JPH0813815B2 - テトラヒドロ‐２‐オキソ‐２ｈ‐キノリジン‐１‐カルボン酸誘導体及びその製造法 - Google Patents
テトラヒドロ‐２‐オキソ‐２ｈ‐キノリジン‐１‐カルボン酸誘導体及びその製造法Info
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- JPH0813815B2 JPH0813815B2 JP27028188A JP27028188A JPH0813815B2 JP H0813815 B2 JPH0813815 B2 JP H0813815B2 JP 27028188 A JP27028188 A JP 27028188A JP 27028188 A JP27028188 A JP 27028188A JP H0813815 B2 JPH0813815 B2 JP H0813815B2
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- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 （産業上の利用分野） 本発明は、医薬、農薬等の製造中間体として有用な新
規なテトラヒドロ‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カル
ボン酸誘導体及びその製造法に関する。
規なテトラヒドロ‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カル
ボン酸誘導体及びその製造法に関する。
（従来の技術及び発明が解決しようとする課題） 従来、テトラヒドロ‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-
カルボン酸誘導体としては、6,7,8,9-テトラヒドロ‐4-
メチル‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カルボン酸とそ
のメチルエステル（Monatsh.Chem.,100,136（196
9）），及び6,7,8,9-テトラヒドロ‐4-メチル‐2-オキ
ソ‐2H-キノリジン‐1-カルボキサミド（薬学雑誌，87,
961（1967））が知られている。しかしながら、この発
明の化合物（Ｉ）のような３位及び４位に低級アルキル
基を有するテトラヒドロ‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1
-カルボン酸誘導体は報告されていない。
カルボン酸誘導体としては、6,7,8,9-テトラヒドロ‐4-
メチル‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カルボン酸とそ
のメチルエステル（Monatsh.Chem.,100,136（196
9）），及び6,7,8,9-テトラヒドロ‐4-メチル‐2-オキ
ソ‐2H-キノリジン‐1-カルボキサミド（薬学雑誌，87,
961（1967））が知られている。しかしながら、この発
明の化合物（Ｉ）のような３位及び４位に低級アルキル
基を有するテトラヒドロ‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1
-カルボン酸誘導体は報告されていない。
本発明者らは、除草活性を有する縮合複素環化合物の
製法について検討した結果、本発明化合物がその製造中
間体として重要であること及びこの化合物の有利な製造
法を見い出し本発明に至った。
製法について検討した結果、本発明化合物がその製造中
間体として重要であること及びこの化合物の有利な製造
法を見い出し本発明に至った。
（課題を解決するための手段） 本発明は一般式（Ｉ）： ［式中R1がカルボキシ基若しくはその塩，低級アルコキ
シカルボニル基又はフェノキシカルボニル基；R2，R3は
低級アルキル基を意味する。］で表されるテトラヒドロ
‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カルボン酸誘導体及び
その製造法に関する。
シカルボニル基又はフェノキシカルボニル基；R2，R3は
低級アルキル基を意味する。］で表されるテトラヒドロ
‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カルボン酸誘導体及び
その製造法に関する。
R1はカルボキシ基の塩であるとは、アルカリ金属，ア
ルカリ土類金属，遷移金属又はアンモニウムをカチオン
として有することができる。代表的な金属カチオンとし
ては、ナトリウム，カリウム，リチウム，カルシウム，
