
１である。Ｒ₃、Ｒ₄の好ましいものとしては、メチル
基、エチル基、フェニル基、ナフチル基、チエニルメチ
ル基が挙げられる。Ｒ₅としては、水素原子及びフェニ
ル基が好ましい。Ａｒ₅として好ましいのは、ベンゼ
ン、ナフタレン、ピレン、チオフェン、ピリジン、カル
バゾールであり、特に好ましいのは、ベンゼン、ピレ
ン、カルバゾールである。Ａｒ₅の置換基としては、炭
素数１〜６のアルキル、ジアルキルアミノ、ジアリール
アミノが好ましい。

【００２１】

【化８】

【００２２】式中、Ｙは置換、無置換のベンゼン、ナフ
タレン、ピレン、フルオレン、カルバゾール、及び4,
4′-アルキリデンジフェニル基を示す。Ａｒ₆、Ａｒ₇は
置換、無置換の芳香族炭化水素基または複素環基を表
す。ｌは１〜３の整数である。

【００２３】Ｙ上の置換基としては炭素数１〜６のアル
キル基が好ましい。Ａｒ₆、Ａｒ₇としてはベンゼンが好
ましく、置換基としては炭素数１〜６のアルキル、アリ
ール、アルコキシ、アリールオキシが好ましい。

【００２４】

【化９】

【００２５】式中、Ａｒ₈、Ａｒ₉、Ａｒ₁₀、Ａｒ₁₁は置
換、無置換の芳香族炭化水素基または複素環基を表す
が、ベンゼンが特に好ましく、その置換基としては、ジ
アルキルアミン、ジアリールアミンが好ましい。

【００２６】以下に一般式（３）、（４）、（５）、
（６）で表されるキャリア輸送物質の具体例を示す。

【００２７】

【化１０】

【００２８】

【化１１】

【００２９】

【化１２】

【００３０】

【化１３】

【００３１】

【化１４】

【００３２】

【化１５】

【００３３】

【化１６】

【００３４】

【化１７】

【００３５】

【化１８】

【００３６】

【化１９】

【００３７】本発明に用いられるイミダゾールペリレン
化合物の結晶型については、J.Imag.Sci.,vol.33,P151-
159(1989)に、α、γ、ε、ρと呼ばれる４種のＸ線回
折スペクトルが開示されている。基本的にα型とε型は
類似の結晶構造であるが、ρ型はこれらと全く異なる結
晶であることは明らかである。本発明の結晶状態はこの
ρ型結晶に基づいている。このρ型結晶を有機溶媒中に
分散微粒化する工程で起こる状態の変化が感度特性に顕
著な影響を及ぼす。

【００３８】一般に高感度な感光体特性を得るためには
第一にキャリア発生物質の微粒化された均一な塗布膜を
得ることが必要である。すなわち分散微粒化工程でまず
重要となるのはキャリア発生物質を微粒化することであ
る。

【００３９】分散微粒化を行うことにより結晶子サイズ
がある大きさ以下になってくるとＸ線回折スペクトルに
おいて回折ピークのブロードニングとピーク強度の低下
が起こる。イミダゾールペリレン化合物のρ型結晶はＣ
ｕ−Ｋα線に対するＸ線回折スペクトルにおいて6.3±
0.2°、12.4±0.2°、25.3±0.2°、27.1±0.2°のピー
クが特徴であるが、この他に11.5±0.2°に固有のピー
クが存在する。ρ型結晶を分散微粒化していくとピーク
全体のブロードニングをみることができるが、特に本発
明において重要であるのは、12.4±0.2°のピークの半
値幅が0.65゜以上になることであり、このようにブロー
ドニングした12.4±0.2°のピークによって11.5±0.2°
のピークが埋もれてしまい、11.5±0.2°の領域にピー
クが認められなくなる必要がある。ただし、12.4±0.2
°のピークの半値幅が1.5°を越えるとρ型結晶状態と
はいえなくなる。

