JPH0762894B2 - 磁気デイスク用下地基板 - Google Patents
磁気デイスク用下地基板Info
- Publication number
- JPH0762894B2 JPH0762894B2 JP60292275A JP29227585A JPH0762894B2 JP H0762894 B2 JPH0762894 B2 JP H0762894B2 JP 60292275 A JP60292275 A JP 60292275A JP 29227585 A JP29227585 A JP 29227585A JP H0762894 B2 JPH0762894 B2 JP H0762894B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- film
- magnetic
- magnetic disk
- base substrate
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Landscapes
- Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は板面に薄膜磁性媒体を形成する磁気ディスク用
下地基板にかかわり、特に、磁気ヘッドに対する耐摺動
強度を向上させた磁気ディスク用下地基板に関する。
下地基板にかかわり、特に、磁気ヘッドに対する耐摺動
強度を向上させた磁気ディスク用下地基板に関する。
従来の板面に薄膜磁性媒体を形成する磁気ディスク用下
地基板は、Al陽極酸化処理をしたAl基板や、Ni−Ｐ系の
めっき処理をした基板が用いられていた。これらの基板
は、表面の硬さがHv≒200〜600の硬質皮膜処理をした表
面を、ダイヤモンド旋削やポリシング等の機械加工によ
って、表面粗さ0.1μmRmax以下に仕上げている。この基
板上に薄膜磁性媒体を形成した、例えば、厚さ0.1μｍ
以下のNi−Co−Ｐの磁性めっきを施し、あるいは厚さ約
0.2μｍのγ−Fe2O3をスパッタ形成したディスク基板で
は、磁気ヘッドに対するCSS（Contact−Start−Stop）
特性等の耐摺動強度を十分満足できないという問題があ
った。
地基板は、Al陽極酸化処理をしたAl基板や、Ni−Ｐ系の
めっき処理をした基板が用いられていた。これらの基板
は、表面の硬さがHv≒200〜600の硬質皮膜処理をした表
面を、ダイヤモンド旋削やポリシング等の機械加工によ
って、表面粗さ0.1μmRmax以下に仕上げている。この基
板上に薄膜磁性媒体を形成した、例えば、厚さ0.1μｍ
以下のNi−Co−Ｐの磁性めっきを施し、あるいは厚さ約
0.2μｍのγ−Fe2O3をスパッタ形成したディスク基板で
は、磁気ヘッドに対するCSS（Contact−Start−Stop）
特性等の耐摺動強度を十分満足できないという問題があ
った。
本発明の目的は、磁気ヘッドに対する耐摺動強度を向上
させた磁気ディスク用下地基板を提供することにある。
させた磁気ディスク用下地基板を提供することにある。
本発明は、磁気ディスク用下地基板において、板面に硬
質膜を形成したAl基板を研磨して、この上に中間膜を形
成し、該中間膜中に前記硬質膜の突起部が、中間膜の形
成面の表面から該突起部の頂部までの距離が0.01〜0.05
μｍの高さで点在させることによって、磁気ヘッドに対
する対摺動強度の向上を図ったもので、以下にその原理
を説明する。
質膜を形成したAl基板を研磨して、この上に中間膜を形
成し、該中間膜中に前記硬質膜の突起部が、中間膜の形
成面の表面から該突起部の頂部までの距離が0.01〜0.05
μｍの高さで点在させることによって、磁気ヘッドに対
する対摺動強度の向上を図ったもので、以下にその原理
を説明する。
最初に、磁気ディスクの摺動強度について説明する。磁
気ディスク装置では、面記録密度を高めるため、磁気ヘ
ッドとディスク表面との間隙が微小化し、磁気ヘッドと
ディスク表面との接触頻度が激増してきており、このた
めディスク表面の耐摺動強度を高くする必要がある。現
在、一般に使用されている塗布型磁気ディスクでは、第
４図に示すように、針状微粒子であるγ−Fe2O3の磁性
材７と、補強材としてアルミナ微粒子８と、バインダと
して樹脂９とを混合したものをAl基板１に塗布した構造
を有しており、この塗膜中のアルミナ微粒子８が基板表
面に分散していて、磁気ヘッドとの接触に基づく摩擦摩