マグネシウム，バリウム，亜鉛，マンガン，第一銅，第
二銅，第一鉄，第二鉄，チタン，アルミニウム等が、
又、代表的なアンモニウムカチオンとしては、アンモニ
ウム，トリブチルアンモニウム，ピペリジニウム，ピリ
ジニウム等が挙げられる。
ルカリ土類金属，遷移金属又はアンモニウムをカチオン
として有することができる。代表的な金属カチオンとし
ては、ナトリウム，カリウム，リチウム，カルシウム，
マグネシウム，バリウム，亜鉛，マンガン，第一銅，第
二銅，第一鉄，第二鉄，チタン，アルミニウム等が、
又、代表的なアンモニウムカチオンとしては、アンモニ
ウム，トリブチルアンモニウム，ピペリジニウム，ピリ
ジニウム等が挙げられる。
この発明において低級アルコキシカルボニル基には、
メトキシカルボニル，エトキシカルボニル，プロポキシ
カルボニル，ブトキシカルボニル，イソプロポキシカル
ボニル，イソブトキシカルボニル又は、第三ブチルオキ
シカルボニルなどが含まれる。
メトキシカルボニル，エトキシカルボニル，プロポキシ
カルボニル，ブトキシカルボニル，イソプロポキシカル
ボニル，イソブトキシカルボニル又は、第三ブチルオキ
シカルボニルなどが含まれる。
低級アルキル基には、メチル，エチル，プロピル，イ
ソプロピル，ブチル，イソブチル，イソペンチル等が含
まれる。
ソプロピル，ブチル，イソブチル，イソペンチル等が含
まれる。
本発明における一般式（Ｉ）の化合物のうち、R1が低
級アルコキシカルボニル基又はフェノキシカルボニル基
である化合物、すなわち一般式（Ｉ′）： ［式中R1′は低級アルコキシカルボニル基又はフェノキ
シカルボニル基を意味する。］で表される化合物は、一
般式（II）又は（II′）： ［式（II）又は（II′）中R1′は低級アルコキシカルボ
ニル基又はフェノキシカルボニル基を意味する。］で表
される化合物と一般式（III）： ［式中R2，R3は低級アルキル基；R4，R5は水素原子，ア
ルキル基，フェニル基又はR4およびR5がR4とR5の結合す
る炭素原子と共にシクロアルキル基を形成してもよ
い。］で表される化合物とを反応させることによって製
造することができる。
級アルコキシカルボニル基又はフェノキシカルボニル基
である化合物、すなわち一般式（Ｉ′）： ［式中R1′は低級アルコキシカルボニル基又はフェノキ
シカルボニル基を意味する。］で表される化合物は、一
般式（II）又は（II′）： ［式（II）又は（II′）中R1′は低級アルコキシカルボ
ニル基又はフェノキシカルボニル基を意味する。］で表
される化合物と一般式（III）： ［式中R2，R3は低級アルキル基；R4，R5は水素原子，ア
ルキル基，フェニル基又はR4およびR5がR4とR5の結合す
る炭素原子と共にシクロアルキル基を形成してもよ
い。］で表される化合物とを反応させることによって製
造することができる。
原料として用いる式（II）又は（II′）の化合物およ
び式（III）の化合物は、従来既知の方法で製造するこ
とができる。式（III）におけるR4，R5は目的物に導入
されない基であり、入手容易で安価なものを選択利用す
るのが望ましい。R4，R5として、メチル基又はエチル基
が好ましい。式（II）又は（II′）は相変異性体であ
る。
び式（III）の化合物は、従来既知の方法で製造するこ
とができる。式（III）におけるR4，R5は目的物に導入
されない基であり、入手容易で安価なものを選択利用す
るのが望ましい。R4，R5として、メチル基又はエチル基
が好ましい。式（II）又は（II′）は相変異性体であ
る。
一般式（II）又は（II′）の化合物と一般式（III）
の化合物との反応は、無溶媒下又は不活性溶媒中で行う
ことができる。好ましい溶媒の例として、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、テトラリン、デカリン、ジフェニル
エーテルなどが挙げられる。反応温度としては、一般式
（III）で表される化合物の熱分解温度を目安として、
約100℃から200℃程度の温度が用いられる。
の化合物との反応は、無溶媒下又は不活性溶媒中で行う
ことができる。好ましい溶媒の例として、ベンゼン、ト
ルエン、キシレン、テトラリン、デカリン、ジフェニル
エーテルなどが挙げられる。反応温度としては、一般式
（III）で表される化合物の熱分解温度を目安として、
約100℃から200℃程度の温度が用いられる。
また、一般式（III）で表される化合物の使用量は、
一般式（II）又は（II′）で表される化合物に対して１
当量以上、好ましくは1.2〜3.0当量の範囲である。
一般式（II）又は（II′）で表される化合物に対して１
