JPH085910B2 - 16α―メチル化方法 - Google Patents
16α―メチル化方法Info
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- JPH085910B2 JPH085910B2 JP62503197A JP50319787A JPH085910B2 JP H085910 B2 JPH085910 B2 JP H085910B2 JP 62503197 A JP62503197 A JP 62503197A JP 50319787 A JP50319787 A JP 50319787A JP H085910 B2 JPH085910 B2 JP H085910B2
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- C07J—STEROIDS
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- C07J5/0046—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms, e.g. pregnane and substituted in position 21 by only one singly bound oxygen atom, i.e. only one oxygen bound to position 21 by a single bond substituted in position 17 alfa
- C07J5/0061—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms, e.g. pregnane and substituted in position 21 by only one singly bound oxygen atom, i.e. only one oxygen bound to position 21 by a single bond substituted in position 17 alfa substituted in position 16
- C07J5/0069—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms, e.g. pregnane and substituted in position 21 by only one singly bound oxygen atom, i.e. only one oxygen bound to position 21 by a single bond substituted in position 17 alfa substituted in position 16 by a saturated or unsaturated hydrocarbon group
- C07J5/0076—Normal steroids containing carbon, hydrogen, halogen or oxygen, substituted in position 17 beta by a chain of two carbon atoms, e.g. pregnane and substituted in position 21 by only one singly bound oxygen atom, i.e. only one oxygen bound to position 21 by a single bond substituted in position 17 alfa substituted in position 16 by a saturated or unsaturated hydrocarbon group by an alkyl group
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- C07J71/00—Steroids in which the cyclopenta(a)hydrophenanthrene skeleton is condensed with a heterocyclic ring
- C07J71/0005—Oxygen-containing hetero ring
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- C07J71/0015—Oxiranes at position 9(11)
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- Steroid Compounds (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 発明の背景 16α−メチル基を有するコルチコイドが、有用な抗炎
症薬であることは知られている。これらは、デキサメタ
ゾン(9α−フルオロ−11β,17α,21−トリヒドロキシ
−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオ
ン)、フルメタゾン6α,9α−ジフルオロ−11β,17α,
21−トリヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジ
エン−3,20−ジオン)およびパラメタゾン(6α−フル
オロ−11β,17α,21−トリヒドロキシ−16α−メチルプ
レグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオン)を包含する。
症薬であることは知られている。これらは、デキサメタ
ゾン(9α−フルオロ−11β,17α,21−トリヒドロキシ
−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオ
ン)、フルメタゾン6α,9α−ジフルオロ−11β,17α,
21−トリヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジ
エン−3,20−ジオン)およびパラメタゾン(6α−フル
オロ−11β,17α,21−トリヒドロキシ−16α−メチルプ
レグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオン)を包含する。
16−不飽和コルチコイド(I)出発物質は公知であ
る。米国特許第2864834号、第3210341号、第3839369
号、第4031080号および第4277409号参照。
る。米国特許第2864834号、第3210341号、第3839369
号、第4031080号および第4277409号参照。
グリニャール試薬を用い、16−不飽和プレグナンを16
α−メチルプレグナンに変形することが知られている。
銅塩触媒の存在下、メチルグリニャール試薬の手段によ
る16−不飽和−20−ケトステロイドへの16α−メチル基
の共役付加はよく知られている。オーガニック・リアク
ションズ・イン・ステロイド・ケミストリイ(Organic
Reactions in Steroid Chemistry)、Vol.II、ジェイ・
フリードおよびジェイ・エイ・エドワード(J.Friedお
よびJ.A.Edwards)、ヴァン・ノストランド・レインホ
ールド社(Van Nostrand Reinhold Co.)、ニューヨー
ク、1972、75頁参照。このような反応の生成物は16α−
メチル−Δ17(20)−20−エノラートであり、フリードに
よればそれは20−酢酸エステルとしてトラップしうる、
76頁参照。付加は約1:1の割合で1,2または1,4となりう
るが、塩化第1銅の添加により90%よりかなり大きな収
率で独占的に1,4−付加を得る。
α−メチルプレグナンに変形することが知られている。
銅塩触媒の存在下、メチルグリニャール試薬の手段によ
る16−不飽和−20−ケトステロイドへの16α−メチル基
の共役付加はよく知られている。オーガニック・リアク
ションズ・イン・ステロイド・ケミストリイ(Organic
Reactions in Steroid Chemistry)、Vol.II、ジェイ・
フリードおよびジェイ・エイ・エドワード(J.Friedお
よびJ.A.Edwards)、ヴァン・ノストランド・レインホ
ールド社(Van Nostrand Reinhold Co.)、ニューヨー
ク、1972、75頁参照。このような反応の生成物は16α−
メチル−Δ17(20)−20−エノラートであり、フリードに
よればそれは20−酢酸エステルとしてトラップしうる、
76頁参照。付加は約1:1の割合で1,2または1,4となりう
るが、塩化第1銅の添加により90%よりかなり大きな収
率で独占的に1,4−付加を得る。
米国特許第3231568号(ジュリアン)(JULIAN)は、1
6−不飽和プロゲステロンの対応する17α−ヒドロキシ
−16α−メチルプロゲステロンへの変形を開示してい
る。しかし、ジュリアンのプレグナンは、ステロイドA
−環が3,5−シクロであるため、Δ4−3−ケトンまた
はΔ1,4−3−ケトン形の別のα/β−不飽和ケトンを
有さなかった。加えて、本発明の方法は、グリニャール
反応に対して鋭敏であり、かつ加水分解できる21−アシ
レートを用いるが、ジュリアンはC21反応性を有しない
プロゲステロンを開示していた。ジュリアンのC環は置
換基を含有せず、したがって酸化反応条件に対して鋭敏
ではなかった。さらなる違いは、ジュリアンは酢酸エス
テルでトラップし、ジュリアンのエノール酢酸エステル
は、本願方法の緩和な過酸条件に対して反応的ではな
く、そのため所望の17,20−エポキシド(III)を形成し
ないことである。
6−不飽和プロゲステロンの対応する17α−ヒドロキシ
−16α−メチルプロゲステロンへの変形を開示してい
る。しかし、ジュリアンのプレグナンは、ステロイドA
−環が3,5−シクロであるため、Δ4−3−ケトンまた
はΔ1,4−3−ケトン形の別のα/β−不飽和ケトンを
有さなかった。加えて、本発明の方法は、グリニャール
反応に対して鋭敏であり、かつ加水分解できる21−アシ
レートを用いるが、ジュリアンはC21反応性を有しない
プロゲステロンを開示していた。ジュリアンのC環は置
換基を含有せず、したがって酸化反応条件に対して鋭敏
ではなかった。さらなる違いは、ジュリアンは酢酸エス
テルでトラップし、ジュリアンのエノール酢酸エステル
は、本願方法の緩和な過酸条件に対して反応的ではな
く、そのため所望の17,20−エポキシド(III)を形成し
ないことである。
米国特許第4031080号(パラジノ)(PALLADINO)は共
役付加反応用に銅を用いるが、ジュリアンが教授するよ
うに、所望の17,20−エポキシド(III)を生成する本発
明の緩和および選択的過酸反応条件に対して非反応的で
あるエノール酢酸エステルを生成する。パラジノは17α
−ヒドロキシ−16α−メチルコルチコイドではなく、17
α−ブロモ−16α−メチルコルチコイドを生成する。
役付加反応用に銅を用いるが、ジュリアンが教授するよ
うに、所望の17,20−エポキシド(III)を生成する本発
明の緩和および選択的過酸反応条件に対して非反応的で
あるエノール酢酸エステルを生成する。パラジノは17α
−ヒドロキシ−16α−メチルコルチコイドではなく、17
α−ブロモ−16α−メチルコルチコイドを生成する。
本発明の方法は所望の17α−ヒドロキシル基を導入す
るが、米国特許第4277409号(ワーナント)(WARNANT)
は必須の17α−ヒドロキシル基を挿入しないで、16−不
飽和−21−酢酸エステルを16α−メチル−21−酢酸エス
テルに変形する。
るが、米国特許第4277409号(ワーナント)(WARNANT)
は必須の17α−ヒドロキシル基を挿入しないで、16−不
飽和−21−酢酸エステルを16α−メチル−21−酢酸エス
テルに変形する。
英国特許第2001990号は、16−不飽和コルチコイドを
銅触媒メチルグリニャールでメチル化し、16α−メチル
−Δ17(20)−20−臭化マグネシウム)エノラートを得、
つづいて酸化により17α−ヒドロ−ペルオキサイドに変
え、それを対応する16α−メチル−17α,21−ジヒドロ
キシ−20−オン21−酢酸エステルに還元することによ
り、16−不飽和コルチコイド(I)を対応する16α−メ
チルコルチコイド(V)に変形する方法を開示してい
る。本発明の方法は17α−ヒドロペルオキサイドを生成
するのではなく、むしろ、17α,20−エポキシド(III)
中間体を利用している。
銅触媒メチルグリニャールでメチル化し、16α−メチル
−Δ17(20)−20−臭化マグネシウム)エノラートを得、
つづいて酸化により17α−ヒドロ−ペルオキサイドに変
