JPH0768916A - 表示盤の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】光重合性着色層がアルカリ現像されて、基盤上
に画像層形成される表示盤で、耐久性に優れ且つ表面の
光沢度が適度に抑えられた表示盤を製造する方法を提供
刷る。 【構成】基盤上に光重合性接着層を設け、画像は剥離可
能な支持体上に光重合性着色層を設けた画像シ−トをそ
の光重合性接着層に積層し、次いで露光、現像し支持体
を剥離し形成される。画像形成シ−トを積層し、露光、
現像を行いその積層された画像層の表面に透明樹脂を積
層する。光重合性接着層、透明樹脂層には紫外線吸収剤
を添加する

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、各種装置の計器盤、地
図や風景を配した表示板、車輌用スピ−ドメ−タ−の文
字盤等に利用される表示盤の製造法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より、支持体上に所定の着色画像が
形成された各種装置の計器盤、地図や風景を配した表示
板、車輌用スピ−ドメタ−の文字盤等の着色画像の形成
には、印刷法が用いられ、特にスクリ−ン印刷法、オフ
セット印刷法等が用いられていが、近年商品の高級化、
多様化が進み、上記着色画像の装飾性や視認性の向上が
要望される中で、スクリ−ン印刷法では、インクの粘度
調整と乾燥硬化が必要であるため作業に手間がかかって
い。

【０００３】更に、スクリ−ン印刷法では、印刷インク
が版に残存するので溶剤による版の洗浄が必要となるた
め作業に手間がかかる。

【０００４】オフセット印刷法では、インクの塗膜を厚
くすることができないため表示盤に必要とされる色濃度
が得られない。

【０００５】上記印刷法にかわる方法として、例えば、
光重合性着色層を有する画像形成シ−トを用いて、露
光、現像により画像を形成した後、熱と圧力を加えて受
像層に転写して画像を得る方法が特開昭４７−４１８３
０号公報及び特開昭４８−９３３３７号公報に開示され
ている。

【０００６】更に、表示盤を製造する他の方法として
は、例えば、画像形成シ−トを用いて画像を形成し、そ
の画像を光重合性樹脂層を設けた基盤上に転写し、その
上に透明な光重合性樹脂層を積層して耐久性のよい表示
盤を製造する方法が、特開平２−２１０２２０号公報に
開示されている。

【０００７】しかしながら、上記方法による表示盤の製
造では、現像された画像が基盤に転写されるので、基盤
と画像の密着性が十分でなく、剥がれ、浮きが生じやす
かった。また、使用中に太陽光や蛍光灯による画像の変
色や褪色や製造工程中の紫外線露光による光重合性樹脂
層の変色があった。

【０００８】更に、前記特開平２−２１０２２０号公報
記載の方法では、表面硬度と適度な屈曲性を両立させる
ことが難しく耐久性のある表示盤を得ることが難しかっ
た。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記欠点に
鑑みなされたもので、その目的とするところは画像と基
盤との密着性に優れ、且つ変色、褪色がなく、しかも、
耐久性に優れた表示盤の製造方法を提供することにあ
る。

【００１０】

【課題を解決するための手段】本発明の製造方法の第一
工程においては、光重合性接着層が設けられた基盤の光
重合性接着層上に上、光重合性着色層を積層し、該光重
合性着色層をネガマスクを通して、露光、硬化し、未硬
化部を除去することにより、画像形成パタ−ンが形成さ
れる。

【００１１】上記基盤としては、適度の可撓性と熱で変
形しにくいものであればよく、例えば、ポリカ−ボネ−
ト樹脂；ポリエチレンテレフタレ−ト；ポリエステル樹
脂；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン
樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等のハロゲ
ン含有樹脂；ポリアミド樹脂及びポリ（メタ）アクリル
酸エステル樹脂等の板状体、ガラス板、セラミックス
板、金属板等が挙げられる。

【００１２】上記光重合性接着層は、例えば、（イ）有
機高分子、（ロ）光重合可能な不飽和化合物、（ハ）光
重合開始剤及び必要に応じて添加される紫外線吸収剤、
可塑剤、熱重合禁止剤、酸化防止剤、熱安定剤からなる
光重合性接着組成物から製造される。

【００１３】上記有機高分子（イ）はα、β−不飽和エ
チレン系単量体を構成成分とするものが好ましく、例え
ば、スチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレ
ン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、ｐ−エ
チルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、ｐ−ｎ−ヘ
キシルスチレン、ｐ−ｎ−オクチルスチレン、ｐ−メト
キシスチレン、ｐ−フェニルスチレン、３，４−ジメチ
ルクロルスチレン等のスチレン類；α−ビニルナフタレ
ン等のビニルナフタレン類；エチレン、プロピレン、ブ
チレン又はＣ₅ 〜Ｃ₃₀のα−オレフィン類；塩化ビニ
ル、臭化ビニル等のハロゲン化ビニル；酢酸ビニル、プ
ロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニルエステル類；
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸プロピ
ル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル
酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メ
タ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸２−エチ
ルヘキシル、（メタ）アクリル酸２−クロルエチル、α
−クロル（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル
酸フェニル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル
等の（メタ）アクリル酸エステル類；ビニルメチルエ−
テル、ビニルエチルエ−テル等のビニルエ−テル類；ビ
ニルメチルケトン、ビニルエチルケトン等のビニルケト
ン類；Ｎ−ビニルピロ−ル、Ｎ−ビニルインド−ル等の
Ｎ−ビニル化合物；（メタ）アクリロニトリル、（メ
タ）アクリル酸アミド類等が挙げられる。これらは単独
で使用されてもよいし、２種以上が併用されてもよい。

