JPH0750004A

JPH0750004A - 磁気ヘッドの製造方法

Info

Publication number: JPH0750004A
Application number: JP33625493A
Authority: JP
Inventors: Tadashi Saito; 正斎藤; Takashi Sugano; 丘菅野; Shinji Takahashi; 伸司高橋; Toshinobu Watanabe; 利信渡辺; Hideto Sagawa; 秀人佐川; Yasuharu Koike; 康晴小池
Original assignee: Sony Corp
Current assignee: Sony Corp
Priority date: 1993-05-31
Filing date: 1993-12-28
Publication date: 1995-02-21

Abstract

(57)【要約】【構成】酸化物磁性材料よりなる磁気コア基板の一主
面に磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅規
制溝を形成し、前記トラック幅規制溝が形成された磁気
コア基板上に金属磁性薄膜を被着形成し、磁気コア基板
上の金属磁性薄膜の表面を鏡面加工し、一対の磁気コア
基板を前記鏡面加工した金属磁性薄膜同士が対向するよ
うにギャップ材を介して接合一体化する。なお、上記鏡
面加工を行う際、スラリーとして、油性スラリー、或い
はＳｉＯ₂ 系研磨材と、増粘剤を２０容量％以上，５０
容量％以下含有するスラリーを用いても良い。【効果】磁気ヘッドの磁気ギャップのエッジ部からの
漏洩磁界が小さくなり、サイドイレーズの発生が抑えら
れ、再生特性が良好となり、生産性も大きく向上する。
また、このようなことから上記磁気ヘッドを用いれば高
密度記録化が達成される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、例えばビデオテープレ
コーダ等に搭載される高密度記録用磁気ヘッドを製造す
る磁気ヘッドの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】ビデオテープレコーダー（ＶＴＲ）等の
磁気記録再生装置に組み込まれる磁気ヘッドとしては、
例えば単結晶フェライトや多結晶フェライト，単結晶フ
ェライトと多結晶フェライトの接合材等の酸化物磁性材
料によって磁気コア半体を構成したものが一般的であ
る。また、上記磁気記録再生装置においては、高画質化
等を目的として情報信号の短波長記録化が進められてお
り、これに対応したメタルテープや蒸着テープ等の高抗
磁力磁気記録媒体用の磁気ヘッドとして磁気コア半体に
金属磁性体を用いた磁気ヘッドが種々開発されている。
このような磁気ヘッドの代表的なものとしては、フェラ
イト等の酸化物磁性材料よりなる磁気コア基板と金属磁
性体の複合型の磁気ヘッド、いわゆるメタル・イン・ギ
ャップ（Ｍｅｔａｌｉｎｇａｐ）ヘッド（以下、Ｍ
ＩＧヘッドと略する。）が挙げられる。

【０００３】上記ＭＩＧヘッドは、フェライト等の酸化
物磁性材料よりなる磁気コア基板の対向面に金属磁性薄
膜が被着形成された一対の磁気コア半体が、上記金属磁
性薄膜同士を突き合わせるようにして接合一体化された
ものであり、当該金属磁性薄膜の突合わせ面間には磁気
ギャップ（フロントギャップ及びバックギャップ）が形
成されている。この時、磁気コア基板の対向面の磁気ギ
ャップに相当する位置には磁気ギャップと平行なギャッ
プ形成面が形成されており、上記ギャップ形成面の両端
には、磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック幅
規制溝が設けられている。従って、磁気コア基板の対向
面にその形状に沿って被着形成される金属磁性薄膜は、
ギャップ形成面上において磁気ギャップと平行となる。
また、上記トラック幅規制溝により一対の磁気コア半体
間に形成される溝部には融着ガラスが充填され、一対の
磁気コア半体は接合一体化されている。

【０００４】そして、上記のようなＭＩＧヘッドは、次
に示されるような方法によって製造される。先ず、フェ
ライト等の酸化物磁性材料よりなる一対の磁気コア基板
の一主面に、トラック幅規制溝を形成する。次いで、上
記磁気コア基板のトラック幅規制溝形成面に金属磁性薄
膜をスパッタリング，蒸着等の真空薄膜形成法によって
形成し、一対の磁気コア半体を形成する。そして、上記
一対の磁気コア基板に形成されるトラック幅規制溝同士
の位置合わせを行い、各金属磁性薄膜を対向するように
突き合わせ、融着ガラスを溶融充填して一対の磁気コア
半体の接合を行い、ＭＩＧヘッドを完成する。このと
き、金属磁性薄膜の突き合わせ面間には、磁気ギャップ
（フロントギャップ，バックギャップ）が形成される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】ところで、上記のよう
な磁気記録再生装置においては、更なる高密度記録化が
要求されており、これを達成する手段として記録トラッ
クの狭トラック化が検討されている。そこで、上記のよ
うなＭＩＧヘッドにおいても、これに対応すべく、磁気
ギャップの挟トラック化が進められており、例えば磁気
ギャップのトラック幅を１５μｍ以下とし、トラックピ
ッチが１２μｍ以下となるような高密度記録を行ってい
る。

【０００６】ところが、上記のようなＭＩＧヘッドにお
いて磁気ギャップの挟トラック化を行うと、特にガード
バンドレス記録を採用した場合において、記録時に隣接
トラックの一部に重ね書きを行ってしまう、いわゆるサ
イドイレーズが発生しやすく、再生特性が低下しやす
い。このような傾向は、上記のように磁気ヘッドの磁気
ギャップのトラック幅を１５μｍ以下とし、トラックピ
ッチが１２μｍ以下となるような高密度記録を行った場
合に特に顕著である。

