JPH0830068B2 - 3−プロペニル−3−セフェム誘導体 - Google Patents
3−プロペニル−3−セフェム誘導体Info
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- JPH0830068B2 JPH0830068B2 JP62254777A JP25477787A JPH0830068B2 JP H0830068 B2 JPH0830068 B2 JP H0830068B2 JP 62254777 A JP62254777 A JP 62254777A JP 25477787 A JP25477787 A JP 25477787A JP H0830068 B2 JPH0830068 B2 JP H0830068B2
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02A—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE
- Y02A50/00—TECHNOLOGIES FOR ADAPTATION TO CLIMATE CHANGE in human health protection, e.g. against extreme weather
- Y02A50/30—Against vector-borne diseases, e.g. mosquito-borne, fly-borne, tick-borne or waterborne diseases whose impact is exacerbated by climate change
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/55—Design of synthesis routes, e.g. reducing the use of auxiliary or protecting groups
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- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
- Cephalosporin Compounds (AREA)
- Pharmaceuticals Containing Other Organic And Inorganic Compounds (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の目的〕 本発明は抗菌剤として有用な3−プロペニル−3−セ
フェム誘導体に関するものである。
フェム誘導体に関するものである。
従来,特開昭59-172493号公報および特開昭61-5084号
公報において,3位にアンモニオプロペニル基を有するセ
フェム誘導体が知られている。しかし,7位の側鎖の部分
にシアノ置換低級アルコキシイミノ基を有する化合物は
示されていない。本発明者等は,3位にアンモニオプロペ
ニル基,7位の側鎖の部分にシアノ置換低級アルコキシイ
ミノ基を有するセフェム誘導体が優れた抗菌力を有する
ことを見い出し,本発明を完成したものである。
公報において,3位にアンモニオプロペニル基を有するセ
フェム誘導体が知られている。しかし,7位の側鎖の部分
にシアノ置換低級アルコキシイミノ基を有する化合物は
示されていない。本発明者等は,3位にアンモニオプロペ
ニル基,7位の側鎖の部分にシアノ置換低級アルコキシイ
ミノ基を有するセフェム誘導体が優れた抗菌力を有する
ことを見い出し,本発明を完成したものである。
したがって,本発明の目的は,抗菌剤として有用な新
規化合物,その製造法およびそれからなる抗菌剤を提供
することにある。
規化合物,その製造法およびそれからなる抗菌剤を提供
することにある。
本発明の化合物は一般式: 〔式中,R1はシアノ置換低級アルキル基,Aは環状または
非環状アンモニオ基を示す〕で表わされる3−プロペニ
ル−3−セフェム誘導体またはその非毒性塩である。
非環状アンモニオ基を示す〕で表わされる3−プロペニ
ル−3−セフェム誘導体またはその非毒性塩である。
一般式(I)のR1のシアノ置換低級アルキル基として
は,シアノメチル,2−シアノエチル,3−シアノプロピル
などがあげられる。
は,シアノメチル,2−シアノエチル,3−シアノプロピル
などがあげられる。
一般式(I)のAの非環状アンモニオ基の例として
は,次に示す基をあげることができる。
は,次に示す基をあげることができる。
〔式中,R2,R3およびR4は同一または異なり,低級アル
キル基,ヒドロキシ置換低級アルキル基,カルバモイル
置換低級アルキル基,シアノ置換低級アルキル基,アミ
ノ基,低級アルキルカルボニルアミド置換低級アルキル
基,アミノスルホニルアミノカルボニル置換低級アルキ
ル基,低級アルキルスルホニルアミノカルボニル置換低
級アルキル基,低級アルキルアミノカルボニル置換低級
アルキル基,ヒドロキシおよびカルバモイル置換低級ア
ルキル基,ヒドロキシおよびヒドロキシ低級アルキルア
ミノカルボニル置換低級アルキル基,低級アルキルオキ
シアミノカルボニル置換低級アルキル基,ヒドロキシア
ミノカルボニル置換低級アルキル基,カルボニル低級ア
ルキルアミノカルボニル置換低級アルキル基,ヒドロキ
シ低級アルキルアミノカルボニル置換低級アルキル基,
低級アルキルアミノ置換低級アルキル基,(カルボキシ
レート低級アルキルジ低級アルキルアンモニオ)置換低
級アルキル基,低級アルキルアミノ置換低級アルキル
基,低級アルキルアミノおよびヒドロキシ置換低級アル
キル基,ウレイド基,ヒドロキシ基,カルボキシ置換低
級アルキル基,ヒドロキシおよびカルバモイル置換低級
アルキル基,低級アルキルオキシ置換低級アルキル基,
ジ低級アルキルアミノカルボニル置換低級アルキル基,
ジカルバモイル置換低級アルキル基,ビス(ヒドロキシ
低級アルキル)アミノカルボニル置換低級アルキル基,
ジヒドロキシ置換低級アルキル基,トリヒドロキシ置換
低級アルキル基,ビス(ヒドロキシ低級アルキル)アミ
ノ置換低級アルキル基,アミノ置換低級アルキル基,オ
キソ置換低級アルキル基,ジ低級アルキルアミノ置換低
級アルキル基,5員複素環置換低級アルキル素(5員複素
