JPH0736216B2 - 磁気デイスク - Google Patents

磁気デイスク

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JPH0736216B2
JPH0736216B2 JP60230575A JP23057585A JPH0736216B2 JP H0736216 B2 JPH0736216 B2 JP H0736216B2 JP 60230575 A JP60230575 A JP 60230575A JP 23057585 A JP23057585 A JP 23057585A JP H0736216 B2 JPH0736216 B2 JP H0736216B2
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Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は可撓性の非磁性支持体の両面に磁性粉末と結
合剤とを主体とする磁性層を設けてなる磁気デイスクに
関する。
〔従来の技術〕
この種の磁気デイスクは、磁気ヘツドに対して高速で摺
接するため、磁気テープなどに較べて磁性層の耐久性に
よりすぐれたものであることが要求される。従来、この
要求特性を満足させるため、磁性層中にモース硬度が比
較的高くてかつ磁性粉末に比し大きな粒子径を有するα
−Fe2O3などの研摩剤や、脂肪酸、脂肪酸エステル、流
動パラフインなどの各種潤滑剤を含ませる工夫がなさ
れ、これにより実用上ほぼ満足できる耐久性改善効果が
得られていた。
〔発明が解決しようとする問題点〕
しかるに、近年磁気記録媒体の利用分野の拡大に伴つ
て、記録密度の向上を図ることが強く望まれるようにな
り、磁気デイスクにおいてもその磁性層の厚みを従来の
1.3〜2.0μmから0.9μm以下にまで低下させることが
要請されている。また、磁気デイスクの使用環境も多種
多様となり、特に低温低湿下で使用されることも多くな
つてきた。
ところが、このような磁性層の厚み低下や低温低湿下で
の使用に対し、前記従来の研摩剤や潤滑剤をそのまま用
いたのでは、磁性層の耐久性を満足できなくなり、この
ことから上記耐久性をさらに一段と向上させることが磁
気デイスク分野における急務となつている。また、この
耐久性の問題に加えて、上記変移に対して従来の研摩剤
を用いたのでは、短波長出力の低下をきたして電磁変換
特性が損なわれることが多々認められた。
したがつて、この発明は、高密度記録に対応しうるよう
な磁性層厚みとしたときでも、また低温低湿下での使用
環境におかれたときでも、磁性層の耐久性を高度に満足
させることができ、しかも短波長出力の低下の如き電磁
変換特性の劣化を伴うことのない高性能の磁気デイスク
を提供することを目的とする。
〔問題点を解決するための手段〕
この発明者らは、上記の目的を達成するために鋭意検討
した結果、まず、磁性層の耐久性を高度に改善するため
には研摩剤と潤滑剤とのうちのどちらか一方だけを用い
たのでは不充分で、両者を併用することが不可欠であ
り、この場合に研摩剤についてはその硬度が高いほどま
たその粒子径が大きくなるほどの耐久性の面で望ましい
ものの、粒子径が大きくなりすぎると磁性層表面に突出
する研摩剤粒子が磁性層と磁気ヘツドとのスペーシング
ロスの原因となり、これが短波長出力の低下を引きおこ
しやすく、このため磁性層の厚みを特に薄くする構成に
あつては研摩剤の粒子径としては耐久性と電磁変換特性
とを満足させうる適切な範囲に設定しなければならず、
また潤滑剤については低温低湿下では潤滑剤の磁性層内
での動きが鈍くなり、磁性層表面に移行させて潤滑効果
を発揮させることが難しくなることから、上記条件下で
も上記移行がおこりやすいものを選択する必要があるも
のと考えた。
そこで、上記考えのもとに、研摩剤の硬度および粒子径
と潤滑剤の種類および性能とにつき、広範囲の実験検討
を繰り返した結果、研摩剤の硬度は従来のものに比し高
くし、一方粒子径については磁性層厚に対して特定の関