【０００７】上記ＭＩＧヘッドを形成する際には、前述
のように、先ず磁気コア基板上にトラック幅規制溝を形
成し、この上に金属磁性薄膜をスパッタリング，蒸着等
の真空薄膜形成法によって形成して磁気コア半体を形成
するが、この際、金属磁性薄膜のエッジ部にはダレが発
生してしまう。この後、上記金属磁性薄膜を対向するよ
うに突き合わせ、一対の磁気コア半体の接合を行い、Ｍ
ＩＧヘッドを完成させると、該ＭＩＧヘッドにおいて
は、図２１に示すように金属磁性薄膜１０５，１０６の
エッジ部１０５ａ₁ ，１０５ａ₂ 及び１０６ａ₁ ，１０
６ａ₂ にダレが生じていることから、その突き合わせ面
１０５ａ，１０６ａ間に形成される磁気ギャップＧ₁ の
エッジ部Ｇｅ₁ ，Ｇｅ₂ が開いた状態となる。従って、
上記ＭＩＧヘッドを用いて記録を行うと、エッジ部Ｇｅ
₁ ，Ｇｅ₂ からの漏洩磁界が大きくなり、サイドイレー
ズが発生しやすく、サイドイレーズ幅も増長してしま
う。当然のことながら、高密度記録化のために上記のよ
うな挟トラック化を行った場合においては、サイドイレ
ーズの影響は大きく、その再生特性を大きく低下させる
こととなる。

【０００８】そこで、本発明は従来の実情に鑑みて提案
されたものであり、磁気ギャップのエッジ部からの漏洩
磁界が小さく、サイドイレーズの発生が抑えられ、再生
特性が良好で、高密度記録化が達成される磁気ヘッドを
製造することを可能とする磁気ヘッドの製造方法を提供
することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】上述の目的を達成するた
めに本発明の磁気ヘッドの製造方法は、酸化物磁性材料
よりなる磁気コア基板の一主面に磁気ギャップのトラッ
ク幅を規制するトラック幅規制溝を形成する工程と、前
記トラック幅規制溝が形成された磁気コア基板上に金属
磁性薄膜を被着形成する工程と、磁気コア基板上の金属
磁性薄膜の表面を鏡面加工する工程と、一対の磁気コア
基板を前記鏡面加工した金属磁性薄膜同士が対向するよ
うにギャップ材を介して接合一体化する工程を有するこ
とを特徴とするものである。

【００１０】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、磁気コア基板上の金属磁性薄膜の表面を鏡面加
工する際、油性スラリー、或いは、ＳｉＯ₂ 系研磨材
と、増粘剤を２０容量％以上，５０容量％以下含有する
スラリーを用いても良い。

【００１１】

【作用】本発明の磁気ヘッドの製造方法においては、磁
気コア基板の一主面にトラック幅規制溝を設け、その上
に金属磁性薄膜を被着形成した後、上記金属磁性薄膜の
表面に鏡面加工を行っていることから、金属磁性薄膜の
形成時に発生するエッジ部のダレが除去され、この後、
このような一対の磁気コア基板を金属磁性薄膜が対向す
るように接合一体化していることから、上記金属磁性薄
膜間に形成される磁気ギャップのエッジ部が明確化さ
れ、エッジ部からの漏洩磁界が小さくなる。

【００１２】

【実施例】以下、本発明を適用した具体的な実施例につ
いて図面を参照しながら詳細に説明する。

【００１３】実施例１先ず、本実施例の磁気ヘッドの製造方法によって製造さ
れる磁気ヘッドについて説明する。上記磁気ヘッドは図
１に示すように、フェライト等の酸化物磁性材料よりな
る磁気コア基板３，４の対向面に金属磁性薄膜５，６が
被着形成された一対の磁気コア半体１，２が、上記金属
磁性薄膜５，６を突き合わせるようにして接合一体化さ
れたものであり、当該金属磁性薄膜５，６の突合わせ面
間には記録再生として動作する磁気ギャップｇ₁（フロ
ントギャップ）と記録再生として動作しない磁気ギャッ
プｇ₂（バックギャップ）が形成されている。

【００１４】このとき、図２に示すように、磁気コア基
板３，４の対向面の磁気ギャップｇ ₁，ｇ₂に相当する
位置には磁気ギャップｇ₁，ｇ₂と平行なギャップ形成
面３ａ，４ａが形成されており（図２中には磁気ギャッ
プｇ₁のみを示す。）、その両端には、磁気ギャップｇ
₁ ，ｇ₂ のトラック幅を規制するためのトラック幅規制
溝７，８が設けられている。すなわち、磁気コア基板
３，４の対向面にその形状に沿って被着形成される金属
磁性薄膜５，６は、ギャップ形成面３ａ，４ａ上におい
て磁気ギャップｇ₁ と平行となる。また、トラック幅規
制溝７，８によって磁気コア基板３，４のギャップ形成
面３ａ，４ａの幅が規制されていることから、金属磁性
薄膜５，６の突き合わせ面の幅も自ずから規制されるこ
ととなる。従って、金属磁性薄膜５，６の突き合わせ面
間に形成される磁気ギャップｇ₁，ｇ₂のトラック幅Ｔ
ｗも規制されることとなる。（図２には磁気ギャップｇ
₁ のみを示す。）なお、本実施例においては、トラック
幅Ｔｗが１５μｍ以下であるものとする。

【００１５】また、磁気ギャップｇ₁ （フロントギャッ
プ）側及び磁気ギャップｇ₂ （バックギャップ）側のト
ラック幅規制溝７，８により形成される溝部には融着ガ
ラス９，１０が充填され、磁気コア半体１，２は接合一
体化されている。