環はピラゾリル,イミダゾリル,オキサジアゾリルまた
はテトラゾリル等を示す)から選択される基を示す〕,
また,一般式(I)のAの環状アンモニオ基の例として
は次に示す基をあげることができる。
キル基,ヒドロキシ置換低級アルキル基,カルバモイル
置換低級アルキル基,シアノ置換低級アルキル基,アミ
ノ基,低級アルキルカルボニルアミド置換低級アルキル
基,アミノスルホニルアミノカルボニル置換低級アルキ
ル基,低級アルキルスルホニルアミノカルボニル置換低
級アルキル基,低級アルキルアミノカルボニル置換低級
アルキル基,ヒドロキシおよびカルバモイル置換低級ア
ルキル基,ヒドロキシおよびヒドロキシ低級アルキルア
ミノカルボニル置換低級アルキル基,低級アルキルオキ
シアミノカルボニル置換低級アルキル基,ヒドロキシア
ミノカルボニル置換低級アルキル基,カルボニル低級ア
ルキルアミノカルボニル置換低級アルキル基,ヒドロキ
シ低級アルキルアミノカルボニル置換低級アルキル基,
低級アルキルアミノ置換低級アルキル基,(カルボキシ
レート低級アルキルジ低級アルキルアンモニオ)置換低
級アルキル基,低級アルキルアミノ置換低級アルキル
基,低級アルキルアミノおよびヒドロキシ置換低級アル
キル基,ウレイド基,ヒドロキシ基,カルボキシ置換低
級アルキル基,ヒドロキシおよびカルバモイル置換低級
アルキル基,低級アルキルオキシ置換低級アルキル基,
ジ低級アルキルアミノカルボニル置換低級アルキル基,
ジカルバモイル置換低級アルキル基,ビス(ヒドロキシ
低級アルキル)アミノカルボニル置換低級アルキル基,
ジヒドロキシ置換低級アルキル基,トリヒドロキシ置換
低級アルキル基,ビス(ヒドロキシ低級アルキル)アミ
ノ置換低級アルキル基,アミノ置換低級アルキル基,オ
キソ置換低級アルキル基,ジ低級アルキルアミノ置換低
級アルキル基,5員複素環置換低級アルキル素(5員複素
環はピラゾリル,イミダゾリル,オキサジアゾリルまた
はテトラゾリル等を示す)から選択される基を示す〕,
また,一般式(I)のAの環状アンモニオ基の例として
は次に示す基をあげることができる。
〔式中,R5は低級アルキル基,カルバモイル置換低級ア
ルキル基,アミノ置換低級アルキル基,ヒドロキシ置換
低級アルキル基,カルボキシ置換低級アルキル基,シア
ノ置換低級アルキル基,ジヒドロキシ置換低級アルキル
基,ウレイド置換低級アルキル基から選ばれる基を示
し,該環状アンモニオ基は,さらにその環上にヒドロキ
シ置換低級アルキル基,ヒドロキシ基,ホルミル基,ス
ルホン酸基,カルボキシ置換低級アルキル基,カルバモ
イル基,スルファモイル基,カルボキシル基,ヒドロキ
シイミノ置換低級アルキル基,イミノ置換低級アルキル
基,ビス(ヒドロキシ低級アルキル)アミノカルバモイ
ル基,ヒドロキシ低級アルキルアミノカルバモイル基,
アミノ基,モルホリノカルボニル基,カルボキシ低級ア
ルキルオキシ置換低級アルキル基,カルボキシ低級アル
キルチオ置換低級アルキル基,低級アルキル基から選ば
れる置換基を有してもよい〕 また,一般式(I)のA(R2〜R5)の定義における低
級アルキル基としては,メチル,エチル,n−プロピル,i
−プロピル,n−ブチル,i−ブチル,sec−ブチル,t−ブチ
ルなどの炭素数1〜4のアルキル基が含まれる。
ルキル基,アミノ置換低級アルキル基,ヒドロキシ置換
低級アルキル基,カルボキシ置換低級アルキル基,シア
ノ置換低級アルキル基,ジヒドロキシ置換低級アルキル
基,ウレイド置換低級アルキル基から選ばれる基を示
し,該環状アンモニオ基は,さらにその環上にヒドロキ
シ置換低級アルキル基,ヒドロキシ基,ホルミル基,ス
ルホン酸基,カルボキシ置換低級アルキル基,カルバモ
イル基,スルファモイル基,カルボキシル基,ヒドロキ
シイミノ置換低級アルキル基,イミノ置換低級アルキル
基,ビス(ヒドロキシ低級アルキル)アミノカルバモイ
ル基,ヒドロキシ低級アルキルアミノカルバモイル基,
アミノ基,モルホリノカルボニル基,カルボキシ低級ア
ルキルオキシ置換低級アルキル基,カルボキシ低級アル
キルチオ置換低級アルキル基,低級アルキル基から選ば
れる置換基を有してもよい〕 また,一般式(I)のA(R2〜R5)の定義における低
級アルキル基としては,メチル,エチル,n−プロピル,i
−プロピル,n−ブチル,i−ブチル,sec−ブチル,t−ブチ
ルなどの炭素数1〜4のアルキル基が含まれる。
一般式(I)の化合物の非毒性塩としては,医薬上許
容される塩類,例えばナトリウム塩,カリウム塩などの
アルカリ金属塩;アンモニウム塩;テトラエチルアンモ
ニウム塩,ベタイン塩などの4級アンモニウム塩;カル
シウム塩,マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩;
塩酸塩,臭化水素酸塩,沃化水素酸塩,硫酸塩,炭酸
塩,重炭酸塩などの無機酸塩;酢酸塩,マレイン酸塩,
乳酸塩,酒石酸塩などの有機カルボン酸塩;メタンスル
ホン酸塩,ヒドロキシメタンスルホン酸塩,ヒドロキシ
エタンスルホン酸塩,タウリン塩,ベンゼンスルホン酸
塩,トルエンスルホン酸塩などの有機スルホン酸塩;ア
ルギニン塩,リジン塩,セリン塩,アスパラギン酸塩,
グルタミン酸塩,グリシン塩などのアミノ酸塩;トリメ
チルアミン塩,トリエチルアミン塩,ピリジン塩,プロ
カイン塩,ピコリン塩,ジシクロヘキシルアミン塩,N,
N′−ジベンジルエチレンジアミン塩,N−メチルグルカ
ミン塩,ジエタノールアミン塩,トリエタノールアミン
塩,トリス(ヒドロキシメチルアミノ)メタン塩,フェ
ネチルベンジルアミン塩などのアミン塩等があげられ
る。
容される塩類,例えばナトリウム塩,カリウム塩などの
アルカリ金属塩;アンモニウム塩;テトラエチルアンモ
ニウム塩,ベタイン塩などの4級アンモニウム塩;カル
シウム塩,マグネシウム塩などのアルカリ土類金属塩;
塩酸塩,臭化水素酸塩,沃化水素酸塩,硫酸塩,炭酸
塩,重炭酸塩などの無機酸塩;酢酸塩,マレイン酸塩,
乳酸塩,酒石酸塩などの有機カルボン酸塩;メタンスル
ホン酸塩,ヒドロキシメタンスルホン酸塩,ヒドロキシ
エタンスルホン酸塩,タウリン塩,ベンゼンスルホン酸
塩,トルエンスルホン酸塩などの有機スルホン酸塩;ア
ルギニン塩,リジン塩,セリン塩,アスパラギン酸塩,
グルタミン酸塩,グリシン塩などのアミノ酸塩;トリメ