え、それを対応する16α−メチル−17α,21−ジヒドロ
キシ−20−オン21−酢酸エステルに還元することによ
り、16−不飽和コルチコイド(I)を対応する16α−メ
チルコルチコイド(V)に変形する方法を開示してい
る。本発明の方法は17α−ヒドロペルオキサイドを生成
するのではなく、むしろ、17α,20−エポキシド(III)
中間体を利用している。
米国特許第3072686号(ウェットスタイン)(WETTSTE
IN)は、16−不飽和プロゲステロンをグリニャール試薬
および塩化第1銅と反応させることにより、16−不飽和
プロゲステロンの17α−ヒドロキシ−16α−メチルプロ
ゲステロンへの変形を開示している。ウェットスタイン
は、本願方法の緩和および選択的過酸条件に対して反応
的ではなく、その為所望の17,20−エポキシド(III)を
形成しないΔ17(20)−20−エノール酢酸エステルを生成
する。
IN)は、16−不飽和プロゲステロンをグリニャール試薬
および塩化第1銅と反応させることにより、16−不飽和
プロゲステロンの17α−ヒドロキシ−16α−メチルプロ
ゲステロンへの変形を開示している。ウェットスタイン
は、本願方法の緩和および選択的過酸条件に対して反応
的ではなく、その為所望の17,20−エポキシド(III)を
形成しないΔ17(20)−20−エノール酢酸エステルを生成
する。
ジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサイエ
ティ、80、4428(J.Am.Chem.Soc.)、80、3160(1958)
およびジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサ
イエティ、80、4428(1958)は両方共、グリニャール試
薬を用い、16−不飽和プロゲステロンを16α−メチルプ
ロゲステロンに変形し、つづいて過酸酸化により17α−
ヒドロキシ基を導入し17α−ヒドロキシ−16α−メチル
プロゲステロンを生成することを報告している。17α−
ヒドロキシ−16α−メチルプロゲステロンを臭素化し、
アシル化して21−アセトキシ−17α−ヒドロキシ−16α
−メチルステロイドを形成させる。
ティ、80、4428(J.Am.Chem.Soc.)、80、3160(1958)
およびジャーナル・オブ・アメリカン・ケミカル・ソサ
イエティ、80、4428(1958)は両方共、グリニャール試
薬を用い、16−不飽和プロゲステロンを16α−メチルプ
ロゲステロンに変形し、つづいて過酸酸化により17α−
ヒドロキシ基を導入し17α−ヒドロキシ−16α−メチル
プロゲステロンを生成することを報告している。17α−
ヒドロキシ−16α−メチルプロゲステロンを臭素化し、
アシル化して21−アセトキシ−17α−ヒドロキシ−16α
−メチルステロイドを形成させる。
イー・ジェイ・コリー(E.J.Corey)は、テトラヘド
ロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、26、6019(1
985)、[コリー]において、トラッピング剤(クロロ
トリメチルシラン)の存在下、メチル化剤(リチウムジ
メチル−カペレート)とα,β−エノンとの反応を開示
している。コリーと本特許出願の間の有意な差異は、本
発明は系内でカペレートメチル化剤を生じさせるのに対
して、コリーは予め形成したアルキル・カペレートを用
いたことである。同様に、エイ・アレキサキス(A.Alex
akis)は、テトラヘドロン・レターズ、27、1047(198
6)、[アレキサキス]において、塩化トリメチルシリ
ルの存在下、リチウムアルキル−カペレートと不飽和エ
ステルとの反応を開示しており、アルキル化生成物の増
加した収率を示している。しかし、本発明は系内でカペ
レートメチル化剤を生じさせるのに対して、コリー同様
アレキサキスもまた予め成形したカペレートを用いてい
る。
ロン・レターズ(Tetrahedron Letters)、26、6019(1
985)、[コリー]において、トラッピング剤(クロロ
トリメチルシラン)の存在下、メチル化剤(リチウムジ
メチル−カペレート)とα,β−エノンとの反応を開示
している。コリーと本特許出願の間の有意な差異は、本
発明は系内でカペレートメチル化剤を生じさせるのに対
して、コリーは予め形成したアルキル・カペレートを用
いたことである。同様に、エイ・アレキサキス(A.Alex
akis)は、テトラヘドロン・レターズ、27、1047(198
6)、[アレキサキス]において、塩化トリメチルシリ
ルの存在下、リチウムアルキル−カペレートと不飽和エ
ステルとの反応を開示しており、アルキル化生成物の増
加した収率を示している。しかし、本発明は系内でカペ
レートメチル化剤を生じさせるのに対して、コリー同様
アレキサキスもまた予め成形したカペレートを用いてい
る。
米国特許第3700660号は、強酸使用による20−アシロ
キシ−17,20−エポキシステロイドの17α−アシロキシ
−20−ケトステロイドへの変換方法を開示している。本
願発明の方法が20−シリルを用いている所で、米国特許
第3700660号(ヘムペル)(HEMPEL)は20−酢酸エステ
ルを用いている。この有意性は、本発明のΔ17(20)−20
−エノールシラン(II)がヘムペルの対応する20−アシ
レートよりもかなり反応性であり、ヘムペルの20−アシ
レートが非・官能性のステロイドに限定されるのに対
し、Δ17(20)−20−エノールシラン(II)がΔ4−3−
ケト、Δ1,4−3−ケト、Δ9(11)−等のような他の二重
結合を有するステロイドにおけるΔ17(20)二重結合のエ
ポキシ化を可能にすることにある。
キシ−17,20−エポキシステロイドの17α−アシロキシ
−20−ケトステロイドへの変換方法を開示している。本
願発明の方法が20−シリルを用いている所で、米国特許
第3700660号(ヘムペル)(HEMPEL)は20−酢酸エステ
ルを用いている。この有意性は、本発明のΔ17(20)−20
−エノールシラン(II)がヘムペルの対応する20−アシ
レートよりもかなり反応性であり、ヘムペルの20−アシ
レートが非・官能性のステロイドに限定されるのに対
し、Δ17(20)−20−エノールシラン(II)がΔ4−3−
ケト、Δ1,4−3−ケト、Δ9(11)−等のような他の二重
結合を有するステロイドにおけるΔ17(20)二重結合のエ
ポキシ化を可能にすることにある。
米国特許第3513163号および第4036831号は、各々、C
21およびC11トリメチル−シロキシエーテルを開示して
いる。置換基がアシル基またはグリニャール置換基(−
Mg−X)であるΔ17(20)−20−O−置換ステロイドが知
られている。米国特許第3072686号、第3231568号および
第4031080号参照。開示されているが、このMg−X置換
化合物は単離できない。
21およびC11トリメチル−シロキシエーテルを開示して
いる。置換基がアシル基またはグリニャール置換基(−
Mg−X)であるΔ17(20)−20−O−置換ステロイドが知
られている。米国特許第3072686号、第3231568号および
第4031080号参照。開示されているが、このMg−X置換
化合物は単離できない。
米国特許第3876633号において、20−O−置換基がア
シル基である17α,20−エポキシ−16α−メチル−20−
O−置換ステロイドが開示されている。請求の範囲第9
項参照。
シル基である17α,20−エポキシ−16α−メチル−20−
O−置換ステロイドが開示されている。請求の範囲第9
項参照。
Δ9(11)、16−ジエンにおいて、Δ16二重結合に優先
するΔ9(11)二重結合の選択的エホキシ化が、米国特許
第3876633号に示されている。米国特許第3876633号は、
A環が還元されている9β,11β−エポキシ−Δ16−ス
テロイドを開示している。9β,11β−エポキシ−6α
−フルオロ−21−ヒドロキシプレグナ−1,4,16−トリエ
ン−3,20−ジオン21−酢酸エステルが米国特許第321034
1号、実施例9(b)に開示されている。
するΔ9(11)二重結合の選択的エホキシ化が、米国特許
第3876633号に示されている。米国特許第3876633号は、
A環が還元されている9β,11β−エポキシ−Δ16−ス
テロイドを開示している。9β,11β−エポキシ−6α
−フルオロ−21−ヒドロキシプレグナ−1,4,16−トリエ
ン−3,20−ジオン21−酢酸エステルが米国特許第321034
1号、実施例9(b)に開示されている。
米国特許第4036831号は、連続反応の間、トリメチル
シリルでステロイドの11β−ヒドロキシル基を保護する
方法および40〜60%水性フッ化水素を用いる加水分解に
よりトリメチルシリル基の連続除去を開示している。
シリルでステロイドの11β−ヒドロキシル基を保護する
方法および40〜60%水性フッ化水素を用いる加水分解に
よりトリメチルシリル基の連続除去を開示している。
発明の要約 Δ17(20)−ステロイド(IIA-C)、17α,20−エポキシ
ド(IIIA-C)および17α−シリルエーテル(IVA-C)が
開示されている。さらに、16−不飽和コルチコイド(IA
-C)で出発し、(1)銅触媒の存在下、16−不飽和コル
チコイド(IA-C)をメチル化剤と接触させ、(2)工程
(1)の生成物をシリル化剤と接触させることを特徴と
するΔ17(20)−ステロイド(IIA-C)の製造方法が開示
されている。
ド(IIIA-C)および17α−シリルエーテル(IVA-C)が
開示されている。さらに、16−不飽和コルチコイド(IA
-C)で出発し、(1)銅触媒の存在下、16−不飽和コル
チコイド(IA-C)をメチル化剤と接触させ、(2)工程
(1)の生成物をシリル化剤と接触させることを特徴と
するΔ17(20)−ステロイド(IIA-C)の製造方法が開示
されている。
また、Δ17(20)−ステロイド(IIA-C)から開始し、
それを過酸と接触させることを特徴とする17α,20−エ
ポキシド(IIIA-C)の製造方法も開示されている。
それを過酸と接触させることを特徴とする17α,20−エ
ポキシド(IIIA-C)の製造方法も開示されている。
別法として、16−不飽和コルチコイド(IA-C)から開
始し、銅触媒およびシリル化剤の存在下、16−不飽和コ
ルチコイド(IA-C)をメチル化剤と接触させることを特
徴とするΔ17(20)−ステロイド(IIA-C)の製造方法も
開示されている。
始し、銅触媒およびシリル化剤の存在下、16−不飽和コ
ルチコイド(IA-C)をメチル化剤と接触させることを特
徴とするΔ17(20)−ステロイド(IIA-C)の製造方法も
開示されている。
発明の詳説 16−不飽和コルチコイド(IA-C)出発物質は当業者に
よく知られており、または当業者によく知られた方法に
より公知のステロイドから容易に製造できる。例えば、
米国特許第2773080号、第2864834号、第3210341号、第3
441559号、第3461144号、第3493563号、第3839369号、
第4031080号および第4277409号参照。
よく知られており、または当業者によく知られた方法に
より公知のステロイドから容易に製造できる。例えば、
米国特許第2773080号、第2864834号、第3210341号、第3
441559号、第3461144号、第3493563号、第3839369号、
第4031080号および第4277409号参照。
本願発明の方法において、Δ4−3−ケト(A)、Δ
1,43−ケト(B)および3β−ヒドロキシ−Δ5−
(C)ステロイドのC3反応基を保護する必要はない。3
β−ヒドロキシ−Δ5−(C)ステロイドは、シリルエ
ーテル(Cb)、エーテル(Cc)またはエステル(Cd)と
して保護したそのC3−ヒドロキシル基(Ca)を有しう
る。チャートC参照。遊離ヒドロキシル基(Ca)は、当
業者によく知られるようにエーテル(Cc)またはエステ
ル(Cd)として保護しうる。プロテクティブ・グループ
ス・イン・オーガニック・シンセシス(Protective Gro
ups in Organic Synthesis)、テオドラ・ダブリュー・
グリーン(Theodora W.Greene)、ウィリー&サンズ(W
iley & Sons)、ニューヨーク、1981参照。エーテル
(Cc)は、当業者によく知られた方法により製造され
る。ステロイド・リアクションズ(Steroid Reaction
s)、カール・ジェラッシー(Carl Djerassi)編、ホー
ルデン−デイ(Holden-Day)、サンフランシスコ、196
7、76〜82頁参照。遊離3β−ヒドロキシル基(Ca)
が、シリル化反応の間、エーテル(Cc)またはエステル