【００１６】さらに、磁気コア基板３，４にはコイルを
巻回するための巻線溝１１，１２及びこれらと相対向す
る位置に巻線補助溝１３，１４が設けられている。そし
て、この磁気ヘッドにおいては、磁気記録媒体に対する
当たりを確保するために磁気記録媒体と摺接する磁気記
録媒体摺動面に段差が設けられている。

【００１７】次いで、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
について説明する。先ず、図３に示されるように、フェ
ライト等の酸化物磁性材料よりなるブロック１６を用意
し、研削盤により面出しを行い、そのギャップ形成面１
６ａに磁気コア基板の突き合わせ面の幅、すなわち後工
程において形成される磁気ギャップｇ₁ のトラック幅Ｔ
ｗを規制するためのトラック幅規制溝１７を機械加工に
より複数形成する。このとき、トラック幅規制溝１７の
形状は、断面略半円形状とし、図２中θで示す上記磁気
ギャップｇ₁ のエッジ部の開き角が９０゜以上となるよ
うにする。なお、本実施例においては、エッジ部の開き
角θを１２０゜とするために、図４に示すように、ブロ
ック１６のギャップ形成面１６ａと垂直な線ａと断面略
半円形状のトラック幅規制溝１７の開口部近傍の接線ｂ
のなす角が３０゜となるように砥石成形を行い、溝入れ
を行ってトラック幅規制溝を設けた。

【００１８】上記のようにブロック１６としては、フェ
ライト等の酸化物磁性材料が用いられるが、このような
酸化物磁性材料としては、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライト，Ｍ
ｎ−Ｎｉ系フェライトの単結晶或いは多結晶、或いはこ
れらの接合材等が挙げられる。なお、本実施例において
は、Ｍｎ−Ｚｎ系フェライトの単結晶を用いた。

【００１９】次いで、図５に示すように、コイルを巻装
するための断面略台形形状の巻線溝１８、ガラス融着接
合を行うための断面略コ字状をなすガラス溝１９をトラ
ック幅規制溝１７と直交するように機械加工によって形
成し、ブロック１６のギャップ形成面１６ａをポリッシ
ング等により鏡面に仕上げる。このとき、巻線溝１８の
一方の側面１８ａは、後工程において形成される磁気ギ
ャップｇ₁（フロントギャップ）深さ（デプス）を規制
することとなるため傾斜面とする。なお、巻線溝１８の
他方の側面１８ｂは、傾斜面または垂直面のいずれでも
良い。

【００２０】そして、上記ブロック１６の所定の位置で
切断し、図６に示すような一対のブロック半体（図中に
は一方のブロック半体２０のみを示す。）を形成する。

【００２１】次いで、図７に示すようにトラック幅規制
溝１７，巻線溝１８，ガラス溝１９の形成された上記ブ
ロック半体２０のギャップ形成面２０ａに、金属磁性薄
膜２１をスパッタリング法，蒸着法等の真空薄膜形成法
により形成する。この際、金属磁性薄膜２１とブロック
半体２０の付着力を向上させるために、図８に示すよう
に、これらの間に下地膜２２を介在させても良い。

【００２２】上記金属磁性薄膜２１としては、センダス
ト（Ｆｅ−Ａｌ−Ｓｉ）及びこれにＯ，Ｔｉを添加した
結晶質磁性金属膜、Ｆｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ及びこれに
Ｏ，Ｎを添加した結晶質磁性金属膜、或いはＦｅ系，Ｃ
ｏ系の微結晶磁性金属膜が挙げられ、これらの合金膜，
積層膜を用いても良い。また、下地膜２２としては、Ｓ
ｉＯ₂ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の窒化
物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の金属膜が挙げられ、これら
の積層膜を用いても良い。なお、本実施例においては、
金属磁性薄膜２１としてＦｅ−Ｒｕ−Ｇａ−Ｓｉ膜を形
成し、下地膜２２としてＣｒ膜を形成した。

【００２３】また、本実施例においては上記金属磁性薄
膜２１の上に図示しない反応防止膜を設けても良く、該
反応防止膜によって金属磁性薄膜２１と後工程の磁気コ
ア半体ブロックの接合工程において溶融充填される融着
ガラスの反応を防ぐ構造としても良い。上記反応防止膜
としては、ＳｉＯ₂ ，Ｚｒ₂ Ｏ₃ ，Ｔａ₂ Ｏ₅ 等の酸化
物膜、Ｓｉ₃ Ｎ₄ 等の窒化物膜、Ｃｒ，Ａｌ，Ｐｔ等の
金属膜が挙げられ、これらの積層膜を用いても良い。な
お、本実施例においては、反応防止膜としてＣｒ膜を形
成した。

【００２４】ところで、上述のように、単にスパッタリ
ング法等によって形成される金属磁性薄膜２１において
は、図８に示すように、エッジ部２１ａ₁ ，２１ａ₂ に
図中に示すようなダレが発生しやすい。従って、上記金
属磁性薄膜２１に加工を施すことなく、この状態のまま
磁気コア半体ブロックとし、これら磁気コア半体ブロッ
ク同士の接合を行って磁気ヘッドを形成すると、該磁気
ヘッドにおいては、図２１に示したように、磁気ギャッ
プＧ₁ のエッジ部Ｇｅ₁ ，Ｇｅ₂ からの漏洩磁界が大き
なものとなり、サイドイレーズが大きくなり、その再生
特性が大きく低下することとなり好ましくない。

【００２５】また、図８に示すように、単にスパッタリ
ング法等によって形成される金属磁性薄膜２１の突き合
わせ面２１ａの突き合わせ幅Ｗ₁ は所定のトラック幅Ｔ
ｗと必ずしも一致するものではなく、この状態のまま磁
気コア半体ブロック同士の接合を行うことは、形成され
る磁気ギャップｇ₁ のトラック幅Ｔｗの精度の点からも
好ましくない。さらに、上記のようにスパッタリング法
等によって形成される金属磁性薄膜２１の表面には異常
突起が形成される、介在物が付着することがあり、この
状態のまま磁気コア半体ブロック同士の接合を行うこと
は、磁気ギャップ部の製造不良を起こし易く、この点か
らも好ましくない。