耗に対する耐久性を向上させ、磁気ディスクの耐久性を
高めている。
気ディスク装置では、面記録密度を高めるため、磁気ヘ
ッドとディスク表面との間隙が微小化し、磁気ヘッドと
ディスク表面との接触頻度が激増してきており、このた
めディスク表面の耐摺動強度を高くする必要がある。現
在、一般に使用されている塗布型磁気ディスクでは、第
４図に示すように、針状微粒子であるγ−Fe2O3の磁性
材７と、補強材としてアルミナ微粒子８と、バインダと
して樹脂９とを混合したものをAl基板１に塗布した構造
を有しており、この塗膜中のアルミナ微粒子８が基板表
面に分散していて、磁気ヘッドとの接触に基づく摩擦摩
耗に対する耐久性を向上させ、磁気ディスクの耐久性を
高めている。
一方、本発明がかかわる板面に薄膜磁性媒体を形成する
薄膜磁気ディスクでは、磁性層が0.05〜0.2μｍと極め
て薄いため、面精度や硬度は基板の影響を大きく受け、
基板との密着強度、基板硬度などが耐久性に大きく影響
を及ぼす。また、薄膜磁性媒体の磁気特性、機械的特性
も、下地基板の性質に大きく影響される。このような観
点から、本願発明者らは、鏡面研磨加工した陽極酸化処
理のAl基板、あるいはNi−Ｐめっき処理基板上にMo,Ti,
Cr等の中間膜を形成し、この中間膜上に薄膜磁性媒体を
形成するプロセスを研究しているが、この研究過程にお
いて、Ni−Ｐめっき面に形成したTi中間膜上に分散して
いる直径５〜50μｍの結晶粒が存在していることを見い
だした。この結晶粒の硬さは、中間膜の他の部分の硬さ
より大きく、また結晶粒は、表面から高さが0.01〜0.1
μｍの凸部を形成していた。本発明は、このような知見
と、研究の結果に基づいてなされたものである。
薄膜磁気ディスクでは、磁性層が0.05〜0.2μｍと極め
て薄いため、面精度や硬度は基板の影響を大きく受け、
基板との密着強度、基板硬度などが耐久性に大きく影響
を及ぼす。また、薄膜磁性媒体の磁気特性、機械的特性
も、下地基板の性質に大きく影響される。このような観
点から、本願発明者らは、鏡面研磨加工した陽極酸化処
理のAl基板、あるいはNi−Ｐめっき処理基板上にMo,Ti,
Cr等の中間膜を形成し、この中間膜上に薄膜磁性媒体を
形成するプロセスを研究しているが、この研究過程にお
いて、Ni−Ｐめっき面に形成したTi中間膜上に分散して
いる直径５〜50μｍの結晶粒が存在していることを見い
だした。この結晶粒の硬さは、中間膜の他の部分の硬さ
より大きく、また結晶粒は、表面から高さが0.01〜0.1
μｍの凸部を形成していた。本発明は、このような知見
と、研究の結果に基づいてなされたものである。
本発明では、前述のように、突起部の高さを0.01〜0.05
μｍとしているが、これは次の理由による。すなわち、
磁気ディスク装置の高記録密度化とともに、磁気ヘッド
とディスク表面との間隙が微小化し、近年では、この間
隙は0.1μｍ以下となっており、そのため、ディスク面
での突起部の高さは、磁気ヘッドの振れや外乱を考える
と、0.05μｍ以下が要求される。また、後述する比較例
では、鏡面加工した基板を用いた磁気ディスクに対して
得られたCSS特性が悪い例が述べられているが、この磁
気ディスクでの凸部の高さが0.01μｍ以下であった。こ
れらのことから、突起部の高さの上限を0.05μｍとし、
下限を0.01μｍとしたものである。
μｍとしているが、これは次の理由による。すなわち、
磁気ディスク装置の高記録密度化とともに、磁気ヘッド
とディスク表面との間隙が微小化し、近年では、この間
隙は0.1μｍ以下となっており、そのため、ディスク面
での突起部の高さは、磁気ヘッドの振れや外乱を考える
と、0.05μｍ以下が要求される。また、後述する比較例
では、鏡面加工した基板を用いた磁気ディスクに対して
得られたCSS特性が悪い例が述べられているが、この磁
気ディスクでの凸部の高さが0.01μｍ以下であった。こ
れらのことから、突起部の高さの上限を0.05μｍとし、
下限を0.01μｍとしたものである。
なお、中間層については、これまでに、基板と磁性媒体
との間にCrやTi,Mn等を形成する発明が提案されており
（特開昭49−74912号公報）、これは磁性媒体の磁気特
性が中間膜によって向上することを示している。しか
し、それに開示された技術は、基板と磁性媒体との密着
力や、中間膜に存在する結晶粒、さらにこの結晶粒と耐
摺動強度との関係についての問題を認識した上でなされ
たものではない。
