JPH08102066A - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH08102066A JPH08102066A JP23559394A JP23559394A JPH08102066A JP H08102066 A JPH08102066 A JP H08102066A JP 23559394 A JP23559394 A JP 23559394A JP 23559394 A JP23559394 A JP 23559394A JP H08102066 A JPH08102066 A JP H08102066A
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- Japan
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- magnetic
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- magnetic recording
- hydrogen gas
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- Pending
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 蒸着によりベースフィルム上に磁性層を形成
して磁気記録媒体を製造する際に、溶融した磁性金属の
表面近傍に発生する浮遊物（酸化物）に水素ガスを吹き
つけて、酸化物を還元する。 【効果】 溶融金属の表面積が一定になり、生産性が向
上し、また磁性金属の蒸気が乱されないため、膜質も安
定する。
して磁気記録媒体を製造する際に、溶融した磁性金属の
表面近傍に発生する浮遊物（酸化物）に水素ガスを吹き
つけて、酸化物を還元する。 【効果】 溶融金属の表面積が一定になり、生産性が向
上し、また磁性金属の蒸気が乱されないため、膜質も安
定する。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は蒸着型の磁気記録媒体の
製造方法に関する。
製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】磁気記録媒体には、従来より磁性粉末を
含む磁性塗料をポリエチレンテレフタレート等からなる
基材（フィルム）に塗布して製造される塗布型の磁気記
録媒体が知られているが、塗布型の磁気記録媒体は磁性
粉の充填性に限界があり、磁気記録媒体の高密度化、薄
さの向上が困難である。
含む磁性塗料をポリエチレンテレフタレート等からなる
基材（フィルム）に塗布して製造される塗布型の磁気記
録媒体が知られているが、塗布型の磁気記録媒体は磁性
粉の充填性に限界があり、磁気記録媒体の高密度化、薄
さの向上が困難である。
【０００３】この高密度化を達成するために、磁性材料
の薄膜を基材上に直接形成するタイプの磁気記録媒体が
提案されており、このタイプは塗布型の磁気記録媒体に
はない特性がある。
の薄膜を基材上に直接形成するタイプの磁気記録媒体が
提案されており、このタイプは塗布型の磁気記録媒体に
はない特性がある。
【０００４】磁性層が基材上に直接形成されるタイプの
磁気記録媒体としては、磁性材料を基材に蒸着させ、基
材上に直接磁性層を形成させることにより製造される、
いわゆる蒸着型の磁気記録媒体がある。このタイプの磁
気記録媒体は、通常、減圧条件下で基材を円筒上で走行
させ、ルツボ等の容器に収容された磁性材料を電子ビー
ム等により加熱し、基材上に蒸着させることにより製造
されている。
磁気記録媒体としては、磁性材料を基材に蒸着させ、基
材上に直接磁性層を形成させることにより製造される、
いわゆる蒸着型の磁気記録媒体がある。このタイプの磁
気記録媒体は、通常、減圧条件下で基材を円筒上で走行
させ、ルツボ等の容器に収容された磁性材料を電子ビー
ム等により加熱し、基材上に蒸着させることにより製造
されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ルツボ
内を磁性材料を電子ビームで溶融した際、溶融物の表面
に酸化物の膜が浮遊する。この酸化物は材料表面の酸化
物やルツボ表層のゴミ（洗浄により落とし切れなかった
磁性材料が不純物となる）等である。
内を磁性材料を電子ビームで溶融した際、溶融物の表面
に酸化物の膜が浮遊する。この酸化物は材料表面の酸化
物やルツボ表層のゴミ（洗浄により落とし切れなかった
磁性材料が不純物となる）等である。
【０００６】このような浮遊物が存在すると、蒸着さ
れる面積が減少し、成分割合が低下し生産性が悪くな
る、浮遊物が浮遊することにより磁性材料の蒸気を乱
し、膜質が不安定となる、ルツボ内の酸素濃度を一定
に保てない、等の問題が生じる。その結果、蒸着開始当