係を満たすような大きさに設定し、さらに潤滑剤として
特定融点を有する脂肪酸エステルを用いるようにしたと
きには、磁性層厚を高密度記録に対応しうるかなり薄い
厚みとしたときでも、また低温低湿の環境のもとで使用
するときでも、磁性層の耐久性を高度に満足させること
ができ、そのうえ短波長出力の低下のみられないすぐれ
た電磁変換特性が得られるものであることを知り、この
発明を完成するに至つた。
すなわち、この発明は、可撓性の非磁性支持体の両面に
磁性粉末と結合剤とを主体とする磁性層を設けてなる磁
気デイスクにおいて、上記磁性層中に、モース硬度が7
以上でかつ平均粒子径が0.25γ〜0.75γ(γ=磁性層の
片面厚)の範囲にある研摩剤と、融点が10℃以下の脂肪
酸エステルとが含有されてなることを特徴とする磁気デ
イスクに係るものである。
〔発明の構成・作用〕
この発明における可撓性の非磁性支持体としては、たと
えばポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−2・
6−ナフタレートなどのポリエステル類、ポリエチレ
ン、ポリプロピレンなどのポリオレフイン類、セルロー
ストリアセテート、セルロースジアセテートなどのセル
ロースアセテート類、その他ポリイミド、ポリアミドな
どの各種樹脂からなる厚みが約10〜100μm程度のもの
が用いられる。
また、上記支持体の両面に設けられる磁性層の主要成分
のひとつである磁性粉末としては、γ−Fe2O3粉、Fe3O4
粉またはこれら中間酸化物粉あるいはこれらのコバルト
変成粉や、バリウムフエライト粉、ストロンチウムフエ
ライト粉の如き六方晶系フエライト粉などの酸化物系磁
性粉末、Fe粉、Co粉、その他合金粉などの金属系磁性粉
末など従来公知のものがいずれも包含される。これら磁
性粉末の平均粒子径(長軸径)は一般に0.1〜0.4μm程
度である。また、その使用量は、結合剤との合計量中、
50〜90重量%の範囲とされる。
上記の磁性粉末を分散結着する磁性層の他の主要成分の
ひとつである結合剤としては、塩化ビニル樹脂、酢酸ビ
ニル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニ
ル−ビニルアルコール共重合体、ポリウレタン樹脂、繊
維素系樹脂、ポリエステル樹脂あるいはこれをスルホン
化したもの、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合
体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、イソプレ
ンゴム、ブタジエンゴム、放射線硬化型樹脂など、ある
いはこれらに低分子量イソシアネート化合物などの架橋
剤を加えたものなど従来用いられているものが任意に使
用可能である。
この発明においては上記の磁性粉末および結合剤を含む
磁性層中に、特定の研摩剤と特定の潤滑剤とを含ませる
ことを特徴とするが、上記研摩剤としては、そのモース
硬度が7以上、好ましくは8以上のもの、たとえばα−
Al2O3粉(モース硬度9)、Cr2O3粉(モース硬度9)、
SiO2粉(モース硬度7)、ZrO2粉(モース硬度8)、Si
C粉(モース硬度9)などが用いられる。このモース硬
度が7に満たない、たとえばα−Fe2O3粉(モース硬度
6)などを用いると、この発明の目的とするような高度
の耐久性は得られない。
また、上記モース硬度を有する研摩剤は、その平均粒子
径が磁性層の厚みとの関係において特定範囲に設定され
ていなければならない。すなわち、磁性層の片面厚をγ
としたとき、0.25γ〜0.75γの範囲の平均粒子径を有し
ている必要がある。0.25γに満たないあまりに小さな粒
子径を有するものでは耐久性の向上効果が小さく、また
0.75γを超える大きな粒子径を有するものでは磁性層表
面に突出する研摩剤粒子によつて磁性層と磁気ヘツドと
のスペーシングロスが大きくなつて短波長出力の低下が
みられ、良好な電磁変換特性を得にくい。上記特定の範
囲に設定したときにのみ、耐久性と電磁変換特性とに共