【００１４】上記有機高分子（イ）の重量平均分子量
は、小くなると光重合性接着層を塗工し、ロ−ル状に巻
いて保存している間に皺が入りやすく、大くなると塗工
時の粘度が高くなりすぎて塗工むらができるので２万〜
１００万が好ましく、より好ましくは５万〜５０万であ
る。

【００１５】前記光重合可能な不飽和化合物（ロ）は、
（メタ）アクリル酸誘導体等であり例えば、トリエチレ
ングリコ−ル（メタ）アクリレ−ト、テトラエチレング
リコ−ルジ（メタ）アクリレ−ト、ノナエチレングリコ
−ルジ（メタ）アクリレ−ト、ポリエチレグリコ−ルジ
（メタ）アクリレ−ト、トリプロピレングリコ−ルジ
（メタ）アクリレ−ト、テトラプロピレングリコ−ルジ
（メタ）アクリレ−ト、ノナプロピレングリコ−ルジ
（メタ）アクリレ−ト、ポリプロピレングリコ−ルジ
（メタ）アクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルトリ（メ
タ）アクリレ−ト、ペンタエリスリト−ルテトラ（メ
タ）アクリレ−ト、エトキシ化ペンタエリスリト−ルテ
トラ（メタ）アクリレ−ト、プロポキシ化ペンタエリス
リト−ルテトラ（メタ）アクリレ−ト、ジペンタエリス
リト−ルペンタ（メタ）アクリレ−ト、ジペンタエリス
リト−ルヘキサ（メタ）アクリレ−ト、トリメチロ−ル
プロパントリ（メタ）アクリレ−ト、エトキシ化トリメ
チロ−ルプロパントリ（メタ）アクリレ−ト、プロポキ
シ化トリメチロ−ルプロパントリ（メタ）アクリレ−
ト、２，２−ビス〔４−（アクリロキシジエトキシ）フ
ェニル〕プロパン、２，２−ビス〔４−（メタクリロキ
シジエトキシ）フェニル〕プロパン、３−フェノキシ−
２−プロパノイルアクリレ−ト、１、６−ビス（３−ア
クリロキシ−２−ヒドロキシプロピル）ヘキシルエ−テ
ル等の多官能性モノマ−；メチル（メタ）アクリレ−
ト、ベンジル（メタ）アクリレ−トなどの単官能モノマ
−；ウレタンやポリエステルのアクリレ−トオリゴマ−
等が挙げられる。

【００１６】上記光重合開始剤（ハ）としては、紫外
線、可視光線等の活性光線により上記光重合可能な不飽
和化合物（ロ）を活性化し、重合を開始させる性質を有
するものであればよく、例えば、ソジウムメチルジチオ
カ−バメイトサルファイト、テトラメチルチウラムモノ
サルファイト、ジフェニルモノサルファイト、ジベンゾ
チアゾイルモノサルファイト、ジベンゾチアゾイルジサ
ルファイト等のサルファイト類；チオキサントン、２−
エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン２，
４ジエチルチオキサントン等のチオキサントン誘導体；
ヒドラゾン、アゾイソブチロニトリル、ベンゼンジアゾ
ニウム等のジアゾ化合物；ベンゾイン、ベンゾインメチ
ルエ−テル、ベンゾインエチルエ−テル、ベンゾインイ
ソポロピルエ−テル、ベンゾフェノン、ジメチルアミノ
ベンゾフェノン、ミヒラ−ケトン、ベンジルアントラキ
ノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−メチルアントラ
キノン２−エチルアントラキノン、２−アミノアントラ
キノン、２−クロロアントラキノン、ベンジルジメチル
ケタ−ル、メチルフェニルグリオキシレ−ト等の芳香族
カルボニル化合物；４−（２−ヒドロキシエトキシ）フ
ェニル（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、α−
ヒドロキシ−α，α’−ジメチルアセトフェノン、２，
２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシア
セトフェノン等のアセトフェノン誘導体；ｐ−ジメチル
アミノ安息香酸メチル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エ
チル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸ブチル、ｐ−ジエチ
ルアミノ安息香酸イソプロピル等のジアルキルアミノ安
息香酸エステル類；ベンゾイルパ−オキサイド、ジ−ｔ
−ブチルパ−オキサイド、ジクミルパ−オキサイド、キ
ュメンヒドロパ−オキサイド等の過酸化物；９−フェニ
ルアクリジン、９−ｐ−メトキシフェニルアクリジン、
９−アセチルアミノアクリジン、ベンズアクリジン等の
アクリジン誘導体；９，１０−ジメチルベンゾフェナジ
ン、９−メチルベンズフェナジン、１０−メトキシベン
ズフェナジン等のフェナジン誘導体；６，４’，４”−
トリメトキシ−２，３−ジフェニルキノサリン等のキノ
サリン誘導体、２，４，５−トリフェニルイミダゾイル
２量体；ハロゲン化ケトン、２，４，６−トリメチルベ
ンゾイルフェニルホスフィンオキシド、アシルホスフェ
−ト等のアシル化燐化合物；２−ニトロフルオレン、
２，４，６−トリフェニルビリリウム四弗化ホウ素塩、
２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５
−トリアジン、３，３’−カルボニルビスクマリン、チ
オミヒラ−ケトンなどが挙げられる。

【００１７】上記光重合性接着組成物の光重合開始剤
（ハ）の添加量は、少くなると硬化が不充分となり、多
くなると硬化した光重合性接着層が着色したり、脆くな
ったりするので、前記有機高分子（イ）１００重量部に
対して０．１〜１０重量部が好ましい。