チルアミン塩,トリエチルアミン塩,ピリジン塩,プロ
カイン塩,ピコリン塩,ジシクロヘキシルアミン塩,N,
N′−ジベンジルエチレンジアミン塩,N−メチルグルカ
ミン塩,ジエタノールアミン塩,トリエタノールアミン
塩,トリス(ヒドロキシメチルアミノ)メタン塩,フェ
ネチルベンジルアミン塩などのアミン塩等があげられ
る。
一般式(I)の本発明化合物の次の部分の立体部位に
関し, シン異性体(Z)とアンチ異性体(E)が存在する。本
発明には両異性体とも含まれるが,抗菌力の点からはシ
ン異性体が望ましい。
関し, シン異性体(Z)とアンチ異性体(E)が存在する。本
発明には両異性体とも含まれるが,抗菌力の点からはシ
ン異性体が望ましい。
本発明化合物は次に示す方法により製造することがで
きる。
きる。
一般式: 〔式中,R1は前記の定義と同じ,Xはハロゲン原子を示
す〕で表わされる化合物,そのアミノ基およびまたはカ
ルボキシル基が保護基で保護された化合物,またはそれ
らの化合物の塩に式: A′ (III) 〔A′は前記のAに対応するアミンを示す〕で表わさ
れる化合物,その官能基が保護基で保護された化合物,
またはこれらの化合物の塩を反応させ,必要により保護
基を脱離して前記一般式(I)の化合物またはその非毒
性塩を得ることができる。
す〕で表わされる化合物,そのアミノ基およびまたはカ
ルボキシル基が保護基で保護された化合物,またはそれ
らの化合物の塩に式: A′ (III) 〔A′は前記のAに対応するアミンを示す〕で表わさ
れる化合物,その官能基が保護基で保護された化合物,
またはこれらの化合物の塩を反応させ,必要により保護
基を脱離して前記一般式(I)の化合物またはその非毒
性塩を得ることができる。
上記一般式(II)のXのハロゲン原子としては,沃素
原子,臭素原子,塩素原子があげられる。
原子,臭素原子,塩素原子があげられる。
上記反応は反応温度−10℃〜60℃,好ましくは0℃〜
40℃で行うことができる。また,反応溶媒としては,無
水の有機溶媒が望ましい。この使用することができる有
機溶媒としては,アセトニトリル,プロピオニトリル等
の低級アルキルニトリル;クロルメタン,ジクロルメタ
ン,クロロホルムなどのハロゲン化低級アルキル;テト
ラヒドロフラン,ジオキサン,エチルエーテル等のエー
テル;ジメチルホルムアミドなどのアミド;酢酸エチル
等のエステル;アセトンなどのケトン;ベンゼン等の炭
化水素;メタノール,エタノールなどのアルコール;ジ
メチルスルホキシド等のスルホキシドあるいはこれらの
混合溶媒があげられる。
40℃で行うことができる。また,反応溶媒としては,無
水の有機溶媒が望ましい。この使用することができる有
機溶媒としては,アセトニトリル,プロピオニトリル等
の低級アルキルニトリル;クロルメタン,ジクロルメタ
ン,クロロホルムなどのハロゲン化低級アルキル;テト
ラヒドロフラン,ジオキサン,エチルエーテル等のエー
テル;ジメチルホルムアミドなどのアミド;酢酸エチル
等のエステル;アセトンなどのケトン;ベンゼン等の炭
化水素;メタノール,エタノールなどのアルコール;ジ
メチルスルホキシド等のスルホキシドあるいはこれらの
混合溶媒があげられる。
保護基の脱離は,使用した保護基の種類に応じ,加水
分解,還元など常法により行うことができる。
分解,還元など常法により行うことができる。
一般式(II)および(III)の化合物の塩,保護基と
しては,上記反応を妨げないものであれば,通常用いら
れるものを使用することができる。
しては,上記反応を妨げないものであれば,通常用いら
れるものを使用することができる。
例えば,アミノ基の保護基としてはホルミル基,アセ
チル基,クロルアセチル基,ジクロルアセチル基,フェ
ニルアセチル基,チエニルアセチル基,t−ブトキシカル
ボニル基,ベンジルオキシカルボニル基,トリチル基,p
−メトキシベンジル基,ジフェニルメチル基,ベンジリ
デン基,p−ニトロベンジリデン基,m−クロルベンジリデ
ン基など;カルボキシル基の保護基としては,p−メトキ
シベンジル基,p−ニトロベンジル基,t−ブチル基,メチ
ル基,2,2,2−トリクロロエチル基,ジフェニルメチル
基,ピバロイルオキシメチル基などがあげられる。ま
た,N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド,N−メ
チル−N−(トリメチルシリル)アセトアミド,N−メチ
ル−N−(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミ
ド,N−(トリメチルシリル)アセトアミドなどのシリル
化剤を使用すれば,アミノ基およびカルボキシル基を同
時に保護できるので便利である。
チル基,クロルアセチル基,ジクロルアセチル基,フェ
ニルアセチル基,チエニルアセチル基,t−ブトキシカル
ボニル基,ベンジルオキシカルボニル基,トリチル基,p
−メトキシベンジル基,ジフェニルメチル基,ベンジリ
デン基,p−ニトロベンジリデン基,m−クロルベンジリデ
ン基など;カルボキシル基の保護基としては,p−メトキ
シベンジル基,p−ニトロベンジル基,t−ブチル基,メチ
ル基,2,2,2−トリクロロエチル基,ジフェニルメチル
基,ピバロイルオキシメチル基などがあげられる。ま
た,N,O−ビス(トリメチルシリル)アセトアミド,N−メ
チル−N−(トリメチルシリル)アセトアミド,N−メチ
ル−N−(トリメチルシリル)トリフルオロアセトアミ
ド,N−(トリメチルシリル)アセトアミドなどのシリル
化剤を使用すれば,アミノ基およびカルボキシル基を同
時に保護できるので便利である。
一般式(II)および(III)の化合物の塩としては,
例えばナトリウム塩,カリウム塩等のアルカリ金属塩,
カルシウム塩,マグネシウム塩等のアルカリ土類金属
塩;アンモニウム塩;トリエチルアンモニウム塩,ベタ
イン塩等の4級アンモニウム塩;塩酸塩,臭化水素酸
塩,硫酸塩,炭酸塩,沃化水素酸塩,重炭酸塩等の無機
酸塩;酢酸塩,トリフルオロ酢酸塩,マレイン酸塩,乳
酸塩,酒石酸塩等の有機カルボン酸塩;メタンスルホン
酸塩,ヒドロキシメタンスルホン酸塩,ヒドロキシエタ
ンスルホン酸塩,タウリン塩,ベンゼンスルホン酸塩,
トルエンスルホン酸塩等の有機スルホン酸塩;トリメチ
ルアミン塩,トリエチルアミン塩,ピリジン塩,プロカ