【００２６】そこで、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
においては、ギャップ形成面２０ａ上に被着形成された
金属磁性薄膜２１の表面（反応防止膜を設けた場合にお
いては、反応防止膜表面も含む）を鏡面加工して磁気コ
ア半体ブロックを得る。すなわち、金属磁性薄膜２１表
面の図９中破線で示す部分を鏡面加工し、図中一点鎖線
の位置まで除去することによって、エッジ部２１ｂ₁ ，
２１ｂ₂ が鋭角な形状であり、その幅Ｗ₂ が所定のトラ
ック幅Ｔｗと一致する突き合わせ面２１ｂを有する磁気
コア半体ブロックを得る。

【００２７】このとき、鏡面加工は、ポリッシング等の
手法により行えば良い。鏡面加工を行う装置としては、
図１０に示すような加工装置が挙げられる。上記加工装
置は、回転軸Ｏ₁ を中心に図中矢印Ｍ₁ 方向に回転する
定盤４１と、被加工物４２を固定して保持する固定ホル
ダー４３と、内部にスラリー４４を有し、スラリー４４
を噴霧する噴霧装置４５により構成される。

【００２８】すなわち、上記加工装置においては、被加
工物４２の鏡面加工面４２ａが定盤４１の加工面４１ａ
に対向するように被加工物４２を固定ホルダー４３によ
り保持し、定盤４１，被加工物４２間に噴霧装置４５に
よりスラリー４４を噴霧しながら定盤４１を回転させる
ことにより、被加工物４２の鏡面加工面４２ａの鏡面加
工を行う。

【００２９】なお、上記定盤４１としては錫定盤等が挙
げられ、使用されるスラリー４４としては、溶媒として
水溶性或いは油性溶剤を用い、これに研磨材を分散させ
たものが挙げられる。上記水溶性溶剤としては、水酸化
ナトリウム水溶液，Ｈ₂ Ｏ，Ｈ₂ Ｏ₂ ，ＫＯＨ，ＨＣｌ
等が挙げられる。そして、これに酸化防止剤、不揮発
剤、研磨材の分散性を向上させる活性剤，増粘剤等の添
加剤を添加したものがより好ましい。一方、油性溶剤と
しては、基油を石油系（ＪＩＳ１種，２種１〜６
号）とした溶剤等が挙げられる。そして、これに油性
剤、酸化防止剤、研磨材の分散性を向上させる活性剤等
の添加剤を添加したものがより好ましい。さらに、研磨
材としては、ダイヤモンド，ＳｉＣ，ＳｉＯ₂ 系砥粒、
Ａｌ₂ Ｏ₃ ，ＭｇＯ等の粒径１μｍ以下の微細砥粒が挙
げられる。なお、本実施例においては、定盤４１として
錫定盤を使用し、スラリー４４として水溶性溶剤にダイ
ヤモンドを分散させたものを使用した。

【００３０】さらに、上記のように金属磁性薄膜２１上
に反応防止膜を形成する構成とした場合においては、鏡
面加工によってギャップ形成面２０ａ上の反応防止膜は
除去され、金属磁性薄膜２１の融着ガラスと接する部分
のみに反応防止膜を残すこととなり、反応防止膜のギャ
ップ長精度に対する影響が無くなる。

【００３１】次に、図１１に示すように、上記のように
して得られた磁気コア半体ブロック２３とこれと同様に
形成される磁気コア半体ブロック２４の接合を行う。こ
の際、各磁気コア半体ブロック半体２３，２４の突き合
わせ面には、所定のギャップ長を形成できるような図示
しないギャップ膜がそれぞれ形成されている。なお、磁
気コア半体ブロック２３，２４の接合を行うにあたって
は、図１１中に示すように、それぞれに形成される金属
磁性薄膜２１，２８を対向させて突き合わせ面とし、ト
ラック幅規制溝１７，２５、巻線溝１８，２６、ガラス
溝１９，２７の位置合わせを行った上で、巻線溝１８，
２６、ガラス溝１９，２７間に融着ガラス２９，３０を
配し、図中に示すように溶融充填して磁気半体コアブロ
ック２３，２４を接合する。そして、金属磁性薄膜２
１，２８の突き合わせ面間には、磁気ギャップｇ₁（フ
ロントギャップ）及び図示しない磁気ギャップｇ₂（バ
ックギャップ）が形成される。

【００３２】最後に、磁気コア半体ブロック２３，２４
の巻線溝１８，２６に相対向する位置に巻線補助溝を形
成し、これらの磁気記録媒体摺動面に円筒研削を施し、
所定のアジマス角に傾斜させ、当たり幅加工を行い、所
定のチップ厚に切断して図１に示すような磁気ヘッドを
完成する。

【００３３】従って、本実施例においては、突き合わせ
面のエッジ部が明確化されている金属磁性膜２１，２８
を有する磁気コア半体ブロック２３，２４を接合させる
こととなり、金属磁性薄膜２１，２８の突き合わせ面間
に形成される磁気ギャップｇ ₁ のエッジ部が明確化され
る。すなわち、本実施例により製造された磁気ヘッドに
おいては、記録時におけるエッジ部からの漏洩磁界を小
さくすることができ、サイドイレーズを防ぎ、再生時に
良好な再生特性を得ることができ、高密度記録化を達成
することができる。また、本実施例においては、金属磁
性薄膜２１，２８の突き合わせ面が平坦化されることか
ら磁気ギャップ部の製造不良が発生しにくく、生産性が
大きく向上される。さらに、本実施例においては、突き
合わせ面の突き合わせ幅を所定のトラック幅と一致させ
ていることから、磁気ギャップのトラック幅精度を大き
く向上させることができ、生産性を大きく向上させるこ
とができる。