【００４０】また本発明のイミダゾールペリレン化合物
の感光体特性はＸ線回折スペクトルにおけるピークの相
対強度によって特徴づけられる結晶状態に依存する。該
イミダゾールペリレン化合物は、合成した段階では6.3
°付近のピーク強度が最大である場合が多く、また昇華
したものでは25〜28°のピーク強度が最大となる場合と
12.4°のピーク強度が最大となる場合がある。しかしこ
れらを有機溶媒中で分散微粒化すると各ピークの相対強
度は変化し、したがって感光体特性が変化していくが、
本発明の結晶はＸ線回折スペクトルの12.4±0.2°のピ
ーク強度が最大となるようにすることにより特に優れた
感度特性を得ることができる。

【００４１】すなわち本発明ではρ型結晶の12.4±0.2
°のピークの半値幅が0.65°以上であり、かつ11.5±0.
2°に明瞭なピークを示さない状態まで微粒化したうえ
で、12.4±0.2°のピーク強度が最大である状態が用い
られる。

【００４２】このような状態のキャリア発生物質を本発
明で特定されるキャリア輸送物質と組合わせて用いるこ
とにより優れた感度効果と繰り返し安定性が得られるも
のであり、キャリア発生物質のこのような結晶状態を得
るための方法は特に限定されないが、乾式粉砕法に見ら
れるような電子写真画像の欠陥を防止するために最も優
れた方法は、昇華精製したイミダゾールペリレン化合物
を硫酸を用いてアシッドペースト処理（アモルファス化
もしくは低結晶化）し、これを親和性の高い有機溶媒中
でポリマーバインダを介在させながら穏やかに分散する
ことによって結晶成長させながら目的の結晶状態にする
ものである。この方法においては均一な微粒化が達成さ
れ、また機械的衝撃が小さいために結晶欠陥の導入によ
る特性低下が避けられる。

【００４３】構造式（１）または（２）のイミダゾール
ペリレン化合物はペリレン-3,4,9,10-テトラカルボン酸
二無水物とo-フェニレンジアミンの脱水縮合反応によっ
て合成できる。

【００４４】合成されたイミダゾールペリレン化合物は
不純物を除去するために昇華精製にかけられる。昇華操
作は１回から５〜６回程度の範囲で繰り返されるが、望
ましくは２回以上の繰り返しを行う方が良い。昇華精製
を行わないで塗布液を調製した場合は本発明の結晶状態
を得ることが難しい。昇華して得られたイミダゾールペ
リレン化合物はＸ線回折スペクトルにおいてシャープな
ピークパターンを示し、結晶化度の高い状態であること
が確認される。

【００４５】昇華精製して得られた高結晶化度のイミダ
ゾールペリレン化合物は硫酸を用いたアシッドペースト
処理を行うことにより結晶化度の低い状態に変換され
る。すなわち濃硫酸に溶解した後、その溶液を水もしく
はメタノール等の貧溶媒にあけて析出させ、これをろ
過、乾燥して低結晶性の微粒子粉末を得るものである。

【００４６】アシッドペースト処理後の低結晶性粉末は
イミダゾールペリレン化合物に対する親和性の高い溶媒
中で適当な分散機を用いて分散処理が行われる。親和性
の高い溶媒としては炭素数４〜８のケトン系溶媒もしく
は炭素数４〜７の環状エーテル系溶媒もしくは炭素数２
〜４のハロゲン化炭化水素溶媒が有用である。なかでも
特に好ましい溶媒として、メチルエチルケトン、メチル
イソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロ
ヘキサノン、テトラヒドロフラン、ジクロルエタン、ト
リクロルエタンを挙げることができる。またこの分散処
理においては適当なバインダポリマーの存在によって良
い結果を与えることができる。

【００４７】特に望ましいバインダポリマーとしてはポ
リビニルビチラールやポリビニルホルマールなどのポリ
ビニルアセタール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル系樹
脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリ
ル樹脂及びメタクリル樹脂、アクリル及びメタクリル共
重合樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン共重合樹脂、ポ
リスチレン、スチレン共重合樹脂、フェノキシ樹脂、フ
ェノール樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等を挙げる
ことができる。