(Cd)として保護されていない場合、該遊離ヒドロキシ
ル基がシリル化され、シリルエーテル(Cb)を形成す
る。シリル化反応の間、3β−ヒドロキシル基が遊離
し、シリル化される場合、さらに1当量のグリニャール
およびシリル化剤が消費される。C3保護基は容易に除去
され、C3保護形(Cb、CcおよびCd)を(AおよびC)に
変えるため、C3保護形の3β−ヒドロキシステロイド
(C)は、各々、非保護または遊離形(C)に等しいと
考えられる。保護基は、17α,20−エポキシドの加水分
解(酸または塩基)まで残存させる。酸加水分解を行
い、かつC3保護基が酸不安定である(CbおよびCc)場
合、C3保護基は除去される。同様に、塩基加水分解を行
い、かつC3保護基が塩基鋭敏である(Cd)場合、C3保護
基は除去される。C3保護基が加水分解剤に対して鋭敏で
ない場合、C3保護のステロイドを適当な試剤で処理し、
C3保護基を除去しなければならない。
1,43−ケト(B)および3β−ヒドロキシ−Δ5−
(C)ステロイドのC3反応基を保護する必要はない。3
β−ヒドロキシ−Δ5−(C)ステロイドは、シリルエ
ーテル(Cb)、エーテル(Cc)またはエステル(Cd)と
して保護したそのC3−ヒドロキシル基(Ca)を有しう
る。チャートC参照。遊離ヒドロキシル基(Ca)は、当
業者によく知られるようにエーテル(Cc)またはエステ
ル(Cd)として保護しうる。プロテクティブ・グループ
ス・イン・オーガニック・シンセシス(Protective Gro
ups in Organic Synthesis)、テオドラ・ダブリュー・
グリーン(Theodora W.Greene)、ウィリー&サンズ(W
iley & Sons)、ニューヨーク、1981参照。エーテル
(Cc)は、当業者によく知られた方法により製造され
る。ステロイド・リアクションズ(Steroid Reaction
s)、カール・ジェラッシー(Carl Djerassi)編、ホー
ルデン−デイ(Holden-Day)、サンフランシスコ、196
7、76〜82頁参照。遊離3β−ヒドロキシル基(Ca)
が、シリル化反応の間、エーテル(Cc)またはエステル
(Cd)として保護されていない場合、該遊離ヒドロキシ
ル基がシリル化され、シリルエーテル(Cb)を形成す
る。シリル化反応の間、3β−ヒドロキシル基が遊離
し、シリル化される場合、さらに1当量のグリニャール
およびシリル化剤が消費される。C3保護基は容易に除去
され、C3保護形(Cb、CcおよびCd)を(AおよびC)に
変えるため、C3保護形の3β−ヒドロキシステロイド
(C)は、各々、非保護または遊離形(C)に等しいと
考えられる。保護基は、17α,20−エポキシドの加水分
解(酸または塩基)まで残存させる。酸加水分解を行
い、かつC3保護基が酸不安定である(CbおよびCc)場
合、C3保護基は除去される。同様に、塩基加水分解を行
い、かつC3保護基が塩基鋭敏である(Cd)場合、C3保護
基は除去される。C3保護基が加水分解剤に対して鋭敏で
ない場合、C3保護のステロイドを適当な試剤で処理し、
C3保護基を除去しなければならない。
16−不飽和コルチコイド(IA-C)は、Δ4−3−ケト
(A)またはΔ1,4−3−ケト(B)コルチコイド、さ
らに好ましくはΔ1,4−3−ケト(B)コルチコイドで
あることが好ましい。16−不飽和コルチコイドは、C−
環Δ9(11)または9β,11β−エポキシを有することが好
ましい。C−環は、9β,11β−エポキシであることが
さらに好ましい。R6は水素またはフッ素原子であること
が好ましく、R6は水素原子であることがさらに好まし
い。
(A)またはΔ1,4−3−ケト(B)コルチコイド、さ
らに好ましくはΔ1,4−3−ケト(B)コルチコイドで
あることが好ましい。16−不飽和コルチコイドは、C−
環Δ9(11)または9β,11β−エポキシを有することが好
ましい。C−環は、9β,11β−エポキシであることが
さらに好ましい。R6は水素またはフッ素原子であること
が好ましく、R6は水素原子であることがさらに好まし
い。
C−環はΔ9(11)または9β,11β−エポキシであるこ
とが好ましいが、Δ16二重結合にメチル基をグリニャー
ル付加する前に、C−環を所望の9α−フルオロ−11β
−ヒドロキシ反応基に変えることができる。この操作を
行う場合、11β−ヒドロキシ基は当業者によく知られる
ように保護しなければならない。例えば、保護基がトリ
メチルシリルである米国特許第4036831号参照。所望の1
6α−メチルコルチコイドを形成した後、(トリメチル
シリル)保護基を当業者によく知られる方法により除去
する。例えば、米国特許第4036831号参照。
とが好ましいが、Δ16二重結合にメチル基をグリニャー
ル付加する前に、C−環を所望の9α−フルオロ−11β
−ヒドロキシ反応基に変えることができる。この操作を
行う場合、11β−ヒドロキシ基は当業者によく知られる
ように保護しなければならない。例えば、保護基がトリ
メチルシリルである米国特許第4036831号参照。所望の1
6α−メチルコルチコイドを形成した後、(トリメチル
シリル)保護基を当業者によく知られる方法により除去
する。例えば、米国特許第4036831号参照。
メチルグリニャールのようなメチル化剤の16−不飽和
ステロイドに対する共役付加により、対応する16α−メ
チルコルチコイドが得られることは公知である。オーガ
ニック・リアクションズ・イン・ステロイド・ケミスト
リイ、Vol.II、ジェイ・フリードおよびジェイ・エイ・
エドワーズ(J.FriodおよびJ.A.Eswards)、75頁、およ
び米国特許第3072686号参照。
ステロイドに対する共役付加により、対応する16α−メ
チルコルチコイドが得られることは公知である。オーガ
ニック・リアクションズ・イン・ステロイド・ケミスト
リイ、Vol.II、ジェイ・フリードおよびジェイ・エイ・
エドワーズ(J.FriodおよびJ.A.Eswards)、75頁、およ
び米国特許第3072686号参照。
その後またはトラッピング(シレーティング)(Sila
ting)剤の存在下、16−不飽和コルチコイド(I)をメ
チル化剤と反応させ、エノールシランΔ17(20)−ステロ
イド(II)を得る。16−不飽和コルチコイド(I)をメ
チル化剤と反応させた後、トラッピング剤を添加するよ
りもむしろ、トラッピング剤の存在下、16−不飽和コル
チコイド(I)をメチル化剤と反応させることが好まし
い。メチル化剤は、CH3Cu、(CH3)2CuMまたはCH3MgQお
よび触媒量の銅(第2銅)塩からなる群より選択され
る。好ましいメチル化剤は、メチルグリニャール、好ま
しくは塩化メチルマグネシウムである。銅塩は、塩化、
臭化、ヨウ化またはシアン化第1銅のごとき第1銅塩、
または塩化第2銅、酢酸第2銅、プロピオン酸第2銅の
ごとき第2銅塩またはその錯体であってもよい。銅錯体
の例として、ジメチルスルフィド臭化第1銅、トリス−
n−ブチルホスフィン塩化第1銅およびアセチルアセト
ン第1銅が挙げられる。銅錯体の性質は限定されていな
い。何百(または何千)の銅錯体が知られており、それ
らは前記の錯体と均等であると考えられる。酢酸または
プロピオン酸第2銅が好ましく、プロピオン酸第2銅が
さらに好ましい。加えて、前記触媒と均等であると考え
られる触媒が当業者によく知られている。例えば、アル
ファーカタログ(Alfa Catalog)、1983〜1984、モルト
ン・チオコール社(Morton Thiokol,Inc.)、アルファ
ー・プロダクツ(Alpha Products)、マサチューセッツ
州01923、ダンバース・アンドバー・ストリート・152
番、ピー・オー・ボックス299(P.O.Box 299、152 Ando
ver Street、Danvers、Mass 01923)参照。物理的容易
性に基づき、プロピオン酸第2銅を前もって溶解させる
ことが好ましい。メチル化反応に適した溶媒は、THF、
t−ブチルメチルエーテルまたはジメトキシエタンから
なる群より選択された溶媒を包含する。反応は、約−50
℃から20℃の範囲、好ましくは約−20℃で行なわれる。
TLCが、出発物質が残っていないことを示す場合(エノ
ラート中間体の形成の可能性を示す)、シリル化剤を加
え、得られた生成物はΔ17(20)ステロイド(II)であ
る。シリル化剤を加えた後、反応温度を約−25℃ないし
約25℃の範囲、好ましくは約0℃に保持する。グリニャ
ール反応混合物を濾過し、残りの銅が過酸反応に参入す
ることを防止することが好ましい。
ting)剤の存在下、16−不飽和コルチコイド(I)をメ
チル化剤と反応させ、エノールシランΔ17(20)−ステロ
イド(II)を得る。16−不飽和コルチコイド(I)をメ
チル化剤と反応させた後、トラッピング剤を添加するよ
りもむしろ、トラッピング剤の存在下、16−不飽和コル
チコイド(I)をメチル化剤と反応させることが好まし
い。メチル化剤は、CH3Cu、(CH3)2CuMまたはCH3MgQお
よび触媒量の銅(第2銅)塩からなる群より選択され
る。好ましいメチル化剤は、メチルグリニャール、好ま
しくは塩化メチルマグネシウムである。銅塩は、塩化、
臭化、ヨウ化またはシアン化第1銅のごとき第1銅塩、
または塩化第2銅、酢酸第2銅、プロピオン酸第2銅の
ごとき第2銅塩またはその錯体であってもよい。銅錯体
の例として、ジメチルスルフィド臭化第1銅、トリス−
n−ブチルホスフィン塩化第1銅およびアセチルアセト
ン第1銅が挙げられる。銅錯体の性質は限定されていな
い。何百(または何千)の銅錯体が知られており、それ
らは前記の錯体と均等であると考えられる。酢酸または
プロピオン酸第2銅が好ましく、プロピオン酸第2銅が
さらに好ましい。加えて、前記触媒と均等であると考え
られる触媒が当業者によく知られている。例えば、アル
ファーカタログ(Alfa Catalog)、1983〜1984、モルト
ン・チオコール社(Morton Thiokol,Inc.)、アルファ
ー・プロダクツ(Alpha Products)、マサチューセッツ
州01923、ダンバース・アンドバー・ストリート・152
番、ピー・オー・ボックス299(P.O.Box 299、152 Ando
ver Street、Danvers、Mass 01923)参照。物理的容易
性に基づき、プロピオン酸第2銅を前もって溶解させる
ことが好ましい。メチル化反応に適した溶媒は、THF、
t−ブチルメチルエーテルまたはジメトキシエタンから
なる群より選択された溶媒を包含する。反応は、約−50
℃から20℃の範囲、好ましくは約−20℃で行なわれる。
TLCが、出発物質が残っていないことを示す場合(エノ
ラート中間体の形成の可能性を示す)、シリル化剤を加
え、得られた生成物はΔ17(20)ステロイド(II)であ
る。シリル化剤を加えた後、反応温度を約−25℃ないし
約25℃の範囲、好ましくは約0℃に保持する。グリニャ
ール反応混合物を濾過し、残りの銅が過酸反応に参入す
ることを防止することが好ましい。
本発明において、エノラート中間体は、トラッピング
(シリル化)剤でトラップされ、Δ17(20)−20−(置換
シリル)生成物を得る。使用可能なシリル化剤は、
(R20)3−Si−E、ビストリメチルシリルアセトアミドを
包含する。シリル化剤は式(R20)3−Si−E、さらに好ま
しくは塩化トリメチルシリルであることが好ましい。前
記シリル化剤と均等であると考えられるシリル化剤もま
た当業者によく知られている。例えば、シリコーン・コ
ンパウンド(Silicon Compounds)、ペトラーチ・シス
テム社(Petrarch System,Inc.)、ペンシルヴェニア州
19007、バートラム・アールディ・ブリストール(Bartr
am Rd.Bristol、PA 19007)参照。シリル化剤は、エノ
ラートを形成する間に存在させるかまたはエノラートを
形成した後に加えてもよいが、シリル化剤はエノラート
を形成する際に存在することが好ましい。エノラート中
間体をトラップし、Δ17(20)−20−(アセテート)を得
ることが知られている。米国特許第4031080号およびオ
ーガニック・リアクションズ・イン・ステロイド・ケミ
ストリイ、Vol.II、前記、76頁参照。これらのエノール
アシレートは、非常に非反応性であり、Δ9(11)のごと
きA、B、C−環反応性を制して選択的に反応すること
ができない。しかし、驚くべきことに、かつ意外にも、
Δ17(20)−20−(置換シリル)誘導体(II)は十分に反
応性を有し、A、B、C−環における他の反応性に影響
を及ぼすことなく親電子試薬と反応する。
(シリル化)剤でトラップされ、Δ17(20)−20−(置換
シリル)生成物を得る。使用可能なシリル化剤は、
(R20)3−Si−E、ビストリメチルシリルアセトアミドを