【００３４】次に、本実施例によって製造された磁気ヘ
ッドと従来の磁気ヘッドのイレーズ量を比較した。従来
の磁気ヘッドを製造するにあたっては、本実施例の磁気
ヘッドの製造方法に沿った方法で製造を行い、金属磁性
薄膜形成後の鏡面加工を省いた方法で製造を行った。上
記イレーズ量は、次のようにして測定した。すなわち、
磁気記録装置として記録された信号のトラックピッチが
１０μｍとなるように改造された８ｍｍ用ビデオテープ
レコーダ（商品名：Ｈｉ８）を用い、磁気記録媒体とし
て（Ｈｉ８用）蒸着テープを使用し、上記２種類の磁気
ヘッドによって記録を行った際のイレーズ量をビッター
パターンで測定した。

【００３５】その結果、本実施例によって製造された磁
気ヘッドにおいては、図１２に示すように、図中Ｔｐで
示されるＡチャンネル，Ｂチャンネルの記録信号のトラ
ックピッチ１０μｍに対して図中Ｅ₁ で示される０．５
μｍ以内のイレーズ量が測定された。一方、従来の磁気
ヘッドにおいては、図１３に示すように、図中Ｔｐで示
されるＡチャンネル，Ｂチャンネルの記録信号のトラッ
クピッチ１０μｍに対して図中Ｅ₂ で示される約２μｍ
のイレーズ量が測定された。従って、本実施例によって
製造された磁気ヘッドにおいては、磁気ギャップのエッ
ジ部が明確化されていることから該エッジ部からの記録
時の漏洩磁界が小さく、その結果サイドイレーズが防止
されていることが確認された。すなわち、本実施例によ
って製造された磁気ヘッドにおいては、再生特性が良好
なものとなると思われ、高密度記録化を達成できる。ま
た、上記の磁気ヘッドのように磁気ギャップのトラック
幅Ｔｗが１５μｍ以下であるものにおいては、サイドイ
レーズ減少の効果は非常に高い。

【００３６】さらに、上記２種類の磁気ヘッドにおい
て、製造歩留りを比較したところ、従来の磁気ヘッドに
比べ、本実施例によって製造される磁気ヘッドの方が、
２０％向上していた。これは、前述したように、金属磁
性薄膜表面に形成される異常突起物及び金属磁性薄膜表
面に付着する介在物が鏡面加工によって除去されるこ
と、また金属磁性薄膜の形成によって磁気コア基板に反
りが生じていても、鏡面加工によって磁気コア半体ブロ
ックの突き合わせ面が平坦化されることによって、磁気
ギャップ部に製造不良が発生しにくくなるためであるた
めと考えられる。従って、本実施例の磁気ヘッドの製造
方法においては、生産性が大きく向上されていることが
確認された。

【００３７】実施例２実施例１においては、金属磁性薄膜の表面を鏡面加工す
る際、スラリーとして水溶性溶剤にダイヤモンドを分散
させた水溶性スラリーを用いたが、このようにスラリー
として水溶性のものを使用すると、加工面の表面粗さが
高くなり易く、図１４に示すように加工面の金属磁性薄
膜２１，２８及びこの上に形成されるギャップ膜３１，
３２のエッジ部２１ｅ，２８ｅ，３１ｅ，３２ｅのバ
リ、金属磁性薄膜のスクラッチが生じ、製造歩留りが低
下する、或いは、加工負荷による金属磁性薄膜の膜剥離
やトラック欠けが生じ、後工程において形成される磁気
ギャップのギャップ長精度の低下が生じるといった不都
合が発生し易い。

【００３８】そこで、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
は、金属磁性薄膜の表面を鏡面加工する際、油性スラリ
ーを使用することを特徴とする。なお、本実施例におい
ては、マシン油を基油とし、油性剤，酸化防止剤を加え
た油性溶剤を溶媒とし、研磨材として粒径０．２５μｍ
のダイヤモンドを用いた油性スラリーを使用した。本実
施例においては、油性スラリーを使用していることか
ら、加工面の表面粗さが低くなり、加工面の金属磁性薄
膜及びこの上に形成されるギャップ膜のエッジ部のバ
リ、金属磁性薄膜のスクラッチが生じ難く、製造歩留り
が向上され、加工負荷による金属磁性薄膜の膜剥離やト
ラック欠けが生じ難くなり、後工程において形成される
磁気ギャップのギャップ長精度が向上される。

【００３９】そこで、上記のような本実施例の効果を確
認すべく、以下のような実験を行った。先ず、図１０に
示すような加工装置を使用し、実施例１のように水溶性
スラリーを用いて金属磁性薄膜の鏡面加工を行った場合
と本実施例のように油性スラリーを用いて金属磁性薄膜
の鏡面加工を行った場合の加工面の表面粗さを比較した
ところ、前者においてはＪＩＳＢ−０６０１に規定さ
れる最大高さＲ_max が１０ｎｍとなり、後者においては
５ｎｍとなり、油性スラリーを使用すると、表面粗さを
低くすることが可能であることが確認された。また、本
実施例のように、油性スラリーを使用すると、加工面の
金属磁性薄膜にスクラッチやエッジ部のバリが発生しな
いことも確認された。