【００４８】このような方法で得られた分散塗布液にお
いて本発明の特定の結晶状態が実現される。この方法に
おいては昇華精製による高純度化が分散時の結晶状態調
整に重要となっており、さらにこれを硫酸によるアシッ
ドペースト処理によってアモルファス化し、分散処理の
過程ではアモルファス状態（もしくは低結晶性の状態）
から特定の溶媒効果によって結晶成長させており、この
ことによって従来とは全く異なった観点から本発明の特
定の結晶状態を安定して得られるようにしたものであ
る。

【００４９】得られた分散塗布液を用いて感光体が作ら
れる。感光体中において本発明の結晶状態が実現されて
いるかどうかは感光体から剥離したイミダゾールペリレ
ン化合物のＸ線回折スペクトルを測定することで確認で
きる。また感光体塗布の過程においては結晶状態の変化
は起きないので分散塗布液から溶媒を除去してＸ線回折
スペクトルを測定しても確認となる。

【００５０】これらのサンプルはＣｕ−Ｋα線をＸ線源
とした粉末Ｘ線回折測定装置によって測定され、ブラッ
グ角２θの関数として回折線強度分布が得られる。この
とき試料量が十分な場合はピーク強度間の相対強度比は
試料量によって変化しないが、試料量が少なくなると低
角度側のピーク強度が相対的に大きくなる。したがって
測定においてはピーク強度比が試料量によって変化しな
い程度に十分な量の試料を用いなければならない。

【００５１】ここでのピーク強度は図２に示したように
ノイズを含んだベースラインレベルからの立ち上がり点
ａとｂを結ぶ線分と頂点ｃからおろした垂線との交点ｄ
を起点としたときの頂点ｃまでの高さ（線分ｃｄの長
さ）で定義されるものとする。またピークの半値幅は点
ｄを起点としてｃｄ／２の高さの位置におけるピーク幅
として定義される。

【００５２】感光体の構成は種々の形態をとることがで
きる。代表的には図１（ａ）〜（ｆ）のような構成とな
る。図１（ａ）の場合、導電性支持体１上にキャリア発
生層２を形成し、これにキャリア輸送層３を積層して感
光層４を形成したものであり、同図（ｂ）はキャリア発
生層２とキャリア輸送層３を逆にした感光層４’を形成
したものである。同図（ｃ）は（ａ）の層構成において
感光層４と導電性支持体１の間に中間層５を設けたもの
であり、同図（ｄ）は（ｂ）の層構成において感光層
４’と導電性支持体１との間に中間層５を設けたもので
ある。同図（ｅ）はキャリア発生物質６とキャリア輸送
物質７を含有する感光層４”を形成したものであり、同
図（ｆ）はこのような感光層４”と導電性支持体１との
間に中間層５を設けたものである。図１（ａ）〜（ｆ）
の構成において最表層にはさらに保護層を設けることが
できる。

【００５３】キャリア発生層の形成には上記のようにし
て結晶状態を調整した分散塗布液を用い、バーコート
法、スピンコート法、アプリケーター塗布、スプレー塗
布、デイップ塗布等によって行うことができる。キャリ
ア発生物質の分散に有用な装置としては超音波分散機、
ボールミル、サンドミル、ホモミキサ、ペイントシエイ
カー等を用いることができる。キャリア発生層形成のた
めにバインダを用いると有用である。

【００５４】キャリア輸送層の形成にはキャリア輸送物
質を溶媒に溶かした液を用い、キャリア発生層の場合に
述べたのと同様の塗布方法によって行うことができる。
感光層膜の機械的物性向上のためにポリマーバインダを
用いることが望ましく、キャリア輸送物質といっしょに
溶媒に溶かして用いられる。

【００５５】バインダに対するキャリア輸送物質の割合
は10〜500重量％とされ、さらには20〜150重量％が好ま
しい。キャリア発生層の厚さは0.01〜20μmとされる
が、さらには0.05〜5μmが好ましい。キャリア輸送層の
厚みは1〜100μmとされるが、さらには5〜50μmが好ま
しい。