との間にCrやTi,Mn等を形成する発明が提案されており
（特開昭49−74912号公報）、これは磁性媒体の磁気特
性が中間膜によって向上することを示している。しか
し、それに開示された技術は、基板と磁性媒体との密着
力や、中間膜に存在する結晶粒、さらにこの結晶粒と耐
摺動強度との関係についての問題を認識した上でなされ
たものではない。
本発明の一実施例を図面を用いて説明する。第１図は該
実施例の磁気ディスク用下地基板の断面をモデル化して
示した図であり、厚さが約2mmのAl合金円板からなるAl
基板１の両面に、厚さ約20μｍのNi−Ｐめっき膜２を形
成し、鏡面研磨後、スパッタリング法により中間膜３を
形成し、さらに表面仕上げした下地基板を示す。なお、
符号４は突起部である。また、第２図は上記下地基板
に、酸化鉄を厚さ約0.2μｍにスパッタ形成して磁性媒
体５を設け、その表面に厚さ1nm以下の潤滑膜６を形成
した磁気ディスクの断面をモデル化して示した図であ
る。
実施例の磁気ディスク用下地基板の断面をモデル化して
示した図であり、厚さが約2mmのAl合金円板からなるAl
基板１の両面に、厚さ約20μｍのNi−Ｐめっき膜２を形
成し、鏡面研磨後、スパッタリング法により中間膜３を
形成し、さらに表面仕上げした下地基板を示す。なお、
符号４は突起部である。また、第２図は上記下地基板
に、酸化鉄を厚さ約0.2μｍにスパッタ形成して磁性媒
体５を設け、その表面に厚さ1nm以下の潤滑膜６を形成
した磁気ディスクの断面をモデル化して示した図であ
る。
以下、上記磁気ディスク用下地基板の製造方法を詳しく
述べる。まず、外径210mm、内径100mm、板厚2mmのAl合
金円板であるAl基板１の両面を研磨した後、両面にNi−
Ｐめっき膜２を厚さ約20μｍ形成した。このNi−Ｐめっ
きを施した基板の両面を研磨し、表面粗さ0.01μmRa以
下の鏡面とした。次に、該基板の両面に、TiをArガス圧
5mTorr、下地基板温度200℃、投入電力2kWの条件ではス
パッタ形成し、厚さ0.05μｍの中間膜３を作成した。こ
の中間膜３を形成した表面には、第１図に示すように、
高さが約0.02〜0.03μｍ、大きさが約10〜20μｍの突起
部４が全面に点在していた。この突起部４は、中間膜３
の他の部分であるTi膜よりも硬質であり、中間膜３表面
を研磨布で表面仕上げしても、低下しなかった。次に、
上記基板上に、Ar−O2ガス中にて酸化鉄の磁性媒体５を
厚さ0.2μｍ形成し、さらにフッ素系の潤滑膜６を厚さ1
nm以下で形成した。この表面の断面形状は、第３図に示
すように、約0.02μｍの突起が形成されており、中間膜
３を形成したときの突起部４が表面に残っていることを
示している。この試料に対し、磁気ヘッドによるCSS特
性試験を行ったが、良好な結果を得た。
述べる。まず、外径210mm、内径100mm、板厚2mmのAl合
金円板であるAl基板１の両面を研磨した後、両面にNi−
Ｐめっき膜２を厚さ約20μｍ形成した。このNi−Ｐめっ
きを施した基板の両面を研磨し、表面粗さ0.01μmRa以
下の鏡面とした。次に、該基板の両面に、TiをArガス圧
5mTorr、下地基板温度200℃、投入電力2kWの条件ではス
パッタ形成し、厚さ0.05μｍの中間膜３を作成した。こ
の中間膜３を形成した表面には、第１図に示すように、
高さが約0.02〜0.03μｍ、大きさが約10〜20μｍの突起
部４が全面に点在していた。この突起部４は、中間膜３
の他の部分であるTi膜よりも硬質であり、中間膜３表面
を研磨布で表面仕上げしても、低下しなかった。次に、
上記基板上に、Ar−O2ガス中にて酸化鉄の磁性媒体５を
厚さ0.2μｍ形成し、さらにフッ素系の潤滑膜６を厚さ1
nm以下で形成した。この表面の断面形状は、第３図に示
すように、約0.02μｍの突起が形成されており、中間膜
３を形成したときの突起部４が表面に残っていることを
示している。この試料に対し、磁気ヘッドによるCSS特
性試験を行ったが、良好な結果を得た。
一方、上記実施例の下地基板と比較のために、Ni−Ｐめ
っきを施した基板の両面を研磨して、表面粗さ0.01μmR
a以下の鏡面加工をした基板に、Ar−O2ガス中にて酸化
鉄の磁性媒体を厚さ約0.2μｍ形成し、さらにフッ素系
潤滑膜を厚さ約1nm以下に形成した試料をつくり、この
試料に対して前述と同様のCSS特性試験を行ったが、そ
の結果は前記実施例に比べて悪く、約１桁低い特性値し
か得られなかった。