イン塩,ピコリン塩,ジシクロヘキシルアミン塩,N,N′
−ジベンジルエチレンジアミン塩,N−メチルグルカミン
塩,ジエタノールアミン塩,トリエタノールアミン塩,
トリス(ヒドロキシメチルアミノ)メタン塩,フェネチ
ルベンジルアミン塩等のアミン塩;アルギニン塩,アス
パラギン酸塩,リジン塩,グルタミン酸塩,セリン塩,
グリシン塩等のアミノ酸塩などの塩の中より適宜選択す
ることができる。
例えばナトリウム塩,カリウム塩等のアルカリ金属塩,
カルシウム塩,マグネシウム塩等のアルカリ土類金属
塩;アンモニウム塩;トリエチルアンモニウム塩,ベタ
イン塩等の4級アンモニウム塩;塩酸塩,臭化水素酸
塩,硫酸塩,炭酸塩,沃化水素酸塩,重炭酸塩等の無機
酸塩;酢酸塩,トリフルオロ酢酸塩,マレイン酸塩,乳
酸塩,酒石酸塩等の有機カルボン酸塩;メタンスルホン
酸塩,ヒドロキシメタンスルホン酸塩,ヒドロキシエタ
ンスルホン酸塩,タウリン塩,ベンゼンスルホン酸塩,
トルエンスルホン酸塩等の有機スルホン酸塩;トリメチ
ルアミン塩,トリエチルアミン塩,ピリジン塩,プロカ
イン塩,ピコリン塩,ジシクロヘキシルアミン塩,N,N′
−ジベンジルエチレンジアミン塩,N−メチルグルカミン
塩,ジエタノールアミン塩,トリエタノールアミン塩,
トリス(ヒドロキシメチルアミノ)メタン塩,フェネチ
ルベンジルアミン塩等のアミン塩;アルギニン塩,アス
パラギン酸塩,リジン塩,グルタミン酸塩,セリン塩,
グリシン塩等のアミノ酸塩などの塩の中より適宜選択す
ることができる。
本発明化合物は,グラム陰性菌およびグラム陽性菌に
対し,強い抗菌力を有し,抗菌剤として有用である。
対し,強い抗菌力を有し,抗菌剤として有用である。
本発明化合物を注射剤として使用する際には,通常1
日100mg〜10gを1〜4回にわけて静脈内または筋肉内に
投与することができる。なお,その投与量は年齢,症状
により増減される。
日100mg〜10gを1〜4回にわけて静脈内または筋肉内に
投与することができる。なお,その投与量は年齢,症状
により増減される。
注射剤は常法により製造することができる。例えば,
本発明化合物を,必要により等張化剤,溶解補助剤等の
存在下で蒸留水に溶解して注射液とすることができる。
また,粉末状態でバイアル等に充填し,用時溶解型の注
射剤とすることができる。この注射剤は投与時に注射用
蒸留水,生理食塩水,ブドウ糖注射液,アミノ酸輸液等
に溶解して用いられる。
本発明化合物を,必要により等張化剤,溶解補助剤等の
存在下で蒸留水に溶解して注射液とすることができる。
また,粉末状態でバイアル等に充填し,用時溶解型の注
射剤とすることができる。この注射剤は投与時に注射用
蒸留水,生理食塩水,ブドウ糖注射液,アミノ酸輸液等
に溶解して用いられる。
次に実験例および実施例を示し,本発明をさらに詳し
く説明する。
く説明する。
実験例1(原料化合物の合成) 2−(5−トリチルアミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノ酢酸 N−シアノメトキシフタルイミド8.00gをエタノール50m
lに懸濁し,室温下,ヒドラジン・一水和物1.93mlを加
え1時間45分攪拌した。これに飽和食塩水およびエチル
エーテルを加え,濃アンモニア水にて液を塩基性とした
後,エチルエーテルにて抽出した。エチルエーテル層を
飽和食塩水にて洗浄し,無水硫酸ナトリウムを加えて乾
燥後,溶媒を留去した。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノ酢酸 N−シアノメトキシフタルイミド8.00gをエタノール50m
lに懸濁し,室温下,ヒドラジン・一水和物1.93mlを加
え1時間45分攪拌した。これに飽和食塩水およびエチル
エーテルを加え,濃アンモニア水にて液を塩基性とした
後,エチルエーテルにて抽出した。エチルエーテル層を
飽和食塩水にて洗浄し,無水硫酸ナトリウムを加えて乾
燥後,溶媒を留去した。
残渣にメタノール350mlおよび2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)グルオキシ
ル酸6.50gを加えて室温にて1時間攪拌した。溶媒を留
去し,残渣を酢酸エチルに溶解し,0.1N塩酸次いで飽和
食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾
燥後,溶媒を留去して目的物7.64gを得た。
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)グルオキシ
ル酸6.50gを加えて室温にて1時間攪拌した。溶媒を留
去し,残渣を酢酸エチルに溶解し,0.1N塩酸次いで飽和
食塩水で洗浄した。有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾
燥後,溶媒を留去して目的物7.64gを得た。
実験例2(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−シアノメトキシイミノアセトアミド〕−3−
〔(Z)−3−クロロ−1−プロペン−1−イル〕−3
−セフェム−4−カルボキシレート ジメチルホルムアミド1.51mlおよびテトラヒドロフラ
ン18mlを−10℃に冷却し,塩化ホスホリル1.82mlを加え
た後,氷冷下,40分間攪拌した。これに実験例1の化合
物7.64gのテトラヒドロフラン24ml溶液を加え,同温度
でさらに1時間攪拌した。
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−シアノメトキシイミノアセトアミド〕−3−
〔(Z)−3−クロロ−1−プロペン−1−イル〕−3
−セフェム−4−カルボキシレート ジメチルホルムアミド1.51mlおよびテトラヒドロフラ
ン18mlを−10℃に冷却し,塩化ホスホリル1.82mlを加え
た後,氷冷下,40分間攪拌した。これに実験例1の化合
物7.64gのテトラヒドロフラン24ml溶液を加え,同温度
でさらに1時間攪拌した。
p−メトキシベンジル 7β−アミノ−3−〔(Z)
−3−クロロ−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート塩酸塩6.00g,N−トリメチル