【００５６】キャリア輸送層、中間層に用いるバインダ
として有用なポリマーとしては例えば、ポリカーボネー
ト、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ塩化ビニル、
塩化ビニル共重合樹脂、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチ
レン、スチレン共重合体、ポリ酢酸ビニル、ポリビニル
ホルマール、ポリビニルブチラール、ポリビニルアセタ
ール、ポリビニルカルバゾール、シリコーン樹脂、シリ
コン共重合樹脂、ポリエステル、フエノキシ樹脂、フエ
ノール樹脂、ポリウレタン、エポキシ樹脂等を挙げるこ
とができる。

【００５７】導電性支持体としては金属板、金属ドラム
が用いられる他、導電性ポリマーや酸化インジウム等の
導電性化合物もしくはアルミニウム、パラジウム等の金
属の薄層を塗布、蒸着、ラミネート等の手段により紙や
プラスチックフイルム等の基体の上に設けてなるものを
用いることができる。

【００５８】上記感光層には感度の向上や残留電位の減
少、或は反復使用時の疲労の低減を目的として、電子受
容性物質を含有させることができる。このような電子受
容性物質としては例えば、無水琥珀酸、無水マレイン
酸、ジブロム無水琥珀酸、無水フタル酸、テトラクロル
無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、3-ニトロ無
水フタル酸、4-ニトロ無水フタル酸、無水ピロメリット
酸、無水メリット酸、テトラシアノエチレン、テトラシ
アノキノジメタン、o-ジニトロベンゼン、m-ジニトロベ
ンゼン、1,3,5-トリニトロベンゼン、p-ニトロベンゾニ
トリル、ビクリルクロライド、キノンクロルイミド、ク
ロラニル、ブロマニル、ジクロルジシアノ-p-ベンゾン
キノン、アントラキノン、ジニトロアントラキノン、9-
フルオレニリデンマロノジニトリル、ポリニトロ-9-フ
ルオレニリデンマロノジニトリル、ピクリン酸、o-ニト
ロ安息香酸、p-ニトロ安息香酸、3,5-ジニトロ安息香
酸、ペンタフルオロ安息香酸、5-ニトロサリチル酸、3,
5-ジニトロサリチル酸、フタル酸、メリット酸、その他
の電子親和力の大きい化合物を挙げることができる。電
子受容性物質の添加割合はキャリア発生物質の重量100
に対して0.01〜200が望ましく、さらには0.1〜100が好
ましい。

【００５９】

【実施例】次に本発明を実施例にて具体的に説明する。

【００６０】尚、本実施例において特にことわらない限
り、「部」とは「重量部」を表す。

【００６１】（合成例）ペリレン-3,4,9,10-テトラカル
ボン酸二無水物39.2ｇ、o-フエニレンジアミン32.4ｇ、
α-クロルナフタレン800mlを混合し、260℃で6時間反応
させた。放冷後、析出晶を濾取しメタノールで繰り返し
洗浄した。加熱乾燥して構造式（１）と（２）の混合物
としてのイミダゾールペリレン化合物51.1ｇを得た。こ
うして得られたものを合成品と呼び、そのＸ線回折スペ
クトルを図３に示した。

【００６２】（昇華例）合成例で得たイミダゾールペリ
レン化合物は５×10^-4〜５×10^-3torrの圧力下において
500℃の加熱条件下で昇華精製を行った。揮発性の不純
物はシャッターを用いて除去した。得られた精製結晶は
もう一度同様の昇華処理を行ってさらに高純度化した。
このようにして２回の昇華操作を経たものを昇華品と呼
び、そのＸ線回折スペクトルを図４に示した。

【００６３】（アシッドペースト処理例）イミダゾール
ペリレン化合物の昇華品20ｇを600mlの濃硫酸に溶解し
た液をグラスフィルターで濾過した後、1200mlの純水中
に滴下して析出させた。これを濾取し純水で十分に洗浄
してから乾燥させた。こうして得られたものをＡＰ品
（アシッドペースト処理品）と呼び、そのＸ線回折スペ
クトルを図５に示した。