っきを施した基板の両面を研磨して、表面粗さ0.01μmR
a以下の鏡面加工をした基板に、Ar−O2ガス中にて酸化
鉄の磁性媒体を厚さ約0.2μｍ形成し、さらにフッ素系
潤滑膜を厚さ約1nm以下に形成した試料をつくり、この
試料に対して前述と同様のCSS特性試験を行ったが、そ
の結果は前記実施例に比べて悪く、約１桁低い特性値し
か得られなかった。
本発明によれば、磁気ディスク用下地基板において、基
板表面に硬質でかつ微小高さの突起部が均一に分散して
いるので、磁気ヘッドのスライダ部によるCSS特性等の
耐摺動強度を大幅に向上するという効果がある。また、
この微小突起部は、電磁変換特性のノイズエラーに影響
を与えず、さらに微小突起部の高さを0.03μｍ以下にす
ることにより、磁気ヘッドの浮上特性に影響を及ぼさな
いので、磁気ディスクの大幅な信頼性向上を達成するこ
とができる。
板表面に硬質でかつ微小高さの突起部が均一に分散して
いるので、磁気ヘッドのスライダ部によるCSS特性等の
耐摺動強度を大幅に向上するという効果がある。また、
この微小突起部は、電磁変換特性のノイズエラーに影響
を与えず、さらに微小突起部の高さを0.03μｍ以下にす
ることにより、磁気ヘッドの浮上特性に影響を及ぼさな
いので、磁気ディスクの大幅な信頼性向上を達成するこ
とができる。
第１図は本発明の一実施例の磁気ディスク用下地基板の
断面をモデル化して示した図、第２図は該基板に磁性媒
体および潤滑膜を形成した磁気ディスクの断面をモデル
化して示した図、第３図は本発明による下地基板表面の
断面曲線を示す図、第４図は従来の塗布磁気ディスクの
断面図である。 符号の説明 １……Al基板、２……Ni−Ｐめっき膜 ３……中間膜、４……突起部 ５……磁性媒体、６……潤滑膜
断面をモデル化して示した図、第２図は該基板に磁性媒
体および潤滑膜を形成した磁気ディスクの断面をモデル
化して示した図、第３図は本発明による下地基板表面の
断面曲線を示す図、第４図は従来の塗布磁気ディスクの
断面図である。 符号の説明 １……Al基板、２……Ni−Ｐめっき膜 ３……中間膜、４……突起部 ５……磁性媒体、６……潤滑膜
Claims (3)
- 【請求項１】スパッタリングやめっき処理によって薄膜
磁性媒体が板面に形成される磁気ディスク用下地基板に
おいて、板面に硬質膜を形成したアルミニューム基板を
研磨して、この上に中間膜を形成し、該中間膜中に前記
硬質膜の突起部が、該中間膜の形成面の表面から該突起
部の頂部までの距離が0.01〜0.05μｍの高さで点在する
ことを特徴とする磁気ディスク用下地基板。 - 【請求項２】特許請求の範囲第１項に記載の磁気ディス
ク用下地基板において、硬質膜が、Ni−Ｐめっき処理に
より形成されたことを特徴とする磁気ディスク用下地基
板。 - 【請求項３】特許請求の範囲第１項に記載の磁気ディス
ク用下地基板において、中間膜がTi,Mo,Crのうちいずれ
か１つからなることを特徴とする磁気ディスク用下地基
板。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292275A JPH0762894B2 (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 磁気デイスク用下地基板 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60292275A JPH0762894B2 (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 磁気デイスク用下地基板 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS62154218A JPS62154218A (ja) | 1987-07-09 |
| JPH0762894B2 true JPH0762894B2 (ja) | 1995-07-05 |
Family
ID=17779641
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60292275A Expired - Lifetime JPH0762894B2 (ja) | 1985-12-26 | 1985-12-26 | 磁気デイスク用下地基板 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0762894B2 (ja) |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6018817A (ja) * | 1983-07-12 | 1985-01-30 | Nec Corp | 磁気記憶体 |