【００１８】上記紫外線吸収剤としては公知の物が使用
され、例えば、フェニルサリシレ−ト、ｐ−ｔｅｒｔ−
ブチルフェニルサリシレ−ト、ｐ−オクチルフェニルサ
リシレ−ト等のサリチル酸系紫外線吸収剤；２，４−ジ
ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メト
キシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシ
ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシ
ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキ
シベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’
−ジメトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メ
トキシ−５−スルフォベンゾフェノン等のベンゾフェノ
ン系紫外線吸収剤；２−（２’−ヒドロキシ−５’−メ
チルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒド
ロキシ−５’−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリ
アゾ−ル、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔｅ
ｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−
（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−
メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ−ル、２
−（２’−ヒドロキシ−３’、５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾ−ル、２−
（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミ
ルフェニル）ベンゾトリアゾ−ル、２−（２’−ヒドロ
キシ−４’−オクトキシフェニル）ベンゾトリアゾ−
ル、２−〔２’−ヒドロキシ−３’−（３”，４”，
５”，６”−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５’
−メチルフェニル〕ベンゾトリアゾ−ル、メチル−３−
〔３−（２−ベンゾトリアゾ−ル−２−イル）−５−ｔ
ｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル〕プロピオネ
−トとポリエチレングリコ−ル３００との反応物（チバ
ガイギ−製、商品名；チヌビン１１３０）等のベンゾト
リアゾ−ル系紫外線吸収剤；２−エチルヘキシル−２−
シアノ−３，３’−ジフェニルアクリレ−ト、エチル−
２−シアノ−３，３’−ジフェニルアクリレ−ト等のシ
アノアクリレ−ト系紫外線吸収剤などが挙げられ、これ
らは単独で使用されてもよいし、２種以上が併用されて
もよい。

【００１９】上記紫外線吸収剤の添加量は、少なくなる
と硬化した時光重合性接着層が黄変し、多くなると硬化
が不充分になるので、前記有機高分子（イ）１００重量
部に対して０．０１〜１重量部が好ましい。

【００２０】前記光重合性接着層の厚さは、薄くなると
接着性が不充分となり、厚くなると硬化が不充分となる
ので好ましくは１．０〜３０μｍで、より好ましくは
３．０〜２０μｍである。

【００２１】本発明の第一工程で、基盤上に光重合性接
着層を形成する方法としては、例えば、光重合性接着組
成物を溶剤に溶解して得られる塗工液をコ−タ−で直接
基盤上に塗工、乾燥する方法、支持体フィルム上に塗工
液を塗工し、乾燥して光重合性接着層を積層された接着
層シ−トを作成した後、基盤に光重合性接着層が接する
ように積層し、次いで支持体フィルムを剥離する方法な
どが挙げられるが、後者の方法がより好ましい。

【００２２】上記光重合性接着組成物を溶解するための
溶剤としては、上記フィルムを膨潤又は溶解しないもの
が好ましく、例えば、メチルエチルケトン、トルエン、
テトラヒドロフラン、アセトン、シクロヘキサノン、酢
酸エチルなどが挙げられる。

【００２３】上記支持体フィルムとしては、特に限定さ
れるものではなく、例えば、ポリエチレンテレフタレ−
ト；ポリエステル樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン
等のポリオレフィン樹脂；ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビ
ニリデン等のハロゲン含有樹脂；ポリアミド樹脂；ポリ
カ−ボネ−ト樹脂を用いて製造されるフィルムが使用で
きる。特に、２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムは好適に使用される。

【００２４】上記支持体フィルムは剥離性をよくするた
め、剥離処理が施されているものが好ましい。剥離処理
としては、例えば、公知のシリコ−ン系やフッ素系離形
剤で表面を処理する方法が挙げられる。

【００２５】前記接着層シ−トをロ−ル状で保存するた
めには、光重合性接着層面に保護フィルムを設けるか、
前記支持体フィルムの光重合性接着層が設けられている
反対面が剥離処理されていることが好ましい。

【００２６】前記第一工程で使用される光重合性樹脂着
色層は、例えば、線状重合体、光重合可能な不飽和化合
物、光重合開始剤及び着色剤からなり、必要に応じて可
塑剤、熱重合禁止剤、酸化防止剤、安定剤、紫外線吸収
剤等が添加された光重合性着色組成物から製造される。

【００２７】上記線状重合体は、例えば、カルボキシル
基を含有するα、β−不飽和エチレン系単量体とカルボ
キシル基を含有しないα、β−不飽和エチレン系単量体
との共重合体が挙げられ、カルボキシル基を含有する
α、β−不飽和エチレン系単量体としては、例えば、
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、無水マ
レイン酸、フマ−ル酸、イタコン酸等の不飽和カルボン
酸類が挙げられ、これらは単独使用されもよいし、２種
以上が併用されてもよい。

【００２８】カルボキシル基を含有しないα、β−不飽
和エチレン系単量体は、上記カルボキシル基を含有する
α、β−不飽和エチレン系単量体と共重合しうるもので
あればよく、例えば、前記有機高分子（イ）を構成する
α、β−不飽和エチレン系単量体として挙げられたもの
の中から選択して使用でき、これらは単独使用されもよ
いし、２種以上が併用されてもよい。

【００２９】上記線状重合体中のカルボキシル基を含有
するα、β−不飽和エチレン系単量体の成分は、少なく
なるとアルカリ現像液に溶解し難くなり、現像性が低下
し、多くなると塗工溶剤に溶解し難くなり厚み精度が低
下し、表示盤の画像の解像度が低下するので１０〜４０
重量％が好ましく、より好ましくは１５〜３５重量％で
ある。