【００４０】次に、実施例１のように水溶性スラリーを
用いた場合と本実施例のように油性スラリーを用いた場
合の金属磁性薄膜の膜剥離及びトラック欠けの発生率に
ついて調査したところ、前者においては、膜剥離が８
％，トラック欠けが１０％、後者においては、膜剥離が
０％，トラック欠けが２％であった。従って、本実施例
のように油性スラリーを使用することにより、加工負荷
を低減し、これによる膜剥離やトラック欠けの発生を低
減でき、本実施例によれば、製造歩留りが向上されるこ
とが確認された。

【００４１】さらに、本実施例により製造された磁気ヘ
ッド、実施例１により製造された磁気ヘッド、従来の磁
気ヘッドにおける磁気ギャップのギャップ長精度を比較
した。すなわち、それぞれの磁気ヘッドにおいてギャッ
プ長精度が±１０ｎｍ以上のものを不良品とし、その発
生率を比較した。その結果、本実施例により製造された
磁気ヘッドにおいては１％以下であり、実施例１により
製造された磁気ヘッドにおいては２％以下であり、従来
の磁気ヘッドにおいては１０〜１２％であった。

【００４２】この結果から、本実施例及び実施例１によ
り製造された磁気ヘッドにおいては、金属磁性薄膜表面
に鏡面加工を施しているために、前述のように、金属磁
性薄膜の表面に形成される異常突起物及び付着する介在
物が除去され、ギャップ長精度が向上していることが確
認された。また、本実施例において製造される磁気ヘッ
ドにおいては、上述のように実施例１において製造され
る磁気ヘッドよりも金属磁性薄膜の表面粗さが低く、ス
クラッチも発生していないために更にギャップ長精度が
向上していることが確認された。

【００４３】そして、本実施例により製造される磁気ヘ
ッドの特性を確認すべく、実施例１と同様に、本実施例
によって製造された磁気ヘッドのイレーズ量を測定し
た。その結果、本実施例によって製造された磁気ヘッド
においては、図１５に示すように、図中Ｔｐで示される
Ａチャンネル，Ｂチャンネルの記録信号のトラックピッ
チ１０μｍに対して図中Ｅ₃ で示される０．３μｍ以内
のイレーズ量が測定された。この結果から、本実施例に
より製造される磁気ヘッドにおいては、実施例１により
製造される磁気ヘッドのように金属磁性薄膜及びギャッ
プ膜のエッジ部にバリが生じておらず、イレーズ量を更
に減少させることが可能であり、再生特性が更に向上さ
れていることが確認された。そして、本実施例により製
造される磁気ヘッドを用いれば、更なる高密度記録化が
達成されるものと思われる。

【００４４】実施例３実施例２においては、金属磁性薄膜の表面を鏡面加工す
る際、油性スラリーを使用したが、このように油性スラ
リーを使用すると、実施例２中に述べたように良好な製
造歩留り，ギャップ長精度，再生特性を得ることが可能
であるものの、加工面の金属磁性薄膜中に若干の変質層
が残留し易く、上記金属磁性薄膜の軟磁特性が劣化する
虞がある。

【００４５】そこで、本実施例の磁気ヘッドの製造方法
は、金属磁性薄膜の表面を鏡面加工する際、ＳｉＯ₂ 系
研磨材と、増粘剤を２０容量％以上，５０容量％以下含
有するスラリーを用いることを特徴とする。なお、上記
ＳｉＯ₂ 系研磨材としては、粒径が５０ｎｍ〜１００ｎ
ｍ程度のものが凝集の点から好ましい。本実施例におい
ては、溶媒として化学的な研磨効果を期待できる水酸化
ナトリウム水溶液に増粘剤としてグリセリンを２５容量
％添加したものを用い、研磨材として粒径１００ｎｍ以
下のＳｉＯ₂ を用いた。

【００４６】本実施例においては、上記のようなスラリ
ーを使用していることから、実施例２と同様に加工面の
粗さが低くなり、金属磁性薄膜のスクラッチが生じにく
く、製造歩留りが向上し、加工負荷による金属磁性薄膜
の膜剥離やトラック欠けが生じにくく、後工程において
形成される磁気ギャップのギャップ長精度が向上され
る。また、本実施例においては、加工面の金属磁性薄膜
の変質層が生じにくいため、金属磁性薄膜の軟磁特性が
劣化しにくく、製造される磁気ヘッドの再生特性を更に
向上させることが可能である。

【００４７】次に、上記のような本実施例の効果を確認
すべく、以下のような実験を行った。先ず、本実施例に
従って金属磁性薄膜の鏡面加工を行った場合の表面粗さ
を調査したところ、最大高さＲ_max が５ｎｍであり、実
施例２と同等の結果を得ることができた。すなわち、本
実施例においても、スラリーとして上記のようなものを
使用していることから、実施例２と同様に、表面粗さを
低くすることが可能であることが確認された。また、本
実施例においても、加工面の金属磁性薄膜にスクラッチ
が発生しないことも確認された。

【００４８】ただし、本実施例に従って金属磁性薄膜の
鏡面加工を行う際には、実施例１，２とは異なり、いわ
ゆるフロートポリッシュにて鏡面加工を行った。そし
て、これを適用した加工装置としては、図１６に示すよ
うなものが挙げられる。上記加工装置は、回転軸Ｏ₂ を
中心に図中矢印Ｍ₂ 方向に回転する定盤５１と、被加工
物５２を固定して保持する固定ホルダー５３と、定盤５
１の外周部に設けられて定盤５１とともにスラリー５４
を充填する容器５６を構成する側壁５５により構成され
るものである。

【００４９】すなわち、上記加工装置においては、被加
工物５２の鏡面加工面５２ａが定盤５１の加工面５１ａ
に対向するように被加工物５２を固定ホルダー５３によ
り保持し、容器５６内にスラリー５４を充填し、容器５
６内のスラリー５４に被加工物５２を浸漬させ、被加工
物を浮上させた状態で定盤５１を回転させることによ
り、被加工物５２の鏡面加工面５２ａの鏡面加工を行
う。