シリルアセトアミド12.8gおよび酢酸エチル60mlの溶液
を−25℃に冷却し,この溶液中に前記反応液を加え40分
間攪拌しつつ温度を0℃まで上昇させた。この反応液を
酢酸エチルで抽出し,有機層を飽和食塩水で洗浄後,無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し,残渣をシ
リカゲルカラムクマトグラフィーで精製して目的物7.80
gを得た。
−3−クロロ−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェ
ム−4−カルボキシレート塩酸塩6.00g,N−トリメチル
シリルアセトアミド12.8gおよび酢酸エチル60mlの溶液
を−25℃に冷却し,この溶液中に前記反応液を加え40分
間攪拌しつつ温度を0℃まで上昇させた。この反応液を
酢酸エチルで抽出し,有機層を飽和食塩水で洗浄後,無
水硫酸ナトリウムで乾燥した。溶媒を留去し,残渣をシ
リカゲルカラムクマトグラフィーで精製して目的物7.80
gを得た。
実験例3(原料化合物の合成) p−メトキシベンジル 7β−〔2−(5−トリチルア
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−シアノメトキシイミノアセトアミド〕−3−
〔(E)−ヨード−1−プロペン−1−イル〕−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 実験例2の化合物7.80gのアセトン120ml溶液に,氷冷
下,ヨウ化ナトリウム6.9gを加えて10分間攪拌後,室温
にもどしさらに1時間30分攪拌した。溶媒を留去し,酢
酸エチルで抽出した。これを希チオ硫酸ナトリウム水溶
液についで飽和食塩水で洗浄した後,無水硫酸ナトリウ
ムにて乾燥した。溶液を濃縮し,これをイソプロピルエ
ーテル−エチルエーテル混液中に滴下した。生じた沈澱
を取し,目的物6.50gを得た。
ミノ−1,2,4−チアジアゾール−3−イル)−(Z)−
2−シアノメトキシイミノアセトアミド〕−3−
〔(E)−ヨード−1−プロペン−1−イル〕−3−セ
フェム−4−カルボキシレート 実験例2の化合物7.80gのアセトン120ml溶液に,氷冷
下,ヨウ化ナトリウム6.9gを加えて10分間攪拌後,室温
にもどしさらに1時間30分攪拌した。溶媒を留去し,酢
酸エチルで抽出した。これを希チオ硫酸ナトリウム水溶
液についで飽和食塩水で洗浄した後,無水硫酸ナトリウ
ムにて乾燥した。溶液を濃縮し,これをイソプロピルエ
ーテル−エチルエーテル混液中に滴下した。生じた沈澱
を取し,目的物6.50gを得た。
実施例1 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−〔(1S−カルバモイル−
2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニオ〕−1−プ
ロペン−1−イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート 実験例3の化合物1.0gをジメチルホルムアミド2mlに
溶解し,室温下,(1S−カルバモイル−2−ヒドロキシ
エチル)ジメチルアミン210mgを加え,1時間攪拌した。
反応液に酢酸エチル10mlを加えて希釈し,この液をエチ
ルエーテル100ml中に滴下してかっ色沈澱710mgを得た。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−〔(1S−カルバモイル−
2−ヒドロキシエチル)ジメチルアンモニオ〕−1−プ
ロペン−1−イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレ
ート 実験例3の化合物1.0gをジメチルホルムアミド2mlに
溶解し,室温下,(1S−カルバモイル−2−ヒドロキシ
エチル)ジメチルアミン210mgを加え,1時間攪拌した。
反応液に酢酸エチル10mlを加えて希釈し,この液をエチ
ルエーテル100ml中に滴下してかっ色沈澱710mgを得た。
この沈澱をアニソール6mlとトリフルオロ酢酸6.5mlの
混液中,氷冷下,1時間攪拌した。反応液にエチルエーテ
ルを加え,かっ色沈澱430mgを得た。この沈澱を水10ml
に懸濁し,酢酸ナトリウムでpH7.0に調整した。不溶物
を去し,液を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製して目的物50mgを得た。
混液中,氷冷下,1時間攪拌した。反応液にエチルエーテ
ルを加え,かっ色沈澱430mgを得た。この沈澱を水10ml
に懸濁し,酢酸ナトリウムでpH7.0に調整した。不溶物
を去し,液を逆相シリカゲルカラムクロマトグラフ
ィーにて精製して目的物50mgを得た。
実施例2 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(1−メチル−2R−ヒド
ロキシメチル−4R−ヒドロキシ−1−ピロリジニオ)−
1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4−カルボ
キシレート 実験例3の化合物1.0gを酢酸エチル10mlとエチルエー
テル8mlの混液に溶解し,N−メチル−4R−ヒドロキシ−
D−プロリノール167mgを加えて一夜攪拌した。反応液
をエチルエーテル100ml中に加え,生じた沈澱を取し
て黄色粉末840mgを得た。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(1−メチル−2R−ヒド
ロキシメチル−4R−ヒドロキシ−1−ピロリジニオ)−
1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4−カルボ
キシレート 実験例3の化合物1.0gを酢酸エチル10mlとエチルエー
テル8mlの混液に溶解し,N−メチル−4R−ヒドロキシ−
D−プロリノール167mgを加えて一夜攪拌した。反応液
をエチルエーテル100ml中に加え,生じた沈澱を取し
て黄色粉末840mgを得た。
この粉末にアニソール6mlを加え,氷冷攪拌下,トリ
フルオロ酢酸8mlを30分間かけて滴下し,さらに1時間3