【００６４】（実施例１）ガラスビーズを充填したサン
ドミル装置に、イミダゾールペリレン化合物のＡＰ品7
ｇ、ポリビニルブチラール樹脂「エスレックＢＬＳ」
（積水化学工業社製）1.5ｇ、メチルエチルケトン250ml
を入れ15時間の分散処理を行った。こうして得られた分
散液の一部を濃縮乾固しＸ線回折スペクトルを測定し
た。結果を図６に示す。12.4±0.2°のピーク強度が最
大であり、半値幅は0.86°であった。また11.5±0.2°
に明瞭なピークはみられなかった。

【００６５】得られた分散液はアルミニウムを蒸着した
ポリエステルベース上にワイヤーバーを用いて塗布し、
膜厚0.3μmのキャリア発生層を形成した。次いでキャリ
ア輸送物質Ｂ−23；１部とポリカーボネート「Ｚ−２０
０］（三菱瓦斯化学社製）1.4部を１，２−ジクロルエ
タン10部に溶解した液をブレード塗布機を用いて塗布し
乾燥の後、膜厚25μmのキャリア輸送層を形成した。こ
うして得られた感光体をサンプル１とする。

【００６６】（実施例２）メチルエチルケトンの代わり
に1,2-ジクロルエタン250mlを用いた他は実施例１と同
様にして分散処理を行い、得られた分散液のＸ線回折ス
ペクトルを測定した。それを図７に示す。12.4±0.2°
のピーク強度が最大であり、半値幅は0.94°であった。
また11.5±0.2°に明瞭なピークはみられなかった。さ
らにこの分散液を用い実施例１と同様にして感光体を作
製した。これをサンプル２とする。

【００６７】（実施例３）メチルエチルケトンの代わり
にテトラヒドロフラン250mlを用いた他は実施例１と同
様にして分散処理を行い、得られた分散液のＸ線回折ス
ペクトルを測定した。それを図８に示す。12.4±0.2°
のピーク強度が最大であり、半値幅は0.68°であった。
また11.5±0.2°に明瞭なピークはみられなかった。さ
らにこの分散液を用い実施例１と同様にして感光体を作
製した。これをサンプル３とする。（比較例１）サンドミル分散装置の代わりに超音波分散
装置を用いて５時間の分散を行った他は実施例１と同様
にして分散液を得た。得られた分散液のＸ線回折スペク
トルを測定した結果を図９に示す。結晶成長が過度とな
り12.4±0.2°のピークの半値幅は0.60°であった。ま
た、11.5±0.2°にピークが認められた。さらに、この
分散液を用い実施例１と同様にして感光体を作製した。
これを比較サンプル（１）とする。

【００６８】（比較例２）イミダゾールペリレン化合物
のＡＰ品の代わりに昇華品を用いて実施例１と同様の分
散処理を行い、得られた分散液のＸ線回折スペクトルを
測定した。結果を図10に示す。12.4±0.2°のピークの
半値幅は0.68°であり、12.4±0.2°のピークよりも27.
1±0.2°のピーク強度の方が大きい。さらにこの分散液
を用い実施例１と同様にして感光体を作製した。これを
比較サンプル（２）とする。

【００６９】（比較例３）イミダゾールペリレン化合物
のＡＰ品の代わりに昇華品を用い、ポリビニルブチラー
ル樹脂の代わりにポリカーボネート樹脂「パンライトＬ
１２５０」（帝人化成社製）を用い、メチルエチルケト
ンの代わりにトルエンを用いた他は実施例１と同様にし
て分散処理を行い、得られた分散液のＸ線回折スペクト
ルを測定した。それを図11に示す。12.4±0.2°のピー
クの半値幅は0.52°であり、12.4±0.2°のピークより
も27.1±0.2°のピーク強度の方が大きい。また11.5±
0.2°にピークが認められた。さらにこの分散液を用い
実施例１と同様にして感光体を作製した。これを比較サ
ンプル（３）とする。

