JPH0827939B2 - 磁気記録媒体の製造方法 - Google Patents
磁気記録媒体の製造方法Info
- Publication number
- JPH0827939B2 JPH0827939B2 JP59229957A JP22995784A JPH0827939B2 JP H0827939 B2 JPH0827939 B2 JP H0827939B2 JP 59229957 A JP59229957 A JP 59229957A JP 22995784 A JP22995784 A JP 22995784A JP H0827939 B2 JPH0827939 B2 JP H0827939B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- recording medium
- metal thin
- ferromagnetic metal
- magnetic recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G2261/00—Macromolecular compounds obtained by reactions forming a carbon-to-carbon link in the main chain of the macromolecule
- C08G2261/30—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain
- C08G2261/31—Monomer units or repeat units incorporating structural elements in the main chain incorporating aromatic structural elements in the main chain
- C08G2261/312—Non-condensed aromatic systems, e.g. benzene
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は高密度記録にすぐれた強磁性金属薄膜を非磁
性支持体上に設けた磁気記録媒体、特に潤滑性、走行性
および耐摩耗性にすぐれた上記磁気記録媒体の製造方法
に関するものである。
性支持体上に設けた磁気記録媒体、特に潤滑性、走行性
および耐摩耗性にすぐれた上記磁気記録媒体の製造方法
に関するものである。
従来例の構成とその問題点 従来のγ−Fe2O3、Co含有γ−Fe2O3、CrO2等の強磁性
粉末を有機バインダー中に分散して非磁性支持体に塗布
したいわゆる塗布型磁気記録媒体に代つて、メツキ法、
スパツタリング法、真空蒸着法、イオンプレーテイング
法等の方法によつて強磁性金属薄膜を非磁性支持体上に
設けた磁気記録媒体は高密度記録用磁気記録媒体として
研究されており、オーデイオ用としては既に実用化され
ている。
粉末を有機バインダー中に分散して非磁性支持体に塗布
したいわゆる塗布型磁気記録媒体に代つて、メツキ法、
スパツタリング法、真空蒸着法、イオンプレーテイング
法等の方法によつて強磁性金属薄膜を非磁性支持体上に
設けた磁気記録媒体は高密度記録用磁気記録媒体として
研究されており、オーデイオ用としては既に実用化され
ている。
しかしながら上述した方法で作られた強磁性金属薄膜
を用いた磁気記録媒体は、その耐摩耗性および走行性に
問題がある。
を用いた磁気記録媒体は、その耐摩耗性および走行性に
問題がある。
そもそも磁気記録媒体は磁気信号の記録、再生の過程
において、磁気ヘツドとの高速相対運動の下に置かれ
る。この時磁気記録媒体の走行が円滑でかつ安定な状態
で行なわれなければならない。また磁気ヘツドとの接触
による摩耗や破損が生起してはならない。
において、磁気ヘツドとの高速相対運動の下に置かれ
る。この時磁気記録媒体の走行が円滑でかつ安定な状態
で行なわれなければならない。また磁気ヘツドとの接触
による摩耗や破損が生起してはならない。
しかしながら上述した如き方法で作られた強磁性金属
薄膜は磁気記録、再生の過程の苛酷な条件に耐えること
ができず、磁気ヘツド等の摩擦によつて走行が不安定に
なつたり、長時間走行させた場合には摩耗したり、破損
したり、摩耗粉の発生によつて著しく出力が低下するこ
とがあつた。そのため、強磁性金属薄膜の上に潤滑層を
設けることが提案されており、例えばポリビニルアルコ
ールと長鎖アルキルイソシアネートの反応生成物からな
る薄膜層を設けることが提案されているが（特開昭58−
102329号参照）、この場合潤滑性の点では改善が見られ
るが、走行安定性および耐摩耗性については未だ充分で
あるとは言えない。これは上記薄膜層と強磁性金属薄膜