0分攪拌した。反応液にエチルエーテル100mlを加え,生
じた沈澱を取した。これを水4mlに懸濁し,酢酸ナト
リウムでpH7.0に調整した。不溶物を去し,液を逆
相シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目
的物24mgを得た。
フルオロ酢酸8mlを30分間かけて滴下し,さらに1時間3
0分攪拌した。反応液にエチルエーテル100mlを加え,生
じた沈澱を取した。これを水4mlに懸濁し,酢酸ナト
リウムでpH7.0に調整した。不溶物を去し,液を逆
相シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目
的物24mgを得た。
実施例1,2と同様にして次の実施例3〜10の化合物を
製造した。
製造した。
Aのアンモニオ基の部分に起因して複数の異性体が生
成する場合があるが,これを分離した場合には異性体別
に収量を示した。
成する場合があるが,これを分離した場合には異性体別
に収量を示した。
実施例11 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(カルバモイルメチルジ
メチルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−
セフェム−4−カルボキシレート 実験例3の化合物390mgの酢酸エチル15ml溶液にジメ
チルグリシンアミド64mgを加え,室温下で1時間攪拌し
た。反応液にエチルエーテルを加え,生じた沈澱を
取,乾燥して黄褐色粉末260mgを得た。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(カルバモイルメチルジ
メチルアンモニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−
セフェム−4−カルボキシレート 実験例3の化合物390mgの酢酸エチル15ml溶液にジメ
チルグリシンアミド64mgを加え,室温下で1時間攪拌し
た。反応液にエチルエーテルを加え,生じた沈澱を
取,乾燥して黄褐色粉末260mgを得た。
これに,氷冷下,トリフルオロ酢酸2mlとアニソール
1.5mlの混液を加えて1時間攪拌した。溶液にエチルエ
ーテルを加え,生じた沈澱を取し,エチルエーテルで
洗浄した。この沈澱を水5mlに懸濁し,酢酸ナトリウム
にてpH5.5〜6.5に調整後,不溶物を去した。液を逆
相シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的
物37mgを得た。
1.5mlの混液を加えて1時間攪拌した。溶液にエチルエ
ーテルを加え,生じた沈澱を取し,エチルエーテルで
洗浄した。この沈澱を水5mlに懸濁し,酢酸ナトリウム
にてpH5.5〜6.5に調整後,不溶物を去した。液を逆
相シリカゲルカラムクロマトグラフィーで精製して目的
物37mgを得た。
実施例12 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(1−メチル−4−スル
ファモイル−1−ピペラジニオ)−1−プロペン−1−
イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例3の化合物500mgをジクロルメタン5mlとメタノ
ール1mlの混液に溶解し,N−スルファモイル−N′−メ
チルピペラジン145mgを加え,室温下で4時間攪拌し
た。溶液を濃縮し,エチルエーテルを加えた。生じた沈
澱を取,乾燥して黄褐色粉末450mgを得た。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(1−メチル−4−スル
ファモイル−1−ピペラジニオ)−1−プロペン−1−
イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例3の化合物500mgをジクロルメタン5mlとメタノ
ール1mlの混液に溶解し,N−スルファモイル−N′−メ
チルピペラジン145mgを加え,室温下で4時間攪拌し
た。溶液を濃縮し,エチルエーテルを加えた。生じた沈
澱を取,乾燥して黄褐色粉末450mgを得た。
これに,氷冷下,トリフルオロ酢酸3.5mlとアニソー
ル3mlの混液を加えて1時間攪拌した。溶液にエチルエ
ーテルを加え,生じた沈澱を取し,エチルエーテルで
洗浄した。この沈澱を水5mlに懸濁し,酢酸ナトリウム
にてpH5.5〜6.5に調整後,不溶物を去した。液を逆
相シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目
的物39mgを得た。
ル3mlの混液を加えて1時間攪拌した。溶液にエチルエ
ーテルを加え,生じた沈澱を取し,エチルエーテルで
洗浄した。この沈澱を水5mlに懸濁し,酢酸ナトリウム
にてpH5.5〜6.5に調整後,不溶物を去した。液を逆
相シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目
的物39mgを得た。
実施例13 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(1,4−ジアザビシクロ
〔2,2,2〕オクタン−1−イオ)−1−プロペン−1−
イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例3の化合物500mgを酢酸エチル6mlとメタノール
0.5mlの混液に溶解し,1,4−ジアザビシクロ〔2,2,2〕オ
クタン90mgを加えて室温で20分間攪拌した。溶液にエチ
ルエーテルを加え,生じた沈澱を取,乾燥して黄褐色
粉末330mgを得た。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(1,4−ジアザビシクロ
〔2,2,2〕オクタン−1−イオ)−1−プロペン−1−
イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例3の化合物500mgを酢酸エチル6mlとメタノール
0.5mlの混液に溶解し,1,4−ジアザビシクロ〔2,2,2〕オ
クタン90mgを加えて室温で20分間攪拌した。溶液にエチ
ルエーテルを加え,生じた沈澱を取,乾燥して黄褐色