【００７０】（評価１）以上のようにして得られたサン
プルは、ペーパアナライザEPA-8100（川口電機社製）を
用いて、以下のような評価を行った。まず、−６KVの条
件で５秒間のコロナ帯電を行い、帯電直後の表面電位Va
及び、５秒間放置後の表面電位Viを求め、続いて表面照
度が２（lux）となるような露光を行い、表面電位を−6
00Vから−100Vまで低下させるのに必要な露光量Ｅ600／
100を求めた。またＤ＝100（Va−Vi）／Va（％）の式よ
り暗減衰率Ｄを求めた。結果は表１に示した。

【００７１】

【表１】

【００７２】（実施例４〜13）キャリア輸送物質をＢ−
23からＢ−21，Ｂ−８，Ｂ−13，Ｂ−43，Ｂ−46，Ｃ−
５，Ｃ−９，Ｄ−４，Ｄ−15，Ｅ−７に代えた他は実施
例１と同様にして感光体を作製した。これをサンプル４
〜サンプル13とする。

【００７３】（比較例４〜７）キャリア輸送物質をＢ−
23から下記構造式Ｚ−１，Ｚ−２，Ｚ−３，Ｚ−４に代
えた他は実施例１と同様にして感光体を作製した。これ
を比較サンプル（４）〜比較サンプル（７）とする。

【００７４】（比較例８）イミダゾールペリレン化合物
のＡＰ品の代わりに昇華品をボールミル中で72時間の乾
式粉砕を行って得た乾式粉砕物を用い、キャリア輸送物
質Ｂ−23の代わりにＺ−１化合物を用いた他は実施例１
と同様にして感光体を作製した。これを比較サンプル
（８）とする。また分散液のＸ線回折スペクトルを測定
した結果、12.4±0.2°のピーク強度が最大であり、半
値幅は0.67°であった。また11.5±0.2°に明瞭なピー
クはみられなかった。

【００７５】

【化２０】

【００７６】（評価２）得られたサンプルは評価１と同
様にして評価した後、複写機「U-BIX 3035」改造機（コ
ニカ(株)社製）に装着し、１万回の繰り返しテストで画
像評価を行った。結果を表２に示す。

【００７７】

【表２】

【００７８】以上の実施例及び比較例において、感光体
サンプルから採取して測定したイミダゾールペリレン化
合物のＸ線回折スペクトルは、対応する分散液を乾固し
たサンプルのＸ線回折スペクトルと一致することを確認
した。このように、イミダゾールペリレン化合物は、本
発明における特定の結晶状態で感光層中に存在するとき
に、特に優れた感度特性を示すものである。

【００７９】

【発明の効果】本発明により高速複写機、プリンタ、フ
ァックス等に広く用いることが出来る高感度な電子写真
感光体を提供することが出来る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明に係る感光体の層構成図。