との結合が弱く、また薄膜層を形成している高分子膜が
緻密な膜でないために、走行中に摺動する磁気ヘツド等
により削落させられるためである。
薄膜は磁気記録、再生の過程の苛酷な条件に耐えること
ができず、磁気ヘツド等の摩擦によつて走行が不安定に
なつたり、長時間走行させた場合には摩耗したり、破損
したり、摩耗粉の発生によつて著しく出力が低下するこ
とがあつた。そのため、強磁性金属薄膜の上に潤滑層を
設けることが提案されており、例えばポリビニルアルコ
ールと長鎖アルキルイソシアネートの反応生成物からな
る薄膜層を設けることが提案されているが（特開昭58−
102329号参照）、この場合潤滑性の点では改善が見られ
るが、走行安定性および耐摩耗性については未だ充分で
あるとは言えない。これは上記薄膜層と強磁性金属薄膜
との結合が弱く、また薄膜層を形成している高分子膜が
緻密な膜でないために、走行中に摺動する磁気ヘツド等
により削落させられるためである。
発明の目的 本発明は潤滑性、走行性、耐摩耗性のすぐれた磁気記
録媒体の製造方法を提供することにある。
録媒体の製造方法を提供することにある。
発明の構成 本発明は非磁性支持体上に設けた強磁性金属薄膜上
に、電解酸化により重合しうるインドールの電解重合物
含有層を設けてなる磁気記録媒体の製造方法にある。
に、電解酸化により重合しうるインドールの電解重合物
含有層を設けてなる磁気記録媒体の製造方法にある。
本発明による磁気記録媒体に使用しうる非磁性支持体
としてはポリ塩化ビニル、酢酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の高分子材
料、非磁性金属材料、ガラス、磁器等のセラミツク材料
等周知の材料からなるフイルム、板等がある。
としてはポリ塩化ビニル、酢酸セルロース、ポリエチレ
ンテレフタレート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポ
リカーボネート、ポリイミド、ポリアミド等の高分子材
料、非磁性金属材料、ガラス、磁器等のセラミツク材料
等周知の材料からなるフイルム、板等がある。
また本発明の磁気記録媒体に使用しうる強磁性金属薄
膜を形成する強磁性体材料としては周知の任意の材料を
使用でき、例えば鉄、コバルト、ニツケルの１種以上の
合金またはこれらと他の金属例えばマンガン、クロム、
チタン、リン、イツトリウム、サマリウム、ビスマス等
とを組合せた合金があり、また上記金属の酸化物等があ
る。
膜を形成する強磁性体材料としては周知の任意の材料を
使用でき、例えば鉄、コバルト、ニツケルの１種以上の
合金またはこれらと他の金属例えばマンガン、クロム、
チタン、リン、イツトリウム、サマリウム、ビスマス等
とを組合せた合金があり、また上記金属の酸化物等があ
る。
非磁性支持体上に強磁性金属薄膜を形成させるに当つ
ては真空蒸着法、スパツタリング法、イオンプレーテイ
ング法、メツキ法等任意の周知の方法で形成させること
ができる。強磁性金属薄膜の膜厚は約300Å〜１μｍ、
好ましくは500〜4000Åである。
ては真空蒸着法、スパツタリング法、イオンプレーテイ
ング法、メツキ法等任意の周知の方法で形成させること
ができる。強磁性金属薄膜の膜厚は約300Å〜１μｍ、
好ましくは500〜4000Åである。
上述した非磁性支持体および強磁性金属薄膜およびそ
の形成法については当業者には周知のことであり、詳細
な説明は不必要と考える。
の形成法については当業者には周知のことであり、詳細
な説明は不必要と考える。
本発明によれば、上述した如き強磁性金属薄膜の上に
電解酸化により重合しうるインドールの電解重合物含有
層を設けるのである。
電解酸化により重合しうるインドールの電解重合物含有
層を設けるのである。
上述した如き電解酸化により重合しうるインドールを
電解重合させて、強磁性金属薄膜上に電解重合物含有層
を形成するに当つては、支持電解質および上記電解酸化
により重合しうるインドールを含む溶媒溶液中で、強磁
性金属薄膜を陽極とし、白金板を陰極として、対極相互
の面が平行になるようにして両極間に直流電圧またはパ
ルス電圧を印加すると、強磁性金属薄膜上に上記インド
ールが電解重合した重合物含有層を形成できる。
電解重合させて、強磁性金属薄膜上に電解重合物含有層
を形成するに当つては、支持電解質および上記電解酸化
により重合しうるインドールを含む溶媒溶液中で、強磁
性金属薄膜を陽極とし、白金板を陰極として、対極相互
の面が平行になるようにして両極間に直流電圧またはパ
ルス電圧を印加すると、強磁性金属薄膜上に上記インド
ールが電解重合した重合物含有層を形成できる。
上記浴を形成するため使用する溶媒としては、上記反
応に不活性な任意の溶媒例えばアセトニトリル、ベンゾ
ニトリル、ニトロベンゼン、ニトロメタン、硫酸ジメチ