粉末330mgを得た。
これに,氷冷下,トリフルオロ酢酸3mlとアニソール
2.5ml混液を加えて1時間攪拌した。溶液にエチルエー
テルを加え,生じた沈澱を取し,エチルエーテルで洗
浄した。この沈澱を水5mlに懸濁し,酢酸ナトリウムに
てpH5.5〜6.5に調整後,不溶物を去した。液を逆相
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的
物48mgを得た。
2.5ml混液を加えて1時間攪拌した。溶液にエチルエー
テルを加え,生じた沈澱を取し,エチルエーテルで洗
浄した。この沈澱を水5mlに懸濁し,酢酸ナトリウムに
てpH5.5〜6.5に調整後,不溶物を去した。液を逆相
シリカゲルカラムクロマトグラフィーにて精製し,目的
物48mgを得た。
実施例11〜13と同様にして次の実施例14〜17の化合物
を得た。
を得た。
実施例14 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(4−カルバモイルピリ
ジニオ−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4
−カルボキシレート 実験例3の化合物600mgと4−カルバモイルピリジン2
35mgを反応させ,保護基を脱離して目的物37mgを得た。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(4−カルバモイルピリ
ジニオ−1−プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4
−カルボキシレート 実験例3の化合物600mgと4−カルバモイルピリジン2
35mgを反応させ,保護基を脱離して目的物37mgを得た。
実施例15 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド)−3−((E)−3−〔(1,3,4−オキサジア
ゾール−2−イル)メチルジメチルアンモニオ〕−1−
プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レート 実験例3の化合物600mgと2−ジメチルアミノメチル
−1,3,4−オキサジアゾール163mgを反応させ,保護基を
脱離して目的物54mgを得た。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド)−3−((E)−3−〔(1,3,4−オキサジア
ゾール−2−イル)メチルジメチルアンモニオ〕−1−
プロペン−1−イル〕−3−セフェム−4−カルボキシ
レート 実験例3の化合物600mgと2−ジメチルアミノメチル
−1,3,4−オキサジアゾール163mgを反応させ,保護基を
脱離して目的物54mgを得た。
実施例16 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−〔(1,2−ジメチル−1
−ピラゾリジニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−
セフェム−4−カルボキシレート(異性体:AおよびB) 実験例3の化合物510mgと1,2−ジメチルピラゾリジン
0.4mlを反応させ,保護基を脱離して,目的とする異性
体A20mg,異性体B20mgを得た。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−〔(1,2−ジメチル−1
−ピラゾリジニオ)−1−プロペン−1−イル〕−3−
セフェム−4−カルボキシレート(異性体:AおよびB) 実験例3の化合物510mgと1,2−ジメチルピラゾリジン
0.4mlを反応させ,保護基を脱離して,目的とする異性
体A20mg,異性体B20mgを得た。
実施例17 7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チアジアゾール−
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(1,5−ジアザビシクロ
〔3,3,0〕オクタン−1−イオ)−1−プロペン−1−
イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例3の化合物600mgと1,5−ジアザビシクロ〔3,3,
0〕オクタン220mgを反応させ,保護基を脱離して目的物
39mgを得た。
3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシイミノアセト
アミド〕−3−〔(E)−3−(1,5−ジアザビシクロ
〔3,3,0〕オクタン−1−イオ)−1−プロペン−1−
イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート 実験例3の化合物600mgと1,5−ジアザビシクロ〔3,3,
0〕オクタン220mgを反応させ,保護基を脱離して目的物
39mgを得た。
本発明化合物について,その急性毒性,抗菌力を測定
した。
した。
(1)マウス急性毒性 ICR系雄性,6週齢マウス5匹に本発明化合物を生理食
塩水に溶解して静脈内投与した。その結果,次の実施例
の化合物においては,急性毒性値はいずれも2g/kg以上
であった。
塩水に溶解して静脈内投与した。その結果,次の実施例
の化合物においては,急性毒性値はいずれも2g/kg以上
であった。
実施例1,2,6,7,10,11 (2)抗菌力 MIC(μg/ml)は寒天平板法〔ケモテラピー(Chemoth
erapy)第29巻,76〜79頁,1981年〕にて測定した。接種
菌量は106CFU/mlである。
erapy)第29巻,76〜79頁,1981年〕にて測定した。接種
菌量は106CFU/mlである。
対照薬としてCAZ(セフタジジム),CTM(セフォチア
ム)を選んだ。
ム)を選んだ。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 町田 善正 茨城県新治郡桜村下広岡500―81 (72)発明者 野本 誠一郎 茨城県稲敷郡牛久町刈谷1―134―2 (72)発明者 勝 鎌政 茨城県筑波郡谷田部町小白硲672―165 (72)発明者 山内 博 茨城県新治郡桜村下広岡500―105 審査官 池田 正人