所と終了間際では磁性材料の付着にムラができ、一定の
品質の磁気記録媒体を得ることができない。
れる面積が減少し、成分割合が低下し生産性が悪くな
る、浮遊物が浮遊することにより磁性材料の蒸気を乱
し、膜質が不安定となる、ルツボ内の酸素濃度を一定
に保てない、等の問題が生じる。その結果、蒸着開始当
所と終了間際では磁性材料の付着にムラができ、一定の
品質の磁気記録媒体を得ることができない。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、蒸着の際
に生じるルツボ内の浮遊物を低減させるべく鋭意研究し
た結果、本発明を完成するに至った。
に生じるルツボ内の浮遊物を低減させるべく鋭意研究し
た結果、本発明を完成するに至った。
【０００８】すなわち本発明は、真空中で、容器に収容
された磁性金属を蒸着してベースフィルム上に磁性層を
形成する磁気記録媒体の製造方法において、溶融した磁
性金属の表面近傍に水素ガスを供給して、前記溶融した
磁性金属の表層に存在する酸化物を還元することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
された磁性金属を蒸着してベースフィルム上に磁性層を
形成する磁気記録媒体の製造方法において、溶融した磁
性金属の表面近傍に水素ガスを供給して、前記溶融した
磁性金属の表層に存在する酸化物を還元することを特徴
とする磁気記録媒体の製造方法を提供するものである。
【０００９】本発明の製造方法は、蒸着によりベースフ
ィルム上に磁性層を形成して磁気記録媒体を製造する際
に、溶融した磁性金属の表層に発生する浮遊物（酸化
物）に水素ガスを吹きつけて、酸化物を還元し、溶融部
分の面積を一定に保つことを特徴とするものである。
ィルム上に磁性層を形成して磁気記録媒体を製造する際
に、溶融した磁性金属の表層に発生する浮遊物（酸化
物）に水素ガスを吹きつけて、酸化物を還元し、溶融部
分の面積を一定に保つことを特徴とするものである。
【００１０】以下、本発明の製造方法を簡単に説明す
る。図１は本発明に用いられる製造装置の一例を示す略
示図である。本装置は真空容器１と、走行装置２と、ル
ツボ３と、電子ビーム発生装置４と、酸素ガス導入ノズ
ル12と、水素ガス導入ノズル13とを含んでいる。真空容
器１は、その排出口９が図示しない真空ポンプに接続さ
れ、この真空容器内に一連の被蒸着材５を走行させる走
行装置２が配置されている。真空容器内は通常10-4〜10
-7 Torr 程度の真空に保たれる。走行装置は送りロール
６と巻取りロール７と冷却キャン８からなっている。ル
ツボ３は通常銅から構成され、高温に耐えられるように
なっている。このルツボ３は融解槽（MgO 製）９を備
え、この融解槽９に磁性金属10を収容している。電子ビ
ーム発生装置４は電子銃を11を備え、この電子銃を11か
ら電子ビームを発射し、この電子ビームを融解槽９内の
磁性金属10に照射するようになっている。またルツボ３
はシャッター14を備えており、このシャッター14は図示
しない制御手段によりルツボの開口部上を移動し水素ガ
ス導入ノズルからルツボ３内の磁性金属に照射される水
素ガスの量を調節できる。
る。図１は本発明に用いられる製造装置の一例を示す略
示図である。本装置は真空容器１と、走行装置２と、ル
ツボ３と、電子ビーム発生装置４と、酸素ガス導入ノズ
ル12と、水素ガス導入ノズル13とを含んでいる。真空容
器１は、その排出口９が図示しない真空ポンプに接続さ
れ、この真空容器内に一連の被蒸着材５を走行させる走
行装置２が配置されている。真空容器内は通常10-4〜10
-7 Torr 程度の真空に保たれる。走行装置は送りロール
６と巻取りロール７と冷却キャン８からなっている。ル
ツボ３は通常銅から構成され、高温に耐えられるように
なっている。このルツボ３は融解槽（MgO 製）９を備
え、この融解槽９に磁性金属10を収容している。電子ビ
ーム発生装置４は電子銃を11を備え、この電子銃を11か
ら電子ビームを発射し、この電子ビームを融解槽９内の
磁性金属10に照射するようになっている。またルツボ３
はシャッター14を備えており、このシャッター14は図示
しない制御手段によりルツボの開口部上を移動し水素ガ
ス導入ノズルからルツボ３内の磁性金属に照射される水
素ガスの量を調節できる。
【００１１】電子銃11により電子ビームを磁性金属10に
照射すると、磁性金属10は溶融し、蒸発を続ける。本発
明では電子ビームの照射を行うと共に、水素ガス導入ノ
ズル13からルツボ３内の磁性金属10の表層に向けて水素
ガスを吹きつける。これによりルツボ３の表層に浮遊す
る金属酸化物が還元され、浮遊物を低減することができ
る。
照射すると、磁性金属10は溶融し、蒸発を続ける。本発
明では電子ビームの照射を行うと共に、水素ガス導入ノ
ズル13からルツボ３内の磁性金属10の表層に向けて水素
ガスを吹きつける。これによりルツボ３の表層に浮遊す