【００３０】上記線状重合体の重量平均分子量は、小さ
くなると保存中に光重合性着色層に皺が入りやすくな
り、大きくなると、アルカリ溶液に溶解し難くなり現像
性が低下するので２万〜５０万が好ましく、より好まし
くは５万〜３０万である。

【００３１】上記光重合性樹脂着色組成物中の光重合性
不飽和化合物は活性光線で重合が開始される性質を有す
るものであればよく、例えば、前記光重合性接着組成物
に用いる光重合性の不飽和化合物（ロ）挙げられる。

【００３２】上記光重合性不飽和化合物の添加量は、少
なくなると光重合性樹脂着色の硬化が不充分となり、多
くなると未露光部分の粘着性が強くなり、画像形成性が
低下するので、前記線状重合体１００重量部に対し１０
〜２００重量部が好ましく、より好ましくは３０〜１５
０重量部である。

【００３３】上記光重合開始剤は、活性光線によって前
記光重合性不飽和化合物の重合を開始するものであれば
よく、例えば、光重合性接着組成物に用いる光重合性開
始剤（ハ）が挙げられ、その添加量は、少なくなると光
重合性樹脂着色の硬化が不充分となり画像形成性が低下
し、多くなると光重合性樹脂着色層が黄変したり、脆く
なるので、前記線状重合体１００重量部に対して０．１
〜１０重量部が好ましい。

【００３４】上記着色剤としては、公知のが顔料を用い
ることができ、例えば、イエロ−系顔料としては、ハン
ザイエロ−、ベンジジンイエロ−、カドミウム黄、黄鉛
Ｇ、ジンククロメ−ト、レモンイエロ−、ストロシアン
イエロ−、イソインドリノインイエロ−、インデアンイ
エロ−等が挙げられ、マゼンタ系顔料としては、ロ−ダ
ミンＢレ−キ、カドミウム赤、ベンガラ、クロムバ−ミ
リオン、ピラゾロンレッド、リソ−ルレッド、鉛丹、キ
ナクリドンレッド、ウォチングレッド等が挙げられ、シ
アン系顔料としはウルトラマリンブル−、プルシアンブ
ル−、コバルトブル−、セルリアンブル−、マンガニ−
ズブル、フタロシアニンブル−等が挙げられ、ブラック
系顔料としては、カ−ボンブラック、チタンブラック、
鉄黒等挙げられる。

【００３５】上記顔料は単独で使用されもよいし、２色
以上併用されもよい。

【００３６】上記着色剤の添加量は、少なくなると着色
が充分でなくなり、多くなると光重合性樹脂着色層が脆
くなるので、前記線状重合体１００重量部に対して０．
１〜３００重量部が好ましい。

【００３７】上記光重合性樹脂着色層の厚みは、特に制
限はないが、薄くなると充分な画像濃度が得られず、厚
くなると画像部に段差が生じるので０．５〜２０μｍが
好ましく、より好ましくは１．０〜１０μｍである。

【００３８】前記光重合性接着層上に光重合性着色層を
形成する方法としては、例えば、光重合性樹脂着色組成
物を溶剤に溶解して得られる塗工液をコ−タ−で直接光
重合性接着層上に塗工、乾燥する方法、支持体フィルム
上に塗工液を塗工、乾燥して得られる光重合性樹脂着色
層が積層された画像形成シ−トを作成した後、光重合性
接着層に接するように積層し、次いで支持体フィルムを
剥離する方法が挙げられるが、後者の方法がより好まし
い。

【００３９】上記光重合性樹脂着色層組成物を溶解する
溶剤としては、支持体フィルムを膨潤又は溶解しないも
のが好ましく、例えば、メチルエチルケトン、トルエ
ン、テトラヒドロフラン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、酢酸エチル等が挙げられる。

【００４０】上記支持体フィルムとしては、例えば、前
記接着層シ−トに使用されるものが挙げられる。

【００４１】上記支持体フィルムは光重合性着色層との
剥離性をよくするために、シリコン処理、フッ素コ−ト
等の処理がなされているものを使用することが好まし
い。

【００４２】上記支持体フィルムの厚みは、薄すぎると
光重合性着色層を均一に塗布するのが難しく厚すぎると
画像形成のための露光に時間がかかるので５〜２００μ
ｍが好ましくより好ましくは１０〜１５０μｍである。

【００４３】上記画像形成シ−トは取扱時光重合性樹脂
着色層にキズや汚れを防止するため光重合性樹脂着色層
をフィルム側の反対面に保護層を設けられることが好ま
しい。

【００４４】上記保護層としては、例えば、ポリエチレ
ンテレフタレ−ト；ポリエステル樹脂類；ポリエチレ
ン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂類等のフィ
ルムが挙げられる。

【００４５】上記第一工程において、光重合性接着層上
に、画像パ−ンを形成する方法としては、例えば、原画
のネガマスク作成し、これを、基盤／光重合性接着層／
光重合性樹脂着色層／支持体フィルムの順に重ね積層さ
れた積層体の支持体フィルム側に重ね露光し、硬化す
る。

【００４６】次いで、支持体フィルムを剥離し、光重合
性着色層の未露光部をアルカリ現像液で未露光部を溶解
除去し、基盤／光重合性接着層／画像パタ−ンの順にな
っている積層体を得る。