に好結果を得ることができる。なお、特に好適な平均粒
子径は、0.25γ〜0.55γの範囲にあるのがよい。
このような研摩剤の使用量としては、磁性粉末100重量
部に対して0.1〜30重量部の範囲、好ましくは5〜20重
量部の範囲とすればよい。この使用量が少なすぎては耐
久性改善効果に乏しく、また多くなりすぎると磁性粉末
の絶対量が少なくなつて電磁変換特性の低下をきたすお
それがある。
上記研摩剤と併用される潤滑剤は、融点が10℃以下、好
適には8℃以下の脂肪酸エステルが用いられる。その具
体例としては、オレイン酸n−ブチル、オレイン酸ヘキ
シル、オレイン酸n−オクチル、オレイン酸2−エチル
ヘキシル、オレイン酸オレイル、ラウリン酸n−ブチ
ル、ラウリン酸ヘプチル、ミリスチン酸n−ブチル、オ
レイン酸n−ブトキシエチル、トリメチロ−ルプロパン
トリオールなどがある。
これら潤滑剤は上記の如き低融点であるため低温低湿下
にさらされても、磁性層と磁気ヘツドとの摺接により、
磁性層表面に容易に滲出移行してそのすぐれた潤滑作用
を効果的に発揮する。このような効果を発揮させるため
の上記潤滑剤の使用量としては、磁性粉末100重量部に
対して通常5重量部以上とするのがよく、好適には6重
量部以上20重量部以下とするのがよい。使用量が少なす
ぎると耐久性に劣り、また使用量が多すぎると磁性層表
面への滲出量が多くなりすぎて磁気ヘツドを汚損した
り、また磁性層が軟質となり、耐久特性上やはり望まし
くない。
この発明の磁気デイスクは、上記した磁性粉末、結合
剤、研摩剤および潤滑剤をトルエン、キシレン、メチル
エチルケトン、シクロヘキサノンなどの適宜の溶剤に溶
解,分散させてなる磁性塗料を調製し、これを前記支持
体の両面に塗布乾燥したのち、カレンダーなどの公知の
表面処理を施して磁性層を形成し、その後打ち抜き加工
処理することにより、得ることができる。また、潤滑剤
についてはこれを磁性塗料中に混入しないで、潤滑剤を
除いた磁性塗料を用いて磁性層を形成したのち、その表
面に潤滑剤溶液を塗布し含浸させるようにしてもよい。
なお、上記の磁性塗料中には、従来公知の添加剤、たと
えば帯電防止剤、界面活性剤などを添加してもよいこと
はいうまでもない。また、この発明の効果を妨げない範
囲内で前記した特定の研摩剤および潤滑剤以外の公知の
研摩剤および潤滑剤を少量含ませることも場合により可
能である。
上述の方法にで形成される磁性層の厚みは、一般に0.3
〜2.5μmの範囲内とされるが、高密度磁気記録の観点
からは、1.5μm以下、特に1.1μm以下の薄い厚みとす
るのが望ましい。このような厚みとするときでも、その
厚みに応じた研摩剤の前記粒子径を選択することによ
り、磁性層の耐久性および電磁変換特性に共に好結果を
得ることが可能である。
〔発明の効果〕
以上のように、この発明によれば、磁性層中に添加する
研摩剤の硬度および粒子径とさらに潤滑剤の種類および
性質を規定したことにより、耐久性の向上に大きく寄与
するとともに電磁変換特性にすぐれる磁気デイスクを提
供することができる。
〔実 施 例〕
以下に、この発明の実施例を記載してより具体的に説明
する。以下において、部とあるは重量部を意味するもの
とする。
実施例 1 Co含有γ−Fe2O3粉 1,000部 カーボンブラツク 150部 α−Al2O3粉(モース硬度9,平均粒子径0.4μm) 100部 ニトロセルロース 194部 ポリウレタン 117部 三官能性イソシアネート化合物 78部 シクロヘキサノン 2,000部 トルエン 2,000部 オレイン酸オレイル(融点6℃以下) 70部 上記組成からなる磁性塗料を、厚さ75μmのポリエチレ
ンテレフタレートフイルムの両面に乾燥厚みが0.9μm
となるように塗布,乾燥したのち、カレンダリング処理
を施し、その後直径3.5インチに打ち抜き成形して、磁
気デイスクを作製した。
実施例 2 研摩剤粒子として、Cr2O3粉(モース硬度9、平均粒子
径0.5μm)100部を用いた以外は、実施例1と全く同様