包含する。シリル化剤は式(R20)3−Si−E、さらに好ま
しくは塩化トリメチルシリルであることが好ましい。前
記シリル化剤と均等であると考えられるシリル化剤もま
た当業者によく知られている。例えば、シリコーン・コ
ンパウンド(Silicon Compounds)、ペトラーチ・シス
テム社(Petrarch System,Inc.)、ペンシルヴェニア州
19007、バートラム・アールディ・ブリストール(Bartr
am Rd.Bristol、PA 19007)参照。シリル化剤は、エノ
ラートを形成する間に存在させるかまたはエノラートを
形成した後に加えてもよいが、シリル化剤はエノラート
を形成する際に存在することが好ましい。エノラート中
間体をトラップし、Δ17(20)−20−(アセテート)を得
ることが知られている。米国特許第4031080号およびオ
ーガニック・リアクションズ・イン・ステロイド・ケミ
ストリイ、Vol.II、前記、76頁参照。これらのエノール
アシレートは、非常に非反応性であり、Δ9(11)のごと
きA、B、C−環反応性を制して選択的に反応すること
ができない。しかし、驚くべきことに、かつ意外にも、
Δ17(20)−20−(置換シリル)誘導体(II)は十分に反
応性を有し、A、B、C−環における他の反応性に影響
を及ぼすことなく親電子試薬と反応する。
Δ17(20)−ステロイド(II)は、所望により当業者に
良く知られた手段により単離できる。例えば、実施例1
および8参照。しかし、所望の生成物は16α−メチルコ
ルチコイド(V)であるから、単離する必要はなく、Δ
17(20)−ステロイド(II)を単離しないでむしろ反応を
継続することが好ましい。実施例3〜5、11および12参
照。
良く知られた手段により単離できる。例えば、実施例1
および8参照。しかし、所望の生成物は16α−メチルコ
ルチコイド(V)であるから、単離する必要はなく、Δ
17(20)−ステロイド(II)を単離しないでむしろ反応を
継続することが好ましい。実施例3〜5、11および12参
照。
Δ17(20)−ステロイド(II)を過酸と反応させ、17
α,20−エポキシド(III)を得る。たいていの過酸は使
用可能であるが、好ましい過酸はm−クロロ過安息香
酸、過安息香酸、過酢酸を包含する。過酸反応条件は当
業者によく知られている。過酸反応は、分子の残部にお
けるΔ1、Δ4、またはΔ9(11)反応性に有意に影響を
及ぼさない。実施例2参照。Δ17(20)−ステロイド(I
I)を生成するメチル化反応の間に用いた溶媒を除去
し、トルエン、塩化メチレン、酢酸エチルまたはt−ブ
チルメチルエーテルのような非極性溶媒により置き換え
る。メチル化反応後の残っている無機塩を抽出により除
去する。過酸酸化を約−30℃ないし25℃の温度範囲、好
ましくは約−20℃にて行なう。反応が完了した場合、粉
末チオ硫酸ナトリウムまたは重亜硫酸ナトリウムのよう
な試薬を添加し、過剰の過酸を消失させる。17α,20−
エポキシド(III)が、所望により当業者によく知られ
た手段で単離できる。しかし、所望の生成物は16α−メ
チルコルチコイド(V)であるから、単離する必要はな
く、17α,20−エポキシド(III)を単離しないで、むし
ろ系内で反応を継続することが好ましい。
α,20−エポキシド(III)を得る。たいていの過酸は使
用可能であるが、好ましい過酸はm−クロロ過安息香
酸、過安息香酸、過酢酸を包含する。過酸反応条件は当
業者によく知られている。過酸反応は、分子の残部にお
けるΔ1、Δ4、またはΔ9(11)反応性に有意に影響を
及ぼさない。実施例2参照。Δ17(20)−ステロイド(I
I)を生成するメチル化反応の間に用いた溶媒を除去
し、トルエン、塩化メチレン、酢酸エチルまたはt−ブ
チルメチルエーテルのような非極性溶媒により置き換え
る。メチル化反応後の残っている無機塩を抽出により除
去する。過酸酸化を約−30℃ないし25℃の温度範囲、好
ましくは約−20℃にて行なう。反応が完了した場合、粉
末チオ硫酸ナトリウムまたは重亜硫酸ナトリウムのよう
な試薬を添加し、過剰の過酸を消失させる。17α,20−
エポキシド(III)が、所望により当業者によく知られ
た手段で単離できる。しかし、所望の生成物は16α−メ
チルコルチコイド(V)であるから、単離する必要はな
く、17α,20−エポキシド(III)を単離しないで、むし
ろ系内で反応を継続することが好ましい。
酸または塩基加水分解により、17α,20−エポキシド
(III)を対応する16α−メチルコルチコイド(V)に
変える。塩基を用いる場合、16α−メチルコルチコイド
を21−ヒドロキシ化合物(R21は水素原子)として得
る。酸を用いる場合、16α−メチルコルチコイドは21−
エステル(R21は−CO−R21′)である。適当な塩基加水
分解剤は、低温、アルコール中の水酸化物、炭酸塩、重
炭酸塩、アルコキシド等を包含する。加水分解剤は酸で
あることが好ましい。適当な酸は、p-TSA、硫酸、塩
酸、クエン酸または酢酸のごとき鉱酸および他の十分に
強い酸を包含する。酸加水分解は十分に速く、反応は20
〜25℃にて約1/2時間で完了する。
(III)を対応する16α−メチルコルチコイド(V)に
変える。塩基を用いる場合、16α−メチルコルチコイド
を21−ヒドロキシ化合物(R21は水素原子)として得
る。酸を用いる場合、16α−メチルコルチコイドは21−
エステル(R21は−CO−R21′)である。適当な塩基加水
分解剤は、低温、アルコール中の水酸化物、炭酸塩、重
炭酸塩、アルコキシド等を包含する。加水分解剤は酸で
あることが好ましい。適当な酸は、p-TSA、硫酸、塩
酸、クエン酸または酢酸のごとき鉱酸および他の十分に
強い酸を包含する。酸加水分解は十分に速く、反応は20
〜25℃にて約1/2時間で完了する。
16α−メチルコルチコイド(V)は、当業者によく知
られるように、グルココルチコイド活性を有するアドレ
ノコルチコイド剤であり、抗炎症作用薬として主に有用
である。これらは、デキサメタゾン、フルメタゾンおよ
びパラメタゾンを包含する。最もよく知られた16α−メ
チルコルチコイドの1つがデキサメタゾンである。米国
特許第3375261号および再発行第28369号並びにフィジシ
ャンス・デスク・リファレンス(Physicians Desk Refe
rence)1983、37編、1270〜1283頁参照。
られるように、グルココルチコイド活性を有するアドレ
ノコルチコイド剤であり、抗炎症作用薬として主に有用
である。これらは、デキサメタゾン、フルメタゾンおよ
びパラメタゾンを包含する。最もよく知られた16α−メ
チルコルチコイドの1つがデキサメタゾンである。米国
特許第3375261号および再発行第28369号並びにフィジシ
ャンス・デスク・リファレンス(Physicians Desk Refe
rence)1983、37編、1270〜1283頁参照。
16α−メチルコルチコイド(V)のC−環が、
Δ9(11)または9β,11β−エポキシである場合、当業者
に公知な手段によりそれを薬理学的に活性な9α−フル
オロ−11β−ヒドロキシC−環に容易に変えることがで
きる。
Δ9(11)または9β,11β−エポキシである場合、当業者
に公知な手段によりそれを薬理学的に活性な9α−フル
オロ−11β−ヒドロキシC−環に容易に変えることがで
きる。
定義 以下の定義および説明は、明細書および請求の範囲の
両方を含む特許出願全体を通して用いられる用語につい
てである。
両方を含む特許出願全体を通して用いられる用語につい
てである。
全ての温度は摂氏度である。
TLCは薄層クロマトグラフィーをいう。
THFはテトラヒドロフランをいう。
TMSはトリメチルシリルをいう。
THPはテトラヒドロピラニルをいう。
EEEは(1−エトキシ)エチルエーテル[−O−CH(C
H3)OCH2CH3]をいう。
H3)OCH2CH3]をいう。
p-TSAはp−トルエンスルホン酸モノ水和物をいう。
溶媒対を用いる場合、用いられた溶媒の割合は、容量
/容量(v/v)である。
/容量(v/v)である。
DMSOはジメチルスルホキシドをいう。
UVは紫外線分光学をいう。
NMRは核(プロトン)磁気共鳴分光学をいい、化学シ
フトはテトラメチルシランからの低磁場よりのPPM
(f)において報告される。
フトはテトラメチルシランからの低磁場よりのPPM
(f)において報告される。
[α]D 25は25℃にてナトリウムD線(5893A)を用い
た偏光面の回転の角度(特定の旋光度)をいう。
た偏光面の回転の角度(特定の旋光度)をいう。
デキサメタゾンは9α−フルオロ−11β,17α,21−ト
リヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−
3,20−ジオンをいう。
リヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−
3,20−ジオンをいう。
パラメタゾンは6α−フルオロ−11β,17α,21−トリ
ヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,2
0−ジオンをいう。
ヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,2
0−ジオンをいう。
フルメタゾンは6α,9α−ジフルオロ−11β,17α,21
−トリヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエ
ン−3,20−ジオンをいう。
−トリヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエ
ン−3,20−ジオンをいう。
R3は炭素原子数1〜3のアルキル、TMS、THPまたはEE
E基である。
E基である。
R3′は炭素原子数1〜5のアルキルまたはフェニルで
ある。
ある。
R6は水素またはフッ素原子またはメチル基である。
R9はなしか、水素、フッ素または酸素原子であり、そ
れは、C−環を a)R9がなしの場合、Δ9(11)、および b)R9およびR11が一緒になって酸素原子である場
合、9β,11β−エポキシド にする。
れは、C−環を a)R9がなしの場合、Δ9(11)、および b)R9およびR11が一緒になって酸素原子である場
合、9β,11β−エポキシド にする。
R11は水素または酸素原子、2個の水素原子、または
α−またはβ−ヒドロキシル基またはそのトリメチルシ
リルエーテルであり、それはC−環を、 a)R11が水素原子の場合、Δ9(11)、 b)R9およびR11が一緒になって酸素原子、およびC11お
よびR11の間の が単結合である場合、9β,11β−エポキシド、および c)R11が酸素原子、およびC11およびR11の間 が二重結合である場合、ケトン にする。
α−またはβ−ヒドロキシル基またはそのトリメチルシ
リルエーテルであり、それはC−環を、 a)R11が水素原子の場合、Δ9(11)、 b)R9およびR11が一緒になって酸素原子、およびC11お
よびR11の間の が単結合である場合、9β,11β−エポキシド、および c)R11が酸素原子、およびC11およびR11の間 が二重結合である場合、ケトン にする。
R20は炭素原子数1〜4のアルキルまたはフェニル
で、R20は同一または異なりうる。
で、R20は同一または異なりうる。
R21は水素原子、−CO−R21′またはSi(R121)3であ
る。
る。
R21′は炭素原子数1〜4のアルキルまたはフェニル
である。
である。
R121は炭素原子数1〜4のアルキルまたはフェニル
で、R121は同一または異なりうる。
で、R121は同一または異なりうる。
〜は、結合基がαまたはβ配列のいずれかでありうる
ことを示す。
ことを示す。
は単または二重結合である。
「炭素原子数_〜_のアルキル」なる語を用いた場合、
その異性体が存在するならそのようなものも意味し、包
含する。
その異性体が存在するならそのようなものも意味し、包
含する。
Xは水素原子または無であり;Xが無の場合、C3の は二重結合であり、Xが水素原子の場合、C3の は単結合である。
Mはリチウムまたはマグネシウムイオンである。
Qは塩素、臭素またはヨウ素原子である。
Eは塩素、臭素またはヨウ素原子または−NRαRβで
ある。
ある。
Rαは炭素原子数1〜5のアルキルまたはフェニルで
あり、酸素またはさらに窒素原子と共にまたはなしで環
におけるRβと共に結合または環化してもよい。
あり、酸素またはさらに窒素原子と共にまたはなしで環
におけるRβと共に結合または環化してもよい。
Rβは炭素原子数1〜5のアルキルまたはフェニルで
あり、酸素またはさらに窒素原子と共にまたはなしで環
におけるRαと共に結合または環化してもよい。