【００５０】さらに、上記のような本実施例に従って鏡
面加工を行った金属磁性薄膜表面と、実施例２中に示し
た実施例１，実施例２に従って鏡面加工を行った金属磁
性膜表面の研磨痕の有無を走査型電子顕微鏡により観察
した。各試料の断面及び表面を図１７〜図１９に模式的
に示す。すなわち、本実施例によるものを図１７に示
し、実施例１によるものを図１８に示し、実施例２によ
るものを図１９に示す。なお、各図ともに図中円内に表
面の拡大図を示す。これらの結果から、図１８に示すよ
うな最大高さＲ_max の大きい実施例１によるものには研
磨痕も多く、図１７，１９に示すような最大高さＲ_max
の小さい本実施例及び実施例２によるものには研磨痕が
少ないことがわかった。さらに、本実施例と実施例２に
よるものを比較したところ、両者の最大高さＲ_max は同
等であるが、本実施例によるものにおいては研磨痕が見
られなかった。従って、本実施例のように研磨材として
ＳｉＯ₂ を使用すると、研磨痕が発生しにくいことがわ
かった。

【００５１】さらにまた、スラリー中の増粘剤の添加量
が鏡面加工を行った金属磁性薄膜表面の研磨痕に及ぼす
影響についても調査した。すなわち、増粘剤であるグリ
セリンの添加量を１０容量％から７０容量％まで変化さ
せてスラリーを作製し、それぞれを用いて金属磁性薄膜
に鏡面加工を行った場合の金属磁性薄膜表面の単位面積
当たりでの研磨痕の数を調査した。結果を図２０に示
す。図２０中横軸はグリセリン添加量を示し、縦軸は単
位面積当たりでの研磨痕の数を示す。図２０の結果を見
てわかるように、グリセリンの添加量を２０容量％〜５
０容量％とした場合に研磨痕の数が著しく減少し、増粘
剤の添加量をこの範囲とすることが好ましいことがわか
った。

【００５２】従って、本実施例のように、スラリーとし
て、ＳｉＯ₂ 系研磨材と、増粘剤を２０容量％以上，５
０容量％以下含有するものを用いれば、実施例２と同様
に最大高さＲ_max を低くすることが可能である上、鏡面
加工を行った金属磁性薄膜表面の研磨痕の発生を抑える
ことが可能であることが確認された。

【００５３】次に、本実施例に従って金属磁性薄膜の鏡
面加工を行った場合の金属磁性薄膜の膜剥離及びトラッ
ク欠けの発生率の調査を行ったところ、膜剥離が０％，
トラック欠けが１％であった。この結果と実施例２で述
べた結果から、本実施例においてもスラリーとして上記
のようなものを使用していることから、実施例２と同様
に、加工負荷が低減され、これによる膜剥離やトラック
欠けの発生が低減され、本実施例によれば、製造歩留り
が向上されることが確認された。

【００５４】さらに、本実施例により製造される磁気ヘ
ッドのギャップ長精度を実施例２で述べた方法で調査し
たところ、１％以下であり、実施例２と同様の結果を
得、上述のように、金属磁性薄膜の表面粗さが低く、ス
クラッチも発生していないために良好なギャップ長精度
が達成されることが確認された。

【００５５】そして、本実施例により製造される磁気ヘ
ッドの特性を確認すべく、実施例１と同様に、本実施例
によって製造された磁気ヘッドのイレーズ量を測定し
た。その結果、本実施例によって製造された磁気ヘッド
においては、実施例２と同様に０．３μｍ以内のイレー
ズ量が測定された。従って、本実施例により製造される
磁気ヘッドにおいても、実施例２により製造される磁気
ヘッドのように金属磁性薄膜及びギャップ膜のエッジ部
にバリが生じておらず、イレーズ量を更に減少させるこ
とが可能であり、再生特性が更に向上されていることが
確認された。そして、本実施例により製造される磁気ヘ
ッドを用いれば、更なる高密度記録化が達成されるもの
と思われる。

【００５６】さらにまた、本実施例及び実施例１，２に
従って鏡面加工を行った場合の研磨レートについての調
査も行った。その結果、本実施例によるものにおいては
０．１μｍ／ｍｉｎ、実施例１によるものにおいては
０．５μｍ／ｍｉｎ、実施例２によるものにおいては
０．４μｍ／ｍｉｎという結果が得られ、本実施例によ
れば金属磁性薄膜の膜厚をサブミクロン単位でコントロ
ールすることが可能であることがわかった。

【００５７】そして、本実施例により製造される磁気ヘ
ッドと実施例２により製造される磁気ヘッドの電磁変換
特性についても調査した。すなわち、記録に１０ＭＨｚ
のＯＲＣを用い、Ｖｒ＝７．５ｍ／ｓｅｃとし、記録波
形は矩形波を用い、磁気記録媒体として（Ｈｉ８用）蒸
着テープを用いた場合の再生出力（１５ＭＨｚ）を測定
した。その結果、本実施例により製造される磁気ヘッド
においては２ｄＢ、実施例２により製造される磁気ヘッ
ドにおいては０ｄＢという結果が得られた。従って、本
実施例により製造される磁気ヘッドにおいては、金属磁
性薄膜の表面粗さが低く、研磨痕が極少ないこと、実施
例２により製造した磁気ヘッドのように金属磁性薄膜の
加工面に変質層が生じにくいため、金属磁性薄膜の軟磁
特性が劣化しにくいことから、再生特性が更に向上して
いることが確認された。そして、本実施例により製造さ
れる磁気ヘッドを用いれば、更なる高密度記録化が達成
されるものと思われる。