【図２】Ｘ線回折ピークにおけるピーク強度、半値幅の
定義を表す図。

【図３】イミダゾールペリレン化合物（合成品）のＸ線
回折スペクトル。

【図４】イミダゾールペリレン化合物（昇華品）のＸ線
回折スペクトル。

【図５】イミダゾールペリレン化合物（アシットペース
ト処理品）のＸ線回折スペクトル。

【図６】イミダゾールペリレン化合物実施例１のＸ線回
折スペクトル。

【図７】イミダゾールペリレン化合物実施例２のＸ線回
折スペクトル。

【図８】イミダゾールペリレン化合物実施例３のＸ線回
折スペクトル。

【図９】イミダゾールペリレン化合物比較例１のＸ線回
折スペクトル。

【図１０】イミダゾールペリレン化合物比較例２のＸ線
回折スペクトル。

【図１１】イミダゾールペリレン化合物比較例３のＸ線
回折スペクトル。

【符号の説明】

１帯電性支持体２キャリア発生層３キャリア輸送層４，４′，４″ 感光層５中間層６キャリア発生物質７キャリア輸送物質

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】少なくとも構造式（１）または（２）の
イミダゾールペリレン化合物を含有する感光体におい
て、該イミダゾールペリレン化合物がＣｕ−Ｋα線に対
するＸ線回折スペクトルの6.3±0.2°、12.4±0.2°、2
5.3±0.2°、27.1±0.2°にピークを有する結晶であっ
て、12.4±0.2°のピーク強度が最大であると同時に同
ピークの半値幅が0.65゜以上であり、かつ11.5±0.2°
に明瞭なピークを示さない状態で存在し、キャリア輸送
物質として構造式（３）の化合物を含有することを特徴
とする電子写真感光体。【化１】式中、Ａｒ₁、Ａｒ₂、Ａｒ₃、Ａｒ₄は置換、無置換の芳
香族炭化水素基または複素環基を表し、Ｒ₂は水素原子
もしくは置換、無置換の芳香族炭化水素基または複素環
基を表す。ｎは１もしくは２である。Ａｒ₄とＲ₂は互い
に結合していてもよい。
【請求項２】少なくとも構造式（１）または（２）の
イミダゾールペリレン化合物を含有する感光体におい
て、該イミダゾールペリレン化合物がＣｕ−Ｋα線に対
するＸ線回折スペクトルの6.3±0.2°、12.4±0.2°、2
5.3±0.2°、27.1±0.2°にピークを有する結晶であっ
て、12.4±0.2°のピーク強度が最大であると同時に同
ピークの半値幅が0.65゜以上であり、かつ11.5±0.2°
に明瞭なピークを示さない状態で存在し、キャリア輸送
物質として構造式（４）の化合物を含有することを特徴
とする電子写真感光体。【化２】式中、Ｒ₃、Ｒ₄は置換、無置換の芳香族炭化水素基、複
素環基またはアルキル基を表し、互いに連結していても
よい。Ｒ₅は水素原子もしくは置換、無置換の芳香族炭
化水素基、複素環基、アルキル基を表し、Ａｒ₅は置
換、無置換の芳香族炭化水素基または複素環基を表す。
ｍは０もしくは１である。
【請求項３】少なくとも構造式（１）または（２）の
イミダゾールペリレン化合物を含有する感光体におい
て、該イミダゾールペリレン化合物がＣｕ−Ｋα線に対
するＸ線回折スペクトルの6.3±0.2°、12.4±0.2°、2
5.3±0.2°、27.1±0.2°にピークを有する結晶であっ
て、12.4±0.2°のピーク強度が最大であると同時に同
ピークの半値幅が0.65゜以上であり、かつ11.5±0.2°
に明瞭なピークを示さない状態で存在し、キャリア輸送
物質として構造式（５）の化合物を含有することを特徴
とする電子写真感光体。【化３】式中、Ｙは置換、無置換のベンゼン、ナフタレン、ピレ
ン、フルオレン、カルバゾール及び4,4′-アルキリデン
ジフェニル基を表し、Ａｒ₆、Ａｒ₇は置換、無置換の芳
香族炭化水素基または複素環基を表す。ｌは１〜３の整
数である。
【請求項４】少なくとも構造式（１）または（２）の
イミダゾールペリレン化合物を含有する感光体におい
て、該イミダゾールペリレン化合物がＣｕ−Ｋα線に対
するＸ線回折スペクトルの6.3±0.2°、12.4±0.2°、2
5.3±0.2°、27.1±0.2°にピークを有する結晶であっ
て、12.4±0.2°のピーク強度が最大であると同時に同
ピークの半値幅が0.65゜以上であり、かつ11.5±0.2°
に明瞭なピークを示さない状態で存在し、キャリア輸送
物質として構造式（６）の化合物を含有することを特徴
とする電子写真感光体。【化４】式中、Ａｒ₈、Ａｒ₉、Ａｒ₁₀、Ａｒ₁₁は置換、無置換の
芳香族炭化水素基または複素環基を表す。