あり、酸素またはさらに窒素原子と共にまたはなしで環
におけるRαと共に結合または環化してもよい。
実施例 当業者は、前の記載を利用し、さらに苦心することな
く本発明を最大限に実施しうることが期待できる。以下
の詳細な実施例は、種々の化合物の製造および/または
本発明の種々の方法の実施の仕方を記載しており、単な
る例示として、いかにどのようて場合においても、前の
開示に制限されるものではないと解釈すべきである。当
業者は、反応体についておよび反応条件および技術につ
いて両方の操作から適当な変形を即座に認識するであろ
う。
く本発明を最大限に実施しうることが期待できる。以下
の詳細な実施例は、種々の化合物の製造および/または
本発明の種々の方法の実施の仕方を記載しており、単な
る例示として、いかにどのようて場合においても、前の
開示に制限されるものではないと解釈すべきである。当
業者は、反応体についておよび反応条件および技術につ
いて両方の操作から適当な変形を即座に認識するであろ
う。
実施例1 20,21−ジヒドロキシ−16α−メチルプレグ
ナ−1,4,9(11),17(20)−テトラエン−3−オン20−
トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステル(IIB) 2M THF4.5ml中の塩化メチルマグネシウムを予め−52
℃に冷却した21−ヒドロキシプレグナ−1,4,9(11),16
−テトラエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル2.0g(I
B、米国特許第4031080号)、THF27mlおよび酢酸第2銅
モノ水和物60mgの混合物に、2.5時間にわたり加える。
反応温度をグリニャール付加の間、−40℃以下に保持す
る。グリニャール付加後、TLCは出発物質が残っていな
いことを示し、反応混合物を塩化トリメチルシリル1.1m
lでクエンチする。ついで反応温度を3時間にわたって
4℃までゆっくりと上昇させ、その時点でTLCは反応が
完了したことを示す。トルエン15mlを加え、反応媒体を
10〜15℃に保持しながら減圧下にてTHFを除去する。反
応混合物を最初にpH7の緩衝液、ついで緩衝液1mlおよび
水9mlで4回、最後に水で抽出する。層を分離し、有機
層を0℃以下にて48時間、硫酸ナトリウムで乾燥する。
トルエン溶液を35mlに2分し、その1つを減圧下で濃縮
し、表記化合物を得る。
ナ−1,4,9(11),17(20)−テトラエン−3−オン20−
トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステル(IIB) 2M THF4.5ml中の塩化メチルマグネシウムを予め−52
℃に冷却した21−ヒドロキシプレグナ−1,4,9(11),16
−テトラエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル2.0g(I
B、米国特許第4031080号)、THF27mlおよび酢酸第2銅
モノ水和物60mgの混合物に、2.5時間にわたり加える。
反応温度をグリニャール付加の間、−40℃以下に保持す
る。グリニャール付加後、TLCは出発物質が残っていな
いことを示し、反応混合物を塩化トリメチルシリル1.1m
lでクエンチする。ついで反応温度を3時間にわたって
4℃までゆっくりと上昇させ、その時点でTLCは反応が
完了したことを示す。トルエン15mlを加え、反応媒体を
10〜15℃に保持しながら減圧下にてTHFを除去する。反
応混合物を最初にpH7の緩衝液、ついで緩衝液1mlおよび
水9mlで4回、最後に水で抽出する。層を分離し、有機
層を0℃以下にて48時間、硫酸ナトリウムで乾燥する。
トルエン溶液を35mlに2分し、その1つを減圧下で濃縮
し、表記化合物を得る。
実施例2 17α,21−ジヒドロキシ−16α−メチルプレ
グナ−1,4,9(11)−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸
エステル(VB) m−クロロ安息香酸0.556gを、約−9℃ないし約0℃
の範囲の浴温を保持しながら、約3時間にわたり20,21
−ジヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4,9(11),
17(20)−テトラエン−3−オン20−トリメチルシリル
エーテル21−酢酸エステル(IIB、実施例1、1つの35m
l部)に滴下する。反応物を1M重亜硫酸ナトリウム2.8ml
でクエンチする。水を加え、相を分離する。有機相を
水、緩衝液および水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、固体に濃縮する。固体を酢酸エチル/ヘキサン5ml
に溶かし、結晶を一夜で形成させる。濾液を固体に濃縮
し、それをメタノールに溶かし、0℃に冷却する。混合
物を濾過し、結晶を冷メタノールで洗浄する。
グナ−1,4,9(11)−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸
エステル(VB) m−クロロ安息香酸0.556gを、約−9℃ないし約0℃
の範囲の浴温を保持しながら、約3時間にわたり20,21
−ジヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4,9(11),
17(20)−テトラエン−3−オン20−トリメチルシリル
エーテル21−酢酸エステル(IIB、実施例1、1つの35m
l部)に滴下する。反応物を1M重亜硫酸ナトリウム2.8ml
でクエンチする。水を加え、相を分離する。有機相を
水、緩衝液および水で洗浄し、硫酸ナトリウムで乾燥
し、固体に濃縮する。固体を酢酸エチル/ヘキサン5ml
に溶かし、結晶を一夜で形成させる。濾液を固体に濃縮
し、それをメタノールに溶かし、0℃に冷却する。混合
物を濾過し、結晶を冷メタノールで洗浄する。
TLCはいくらかの21−ヒドロキシ化合物(V)が存在
することを示す。無水酢酸0.1mlおよびピリジン0.4mlを
加え、混合物を一夜撹拌する。混合物を当業者によく知
られているように後処理し、固体を得、それを40%水性
メタノールから結晶化させ、表記化合物を得る。
することを示す。無水酢酸0.1mlおよびピリジン0.4mlを
加え、混合物を一夜撹拌する。混合物を当業者によく知
られているように後処理し、固体を得、それを40%水性
メタノールから結晶化させ、表記化合物を得る。
実施例3 9β,11β−エポキシ−17α,21−ジヒドロキ
シ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオ
ン21−酢酸エステル(VB) 9β,11β−エポキシ−21−ジヒドロキシプレグナ−
1,4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル3.82
4g(IB、実施例7)および酢酸第2銅モノ水和物200mg
および無水THF70mlの混合物を、−15℃にて1時間にわ
たり滴下した2.2M塩化メチルマグネシウム8.2mlで処理
する。−15℃にて撹拌10分後、トリメチルクロロシラン
1.64mlを加える。混合物を即座に20℃に加温し、1時間
撹拌し、その時点でTLCはエノールエーテル(II)形成
が完了したことを示す。混合物をトルエン100mlに加
え、これをモノ塩基性リン酸塩緩衝液50ml(pH4.25)で
洗浄する。有機層を分離し、水で洗浄し(2×50ml)、
各水層をトルエン15mlで逆抽出する。有機相を合し、55
℃にて減圧下、残渣に濃縮する。
シ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオ
ン21−酢酸エステル(VB) 9β,11β−エポキシ−21−ジヒドロキシプレグナ−
1,4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル3.82
4g(IB、実施例7)および酢酸第2銅モノ水和物200mg
および無水THF70mlの混合物を、−15℃にて1時間にわ
たり滴下した2.2M塩化メチルマグネシウム8.2mlで処理
する。−15℃にて撹拌10分後、トリメチルクロロシラン
1.64mlを加える。混合物を即座に20℃に加温し、1時間
撹拌し、その時点でTLCはエノールエーテル(II)形成
が完了したことを示す。混合物をトルエン100mlに加
え、これをモノ塩基性リン酸塩緩衝液50ml(pH4.25)で
洗浄する。有機層を分離し、水で洗浄し(2×50ml)、
各水層をトルエン15mlで逆抽出する。有機相を合し、55
℃にて減圧下、残渣に濃縮する。
0℃にてトルエン30mlを加え、混合物を酢酸ナトリウ
ム164mg含有のペルオキシ酢酸2.91ml(34.5%)で処理
する。撹拌混合物を20℃に加温し、10分後TLCは過酸化
が完了したことを示す。過剰の過酸を、メタノール10ml
中でスラリー状にした粉末チオ硫酸ナトリウム2.5gを加
えることにより消滅させる。6N塩酸3.0mlを加え、約10
分で加水分解は完了する。混合物をトルエン75mlに加
え、有機相を水(2×50ml)、5%炭酸ナトリウム溶液
40mlおよび最後に水50mlで洗浄する。各水相をトルエン
20mlで連続的に逆抽出する。有機相を合し、減圧下で結
晶残渣に濃縮し、それを熱酢酸エチルに溶かし、濾過
し、無機物の痕跡を除去する。酢酸エチル(約5ml)を
すすぎ用に用いる。濾液およびすすぎ液の合した容量を
約10mlに減少させる。固体を形成させ、約1時間後、ヘ
キサン4mlを加える。30〜40℃にて2時間放置した後、
スラリーを20℃に冷却し、固体を真空濾過により集め
る。固体を冷酢酸エチル:ヘキサン、1:1(3ml)で洗浄
し、減圧下50〜60℃にて3時間乾燥し、約135℃で軟化
する融点180〜186℃の表記化合物を得る。NMR(CDCl3)
0.89、0.92、1.43、3.18および4.83δ. 実施例4 9β,11β−エポキシ−6α−フルオロ−17
α,21−ジヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジ
エン−3,20−ジオン(VB) 無水THF120ml中、9β,11β−エポキシ−6α−フル
オロ−21−ヒドロキシ−1,4,16−トリエン−3,20−ジオ
ン21−酢酸エステル8.009g(IB、米国特許第3210341
号)、酢酸第2銅モノ水和物400mgおよびトリ−n−ブ
チルホスフィン1mlの混合物を、−11℃にて1時間にわ
たって滴下した1.95M塩化メチルマグネシウム26.5mlで
処理する。ついで−8℃にてトリメチルクロロシラン4m
lを加える。混合物を即座に14℃に加温し、20分後TLCは
反応が完了したことを示す。混合物を酢酸エチル300ml
に加え、水酸化アンモニウム:飽和塩化アンモニウム、
1:1(2×75ml)で洗浄する。各水性抽出物を同一部の
酢酸エチル210mlで連続的に洗浄する。ついで合した有
機相を45℃にて減圧下で油に濃縮する。油を−10℃にて
塩化メチレン120mlに溶かし、85%m−クロロペルオキ
シ安息香酸6.092gで処理し、1.5時間後、TLCはエポキシ
化が完了したことを示す。混合物を真空蒸留し、溶媒を
メタノール100mlで取替え、ついで混合物を飽和炭酸ナ
トリウム20mlで処理する。20〜25℃にて16時間および55
℃にて5.25時間撹拌した後、TLCは加水分解が完了した
ことを示した。20〜25℃に冷却した後、水100mlを加
え、pHを酢酸0.2mlを用いて7.5に調整する。ついで5℃
にて水160mlを少しづつ加える。形成した固体を濾過に
より集め、0℃の水中メタノール50ml(75:25)で洗浄
し、減圧下、約84℃にて16時間にわたり乾燥し、表記化
合物を得る。融点241〜241.5℃;[α]D 25=+45.7°
(DMSO);UVλmax=245nm(ε=15300);NMR(CDCl3/DM
SO−d6)0.82、0.82、1.40、3.30、4.30および5.52δ. 実施例5 17α,21−ジヒドロキシ−16α−メチルプレ
グナ−4,9(11)−ジエン−3,20−ジオン21−酢酸エス
テル(VA) THF中、2M塩化メチルマグネシウム6.2mlを、乾燥THF1
00ml中、21−ヒドロキシプレグナ−4,9(11),16−トリ
エン−3,20−ジオン21−酢酸エステル3.68g(IA、米国
特許第4216159号)および酢酸第2銅モノ水和物200mgの
混合物に、−50℃にて17分間にわたって加える。混合物
を−45ないし−50℃にて20分間撹拌し、ついでトリメチ
ルクロロシラン1.9mlで処理し、20〜25℃に加温する。2
0〜25℃にて1.5時間後、TLCはエノールシリルエーテル