【００４７】上記光重合性樹脂着色層の露光、硬化する
ための光源としては、例えば、超高圧水銀灯、メタルハ
ライドランプ等が挙げられる。

【００４８】上記アルカリ現像液としては、例えば、１
重量％炭酸ナトリウム水溶液が挙げられる。

【００４９】本発明の第二工程では、上記積層体の画像
パタ−ン側に透明樹脂層を積層し、該透明樹脂層側から
全面露光し、表示盤を製造する。

【００５０】上記透明樹脂層は透明性に優れ、薄いフィ
ルムにしたとき充分な膜強度を有するものであれば熱可
塑性樹脂組成物から構成されてもよいし、熱硬化性樹脂
性樹脂組成物から構成されてもよい。

【００５１】上記熱可塑性樹脂組成物は、例えば、熱可
塑性樹脂と、必要に応じて添加される、可塑剤、安定
剤、酸化防止剤及び紫外線吸収剤とからなるが挙げられ
る。

【００５２】上記熱可塑性樹脂としては、透明性に優
れ、且つ加熱により粘着性をおびるものが好ましく、例
えば、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィ
ン類；エチレン−酢酸ビニル共重合体；エチレン−（メ
タ）アクリル酸共重合体；エチレン−（メタ）アクリル
酸エステル共重合体；エチレン系共重合体；アイオノマ
−樹脂；ポリ酢酸ビニル及び酢酸ビニル系共重合体；ポ
リ塩化ビニル及び塩化ビニル系共重合体；ポリ塩化ビニ
リデン及び塩化ビニリデン系共重合体；ポリ（メタ）ア
クリル酸エステル及び（メタ）アクリル酸エステル系共
重合体；ポリスチレン及びスチレン−ブタジエン共重合
体；スチレン−イソプレン共重合体；スチレン系共重合
体；ポリアミド；飽和ポリエステル；ポリエステルウレ
タン；ポリアクリロニトリル；ポリビニルアルコ−ル；
ポリビニルアセタ−ル；ポリビニルブチラ−ル；ポリ−
Ｎ−ビニルカルバゾ−ル；ポリビニルピロリドンなどが
挙げられ、多価飽和カルボン酸と多価飽和アルコ−ルと
の共重合体である飽和ポリエステル樹脂が好適に使用さ
れる。

【００５３】上記多価飽和カルボン酸としては、例え
ば、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸等の
芳香族ジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボ
ン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン
酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等の
脂肪族ジカルボン酸等が挙げられ、多価飽和アルコ−ル
としては、例えば、エチレングリコ−ル、１，２−プロ
ピレングリコ−ル、１，４ブタンジオ−ル、１，５−ペ
ンタンジオ−ル、１，６−ヘキサンジオ−ル、ネオペン
チルグリコ−ル、ジエチレングリコ−ル、トリエチレン
グリコ−ル、ポリエチレングリコ−ル、ポリテトラメチ
レングリコ−ル、１，４−シクロヘキサンジメタノ−
ル、ビスフェノ−ルＡのエチレンオキサイド付加物等が
挙げられる。

【００５４】前記飽和ポリエステル樹脂の軟化点は、低
くなると粘着性が高くなり、取扱に手間がかかり、高く
なると画像パタ−ンとの密着性が低下するので、５０〜
１５０℃が好ましい。

【００５５】上記軟化点は環球法によって測定される。

【００５６】前記熱可塑性樹脂組成物に添加される紫外
線吸収剤としては、例えば、前記光重合性接着組成物で
使用されるものが挙げられる。

【００５７】前記熱硬化性樹脂を用いる透明樹脂層とし
ては、例えば、光重合性接着組成物と同様の組成物が用
いられ、必要に応じて紫外線吸収剤が添加されてもよ
い。

【００５８】本発明の第二工程で前記画像パタ−ン上に
透明樹脂層を形成する方法は、例えば、透明樹脂組成物
を溶剤に溶解して得られる塗工液をコ−タ−で直接基盤
上に塗工、乾燥する方法、支持体フィルム上に塗工液を
塗工、乾燥して得られる透明樹脂シ−トを作製した後、
画像パタ−ンが透明樹脂層に接するように積層し、次い
でフィルムを剥離して、転写する方法などが挙げられる
が、後者の方法がより好ましい。

【００５９】上記支持体フィルムとしては、例えば、本
発明の接着層シ−トに使用されるものが挙げられ、特に
２軸延伸ポリエチレンテレフタレ−トフィルムは好適に
使用される。

【００６０】上記支持体フィルムの厚みは、薄くなると
透明樹脂層を均一塗工性が低下し、厚くなると全面露光
に時間がかかるので５〜２００μｍが好ましく、より好
ましくは１０〜１５０μｍである。

【００６１】上記透明樹脂シ−トは取扱時キズや汚れを
防止するためにフィルムと反対面の透明樹脂層の表面に
保護層を設けられることが好ましい。

【００６２】また、上記支持体フィルムは剥離せずにそ
のまま表示盤としてもよい。

【００６３】本発明の製造方法においては、前記透明樹
脂シ−トを、片面が粗化処理されている支持体フィルム
のフィルム処理面に透明樹脂層を設けて形成されことが
好ましい。

【００６４】上記粗化処理は支持体フィルムの表面を粗
くして、透明樹脂層の表面で光が乱反射されるようにす
ることを目的として行われるもので、例えば、支持体フ
ィルムの表面に砂、グリッド又はカ−ボランダムを吹き
つけて粗化する物理的方法や溶剤等で表面を浸食して粗
化する化学的方法などが挙げられる。

