JPH0331400A - 洗浄剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、電子部品、精密機械部品等に付着した油脂類
、あるいはフラックス等を除去洗浄するために用いる洗
浄剤に関するものである。

［従来技術］ 従来より電子部品、精密機械部品等に付着した油脂類、
フラックス等の除去洗浄には１，１．２−）リクロロー
１．２．２−　）リフルオロエタン（以下フロン１１３
）がフロン１１３単独、あるいはアルコール等との混合
溶剤として広く使用されている。

フロン１１３は洗浄剤として優れた物性を有するものの
、成層圏のオゾン破壊の問題からこれにかわる洗浄用溶
剤が求められている。

［問題点を解決するための具体的手段］本発明者らはか
かる問題点を解決するため検討の結果、全く新しい洗浄
用溶剤を見出したものである．すなわち本発明は、１，
３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを含有する洗
浄剤および１．３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼ
ンと１．１．１−トリクロロエタンを含有する洗浄剤で
ある。

本発明の１、３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン
は沸点が１１５℃で、適度な溶解力を有するものであり
、各種プラスチックに対して悪影響を与えることのない
ものである．１．３−ビス（トリフルオロメチル）ベン
ゼンは単独で使用してもよいし、目的、用途によっては
他の各種溶剤等と混合して使用してもよく、炭化水素類
、アルコール類、ケトン類、塩素化炭化水素類、エステ
ル贋、あるいは安定剤、界面活性剤等の各種添加剤が挙
げられる．具体的には炭化水素類としては炭素数１〜１
５の直鎖、環状の飽和、不飽和の炭化水素類であり、ｎ
−ペンタン、イソペンタン、ｎ−ヘキサン、イソヘキサ
ン、２−メチルペンタン、３−メチルペンタン、２．２
−ジメチルブタン、２，３−ジメチルブタン、ｎ−へブ
タン、イソへブタン、３−メチルヘキサン、２．４ジメ
チルペンクン、ｎ−オクタン、１−ペンテン、２−ベン
テン、シクロペンタン、シクロヘキサン、イソオクタン
等が好ましい。

アルコール類としてはメタノール、エタノール、ｎ〜プ
ロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチ
ルアルコール、イソブチルアルコール、第二級ブチルア
ルコール、第三級ブチルアルコール、第三級アミルアル
コール等が好ましい。

ケトン類としてアセトン、メチルエチルケトン、アセト
フェノン等が好ましい。

塩素化炭化水素類としては塩化メチレン、四塩化炭素、
１．■−ジクロロエタン、１．２−ジクロロエタン、１
，１．１−トリクロロエタン、１，１．２−１−ジクロ
ロエタン、１．　ｌ、　１．２−テトラクロロエタン、
　１，１，２．２−テトラクロロエタン、ペンタクロロ
エタン、１．１ジクロロエチレン、１．２−ジクロロエ
チレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン等
が好ましい。

エステル類としては酢酸メチル、酢酸エチル等が好まし
い。

界面活性剤としてはアニオン系、カチオン系、ノニオン
系および両性界面活性剤のいずれを用いることもできる
。さらにニトロメタン、ニトロエタン等のニトロアルカ
ンやアセトニトリル、エピクロルヒドリン等の各種安定
剤を添加することもできる。

このうち、プリント基板のフラックス除去性としては、
特に１，１．１−）ジクロロエタンが好ましい。

この場合、１，１．１−トリクロロエタンの量は１．３
−ビス（トリフルトロメチル）ベンゼンに対して０．４
〜１重量倍の範囲が好ましい、　１，１．１−）ジクロ
ロエタンは沸点が７４℃で、溶解力が優れており、フラ
ックスの除去に有用であるが、この範囲より多い場合に
は、プラスチックに対して膨潤等の影響が懸念される。

またこの範囲より少ない場合には、フラックス除去性が
十分ではない。

本発明の洗浄剤は各種プラスチックに対して悪影響を及
ぼさないものであり、各種金属に対しても安定性に優れ
たものである。

本発明の洗浄剤の使用方法は通常おこなわれる浸漬洗浄
、超音波洗浄等各種の方法が適用できる。

以下、本発明を実施例により詳細に説明する。

実施例１ １．３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンおよび１
．３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６０重量％
と１．１．１−トリクロロエタン４０重量％の混合物用
いて油の除去性を試験した。試験方法は次の通りである
。

スライドガラス（７６Ｘ２６膳１）の全面に日本石油■
製スピンドル油１号を塗布したのちビーカーに入れた２
・００−の洗浄剤中に１分間浸漬した。

油の除去の度合を目視により判定した結果、画境浄剤と
も完全に除去されていた。また、比較のためフロン１１
３を同様にして試験したところ油が少量残存しており完
全には除去されなかった。

実施例２ １．３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン６０重量
％、１，１．１−１−リクロロエタン４０重量％からな
る洗浄剤のフラックス除去性の評価をおこなった。

試験方法は次のとおりである。

ガラスエポキシ樹脂からなるプリント基板（５０×３０
鳳ｌ）の全面にフラックス（タムラ製作所Ｍ）Ｉ−８２
０ｖ）を塗布し、約２７０℃で２分間焼付をおこない試
験片とし、３００−の洗浄剤中に３分間浸漬した。

目視により、フラックスの除去性を評価した。この結果
フラックスは完全に除去されていた。また比較のためフ
ロン１１３とエタノールの共沸混合物（９６：４）につ
いても同様の評価をおこなったところ少量のフラックス
の残存が認められた。

実施例３ 実施例１で用いた洗浄剤についてプラスチック（ポリカ
ーボネート、ＡＢＳ樹脂）に対する影響について次の試
験をおこなった。

各プラスチック試験片を５０℃の試験洗浄剤に１゜分間
浸漬し重量変化率は２時間室温放置後に、また寸法変化
率は取り出し直後に測定した。また比較のためフロン１
１３．１，１．１−トリクロロエタンについても同様の
試験をおこなった。この結果を第１表に示した。

第１表から明らかな通り、本発明の洗浄剤はいずれもプ
ラスチックに対する影響はほとんどないものである。

［発明の効果］ 本発明の洗浄剤は電子部品、精密機械部品等に付着した
油脂類、フラックス等の除去性に優れ、また、各種プラ
スチック、金属等に対して悪影響を及ぼさないという効
果を有する。

１、−、、−二」

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. （１）１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンを
   含有する洗浄剤。
2. （２）１，３−ビス（トリフルオロメチル）ベンゼンと
   １，１，１−トリクロロエタンを含有する洗浄剤。