にして磁気デイスクを作製した。
実施例 3 研摩剤粒子として、SiC粉(モース硬度9、平均粒子径
0.63μm)100部を用いた以外は、実施例1と全く同様
にして磁気デイスクを作製した。
実施例 4 研摩剤粒子として、ZrO2粉(モース硬度8、平均粒子径
0.27μm)100部を用いた以外は、実施例1と全く同様
にして磁気デイスクを作製した。
実施例 5 潤滑剤として、オレイン酸2−エチルヘキシル(融点0
℃以下)70部を用いた以外は、実施例1と全く同様にし
て磁気デイスクを作製した。
比較例 1 研摩剤粒子として、α−Fe2O3粉(モース硬度6、平均
粒子径0.4μm)100部を用いた以外は、実施例1と全く
同様にして磁気デイスクを作製した。
比較例 2 研摩剤粒子として、α−Al2O3粉(モース硬度9、平均
粒子径0.8μm)100部を用いた以外は、実施例1と全く
同様にして磁気デイスクを作製した。
比較例 3 研摩剤粒子として、α−Al2O3粉(モース硬度9、平均
粒子径0.72μm)100部を用いた以外は、実施例1と全
く同様にして磁気デイスクを作製した。
比較例 4 研摩剤粒子として、α−Al2O3粉(モース硬度9、平均
粒子径0.1μm)100部を用いた以外は、実施例1と全く
同様にして磁気デイスクを作製した。
比較例 5 研摩剤粒子として、α−Al2O3粉(モース硬度9、平均
粒子径0.18μm)100部を用いた以外は、実施例1と同
様にして磁気デイスクを作製した。
比較例 6 潤滑剤として、ステアリン酸n−ブチル(融点27℃)70
部を用いた以外は、実施例1と同様にして磁気デイスク
を作製した。
比較例 7 潤滑剤として、オレイン酸メチル(融点20℃)70部を用
いた以外は、実施例1と同様にして磁気デイスクを作製
した。
上記の実施例1〜3および比較例1〜7に係る各磁気デ
イスクにつき、YEデータ製の3.5インチ1.6MByte フロツ
ピーデイスクドライブを使用し、線記録密度14KBPIでの
記録再生出力を測定した。また、耐久試験として、YEデ
ータ製の3.5インチフロツピーデイスクドライブYD645を
使用し、10℃,5%RHの環境下で再生出力が初期出力の70
%となるまでの走行時間を測定した。これらの結果は、
下記の第1表に示されるとおりであつた。
なお、第1表には、参考のために、各実施例および比較
例で使用した研摩剤および潤滑剤の種類,特性を併記し
た。表中のa/γは、研摩剤の平均粒子径(a)と磁性層
厚(γ)との関係を示したものである。
上記の結果から明らかなように、この発明の磁気デイス
クは、電磁変換特性が良好で、しかも低温低湿下での耐
久特性に非常にすぐれたものであることが判る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 三宅 明 大阪府茨木市丑寅1丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 (72)発明者 乗松 幸示 大阪府茨木市丑寅1丁目1番88号 日立マ クセル株式会社内 (56)参考文献 特開 昭56−29840(JP,A)

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】可撓性の非磁性支持体の両面に磁性粉末と
    結合剤とを主体とする磁性層を設けてなる磁気デイスク
    において、上記磁性層中に、モース硬度が7以上でかつ
    平均粒子径が0.25γ〜0.75γ(γ=磁性層の片面厚)の
    範囲にある研摩剤と、融点が10℃以下の脂肪酸エステル
    とが含有されてなることを特徴とする磁気デイスク。
  2. 【請求項2】γ=0.3〜2.5μmである特許請求の範囲第
    (1)項記載の磁気デイスク。
  3. 【請求項3】脂肪酸エステルが磁性粉末100重量部に対
    して5重量部以上である特許請求の範囲第(1)項また
    は第(2)項記載の磁気デイスク。
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