【００６５】上記透明樹脂シ−トは、画像パタ−ン上に
積層する時気泡の巻き込みを少なくするために、支持体
フィルムの粗化処理された面に透明樹脂層が設けられ、
更に、透明樹脂層の表面が粗化処理されているものを用
いることも好ましい。

【００６６】上記透明樹脂層の表面の粗化処理は、例え
ば、表面に砂、グリッド又はカ−ボランダムを吹きつけ
て粗化する物理的方法と溶剤等で表面を浸食して粗化す
る化学的方法が挙げられるが、好ましくは、表面が粗化
処理された樹脂シ−トを用いその加工面を透明樹脂層に
接するようにラミネ−トし、次いで、樹脂シ−トを剥離
し、表面粗化する方法である。

【００６７】上記樹脂シ−トの粗化処理面は剥離し易く
するため、例えば、シリコ−ン処理やフッ素処理等の剥
離処理が施されていることが好ましい。

【００６８】樹脂シ−トとしては、化学的及び熱的に安
定で表面硬度の高いものであればよく、例えば、前記支
持体フィルムに使用できるものが挙げられるが、特に２
軸延伸ポリエチレンフタレ−トフィルムが好適である。

【００６９】前記透明樹脂層に紫外線吸収剤が添加され
ることも好ましい。

【００７０】上記紫外線吸収剤としては公知のものが使
用され、例えば、本発明の光重合性接着層に添加される
ものが挙げられる。

【００７１】本発明で使用される光重合性接着組成物、
光重合性樹脂着色組成物及び透明樹脂組成物において
は、必要に応じて用いられる可塑剤としては、例えば、
ジオクチルフタレ−ト、エチレングリコ−ルジアセテ−
ト、ｐ−トルエンスルフォンアミド、Ｎ−エチルトルエ
ンスルフォンアミド等が挙げられ、熱重合禁止剤として
は、例えば、ヒドロキノン、ｐ−メトキシフェノ−ルな
どが挙げられる。

【００７２】

【実施例】以下に本発明の実施例を説明する。なお、以
下「部」とあるのは「重量部」を意味する。

【００７３】（実施例１） （基盤上への接着層の形成）光重合性接着層の塗工液を
表１に示すように、重量平均分子量が６万のポリメチル
メタクリル酸メチル（住友化学社製、商品名；スミペッ
クＬＯ６）、としてオリゴエステルアクリレ─ト（東亜
合成社製、商品名；Ｍ−６１００）及びオリゴエステル
アクリレ─ト（東亜合成社製、商品名；Ｍ─８０３
０）、光重合開始剤としてＢＡＳＦ社製のルシリンＴＰ
Ｏを使用して１００μｍのポリエチレンテレフタレ−ト
上に塗布、乾燥して５μｍの光重合性接着層が設けられ
た光重合性接着層シ─トを製造した。

【００７４】

【表１】

【００７５】上記光重合性接着層シ─トを厚さ５００μ
ｍのポリカ─ボネ─トシ─ト上に光重合性接着層を接す
るようにラミネ─タを用いて積層し、次いで超高圧水銀
灯で３００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線に全面露光し、上記光
重合性接着層を重合硬化させポリカ─ボネ─トシ─ト上
に重合硬化された光重合性接着層を有する基盤を製造し
た。

【００７６】表２に示すように、メタクリル酸メチル、
メタクリル酸ブチル及びメタクリル酸がそれぞれ５０
部、２５部及び２５部からなる重量平均分子量が１５万
の線状重合体、光重合性不飽和化合物としてトリメチロ
−ルプロパントリアクリレ−ト（新中村化学製、商品
名；Ａ−ＴＭＰＴ）、光重合開始剤としてベンジルジメ
チルケタ─ル（チバガイギ─製、商品名；イルガキュア
─６５１）、ブラッ系顔料として（大日精化製、商品
名；ＦＰＦ−４０Ｓブラック）の光重合性着色層組成物
の塗布液製造し、厚さ２５μｍのポリエチレンテレフタ
レ−トフィルム上に塗布、乾燥して３μｍの光重合性樹
脂着色層が設けられているポリエチレンテレフタレ−ト
フィルムからなる画像形成シ−トを得た。

【００７７】上記画像形成シ−トを前記光重合性接着層
を設けられた基盤に接着剤層と光重合性樹脂着色層が接
するように重ね合わせ、ラミネ─タを用いて積層し、基
盤／光重合性接着層／光重合性樹脂着色層／ポリエチレ
ンテレフタレ−トフィルムの層構成を有する積層体を得
た。

【００７８】ブラック色分解されたネガマスクをポリエ
チレンテレフタレ−トフィルム側に重ね、ネガマスク通
じて、超高圧水銀灯で５００ｍＪ／ｃｍ² の紫外線に露
光し、次いで、ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを
剥離し、１重量％炭酸ナトリムの水溶液で１分間現像、
未露光部を溶解除去してブラックの画像パタ−ンを有す
る、基盤／光重合性接着層／画像パタ−ンの層構成の積
層体を得た。

【００７９】

【表２】

【００８０】透明樹脂層の塗工液表３に示すように、平
均分子量１１万のポリメチルメタクリレ─ト（旭化成
製、商品名；デルッペトＬＰ）と多官能モノマ─とし
て、トリメチロ─ルプロパントリアクリレ─ト（新中村
化学製、商品名；Ａ−ＴＭＰＴ）エトキシ化ペンタエリ
スリト─ルテトラアクリレ─ト（新中村化学製、商品
名；ＡＴＭ−４Ｅ）、光重合開始剤としてアシルホスフ
ィンオキシド系の商品名；ルシリン（ＢＡＳＦ製）紫外
線吸収剤として２，４─ジヒドロキシベンゾフェノンを
用い、製造し、厚み１００μｍの表面粗化処理されてい
るポリエチレンテレフタレ−トフィルム面の処理面に、
乾燥厚み２０μｍになるように塗工乾燥し、ポリエチレ
ンテレフタレ−トフィルム上に透明樹脂層が設けられた
透明樹脂シ−トを得た。

