JPH0873265A - 誘電体セラミクスの製造方法 - Google Patents
誘電体セラミクスの製造方法Info
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- JPH0873265A JPH0873265A JP6207728A JP20772894A JPH0873265A JP H0873265 A JPH0873265 A JP H0873265A JP 6207728 A JP6207728 A JP 6207728A JP 20772894 A JP20772894 A JP 20772894A JP H0873265 A JPH0873265 A JP H0873265A
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- dielectric ceramics
- dielectric
- ceramics
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 製造工程数を減らし、より安価に低損失の誘
電体セラミクスを得ることを目的とする。 【構成】 原料粉末の混合物を造粒して得られる造粒物
を加圧成形した後に焼成して製造するMgTiO3 −C
aTiO3 系の誘電体セラミクスの製造方法であって、
焼成温度を1280℃〜1320℃の範囲で製造するよ
うにしたものである。
電体セラミクスを得ることを目的とする。 【構成】 原料粉末の混合物を造粒して得られる造粒物
を加圧成形した後に焼成して製造するMgTiO3 −C
aTiO3 系の誘電体セラミクスの製造方法であって、
焼成温度を1280℃〜1320℃の範囲で製造するよ
うにしたものである。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は例えば高周波(マイクロ
波)用の誘電体アンテナ、誘電体共振器等に使用して好
適な誘電体セラミクスの製造方法に関する。
波)用の誘電体アンテナ、誘電体共振器等に使用して好
適な誘電体セラミクスの製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】近年、
高周波(マイクロ波)用の誘電体アンテナ、誘電体共振
器等の如き電子デバイスの小型化、高周波化、高性能化
にともないマイクロ波域で高誘電率でかつ低損失である
誘電体セラミクスが必要とされている。
高周波(マイクロ波)用の誘電体アンテナ、誘電体共振
器等の如き電子デバイスの小型化、高周波化、高性能化
にともないマイクロ波域で高誘電率でかつ低損失である
誘電体セラミクスが必要とされている。
【0003】従来、この高誘電率で低損失である誘電体
セラミクスとしてMgTiO3 −CaTiO3 系の誘電
体セラミクスが知られている(エレクトロニクス・セラ
ミクス,1993,Vol.24,124号)。このMgTiO3 −Ca
TiO3 系の誘電体セラミクスの特性は誘電率ε=21
でQf(Q値に共振周波数fを乗算した値)=5600
0GHzである。
セラミクスとしてMgTiO3 −CaTiO3 系の誘電
体セラミクスが知られている(エレクトロニクス・セラ
ミクス,1993,Vol.24,124号)。このMgTiO3 −Ca
TiO3 系の誘電体セラミクスの特性は誘電率ε=21
でQf(Q値に共振周波数fを乗算した値)=5600
0GHzである。
【0004】この従来のMgTiO3 −CaTiO3 系
の誘電体セラミクスの製造方法は、図3に示す如く、先
ずTiO2 ,MgO,CaCO3 の原料粉末を(Mg
0.95Ca0.05)TiO3 で示される組成に秤量し、ボー
ルミル等で1次混合し、その後乾燥し、これを粉砕す
る。これを1000℃〜1200℃の温度で仮焼し、こ
の仮焼後のセラミクスを再び粉砕しその後、これを2次
混合し、これを乾燥し、その後造粒する。この造粒した
ものにバインダー(PVA)を添加し、加圧成形し、こ
の成形体を1400℃〜1600℃で焼成した。
の誘電体セラミクスの製造方法は、図3に示す如く、先
ずTiO2 ,MgO,CaCO3 の原料粉末を(Mg
0.95Ca0.05)TiO3 で示される組成に秤量し、ボー
ルミル等で1次混合し、その後乾燥し、これを粉砕す
る。これを1000℃〜1200℃の温度で仮焼し、こ
の仮焼後のセラミクスを再び粉砕しその後、これを2次
混合し、これを乾燥し、その後造粒する。この造粒した
ものにバインダー(PVA)を添加し、加圧成形し、こ
の成形体を1400℃〜1600℃で焼成した。
【0005】このようにして製造された従来のMgTi
O3 −CaTiO3 系の誘電体セラミクスの特性は誘電
率ε=21で且つQf=56000GHzであった。
O3 −CaTiO3 系の誘電体セラミクスの特性は誘電
率ε=21で且つQf=56000GHzであった。
【0006】斯る従来のMgTiO3 −CaTiO3 系
の誘電体セラミクスの製造方法においては上述図3に示
す如く、製造工程数が比較的多く、それだけ時間と手数
を用し、それだけ製造される誘電体セラミクスが高価と
なる不都合があった。
の誘電体セラミクスの製造方法においては上述図3に示
す如く、製造工程数が比較的多く、それだけ時間と手数
を用し、それだけ製造される誘電体セラミクスが高価と
なる不都合があった。
【0007】本発明は斯る点に鑑み、製造工程数を減ら
し、より安価な低損失の誘電体セラミクスを提供するこ
とを目的とする。
し、より安価な低損失の誘電体セラミクスを提供するこ