Claims (8)
- 【請求項1】一般式: 〔式中、R1はシアノ置換低級アルキル基,Aは環状または
非環状アンモニオ基を示す〕で表わされる3−プロペニ
ル−3−セフェム誘導体またはその非毒性塩。 - 【請求項2】R1がシアノメチル基である特許請求の範囲
第1項記載の化合物。 - 【請求項3】Aが次の非環状アンモニオ基: 〔式中,R2,R3およびR4は同一または異なり,低級アル
キル基,ヒドロキシ置換低級アルキル基,カルバモイル
置換低級アルキル基,ヒドロキシおよびカルバモイル置
換低級アルキル基,オキソ置換低級アルキル基,オキサ
ジアゾリル置換低級アルキル基から選択される基を示
す〕か,またはAが次の環状アンモニオ基: 〔式中,R5は低級アルキル基を示し,該環状アンモニオ
基は,さらにその環上に低級アルキル基,スルファモイ
ル基,カルバモイル基,ヒドロキシ基,ヒドロキシ置換
低級アルキル基から選ばれる置換基を有していてもよ
い〕で表わされる特許請求の範囲第1項または第2項記
載の3−プロペニル−3−セフェム誘導体またはその非
毒性塩。 - 【請求項4】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チア
ジアゾール−3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシ
イミノアセトアミド〕−3−〔(E)−3−〔(2−オ
キソプロピル)ジメチルアンモニオ〕−1−プロペン−
1−イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレートであ
る特許請求の範囲第3項記載の化合物。 - 【請求項5】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チア
ジアゾール−3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシ
イミノアセトアミド〕−3−〔(E)−3−〔(1S−カ
ルバモイルエチル)ジメチルアンモニオ〕−1−プロペ
ン−1−イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート
である特許請求の範囲第3項記載の化合物。 - 【請求項6】7β−〔2−(5−アミノ−1,2,4−チア
ジアゾール−3−イル)−(Z)−2−シアノメトキシ
イミノアセトアミド〕−3−〔(E)−3−〔(1R−カ
ルバモイルエチル)ジメチルアンモニオ〕−1−プロペ
ン−1−イル〕−3−セフェム−4−カルボキシレート
である特許請求の範囲第3項記載の化合物。 - 【請求項7】一般式: 〔式中,R1はシアノ置換低級アルキル基,Aは環状または
非環状アンモニオ基を示す〕で表わされる3−プロペニ
ルセフェム誘導体またはその非毒性塩の製造において,
一般式: 〔式中,R1は前記の定義に同じ,Xはハロゲン原子を示
す〕で表わされる化合物,そのアミノ基およびまたはカ
ルボキシル基が保護基で保護された化合物,またはそれ
らの化合物の塩に式: A′ 〔A′は前記のAに対応するアミンを示す〕で表わされ
る化合物,その官能基が保護基で保護された化合物,ま
たはそれらの化合物の塩を反応させ,必要により保護基
を脱離することを特徴とする製造方法。 - 【請求項8】一般式: 〔式中,R1はシアノ置換低級アルキル基,Aは環状または
非環状アンモニオ基を示す〕で表わされる3−プロペニ
ルセフェム誘導体またはその非毒性塩からなる抗菌剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP62254777A JPH0830068B2 (ja) | 1986-10-13 | 1987-10-12 | 3−プロペニル−3−セフェム誘導体 |
Applications Claiming Priority (5)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP24148086 | 1986-10-13 | ||
| JP61-241480 | 1986-10-13 | ||
| JP22214787 | 1987-09-07 | ||
| JP62-222147 | 1987-09-07 | ||
| JP62254777A JPH0830068B2 (ja) | 1986-10-13 | 1987-10-12 | 3−プロペニル−3−セフェム誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH01156983A JPH01156983A (ja) | 1989-06-20 |
| JPH0830068B2 true JPH0830068B2 (ja) | 1996-03-27 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP62254777A Expired - Fee Related JPH0830068B2 (ja) | 1986-10-13 | 1987-10-12 | 3−プロペニル−3−セフェム誘導体 |
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| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0830068B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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-
1987
- 1987-10-12 JP JP62254777A patent/JPH0830068B2/ja not_active Expired - Fee Related
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| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH01156983A (ja) | 1989-06-20 |
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