当量以上、好ましくは1.2〜3.0当量の範囲である。
本発明における一般式（Ｉ）の化合物のうちR1がカル
ボキシ基又はその塩である化合物、即ち一般式
（Ｉ″）： ［式中R1″はカルボキシ基若しくはその塩；R2，R3は上
記と同じ］で表される化合物は、前記一般式（Ｉ′）の
化合物を加水分解することによって製造することができ
る。
ボキシ基又はその塩である化合物、即ち一般式
（Ｉ″）： ［式中R1″はカルボキシ基若しくはその塩；R2，R3は上
記と同じ］で表される化合物は、前記一般式（Ｉ′）の
化合物を加水分解することによって製造することができ
る。
加水分解は酸，アルカリまたはその他の方法が用いら
れている。酸による加水分解は塩酸，硫酸または臭化水
素酸などによって行うことができる。
れている。酸による加水分解は塩酸，硫酸または臭化水
素酸などによって行うことができる。
通常室温から150℃の範囲の温度で実施される。アル
カリによる加水分解では、アルカリとして水酸化ナトリ
ウム，水酸化カリウムが一般的に使われ、水溶液，メタ
ノール溶液，エタノール溶液中で室温もしくは加熱して
反応させる。この場合には、R1″がカルボキシ基の塩で
あるものが得られるが、これを鉱酸によって遊離カルボ
ン酸にすることができる。その他の加水分解としては、
ルチジン，コリジン，ジメチルホルムアミドなどを溶媒
として、ヨウ化リチウム，臭化リチウム，シアン化ナト
リウム又は酢酸ナトリウムを加熱下に作用させ、しかる
のちに酸で処理する方法を挙げることができる。式
（Ｉ″）において、R1″がカルボキシ基の塩である化合
物は、R1″がカルボキシ基である化合物と対応する塩基
との反応によって得ることができる。
カリによる加水分解では、アルカリとして水酸化ナトリ
ウム，水酸化カリウムが一般的に使われ、水溶液，メタ
ノール溶液，エタノール溶液中で室温もしくは加熱して
反応させる。この場合には、R1″がカルボキシ基の塩で
あるものが得られるが、これを鉱酸によって遊離カルボ
ン酸にすることができる。その他の加水分解としては、
ルチジン，コリジン，ジメチルホルムアミドなどを溶媒
として、ヨウ化リチウム，臭化リチウム，シアン化ナト
リウム又は酢酸ナトリウムを加熱下に作用させ、しかる
のちに酸で処理する方法を挙げることができる。式
（Ｉ″）において、R1″がカルボキシ基の塩である化合
物は、R1″がカルボキシ基である化合物と対応する塩基
との反応によって得ることができる。
なお、本発明の製造法によって得られる本発明の化合
物（Ｉ）から例えば、下記ルートによって、一般式（I
V）で示される除草活性を有する化合物が得られる。
物（Ｉ）から例えば、下記ルートによって、一般式（I
V）で示される除草活性を有する化合物が得られる。
以下に実施例を挙げて本発明をさらに詳しく説明す
る。
る。
（実施例） 実施例１ メチル6,7,8,9-テトラヒドロ‐3,4-ジメチル‐2-オキ
ソ‐2H-キノリジン‐1-カルボキシレート メチルα‐（ヘキサヒドロ‐2-ピロリジニリデン）ア
セテート3.36g,2,2,5,6-テトラメチル‐4H-1,3-ジオキ
シン‐4-オン8,42g及びメシチレン20mlの混合物を160℃
で１時間45分加熱撹はんした。その間に副生するアセト
ンは、ディーンスターク装置により系外に除去した。反
応混合物を室温まで放冷し、生じた結晶をろ別、洗浄
し、減圧下で乾燥すると題記化合物が4.43g（収率87
％）得られた。
ソ‐2H-キノリジン‐1-カルボキシレート メチルα‐（ヘキサヒドロ‐2-ピロリジニリデン）ア
セテート3.36g,2,2,5,6-テトラメチル‐4H-1,3-ジオキ
シン‐4-オン8,42g及びメシチレン20mlの混合物を160℃
で１時間45分加熱撹はんした。その間に副生するアセト
ンは、ディーンスターク装置により系外に除去した。反
応混合物を室温まで放冷し、生じた結晶をろ別、洗浄
し、減圧下で乾燥すると題記化合物が4.43g（収率87
％）得られた。
融点:167-169℃ IR（KBrディスク）:1620,1725cm-1 NMR（CDCl3）δ値： 1.50-2.15（m,4H）,2.04（s,3H）,2.30（s,3H）,2.76
（t,2H）,3.70-4.00（m,2H）,3.83（s,3H） 実施例２ 6,7,8,9-テトラヒドロ‐3,4-ジメチル‐2-オキソ‐2H
-キノリジン‐1-カルボン酸 実施例１で得られたメチル6,7,8,9-テトラヒドロ‐3,
4-ジメチル‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カルボキシ
レート4.36g及び10％水酸化ナトリウム水溶液37gの混合