る金属酸化物が還元され、浮遊物を低減することができ
る。
【００１２】本発明において、吹き込む水素ガスの量は
成膜速度、ルツボの開口面積（磁性金属が剥き出しにな
る面積）等を考慮して決めればよい。酸素分圧が上昇し
たら水素ガスを吹き込み、分圧をコントロールするのが
よい。また、吹き込む水素ガスの温度は常温程度でもよ
いが、好ましくは加熱して 400〜2000℃程度とするのが
よい。
成膜速度、ルツボの開口面積（磁性金属が剥き出しにな
る面積）等を考慮して決めればよい。酸素分圧が上昇し
たら水素ガスを吹き込み、分圧をコントロールするのが
よい。また、吹き込む水素ガスの温度は常温程度でもよ
いが、好ましくは加熱して 400〜2000℃程度とするのが
よい。
【００１３】本発明において、蒸着される磁性材料とし
ては、通常磁気記録媒体の製造に用いられる強磁性金属
材料が挙げられ、例えばCo, Ni, Fe等の強磁性金属、ま
た、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Fh、Fe
−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y 、Co−La、Co−Pr、Co−
Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Mn−Bi、Mn−Sb、Mn−A
l、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni−Co−Cr
等の強磁性合金が挙げられる。これらのうち、特に好ま
しいのはCo或いはCoを50重量％以上含有する合金であ
る。蒸着磁性層の厚さは通常 0.2μm 程度である。
ては、通常磁気記録媒体の製造に用いられる強磁性金属
材料が挙げられ、例えばCo, Ni, Fe等の強磁性金属、ま
た、Fe−Co、Fe−Ni、Co−Ni、Fe−Co−Ni、Fe−Fh、Fe
−Cu、Co−Cu、Co−Au、Co−Y 、Co−La、Co−Pr、Co−
Gd、Co−Sm、Co−Pt、Ni−Cu、Mn−Bi、Mn−Sb、Mn−A
l、Fe−Cr、Co−Cr、Ni−Cr、Fe−Co−Cr、Ni−Co−Cr
等の強磁性合金が挙げられる。これらのうち、特に好ま
しいのはCo或いはCoを50重量％以上含有する合金であ
る。蒸着磁性層の厚さは通常 0.2μm 程度である。
【００１４】また、本発明に用いられる磁気記録媒体の
基材材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレートのようなポリエステル；ポリエチ
レン、ポリプロピレン等のポリオレフィン; セルロース
トリアセテート、セルロースジアセテート等のセルロー
ス誘導体；ポリカーボネート；ポリ塩化ビニル；ポリイ
ミド；芳香族ポリアミド等のプラスチック等が使用され
る。これらの基材の厚さは３〜50μm 程度である。
基材材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
エチレンナフタレートのようなポリエステル；ポリエチ
レン、ポリプロピレン等のポリオレフィン; セルロース
トリアセテート、セルロースジアセテート等のセルロー
ス誘導体；ポリカーボネート；ポリ塩化ビニル；ポリイ
ミド；芳香族ポリアミド等のプラスチック等が使用され
る。これらの基材の厚さは３〜50μm 程度である。
【００１５】また、厚さ0.01〜0.2 μm 程度のアンダー
コート層、厚さ10〜100 Å程度の保護層、厚さ２〜50Å
程度の潤滑層、或いはカーボンブラックを主成分とする
厚さ0.2 〜1.0 μm 程度のバックコート層等を設けても
よい。これらの層を形成する原料は従来公知のものが適
宜使用できる。
コート層、厚さ10〜100 Å程度の保護層、厚さ２〜50Å
程度の潤滑層、或いはカーボンブラックを主成分とする
厚さ0.2 〜1.0 μm 程度のバックコート層等を設けても
よい。これらの層を形成する原料は従来公知のものが適
宜使用できる。
【００１６】
【実施例】以下実施例にて本発明を説明するが、本発明
はこれらの実施例に限定されるものではない。
はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００１７】実施例１ 図１に示す製造装置に、基材として厚さ10μm のＰＥＴ
フィルムをセットし、磁性金属としてコバルトを用い、
蒸着によりＰＥＴフィルム上に金属薄膜を形成した。そ
の際、ノズル13から水素ガス（ 600℃）をルツボ内の溶
融した磁性金属の表層に吹きつけた。本例における蒸着
条件は以下の通りである。 ・フィルムの走行速度 ５ｍ／分 ・電子銃パワー 16 kW ・ルツボ開口部面積 40 cm2 ・水素ガスの流量 36 SCCM このようにして形成された金属薄膜の厚さは1500Åであ
った。