ルまたは硫酸ジエチル等が使用できる。
応に不活性な任意の溶媒例えばアセトニトリル、ベンゾ
ニトリル、ニトロベンゼン、ニトロメタン、硫酸ジメチ
ルまたは硫酸ジエチル等が使用できる。
支持電解質としては有機四級アンモニウム塩、無機
塩、プロトン酸、テトラシアノキノジメタン（TCNQ）等
が使用でき、具体的には例えば硼弗化テトラエチルアン
モニウム、過塩素酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、
臭化テトラメチルアンモニウム、過塩素酸リチウム、硫
酸、テトラエチルアンモニウム、TCNQまたはベンゼンス
ルホン酸等を使用できる。
塩、プロトン酸、テトラシアノキノジメタン（TCNQ）等
が使用でき、具体的には例えば硼弗化テトラエチルアン
モニウム、過塩素酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム、
臭化テトラメチルアンモニウム、過塩素酸リチウム、硫
酸、テトラエチルアンモニウム、TCNQまたはベンゼンス
ルホン酸等を使用できる。
本発明により強磁性金属薄膜上に、インドールの電解
重合物含有層を形成する場合、その膜厚は50〜500Åが
好適であり、100〜300Åが好ましい。一般に上記膜厚が
500Åより大となると、信号の再生時にスペーシングロ
スにより出力が低下するので好ましくなく、また50Åよ
り小さくなると潤滑性、耐摩耗性が著しく低下するので
好ましくない。
重合物含有層を形成する場合、その膜厚は50〜500Åが
好適であり、100〜300Åが好ましい。一般に上記膜厚が
500Åより大となると、信号の再生時にスペーシングロ
スにより出力が低下するので好ましくなく、また50Åよ
り小さくなると潤滑性、耐摩耗性が著しく低下するので
好ましくない。
本発明の構成による磁気記録媒体は、潤滑性、耐摩耗
性がすぐれ、また走行も安定である。これは強磁性金属
薄膜上に電解酸化重合により形成した重合物含有層が緻
密な構造を有し、また強磁性金属薄膜と強く結合するた
めと考えられる。
性がすぐれ、また走行も安定である。これは強磁性金属
薄膜上に電解酸化重合により形成した重合物含有層が緻
密な構造を有し、また強磁性金属薄膜と強く結合するた
めと考えられる。
実施例の説明 以下に実施例を挙げて本発明を説明する。
実施例１ 厚さ20μｍのポリイミドフイルム支持体上に、真空蒸
着法によりコバルト（90％）−クロム（10％）からなる
膜厚1500Åの強磁性金属薄膜を作つた。この強磁性金属
薄膜を形成した支持体から120mm×80mmの片を切りと
り、上記強磁性金属薄膜を陽極とし、白金板を陰極とし
て、下記電解溶液を入れた500mlのビーカー中で電解酸
化して電解重合物含有層を形成した。
着法によりコバルト（90％）−クロム（10％）からなる
膜厚1500Åの強磁性金属薄膜を作つた。この強磁性金属
薄膜を形成した支持体から120mm×80mmの片を切りと
り、上記強磁性金属薄膜を陽極とし、白金板を陰極とし
て、下記電解溶液を入れた500mlのビーカー中で電解酸
化して電解重合物含有層を形成した。
インドール 7.8g 塩素酸テトラ−ｎ−ブチルアンモニウム 3.3g ニトロベンゼン 500ml 電解酸化重合は、50V、200Hz、デユーテイ10％のパル
ス電圧で30秒間、室温で行なつた。次いで塩化メチレン
で洗浄し、真空乾燥後強磁性金属薄膜上に形成された電
解重合物含有量をエリプソメーターで測定したところ、
膜厚は250Åであつた。
ス電圧で30秒間、室温で行なつた。次いで塩化メチレン
で洗浄し、真空乾燥後強磁性金属薄膜上に形成された電
解重合物含有量をエリプソメーターで測定したところ、
膜厚は250Åであつた。
その後上記磁気記録媒体から直径75mmの大きさの磁気
デイスクを切り取り、このものの動摩擦係数を磁気ヘツ
ドを用いて300r.p.m.ヘツド圧15gで測定した。その結果
を後掲の表１に示す。
デイスクを切り取り、このものの動摩擦係数を磁気ヘツ
ドを用いて300r.p.m.ヘツド圧15gで測定した。その結果
を後掲の表１に示す。
比較例１ 実施例１と同様にしてポリイミドフイルム上に強磁性
金属薄膜を形成し、これから直ちに直径75mmの磁気デイ
スクを切り取り、このものの動摩擦係数を測定した。そ
の結果を表１に示す。
金属薄膜を形成し、これから直ちに直径75mmの磁気デイ
スクを切り取り、このものの動摩擦係数を測定した。そ
の結果を表１に示す。
比較例２ 実施例１と同様にしてポリイミドフイルム上に強磁性
金属薄膜を形成した。次いでこの膜の上にポリビニルア
ルコールとオクタデシルイソシアネートとの反応生成物
の0.3％トルエン溶液を塗布し、乾燥後厚さ300Åの塗膜
を形成した後、直径75mmの磁気デイスクを切り取り、こ