物を60℃で２時間45分加熱撹はんした。反応混合物を室
温まで放冷後、氷水で冷却しながせら濃塩酸8.1ml加え
た。析出した結晶をろ別、洗浄し、減圧下で乾燥すると
題記化合物が3.70g（収率90％）得られた。
（t,2H）,3.70-4.00（m,2H）,3.83（s,3H） 実施例２ 6,7,8,9-テトラヒドロ‐3,4-ジメチル‐2-オキソ‐2H
-キノリジン‐1-カルボン酸 実施例１で得られたメチル6,7,8,9-テトラヒドロ‐3,
4-ジメチル‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カルボキシ
レート4.36g及び10％水酸化ナトリウム水溶液37gの混合
物を60℃で２時間45分加熱撹はんした。反応混合物を室
温まで放冷後、氷水で冷却しながせら濃塩酸8.1ml加え
た。析出した結晶をろ別、洗浄し、減圧下で乾燥すると
題記化合物が3.70g（収率90％）得られた。
融点:279-281℃ IR（KBrディスク）:1600,1620,1680cm-1
Claims (3)
- 【請求項１】一般式（Ｉ）： ［式中R1はカルボキシ基若しくはその塩，低級アルコキ
シカルボニル基又はフェノキシカルボニル基；R2，R3は
低級アルキル基を意味する。］で表されるテトラヒドロ
‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カルボン酸誘導体。 - 【請求項２】一般式（II）又は（II′）： ［式（II）又は（II′）中R1′は低級アルコキシカルボ
ニル基又はフェノキシカルボニル基を意味する。］で表
される化合物と一般式（III）： ［式中R2，R3は低級アルキル基；R4，R5は水素原子，ア
ルキル基，フェニル基又はR4およびR5がR4とR5の結合す
る炭素原子と共にシクロアルキル基を形成してもよ
い。］で表される化合物とを反応させることを特徴とす
る一般式（Ｉ′）： ［式中R1′，R2，R3は上記と同じ］で表されるテトラヒ
ドロ‐2-オキソ‐2H-キノリジン‐1-カルボン酸誘導体
の製造法。 - 【請求項３】一般式（Ｉ′）： ［式中R1′は低級アルコキシカルボニル基又はフェノキ
シカルボニル基；R2，R3は低級アルキル基を意味す
る。］で表される化合物を加水分解することを特徴とす
る一般式（Ｉ″）： ［式中R1″はカルボキシ基若しくはその塩；R2，R3は上
記と同じ］で表されるテトラヒドロ‐2-オキソ‐2H-キ
ノリジン‐1-カルボン酸誘導体の製造法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27028188A JPH0813815B2 (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | テトラヒドロ‐２‐オキソ‐２ｈ‐キノリジン‐１‐カルボン酸誘導体及びその製造法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP27028188A JPH0813815B2 (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | テトラヒドロ‐２‐オキソ‐２ｈ‐キノリジン‐１‐カルボン酸誘導体及びその製造法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02117674A JPH02117674A (ja) | 1990-05-02 |
| JPH0813815B2 true JPH0813815B2 (ja) | 1996-02-14 |
Family
ID=17484073
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP27028188A Expired - Lifetime JPH0813815B2 (ja) | 1988-10-26 | 1988-10-26 | テトラヒドロ‐２‐オキソ‐２ｈ‐キノリジン‐１‐カルボン酸誘導体及びその製造法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0813815B2 (ja) |
-
1988
- 1988-10-26 JP JP27028188A patent/JPH0813815B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02117674A (ja) | 1990-05-02 |
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