フィルムをセットし、磁性金属としてコバルトを用い、
蒸着によりＰＥＴフィルム上に金属薄膜を形成した。そ
の際、ノズル13から水素ガス（ 600℃）をルツボ内の溶
融した磁性金属の表層に吹きつけた。本例における蒸着
条件は以下の通りである。 ・フィルムの走行速度 ５ｍ／分 ・電子銃パワー 16 kW ・ルツボ開口部面積 40 cm2 ・水素ガスの流量 36 SCCM このようにして形成された金属薄膜の厚さは1500Åであ
った。
【００１８】次いで、蒸着後のＰＥＴフィルムを８mm幅
に裁断し、裁断したフィルムの1000ｍ毎の電磁変換特性
を測定した。電磁変換特性の測定方法は、市販の８mmＶ
ＴＲデッキを改造した装置を用いて記録周波数７MHz に
おける出力を、1000〜1000ｍまで1000ｍ毎に測定し、出
力の変動を調べた。その結果を表１に示す。
に裁断し、裁断したフィルムの1000ｍ毎の電磁変換特性
を測定した。電磁変換特性の測定方法は、市販の８mmＶ
ＴＲデッキを改造した装置を用いて記録周波数７MHz に
おける出力を、1000〜1000ｍまで1000ｍ毎に測定し、出
力の変動を調べた。その結果を表１に示す。
【００１９】実施例２ 実施例１において、300 ℃に加熱した水素ガスを吹きつ
ける以外は実施例１と同様にして蒸着を行い、その後実
施例１と同様の評価を行なった。結果を表１に示す。
ける以外は実施例１と同様にして蒸着を行い、その後実
施例１と同様の評価を行なった。結果を表１に示す。
【００２０】比較例１ 実施例１において、水素ガスを吹きつけずに蒸着を行っ
た。その後実施例１と同様の評価を行なった。結果を表
１に示す。
た。その後実施例１と同様の評価を行なった。結果を表
１に示す。
【００２１】
【表１】
【００２２】また、ルツボ内の溶融金属を覆う酸化物の
割合も、比較例１では８％であったのに対し、実施例１
では４％に低減されており、本発明の方法によれば品質
の安定、生産性の向上が可能となることがわかった。
割合も、比較例１では８％であったのに対し、実施例１
では４％に低減されており、本発明の方法によれば品質
の安定、生産性の向上が可能となることがわかった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に用いられる製造装置の一例を示す略示
図である。
図である。
１…真空容器 ２…走行装置 ３…ルツボ ４…電子ビーム発生装置 ５…被蒸着材 ６…送りロール ７…巻取りロール ８…冷却キャン ９…排出口 10…磁性金属 11…電子銃 12…酸素ガス導入ノズル 13…水素ガス導入ノズル 14…シャッター
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 若林 繁美 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606番地 花 王株式会社情報科学研究所内 (72)発明者 志賀 章 栃木県芳賀郡市貝町大字赤羽2606番地 花 王株式会社情報科学研究所内
Claims (3)
- 【請求項１】 真空中で、容器に収容された磁性金属を
蒸着してベースフィルム上に磁性層を形成する磁気記録
媒体の製造方法において、溶融した磁性金属の表面近傍
に水素ガスを供給して、前記溶融した磁性金属の表層に
存在する酸化物を還元することを特徴とする磁気記録媒
体の製造方法。 - 【請求項２】 前記水素ガスを加熱して吹きつける請求
項１記載の磁気記録媒体の製造方法。 - 【請求項３】 前記水素ガスの温度が 400〜2000℃であ
る請求項２記載の磁気記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23559394A JPH08102066A (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23559394A JPH08102066A (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08102066A true JPH08102066A (ja) | 1996-04-16 |
Family
ID=16988307
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23559394A Pending JPH08102066A (ja) | 1994-09-29 | 1994-09-29 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08102066A (ja) |
-
1994
- 1994-09-29 JP JP23559394A patent/JPH08102066A/ja active Pending
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