のものの動摩擦係数を測定した。その結果を表１に示
す。
金属薄膜を形成した。次いでこの膜の上にポリビニルア
ルコールとオクタデシルイソシアネートとの反応生成物
の0.3％トルエン溶液を塗布し、乾燥後厚さ300Åの塗膜
を形成した後、直径75mmの磁気デイスクを切り取り、こ
のものの動摩擦係数を測定した。その結果を表１に示
す。
表１のデータから本発明による実施例１の磁気デイス
クは初期動摩擦係数は勿論、１時間走行後においても動
摩擦係数が低く、潤滑性および耐摩耗性において、他の
もの（比較例）よりすぐれていることが判る。
クは初期動摩擦係数は勿論、１時間走行後においても動
摩擦係数が低く、潤滑性および耐摩耗性において、他の
もの（比較例）よりすぐれていることが判る。
またこれらの磁気デイスクを市販のフロツピーデイス
クと同等の機能を有する試験機で走行させたところ、実
施例１のデイスクは何れも100時間後も走行が安定して
いたのに対し、電解重合物含有層その他の層を設けなか
つた比較例１の磁気デイスクは走行が不安定になり、デ
イスクの摩耗が見られた。
クと同等の機能を有する試験機で走行させたところ、実
施例１のデイスクは何れも100時間後も走行が安定して
いたのに対し、電解重合物含有層その他の層を設けなか
つた比較例１の磁気デイスクは走行が不安定になり、デ
イスクの摩耗が見られた。
また比較例２の磁気デイスクは１時間で強磁性金属薄
膜の露出が生じ、100時間後では傷が発生していた。
膜の露出が生じ、100時間後では傷が発生していた。
なお以上の実施例では磁気デイスクについて示した
が、本発明の磁気記録媒体は、磁気テープ、磁気カード
等にも適用できることは明らかである。
が、本発明の磁気記録媒体は、磁気テープ、磁気カード
等にも適用できることは明らかである。
発明の効果 本発明の磁気記録媒体は潤滑性、走行安定性、耐摩耗
性にすぐれているという効果を有する。
性にすぐれているという効果を有する。
Claims (1)
- 【請求項１】非磁性支持体上に設けた強磁性金属薄膜上
に、インドールの電解重合物含有層を直流パルス電圧を
印加しながら、50〜500Å設けることを特徴とする磁気
記録媒体の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59229957A JPH0827939B2 (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP59229957A JPH0827939B2 (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS61110327A JPS61110327A (ja) | 1986-05-28 |
| JPH0827939B2 true JPH0827939B2 (ja) | 1996-03-21 |
Family
ID=16900353
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP59229957A Expired - Lifetime JPH0827939B2 (ja) | 1984-10-31 | 1984-10-31 | 磁気記録媒体の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0827939B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR2950353B1 (fr) * | 2009-09-18 | 2012-01-13 | Commissariat Energie Atomique | Procede pour ameliorer les proprietes de resistance au frottement. |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6035334A (ja) * | 1983-08-08 | 1985-02-23 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
| JPS6038733A (ja) * | 1983-08-10 | 1985-02-28 | Mitsubishi Electric Corp | 磁気記録媒体の製造方法 |
-
1984
- 1984-10-31 JP JP59229957A patent/JPH0827939B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS61110327A (ja) | 1986-05-28 |
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