形成が完了したことを示す。反応混合物を酢酸エチル15
0mlに加え、該混合物を5%冷硫酸200mlで洗浄し、層を
分離し、水層を酢酸エチル25mlで逆抽出する。最初の有
機層を冷水で洗浄し(2×150ml)、順次さらに酢酸エ
チルで逆抽出した。有機層の相を合し、減圧下、約100m
lに濃縮する。
ム164mg含有のペルオキシ酢酸2.91ml(34.5%)で処理
する。撹拌混合物を20℃に加温し、10分後TLCは過酸化
が完了したことを示す。過剰の過酸を、メタノール10ml
中でスラリー状にした粉末チオ硫酸ナトリウム2.5gを加
えることにより消滅させる。6N塩酸3.0mlを加え、約10
分で加水分解は完了する。混合物をトルエン75mlに加
え、有機相を水(2×50ml)、5%炭酸ナトリウム溶液
40mlおよび最後に水50mlで洗浄する。各水相をトルエン
20mlで連続的に逆抽出する。有機相を合し、減圧下で結
晶残渣に濃縮し、それを熱酢酸エチルに溶かし、濾過
し、無機物の痕跡を除去する。酢酸エチル(約5ml)を
すすぎ用に用いる。濾液およびすすぎ液の合した容量を
約10mlに減少させる。固体を形成させ、約1時間後、ヘ
キサン4mlを加える。30〜40℃にて2時間放置した後、
スラリーを20℃に冷却し、固体を真空濾過により集め
る。固体を冷酢酸エチル:ヘキサン、1:1(3ml)で洗浄
し、減圧下50〜60℃にて3時間乾燥し、約135℃で軟化
する融点180〜186℃の表記化合物を得る。NMR(CDCl3)
0.89、0.92、1.43、3.18および4.83δ. 実施例4 9β,11β−エポキシ−6α−フルオロ−17
α,21−ジヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジ
エン−3,20−ジオン(VB) 無水THF120ml中、9β,11β−エポキシ−6α−フル
オロ−21−ヒドロキシ−1,4,16−トリエン−3,20−ジオ
ン21−酢酸エステル8.009g(IB、米国特許第3210341
号)、酢酸第2銅モノ水和物400mgおよびトリ−n−ブ
チルホスフィン1mlの混合物を、−11℃にて1時間にわ
たって滴下した1.95M塩化メチルマグネシウム26.5mlで
処理する。ついで−8℃にてトリメチルクロロシラン4m
lを加える。混合物を即座に14℃に加温し、20分後TLCは
反応が完了したことを示す。混合物を酢酸エチル300ml
に加え、水酸化アンモニウム:飽和塩化アンモニウム、
1:1(2×75ml)で洗浄する。各水性抽出物を同一部の
酢酸エチル210mlで連続的に洗浄する。ついで合した有
機相を45℃にて減圧下で油に濃縮する。油を−10℃にて
塩化メチレン120mlに溶かし、85%m−クロロペルオキ
シ安息香酸6.092gで処理し、1.5時間後、TLCはエポキシ
化が完了したことを示す。混合物を真空蒸留し、溶媒を
メタノール100mlで取替え、ついで混合物を飽和炭酸ナ
トリウム20mlで処理する。20〜25℃にて16時間および55
℃にて5.25時間撹拌した後、TLCは加水分解が完了した
ことを示した。20〜25℃に冷却した後、水100mlを加
え、pHを酢酸0.2mlを用いて7.5に調整する。ついで5℃
にて水160mlを少しづつ加える。形成した固体を濾過に
より集め、0℃の水中メタノール50ml(75:25)で洗浄
し、減圧下、約84℃にて16時間にわたり乾燥し、表記化
合物を得る。融点241〜241.5℃;[α]D 25=+45.7°
(DMSO);UVλmax=245nm(ε=15300);NMR(CDCl3/DM
SO−d6)0.82、0.82、1.40、3.30、4.30および5.52δ. 実施例5 17α,21−ジヒドロキシ−16α−メチルプレ
グナ−4,9(11)−ジエン−3,20−ジオン21−酢酸エス
テル(VA) THF中、2M塩化メチルマグネシウム6.2mlを、乾燥THF1
00ml中、21−ヒドロキシプレグナ−4,9(11),16−トリ
エン−3,20−ジオン21−酢酸エステル3.68g(IA、米国
特許第4216159号)および酢酸第2銅モノ水和物200mgの
混合物に、−50℃にて17分間にわたって加える。混合物
を−45ないし−50℃にて20分間撹拌し、ついでトリメチ
ルクロロシラン1.9mlで処理し、20〜25℃に加温する。2
0〜25℃にて1.5時間後、TLCはエノールシリルエーテル
形成が完了したことを示す。反応混合物を酢酸エチル15
0mlに加え、該混合物を5%冷硫酸200mlで洗浄し、層を
分離し、水層を酢酸エチル25mlで逆抽出する。最初の有
機層を冷水で洗浄し(2×150ml)、順次さらに酢酸エ
チルで逆抽出した。有機層の相を合し、減圧下、約100m
lに濃縮する。
85%m−クロロペルオキシ安息香酸1.72gを加え、混
合物を−15℃にて1時間撹拌し、その後さらに過酸300m
gを加え、混合物を20℃にて一夜撹拌する。過剰の過酸
を、10%重亜硫酸ナトリウム溶液20mlで処理することで
消滅させる。混合物を20分間撹拌し、ついでトルエン20
0mlで希釈する。ついで、混合物を5%硫酸100mlおよび
水(2×100ml)で洗浄する。減圧下で濃縮乾固した
後、残渣をメタノール100mlに溶かし、3N塩酸0.5mlで処
理する。混合物を高沸点残渣に再度濃縮し、それをトル
エン200mlに溶かす。該混合物を飽和炭酸ナトリウム100
mlで洗浄し、m−クロロ安息香酸を除去する。最後に有
機層を水で洗浄し(2×100ml)、前記のように濃縮す
る。残渣を結晶化のため熱メタノール20mlに溶かす。0
℃に数時間冷却した後、固体を得、それを真空濾過で集
める。生成物を冷メタノールで洗浄し、20℃にて乾燥
し、表記化合物を得る。NMR0.73、0.93、1.33および4.9
8δ. 実施例6 9β,11β−エポキシ−21−ジヒドロキシプ
レグナ−4,16−ジエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル
(IA) 21−ヒドロキシプレグナ−4,9(11),16−トリエン−
3,20−ジオン21−酢酸エステル(米国特許第2773080
号)で出発する以外、臨界的変形を行なうことなく、米
国特許第3876633号の一般的操作に従い、表記化合物を
得る。融点129〜130.5℃。
合物を−15℃にて1時間撹拌し、その後さらに過酸300m
gを加え、混合物を20℃にて一夜撹拌する。過剰の過酸
を、10%重亜硫酸ナトリウム溶液20mlで処理することで
消滅させる。混合物を20分間撹拌し、ついでトルエン20
0mlで希釈する。ついで、混合物を5%硫酸100mlおよび
水(2×100ml)で洗浄する。減圧下で濃縮乾固した
後、残渣をメタノール100mlに溶かし、3N塩酸0.5mlで処
理する。混合物を高沸点残渣に再度濃縮し、それをトル
エン200mlに溶かす。該混合物を飽和炭酸ナトリウム100
mlで洗浄し、m−クロロ安息香酸を除去する。最後に有
機層を水で洗浄し(2×100ml)、前記のように濃縮す
る。残渣を結晶化のため熱メタノール20mlに溶かす。0
℃に数時間冷却した後、固体を得、それを真空濾過で集
める。生成物を冷メタノールで洗浄し、20℃にて乾燥
し、表記化合物を得る。NMR0.73、0.93、1.33および4.9
8δ. 実施例6 9β,11β−エポキシ−21−ジヒドロキシプ
レグナ−4,16−ジエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル
(IA) 21−ヒドロキシプレグナ−4,9(11),16−トリエン−
3,20−ジオン21−酢酸エステル(米国特許第2773080
号)で出発する以外、臨界的変形を行なうことなく、米
国特許第3876633号の一般的操作に従い、表記化合物を
得る。融点129〜130.5℃。
実施例7 9β,11β−エポキシ−21−ヒドロキシプレ
グナ−1,4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステ
ル(IB) 21−ヒドロキシプレグナ−1,4,9(11)、16−テトラ
エン−3,20−ジオン21−酢酸エステル(米国特許第2864
834号)で出発する以外、臨界的変形を行なうことな
く、米国特許第3876633号の一般的操作に従い、表記化
合物を得る。融点163.5〜165℃。
グナ−1,4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステ
ル(IB) 21−ヒドロキシプレグナ−1,4,9(11)、16−テトラ
エン−3,20−ジオン21−酢酸エステル(米国特許第2864
834号)で出発する以外、臨界的変形を行なうことな
く、米国特許第3876633号の一般的操作に従い、表記化
合物を得る。融点163.5〜165℃。
実施例8 9β,11β−エポキシ−17α,21−ジヒドロキ
シ−16α−メチルプレグナ−1,4−シエン−3,20−ジオ
ン(VB) 乾燥THF130ml中、9β,11β−エポキシ−21−ヒドロ
キシプレグナ−1,4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢
酸エステル7.650g(IB、実施例7)および酢酸第2銅モ
ノ水和物400mgの混合物を、窒素下で撹拌する。温度を
−20℃に調整し、1,1,3,3−テトラメチル尿素5.0mlを加
える。2M塩化メチルマグネシウム16.6mlを−17ないし−
19℃にて50分間にわたり滴下する。TLCはグリニャール
反応が完了したことを示す。混合物を−19℃にて40分間
撹拌し、その後、マグネシウムエノラートをトリメチル
クロロシラン3.28mlでクエンチする。温度が1時間の撹
拌の間に25℃に上昇する。TLCは反応が完了したことを
示す。混合物を、トルエン150mlおよびモノ塩基性リン
酸カリウム緩衝液50ml(pH4.3、10%)に加える。水層
をトルエン25mlで抽出し、ついで捨てる。2つの有機層
を水で連続的に洗浄し(2×50ml)、ついで合し、高沸
点残渣に濃縮する。
シ−16α−メチルプレグナ−1,4−シエン−3,20−ジオ
ン(VB) 乾燥THF130ml中、9β,11β−エポキシ−21−ヒドロ
キシプレグナ−1,4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢
酸エステル7.650g(IB、実施例7)および酢酸第2銅モ
ノ水和物400mgの混合物を、窒素下で撹拌する。温度を
−20℃に調整し、1,1,3,3−テトラメチル尿素5.0mlを加
える。2M塩化メチルマグネシウム16.6mlを−17ないし−
19℃にて50分間にわたり滴下する。TLCはグリニャール
反応が完了したことを示す。混合物を−19℃にて40分間
撹拌し、その後、マグネシウムエノラートをトリメチル
クロロシラン3.28mlでクエンチする。温度が1時間の撹
拌の間に25℃に上昇する。TLCは反応が完了したことを
示す。混合物を、トルエン150mlおよびモノ塩基性リン
酸カリウム緩衝液50ml(pH4.3、10%)に加える。水層
をトルエン25mlで抽出し、ついで捨てる。2つの有機層
を水で連続的に洗浄し(2×50ml)、ついで合し、高沸
点残渣に濃縮する。
Δ17(20)−20−エノールシラン含有の残渣をトルエン
60mlに溶かす。−5℃に冷却後、酢酸ナトリウム91mg含
有の4.4Mペルオキシ酢酸5.9mlを加え、混合物を80分間
撹拌する。TLCはエポキシ化が完了したことを示す。過
剰の過酸を、約0℃にて1.5M水性重亜硫酸ナトリウム10
mlで消滅させる。撹拌5分後、混合物をトルエン40mlお
よび水55mlに加える。層を分離し、水相をトルエン20ml
で抽出し、ついで捨てる。2つの有機層を飽和重炭酸ナ
トリウム20mlおよび水35mlで連続的に洗浄する。合した
有機層を綿布を通して濾過し、17α,20−エポキシドの
高沸点残渣に濃縮する。
60mlに溶かす。−5℃に冷却後、酢酸ナトリウム91mg含
有の4.4Mペルオキシ酢酸5.9mlを加え、混合物を80分間
撹拌する。TLCはエポキシ化が完了したことを示す。過
剰の過酸を、約0℃にて1.5M水性重亜硫酸ナトリウム10
mlで消滅させる。撹拌5分後、混合物をトルエン40mlお
よび水55mlに加える。層を分離し、水相をトルエン20ml
で抽出し、ついで捨てる。2つの有機層を飽和重炭酸ナ
トリウム20mlおよび水35mlで連続的に洗浄する。合した
有機層を綿布を通して濾過し、17α,20−エポキシドの
高沸点残渣に濃縮する。
該エポキシドをメタノール60mlに溶かし、21℃にてp-
TSA5mlで処理する。6分後、TLCはエポキシドが開化
し、16α−メチルコルチコイド(21−酢酸エステルとし
て)を形成したことを示す。飽和炭酸ナトリウム溶液1.