【００８１】

【表３】

【００８２】前記積層体の画像パタ−ンと上記透明樹脂
シ−トの透明樹脂層が接するように重ね合わせ、ラミネ
─タを用いて積層し、次いで、ポリエチレンテレフタレ
−トフィルム側から超高圧水銀灯で１０００ｍＪ／ｃｍ
² の紫外線に全面露光し、次いでポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムを剥離し、表示盤を製造した。

【００８３】（実施例２〜５）実施例１の紫外線吸収剤
を表３及び表４に示す様に、実施例２では２−ヒドロキ
シ−４−オクトキシベンゾフェノンに、実施例３では２
−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾ
トリアゾ−ルに、実施例４では２−（２’ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾト
リアゾ−ルに、実施例５では２−（２’ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニ ル）−５
−クロロベンゾトリアゾ−ルに換えた以外は実施例１と
同様にして表示 盤を製造した。

【００８４】

【表４】

【００８５】（実施例６）表５に示すように、ＧＰＣ測
定による重量平均分子量が１１万のポリメチルメタクリ
レ─ト（旭化成製、商品名；デルペットＬＰ−１）、多
官能モノマ─としてトリメチロ─ルプロパントリアクリ
レ─ト（新中村化学製、商品名；Ａ−ＴＭＰＴ）、単官
能モノマ─としてオリゴエステルアクリレ─ト（東亜合
成製、商品名；Ｍ−６１００）光重合開始剤として、
２，４，６─トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィ
ンオキシド（ＢＡＳＦ製、商品名；ルシリンＴＰＯ）紫
外線吸収剤として２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔｅ
ｒｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ルを使用し
塗工液を製造し、これを厚さ５０μｍのポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムに塗工、乾燥して１０μｍの光重
合性接着層が設けられたポリエチレンテレフタレ−トフ
ィルムの積層体を得た。

【００８６】得られた積層体をポリカ−ボネ−ト基盤に
接着層が接するように重ねラミネ−タを用い温度１２０
℃、圧力４ｋｇ／ｃｍ² 、ライン速度１．２ｍ／分でラ
ミネ−トし、ポリエチレンテレフタレ−トフィルムを剥
離し光重合性接着 層を設けられた基盤を得た。

【００８７】

【表５】

【００８８】上記基盤上を用いて、表６に示す光重合性
樹脂着色組成物塗工液の茶色を用いて厚さ３８μｍのポ
リエチレンテレフタレ−トフィルムに塗工、乾燥厚み４
μｍの光重合性樹脂着色層が設けられたポリエチレンテ
レフタレ−トフィルムからなる茶色画像形成シ−トを光
重合性接着層が設けられた基盤に光重合性接着層が光重
合性樹脂着色層と接するように重ね、ラミネ−タ−を用
いて、温度１２０℃、圧力４ｋｇ／ｃｍ² 、ライン速度
１．２ｍ／分でラミネ−トし、ネガマスクを光重合性樹
脂着色層に重ね、ネガマスク通じて、超高圧水銀灯で５
００ｍＪ／ｃｍ ² の紫外線に露光した。

【００８９】

【表６】

【００９０】画像形成シ−トのポリエチレンテレフタレ
−トフィルムを剥離し、１重量％炭酸ナトリムの水溶液
で１分間現像、未露光部を溶解除去して、基盤／光重合
性接着層／茶色の画像パタ−ンの積層体を得た。

【００９１】上記積層体を用いた以外は実施例１と同様
にして表示盤を製造した。

【００９２】（実施例７）実施例１と同じ組成の透明性
樹脂層の塗工液を用い、厚み１００μｍの表面粗化処理
されているポリエチレンテレフタレ−トフィルム（帝人
製、商品名；ピュ−レックス＃４２−ＳＭ）の処理面
に、塗布、乾燥し２０μｍの透明樹脂層の透明樹脂シ−
トを用いた以外実施例１と同様の方法で表示盤を製造し
た。

【００９３】（実施例８）実施例１と同様の方法で得ら
れた透明樹脂シ─トのポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムに接していない透明樹脂層の表面に粗化処理されて
いる３８μｍのポリエチレンテレフタレ−トフィルムを
積層し、２枚のポリエチレンテレフタレ−トフィルムの
間に透明樹脂層が挟まれている積層体を得た。

【００９４】上記積層体の３８μｍのポリエチレンテレ
フタレ−トフィルムを剥離し、透明樹脂層と実施例１と
同様の方法で得られた基盤／光重合性接着層／画像パタ
−ンの層構成を有する積層体の画像層が接するように重
ね合わせ、ラミネ─タを用いて積層し、基盤／光重合性
接着層／画像パタ−ン／透明樹脂層／ポリエチレンテレ
フタレ−トの層構成の積層体を得、次いで、ポリエチレ
ンテレフタレ−ト側から超高圧水銀灯で１０００ｍＪ／
ｃｍ² の紫外線に全面露光し、次いでポリエチレンテレ
フタレ−トフィルムを剥離し、表示盤を製造した。