【００５８】

【発明の効果】以上の説明からも明らかなように、本発
明の磁気ヘッドの製造方法においては、酸化物磁性材料
よりなる磁気コア基板の一主面に磁気ギャップのトラッ
ク幅を規制するトラック幅規制溝を設け、その上に金属
磁性薄膜を被着形成した後、金属磁性薄膜の表面に鏡面
加工を行っていることから、金属磁性薄膜の形成時に発
生するエッジ部のダレが除去され、上記一対の磁気コア
基板を金属磁性薄膜が対向するように接合一体化してい
ることから、上記金属磁性薄膜間に形成される磁気ギャ
ップのエッジ部が明確化され、製造される磁気ヘッドの
エッジ部からの漏洩磁界が小さくなる。従って、上記磁
気ヘッドにおいてはサイドイレーズの発生が抑えられ、
再生特性が向上する。また、このことから該磁気ヘッド
を用いれば、高密度記録化を達成することも可能とな
る。さらに、鏡面加工によって金属磁性薄膜表面が平坦
化されることから、磁気ギャップ部の製造不良が発生し
にくく、製造歩留りが向上し、生産性が大きく向上す
る。

【００５９】また、本発明の磁気ヘッドの製造方法にお
いては、磁気コア基板上の金属磁性薄膜の表面を鏡面加
工する際、油性スラリー、或いは、ＳｉＯ₂ 系研磨材
と、増粘剤を２０容量％以上，５０容量％以下含有する
スラリーを用いても良く、製造される磁気ヘッドにおい
ては更なる高密度記録化が達成され、ギャップ長精度や
製造歩留りを更に向上させることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の磁気ヘッドの製造方法によって製造
される磁気ヘッドを示す斜視図である。

【図２】実施例１の磁気ヘッドの製造方法によって製造
される磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍を示す要部拡大平
面図である。

【図３】実施例１の磁気ヘッドの製造方法を工程順に示
すものであり、ブロックにトラック幅規制溝を形成する
工程を示す斜視図である。

【図４】トラック幅規制溝部分を示す要部拡大側面図で
ある。

【図５】ブロックに巻線溝，ガラス溝を形成する工程を
示す斜視図である。

【図６】ブロックを一対のブロック半体に切断する工程
を示す斜視図である。

【図７】ブロック半体に金属磁性薄膜を形成する工程を
示す斜視図である。

【図８】ブロック半体に形成される金属磁性薄膜近傍を
示す要部拡大側面図である。

【図９】金属磁性薄膜に鏡面加工を施す工程を示す要部
拡大側面図である。

【図１０】鏡面加工を行う加工装置の一構成例を模式的
に示す要部拡大断面図である。

【図１１】一対の磁気コア半体ブロックを接合する工程
を示す斜視図である。

【図１２】実施例１により製造される磁気ヘッドによっ
て記録を行った場合の記録パターンを示す模式図であ
る。

【図１３】従来の磁気ヘッドによって記録を行った場合
の記録パターンを示す模式図である。

【図１４】実施例１により製造される磁気ヘッドの磁気
ギャップ近傍部を示す要部拡大平面図である。

【図１５】実施例２により製造される磁気ヘッドによっ
て記録を行った場合の記録パターンを示す模式図であ
る。

【図１６】鏡面加工を行う加工装置の他の構成例を模式
的に示す要部拡大断面図である。

【図１７】実施例３に従って鏡面加工を行った金属磁性
薄膜の断面及び表面を示す模式図である。

【図１８】実施例１に従って鏡面加工を行った金属磁性
薄膜の断面及び表面を示す模式図である。

【図１９】実施例２に従って鏡面加工を行った金属磁性
薄膜の断面及び表面を示す模式図である。

【図２０】スラリー中のグリセリン添加量と金属磁性薄
膜表面の単位面積当たりでの研磨痕の数の関係を示す図
である。

【図２１】従来の磁気ヘッドの磁気ギャップ近傍部を示
す要部拡大平面図である。

【符号の説明】

１，２・・・・磁気コア半体３，４・・・・磁気コア基板５，６，２１・・・・金属磁性薄膜７，８，１７・・・・トラック幅規制溝２０・・・ブロック半体２１ａ，２１ｂ・・・・突き合わせ面２１ａ₁ ，２１ａ₂ ，２１ｂ₁ ，２１ｂ₂ ，Ｇｅ₁ ，Ｇ
ｅ₂ ・・・・エッジ部ｇ₁ ，Ｇ₁ ・・・・磁気ギャップ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者渡辺利信東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内 (72)発明者佐川秀人東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内 (72)発明者小池康晴東京都品川区北品川６丁目７番35号ソニー株式会社内

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】酸化物磁性材料よりなる磁気コア基板の
一主面に磁気ギャップのトラック幅を規制するトラック
幅規制溝を形成する工程と、前記トラック幅規制溝が形成された磁気コア基板上に金
属磁性薄膜を被着形成する工程と、磁気コア基板上の金属磁性薄膜の表面を鏡面加工する工
程と、一対の磁気コア基板を前記鏡面加工した金属磁性薄膜同
士が対向するようにギャップ材を介して接合一体化する
工程を有することを特徴とする磁気ヘッドの製造方法。
【請求項２】磁気コア基板上の金属磁性薄膜の表面を
鏡面加工する際、油性スラリーを用いることを特徴とす
る請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。
【請求項３】磁気コア基板上の金属磁性薄膜の表面を
鏡面加工する際、ＳｉＯ₂ 系研磨材と、増粘剤を２０容
量％以上，５０容量％以下含有するスラリーを用いるこ
とを特徴とする請求項１記載の磁気ヘッドの製造方法。