9mlを加え、スラリーを55℃にて45分間撹拌する。TLCは
加水分解が完了したことを示す。水30mlを加え、スラリ
ーを0℃にて一夜貯蔵した。固体を濾過により集め、メ
タノール/水(1/1)で洗浄し、減圧下70℃にて4.5時間
乾燥し、表記化合物を得る。融点238〜239.5℃。
TSA5mlで処理する。6分後、TLCはエポキシドが開化
し、16α−メチルコルチコイド(21−酢酸エステルとし
て)を形成したことを示す。飽和炭酸ナトリウム溶液1.
9mlを加え、スラリーを55℃にて45分間撹拌する。TLCは
加水分解が完了したことを示す。水30mlを加え、スラリ
ーを0℃にて一夜貯蔵した。固体を濾過により集め、メ
タノール/水(1/1)で洗浄し、減圧下70℃にて4.5時間
乾燥し、表記化合物を得る。融点238〜239.5℃。
実施例9 9β,11β−エポキシ−20,21−ジヒドロキシ
−16α−メチルプレグナ−1,4,17(20)−トリエン−3
−オン−20−トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステ
ル(IIB) 9β,11β−エポキシ−21−ジヒドロキシ−1,4,16−
トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル(IB、実施例
7)で出発する以外、臨界的変形を行なうことなく、実
施例1の一般的操作に従い、表記化合物を得る。
−16α−メチルプレグナ−1,4,17(20)−トリエン−3
−オン−20−トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステ
ル(IIB) 9β,11β−エポキシ−21−ジヒドロキシ−1,4,16−
トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル(IB、実施例
7)で出発する以外、臨界的変形を行なうことなく、実
施例1の一般的操作に従い、表記化合物を得る。
実施例10 9α−フルオロ−11β,21−ジヒドロキシプ
レグナ−1,4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エス
テル(IB) 9β,11β−エポキシ−21−ヒドロキシプレグナ−1,
4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル15.3g
(IB、実施例7)を、−25℃にて機械撹拌器を備えた20
0mlのモネル・リアクター(monel reactor)中の72%水
性フッ化水素55mlおよび塩化メチレン15mlの撹拌した混
合物に加える。すすぎ液として約30mlの塩化メチレンを
用いる。混合物を−22℃にて2.5時間、ついで−4℃な
いし−11℃にて4.0時間撹拌する。混合物を−10℃にてT
HF35mlで処理し、ついでTHF60ml、47%水性炭酸カリウ
ム202mlおよび水100mlの混合物をゆっくりと添加するこ
とにより注意してクエンチする。20分間撹拌した後、混
合物をトルエン400mlおよび水400mlに加える。相を分離
し、有機層を水で洗浄し(3×150ml)、綿布を通す濾
過により乾燥し、約150mlに濃縮する。塩化メチレン
(約150ml)およびマグネソール(magnesol)0.90gを混
合物に加える。15分後、マグネソールを濾過により除去
する。濾液を再度150mlに濃縮し、ついで0℃に冷却す
る。0℃にて3時間撹拌した後、固体が形成し、生成物
を濾過により集める。固体をトルエンで洗浄し(2×25
ml)、60℃にて3時間真空下で乾燥し、表記化合物を得
る。融点223〜225℃;NMR(CDCl3)1.27、1.59、4.29、
4.93および6.77δ. 実施例11 9α−フルオロ−11β,20,21−トリヒドロキ
シ−16α−メチルプレグナ−1,4,17(20)−トリエン−
3−オン11,20−ビス(トリメチルシリル)エーテル21
−酢酸エステル(IIB) 乾燥THF60ml中、プロピオン酸銅(II)151mgの溶液を
−30℃に冷却し、ついで該銅を銅(I)に還元するため
に2M塩化メチルマグネシウム(約1ml)で処理する。9
α−フルオロ−11β,21−ジヒドロキシプレグナ−1,4,1
6−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル2.025g(I
B、実施例10)を、銅混合物に加える。温度を−33℃に
調整し、前記グリニャール試薬3.0mlを加える。スラリ
ーが形成し、それを塩化トリメチルシリル1.50mlで処理
して溶かす。−40℃にて1時間撹拌した後、さらに7.4m
lのグリニャール試薬を50分間にわたり少しづつ加え
る。混合物をさらに2時間撹拌し、温度を−26℃に上昇
させる。ついで塩化トリメチルシリル2.0mlを−15℃に
て1.25時間にわたり加える。−15℃にてさらに0.5時間
後、TLCはΔ17(20)−エノールエーテルの形成が完了し
ていないことを示す。グリニャール試薬3.0mlを−35℃
にて加える。20分後、混合物をトルエン150mlに加え
る。該混合物を5%リン酸塩緩衝液(pH6.5)20mlを含
有する水150mlで洗浄する。相を分離し、有機層を水で
洗浄し(2×75ml)、ついで綿布を通す濾過により乾燥
し、溶液における表記化合物を得る。
レグナ−1,4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エス
テル(IB) 9β,11β−エポキシ−21−ヒドロキシプレグナ−1,
4,16−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル15.3g
(IB、実施例7)を、−25℃にて機械撹拌器を備えた20
0mlのモネル・リアクター(monel reactor)中の72%水
性フッ化水素55mlおよび塩化メチレン15mlの撹拌した混
合物に加える。すすぎ液として約30mlの塩化メチレンを
用いる。混合物を−22℃にて2.5時間、ついで−4℃な
いし−11℃にて4.0時間撹拌する。混合物を−10℃にてT
HF35mlで処理し、ついでTHF60ml、47%水性炭酸カリウ
ム202mlおよび水100mlの混合物をゆっくりと添加するこ
とにより注意してクエンチする。20分間撹拌した後、混
合物をトルエン400mlおよび水400mlに加える。相を分離
し、有機層を水で洗浄し(3×150ml)、綿布を通す濾
過により乾燥し、約150mlに濃縮する。塩化メチレン
(約150ml)およびマグネソール(magnesol)0.90gを混
合物に加える。15分後、マグネソールを濾過により除去
する。濾液を再度150mlに濃縮し、ついで0℃に冷却す
る。0℃にて3時間撹拌した後、固体が形成し、生成物
を濾過により集める。固体をトルエンで洗浄し(2×25
ml)、60℃にて3時間真空下で乾燥し、表記化合物を得
る。融点223〜225℃;NMR(CDCl3)1.27、1.59、4.29、
4.93および6.77δ. 実施例11 9α−フルオロ−11β,20,21−トリヒドロキ
シ−16α−メチルプレグナ−1,4,17(20)−トリエン−
3−オン11,20−ビス(トリメチルシリル)エーテル21
−酢酸エステル(IIB) 乾燥THF60ml中、プロピオン酸銅(II)151mgの溶液を
−30℃に冷却し、ついで該銅を銅(I)に還元するため
に2M塩化メチルマグネシウム(約1ml)で処理する。9
α−フルオロ−11β,21−ジヒドロキシプレグナ−1,4,1
6−トリエン−3,20−ジオン21−酢酸エステル2.025g(I
B、実施例10)を、銅混合物に加える。温度を−33℃に
調整し、前記グリニャール試薬3.0mlを加える。スラリ
ーが形成し、それを塩化トリメチルシリル1.50mlで処理
して溶かす。−40℃にて1時間撹拌した後、さらに7.4m
lのグリニャール試薬を50分間にわたり少しづつ加え
る。混合物をさらに2時間撹拌し、温度を−26℃に上昇
させる。ついで塩化トリメチルシリル2.0mlを−15℃に
て1.25時間にわたり加える。−15℃にてさらに0.5時間
後、TLCはΔ17(20)−エノールエーテルの形成が完了し
ていないことを示す。グリニャール試薬3.0mlを−35℃
にて加える。20分後、混合物をトルエン150mlに加え
る。該混合物を5%リン酸塩緩衝液(pH6.5)20mlを含
有する水150mlで洗浄する。相を分離し、有機層を水で
洗浄し(2×75ml)、ついで綿布を通す濾過により乾燥
し、溶液における表記化合物を得る。
実施例12 17α,20−エポキシ−9α−フルオロ−11β,
20,2−トリヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−
ジエン−3−オン11,20−ビス(トリメチルシリル)エ
ーテル21−酢酸エステル(IIIB) 前記濾液(実施例11)を約50mlに濃縮し、該混合物を
−17℃に冷却した後、酢酸ナトリウム67mgを含有する4.
44Mペルオキシ酢酸3.37mlを加える。温度を7℃に上昇
させながら、混合物を4時間撹拌する。混合物をトルエ
ンで希釈し、ついで水75ml、希亜硫酸ナトリウムおよび
最後に水75mlで洗浄する。各水洗液をトルエン50mlで逆
抽出する。有機相を合し、真空蒸留下で濃縮し、粗製17
(20)−エポキシド−20−トリメチルシリルエーテル
(III)の高沸点残渣を得る。
20,2−トリヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−
ジエン−3−オン11,20−ビス(トリメチルシリル)エ
ーテル21−酢酸エステル(IIIB) 前記濾液(実施例11)を約50mlに濃縮し、該混合物を
−17℃に冷却した後、酢酸ナトリウム67mgを含有する4.