| JPS6085417A (ja) * | 1983-10-14 | 1985-05-14 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 薄膜型磁気記録媒体 |
-
1985
- 1985-12-26 JP JP60292275A patent/JPH0762894B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS62154218A (ja) | 1987-07-09 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US7597972B2 (en) | Magnetic recording medium including a patterned intermediate layer and a non-patterned soft magnetic layer and manufacturing method thereof | |
| US5122423A (en) | Magnetic recording medium comprising a chromium underlayer deposited directly on an electrolytic abrasive polished high purity aluminum alloy substrate | |
| JPH0762894B2 (ja) | 磁気デイスク用下地基板 | |
| JPS6038720A (ja) | 磁気ディスク用基板 | |
| JPS62219227A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JP2557381B2 (ja) | 垂直磁気記録媒体 | |
| JPH0628097B2 (ja) | 磁気デイスク用下地基板 | |
| JPS6342021A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS62209719A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0758539B2 (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH0440626A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| WO1994015720A1 (en) | Magnetic recording media on non-metallic substrates and methods for their production | |
| JPS63104214A (ja) | 磁気記憶体およびその製造方法 | |
| JPH1197224A (ja) | グラニュラー膜、磁気記録媒体及びその製造法 | |
| JPH06325342A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61243928A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH0528469A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPS6364623A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPH01165020A (ja) | 磁気記録媒体 | |
| JPS61267924A (ja) | 磁気記憶体 | |
| JPH02189716A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 | |
| JPH0513332B2 (ja) | ||
| JPH09293236A (ja) | 磁気ディスク | |
| JPH01232516A (ja) | 金属薄膜型磁気記録媒体 | |
| JPH06150300A (ja) | 磁気記録媒体およびその製造方法 |