【００９５】（実施例９〜１２）実施例９では、表３に
示す様に紫外線吸収剤を２─ヒドロキシ─４─オクトキ
シベンゾフェノンとし実施例１０では２─（２’─ヒド
ロキシ─５─メチルフェニル）ベンゾトリアゾ−ルと
し、実施例１１では２─（２’−ヒドロキシ─３’，
５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾ
−ルとし、実施例１２では２−（２−ヒドロキシ−
３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−ク
ロロベンゾトリアゾ−ルとした以外は実施例８と同様の
方法で表示盤を製造した。

【００９６】（比較例１）光重合性接着層に紫外線吸収
剤を添加しなかった以外は実施例１と同様にして表示盤
を製造した。

【００９７】（比較例２）実施例８の透明樹脂シ─トの
ポリエチレンテレフタレ−トフィルムと表面が粗化処理
されている３８μｍのポリエチレンテレフタレ−トフィ
ルムをいずれも表面が粗化処理されていないポリエチレ
ンテレフタレ−トフィルムにかえた以外は実施例８と同
様にして表示盤を製造した。

【００９８】（比較例３）実施例８の表面が粗化処理さ
れている３８μｍのポリエチレンテレフタレ−トフィル
ムを表面が粗化処理されていないポリエチレンテレフタ
レ−トフィルムにかえた以外は実施例８と同様にして表
示盤を製造した。

【００９９】（比較例４）透明樹脂層に紫外線吸収剤が
添加しなかった以外は実施例１と同様にして表示盤を製
造した。

【０１００】（比較例５）実施例１の２，４−ジヒドロ
キシべンゾフェノンの添加量を０．４重量部から３重量
部にした以外は実施例２と同様にして表示盤を製造し
た。

【０１０１】（比較例６）実施例１の２，４−ジヒドロ
キシべンゾフェノンの添加量を０．４重量部から０．０
０８重量部にした以外は実施例２と同様にして表示盤を
製造した。 （表示盤の性能評価） （１）密着性試験 ＪＩＳ Ｋ−５４００に従い、得られた表示盤の基盤と
反対面からＮＴカッタ−で接着層表面に達する１ミリ角
の碁盤目の切れ込みを入れ、ニット−ポリエステル粘着
テ−プ（日東電工製、商品名；ＮＯ３１）を貼り、次い
で基盤を固定しテ−プを剥離した時、接着層、画像層及
び透明樹脂層間の剥離の有無を試験した。

【０１０２】剥離のあったものを×、無かったものを○
とした。

【０１０３】（２）転写性試験 得られた表示盤の画像部周辺を顕微鏡で観察次の３段階
で評価した。 ○：画像周囲に空気の巻き込みが無い。 △：画像周囲に空気の巻き込みが若干見られる。 ×：画像周囲にかなり空気の巻き込みが見られる。

【０１０４】（３）耐光性試験 得られた表示盤の着色画像の設けられていない部分につ
いて、塗料用褪色試験機（スガ試験機社製、商品名；Ｆ
Ｍ−１）を用い５００時間後の黄変度（デルタＥと言
う）をＪＩＳ Ｋ−７１０３に従い、カラ−コンピュタ
−（スガ試験機社製、商品名；ＳＭ−３）で測定した。

【０１０５】基準には光重合性接着層を設けられたポリ
カ−ボネ−トの接着層面から超高圧水銀灯を用いて１０
０ｍＪ／ｃｍ² の露光をしたものを用いた。

【０１０６】（４）光沢性試験 得られた表示盤の表面の光沢度をＪＩＳ Ｚ−８７４１
に準拠しデジタル変角光沢計（スガ試験機社製、商品
名；ＵＧＶ−５Ｄ）で入射角６０°、受光角６０°で測
定、評価した。

【０１０７】（４）表面硬度試験 得られた表示盤の表面の硬度をＪＩＳ Ｋ−５４０に準
拠し、鉛筆硬度計で測定、評価した。

【０１０８】実施例及び比較例について行った試験の結
果を表７、表８及び表９に示す。

【０１０９】

【表７】

【０１１０】

【表８】

【０１１１】

【表９】

【０１１２】

【発明の効果】本発明の表示盤の製造方法では、画像層
が、基盤に光重合性接着層を介し光重合性樹脂着色層を
有する画像形成シ−トを積層し、露光、現像して製造さ
れるので、基盤に強く密着し、光による変色、褪色も少
ない表示盤を製造することができる。

【０１１３】本発明では画像パタ−ンが表面粗化加工さ
れた透明樹脂層でカバ−されるため、光沢度が低くな
り、印刷法に近い光沢のものが容易に製造できる。

【０１１４】本発明では画像層が両面表面粗化された透
明樹脂層でカバ−されるため、積層工程でのエア−の巻
き込みがなく、また、透明樹脂層として、紫外線吸収剤
を添加されたもの、適当な可撓性を有する樹脂を選択で
きるため、光による変色、褪色も少なく、取扱時に湾曲
しても画像層と透明樹脂層間の剥離が生じない耐久性に
優れた表示盤を製造することができる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】光重合性接着層が設けられた基盤の光重合
   性接着層上に，ブラック系、イエロ−系、マゼンタ系及
   びシアン系からなる群より選ばれる少なくとも１種以上
   の着色剤を含む光重合性樹脂着色層を積層し、ネガマス
   クを通して、該光重合性樹脂着色層を露光、硬化し、未
   硬化部を除去することにより、画像パタ−ンを形成する
   第一工程、上記画像パタ−ン上に、紫外線吸収剤を添加
   された透明樹脂層を積層し、該透明樹脂層側から全面露
   光する第二工程からなることを特徴とする表示盤の製造
   方法。