44Mペルオキシ酢酸3.37mlを加える。温度を7℃に上昇
させながら、混合物を4時間撹拌する。混合物をトルエ
ンで希釈し、ついで水75ml、希亜硫酸ナトリウムおよび
最後に水75mlで洗浄する。各水洗液をトルエン50mlで逆
抽出する。有機相を合し、真空蒸留下で濃縮し、粗製17
(20)−エポキシド−20−トリメチルシリルエーテル
(III)の高沸点残渣を得る。
実施例13 9α−フルオロ−11β,17α,21−トリヒドロ
キシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジ
オン21−酢酸エステル(VB) 残渣(実施例12)をメタノール30mlに溶かし、室温に
て放置させる。0.75時間後、混合物を15mlに濃縮し、水
10mlを加える。混合物を濾過し、不溶性物質の痕跡を除
去する。濾液をさらに水で希釈し、ワックス状固体をデ
カンテーションにより集める。固体を乾燥し、ついでア
セトン/ヘキサン(1/2、35ml)から再結晶する。固体
を濾過により集め、アセトン/ヘキサン(1/2、5ml)で
洗浄し、室温にて乾燥し、表記化合物を得る。表記化合
物の純粋な試料をカラムクロマトグラフィー、つづいて
アセトン/ヘキサン(1/1)から結晶化させることによ
り得る。融点227〜229℃;NMR(CDCl3)0.89、1.03、1.5
7、4.29および4.93δ. 実施例14 17α,20−エポキシ−20,21−ジヒドロキシ−
16α−メチルプレグナ−1,4,9(11)−トリエン−3−
オン20−トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステル
(IIIB) 20,21−ジヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4,9
(11),17(20)−テトラトエン−3−オン20−トリメ
チルシリルエーテル21−酢酸エステル(IIB、実施例
1)で出発する以外、臨界的な変形を行なうことなく、
実施例12の一般的操作に従い、表記化合物を得る。
キシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジ
オン21−酢酸エステル(VB) 残渣(実施例12)をメタノール30mlに溶かし、室温に
て放置させる。0.75時間後、混合物を15mlに濃縮し、水
10mlを加える。混合物を濾過し、不溶性物質の痕跡を除
去する。濾液をさらに水で希釈し、ワックス状固体をデ
カンテーションにより集める。固体を乾燥し、ついでア
セトン/ヘキサン(1/2、35ml)から再結晶する。固体
を濾過により集め、アセトン/ヘキサン(1/2、5ml)で
洗浄し、室温にて乾燥し、表記化合物を得る。表記化合
物の純粋な試料をカラムクロマトグラフィー、つづいて
アセトン/ヘキサン(1/1)から結晶化させることによ
り得る。融点227〜229℃;NMR(CDCl3)0.89、1.03、1.5
7、4.29および4.93δ. 実施例14 17α,20−エポキシ−20,21−ジヒドロキシ−
16α−メチルプレグナ−1,4,9(11)−トリエン−3−
オン20−トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステル
(IIIB) 20,21−ジヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4,9
(11),17(20)−テトラトエン−3−オン20−トリメ
チルシリルエーテル21−酢酸エステル(IIB、実施例
1)で出発する以外、臨界的な変形を行なうことなく、
実施例12の一般的操作に従い、表記化合物を得る。
実施例15 9β,11β,17α,20−ジエポキシ−20,21−ジ
ヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3
−オン20−トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステル
(IIIB) 9β,11β−エポキシ−20,21−ジヒドロキシ−16α−
メチルプレグナ−1,4,17(20)−トリエン−3−オン20
−トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステル(IIB、
実施例9)で出発する以外、臨界的な変形を行なうこと
なく、実施例12の一般的操作に従い、表記化合物を得
る。
ヒドロキシ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3
−オン20−トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステル
(IIIB) 9β,11β−エポキシ−20,21−ジヒドロキシ−16α−
メチルプレグナ−1,4,17(20)−トリエン−3−オン20
−トリメチルシリルエーテル21−酢酸エステル(IIB、
実施例9)で出発する以外、臨界的な変形を行なうこと
なく、実施例12の一般的操作に従い、表記化合物を得
る。
実施例16 9β,11β−エポキシ−17α,21−ジヒドロキ
シ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオ
ン21−酢酸エステル(VB) THF90mlおよびテトラメチル尿素5ml中、プロピオン酸
銅(II)802mgの混合物を、窒素下−25℃に冷却し、青
銅(II)を黄緑銅(I)種に変えるために約3mlの2M塩
化メチルマグネシウムで処理する。ついで塩化メチレン
90ml、塩化トリメチルシリル6.56mlおよび9β,11β−
エポキシ−21−ヒドロキシプレグナ−1,4,16−トリエン
−3,20−ジオン21−酢酸エステル15.30g(IB、実施例
7)を加え、温度を−33℃に下げる。合計28mlの前記グ
リニャール試薬を2.0時間にわたってスラリーに加え
る。温度をこの時間中、−33℃ないし−38℃の範囲に保
持する。TLCが、Δ17(20)−コルチコイドシリルエーテ
ル(II)への反応が完了したことを示す場合、混合物を
−10℃にて0.5M塩化アンモニウム200mlで処理する。層
を分離し、有機層を水200mlで洗浄する。分離した水層
を塩化メチレンで抽出する(2×50ml)。有機抽出物を
合し、濃縮して対応するΔ17(22)−コルチコイドシリル
エーテルを得る。
シ−16α−メチルプレグナ−1,4−ジエン−3,20−ジオ
ン21−酢酸エステル(VB) THF90mlおよびテトラメチル尿素5ml中、プロピオン酸
銅(II)802mgの混合物を、窒素下−25℃に冷却し、青
銅(II)を黄緑銅(I)種に変えるために約3mlの2M塩
化メチルマグネシウムで処理する。ついで塩化メチレン
90ml、塩化トリメチルシリル6.56mlおよび9β,11β−
エポキシ−21−ヒドロキシプレグナ−1,4,16−トリエン
−3,20−ジオン21−酢酸エステル15.30g(IB、実施例
7)を加え、温度を−33℃に下げる。合計28mlの前記グ
リニャール試薬を2.0時間にわたってスラリーに加え
る。温度をこの時間中、−33℃ないし−38℃の範囲に保
持する。TLCが、Δ17(20)−コルチコイドシリルエーテ
ル(II)への反応が完了したことを示す場合、混合物を
−10℃にて0.5M塩化アンモニウム200mlで処理する。層
を分離し、有機層を水200mlで洗浄する。分離した水層
を塩化メチレンで抽出する(2×50ml)。有機抽出物を
合し、濃縮して対応するΔ17(22)−コルチコイドシリル
エーテルを得る。
該物質をトルエン100mlに溶かす。酢酸ナトリウム1.0
g、ついで34%ペルオキシ酢酸11.8mlを16℃にて加え
る。混合物を−16ないし10℃にて19時間にわたり撹拌
し、その後の過剰の過酸を1M重亜硫酸ナトリウムでクエ
ンチする。水100mlを加え、層を分離する。水層をトル
エン75mlで抽出する。有機層を水(2×75ml)で連続的
に洗浄し、ついで合し、綿布を通して濾過し、濃縮す
る。濃縮液をメタノールに溶かし、再濃縮して全てのト
ルエンを除去し、対応する17α,20−エポキシドを得
る。
g、ついで34%ペルオキシ酢酸11.8mlを16℃にて加え
る。混合物を−16ないし10℃にて19時間にわたり撹拌
し、その後の過剰の過酸を1M重亜硫酸ナトリウムでクエ
ンチする。水100mlを加え、層を分離する。水層をトル
エン75mlで抽出する。有機層を水(2×75ml)で連続的
に洗浄し、ついで合し、綿布を通して濾過し、濃縮す
る。濃縮液をメタノールに溶かし、再濃縮して全てのト
ルエンを除去し、対応する17α,20−エポキシドを得
る。
該17α,20−エポキシドを、窒素下、塩化メチレン40m
lおよびメタノール70mlに溶かす。温度を40℃に調整
し、水5ml中、重炭酸カリウム200mgおよび炭酸カリウム
200mgの溶液を加える。該混合物を還流温度(約42℃)
にて撹拌する。75分後、TLCはC20トリメチルシリルおよ
びC21酢酸エステル基の両方が除去されたことを示す。
反応を酢酸0.6ml添加することにより停止させ、混合物
を常圧にて約50mlに濃縮する。得られたスラリーを約0
℃に冷却し、固体を集め、冷メタノールで洗浄し、減圧
下60℃にて乾燥し、表記化合物を得る。融点260℃、分
解。
lおよびメタノール70mlに溶かす。温度を40℃に調整
し、水5ml中、重炭酸カリウム200mgおよび炭酸カリウム
200mgの溶液を加える。該混合物を還流温度(約42℃)
にて撹拌する。75分後、TLCはC20トリメチルシリルおよ
びC21酢酸エステル基の両方が除去されたことを示す。
反応を酢酸0.6ml添加することにより停止させ、混合物
を常圧にて約50mlに濃縮する。得られたスラリーを約0
℃に冷却し、固体を集め、冷メタノールで洗浄し、減圧
下60℃にて乾燥し、表記化合物を得る。融点260℃、分
解。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 B01J 31/04 C07B 61/00 300
Claims (10)
- 【請求項1】式: で示される16−不飽和コルチコイドを銅触媒および基Si
(R20)3を導入できるシリル化剤の存在下、メチル化剤と
接触させることを特徴とする式: [式中、R20は炭素原子数1〜4のアルキルまたはフェ
ニルで、R20は同一または異なりうる; R21は水素原子、−CO−R21′または−Si(R121)3; R21′およびR121は各々炭素原子数1〜4のアルキルま
たはフェニル; R121は同一または異なりうる] で示されるΔ17(20)−ステロイドの製造方法。 - 【請求項2】16−不飽和コルチコイド(I)が、Δ4−
3−ケトステロイド Δ1,4−3−ケトステロイド および3β−ヒドロキシ−Δ5−ステロイド およびC3保護形の3β−ヒドロキシ−Δ5−(C)−ス
テロイド [式中、R3は炭素原子数1〜3のアルキル、TMS、THPま
たはEEE基である。 R3′は炭素原子数1〜5のアルキルまたはフェニルであ
る。 R6は水素またはフッ素原子またはメチル基である。 R9はなしか、水素、フッ素または酸素原子であり、それ
は、C−環を a)R9がなしの場合、Δ9(11)、および b)R9およびR11が一緒になって酸素原子である場合、
9β,11β−エポキシド にする。 R11は水素または酸素原子、2個の水素原子、またはα
−またはβ−ヒドロキシル基またはそのトリメチルシリ
ルエーテルであり、それはC−環を、 a)R11が水素原子の場合、Δ9(11)、 b)R9およびR11が一緒になって酸素原子であり、C11お
よびR11の間の が単結合である場合、9β,11β−エポキシド、および c)R11が酸素原子であり、C11およびR11の間 が二重結合である場合、 ケトン にする。 R20は炭素原子数1〜4のアルキルまたはフェニルで、R
20は同一または異なりうる。 R21は水素原子、−CO−R21′または−Si(R121)3であ
る。 R21′は炭素原子数1〜4のアルキルまたはフェニルで
ある。 R121は炭素原子数1〜4のアルキルまたはフェニルで、
R121は同一または異なりえる。 〜は、結合基がαまたはβ配列のいずれかでありうるこ
とを示す。 は単または二重結合である; TMSはトリメチルシリル; THPはテトラヒドロピラニル; EEEは(1−エトキシ)エチルエーテル、[−O−CH(C
H3)OCH2CH3]を意味する] からなる群より選択される前記第1項の方法。 - 【請求項3】メチル化剤が式: CH3Cu、(CH3)2CuMまたはCH3MgQ [式中、Mはリチウムまたはマグネシウムイオンおよび
Qは塩素、臭素またはヨウ素原子を意味する] で示される化合物からなる群より選択される前記第1項
の方法。 - 【請求項4】メチル化剤がCH3MgQである前記第3項の方
法。 - 【請求項5】銅触媒が酢酸第2銅、塩化第2銅、硫酸第
2銅からなる群より選択される第2銅塩、または塩化第
1銅、臭化第1銅、ヨウ化第1銅およびシアン化第1銅
からなる群より選択される第1銅塩およびその錯体であ
る前記第1項の方法。 - 【請求項6】銅触媒が酢酸第2銅である前記第1項の方
法。 - 【請求項7】シリル化剤が(R20)3−Si−E、ビストリ
メチルシリルアセトアミド[Eは塩素、臭素またはヨウ
素原子または−NRαRβ、RαおよびRβは同一または
異なって、炭素原子数1〜5のアルキルまたはフェニ
ル、およびRαおよびRβは酸素またはさらに窒素原子
と共にまたはなしで結合または環化しうる。R20は前記
第1項と同じ] からなる群より選択される前記第1項の方法。 - 【請求項8】シリル化剤が塩化トリメチルシリルである
前記第1項の方法。 - 【請求項9】16−不飽和コルチコイド(I)が21−ヒド
ロキシプレグナ−1,4,9(11),16−テトラエン−3,20−
ジオン21−酢酸エステルまたは9β,11β−エポキシ−2
1−ヒドロキシプレグナ−1,4,16−トリエン−3,20−ジ
オン21−酢酸エステルからなる群より選択される前記第
1項の方法。 - 【請求項10】エノラート中間体が形成される場合に該
シリル化剤を存在させる前記第1項の方法。
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