とを目的とする。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明誘電体セラミクス
の製造方法は例えば図1に示す如く原料粉末の混合物を
造粒して得られる造粒物を加圧成形した後に焼成して製
造するMgTiO3 −CaTiO3 系の誘電体セラミク
スの製造方法であって、焼成温度を1280℃〜132
0℃の範囲で製造するようにしたものである。
の製造方法は例えば図1に示す如く原料粉末の混合物を
造粒して得られる造粒物を加圧成形した後に焼成して製
造するMgTiO3 −CaTiO3 系の誘電体セラミク
スの製造方法であって、焼成温度を1280℃〜132
0℃の範囲で製造するようにしたものである。
【0009】
【作用】本発明によれば従来製造工程に比し、仮焼しな
いので、それだけ製造工程数が少なくなると共に焼成温
度を1280℃〜1320℃としたので、従来と同様に
良好な低損失特性及び誘電率の誘電体セラミクスを得る
ことができる。
いので、それだけ製造工程数が少なくなると共に焼成温
度を1280℃〜1320℃としたので、従来と同様に
良好な低損失特性及び誘電率の誘電体セラミクスを得る
ことができる。
【0010】
【実施例】以下図面を参照して本発明誘電体セラミクス
の製造方法の実施例につき説明する。先ず、本例におい
てはTiO2 ,MgO,CaCO3 の原料粉末を(Mg
0.95Ca0.05)TiO3 で示される組成に秤量し、これ
をボールミルで15時間湿式混合する。
の製造方法の実施例につき説明する。先ず、本例におい
てはTiO2 ,MgO,CaCO3 の原料粉末を(Mg
0.95Ca0.05)TiO3 で示される組成に秤量し、これ
をボールミルで15時間湿式混合する。
【0011】その後、この混合物を乾燥機で100℃、
20時間乾燥し、これを粉砕する。この粉砕物に成形用
バインダーとしてPVA10%水溶液を10%添加し、
#28のふるいで分級し、これを造粒粉とする。
20時間乾燥し、これを粉砕する。この粉砕物に成形用
バインダーとしてPVA10%水溶液を10%添加し、
#28のふるいで分級し、これを造粒粉とする。
【0012】この造粒物を水分調整してプレス圧8.2
MPa、加圧時間200秒で成形を行う。この成形体を
焼成炉を用いて、図2に示す如く焼成温度を1250
℃,1270℃,1280℃,1290℃,1300
℃,1310℃,1320℃及び1350℃と変化し、
夫々焼成時間5時間、O2 雰囲気で焼成した。
MPa、加圧時間200秒で成形を行う。この成形体を
焼成炉を用いて、図2に示す如く焼成温度を1250
℃,1270℃,1280℃,1290℃,1300
℃,1310℃,1320℃及び1350℃と変化し、
夫々焼成時間5時間、O2 雰囲気で焼成した。
【0013】この場合、焼成した誘電体セラミクスを直
径19mm、厚さ7.6mmの円柱に加工し、誘電体共
振器法により測定周波数3GHz〜6GHzの範囲で共
振周波数fとそのQ値を測定し、これからQf値を算出
した。この結果を図2に示す。またこの誘電体セラミク
スの誘電率εは21であった。
径19mm、厚さ7.6mmの円柱に加工し、誘電体共
振器法により測定周波数3GHz〜6GHzの範囲で共
振周波数fとそのQ値を測定し、これからQf値を算出
した。この結果を図2に示す。またこの誘電体セラミク
スの誘電率εは21であった。
【0014】この図2の結果よりして、この焼成温度を
1280℃〜1320℃としたときにこのQf値が従来
のMgTiO3 −CaTiO3 系の誘電体セラミクスの
最高レベルの低損失特性であるQf=55000GHz
であった。
1280℃〜1320℃としたときにこのQf値が従来
のMgTiO3 −CaTiO3 系の誘電体セラミクスの
最高レベルの低損失特性であるQf=55000GHz
であった。
【0015】以上述べた如く、本例によれば従来の誘電
体セラミクスの製造工程の仮焼工程を省略し、これに伴
う粉砕工程、2次混合工程、乾燥工程を削減でき、この
製造工程数を削減しただけ時間及び手数が少なくなりそ
れだけ安価に誘電体セラミクスを得ることができる利益
がある。
体セラミクスの製造工程の仮焼工程を省略し、これに伴
う粉砕工程、2次混合工程、乾燥工程を削減でき、この
製造工程数を削減しただけ時間及び手数が少なくなりそ
れだけ安価に誘電体セラミクスを得ることができる利益
がある。
【0016】また本例によれば焼成温度を1280℃〜
1320℃としたのでQf値の高い従来のMgTiO3
−CaTiO3 系の誘電体セラミクスの最高レベルの低
損失特性のものを得ることができる利益がある。
1320℃としたのでQf値の高い従来のMgTiO3
−CaTiO3 系の誘電体セラミクスの最高レベルの低
損失特性のものを得ることができる利益がある。
【0017】尚本発明は上述実施例に限ることなく本発
明の要旨を逸脱することなく、その他種々の構成が採り
得ることは勿論である。
明の要旨を逸脱することなく、その他種々の構成が採り
得ることは勿論である。
【0018】
【発明の効果】本発明によれば仮焼を省略すると共に焼
成温度を1280℃〜1320℃としたので低損失特性
の誘電体セラミクスを製造工程数が削減される分だけ容
易且つ安価に得ることができる利益がある。
成温度を1280℃〜1320℃としたので低損失特性
の誘電体セラミクスを製造工程数が削減される分だけ容
易且つ安価に得ることができる利益がある。
【図1】本発明による製造工程を示す線図である。
【図2】本発明の説明に供する線図である。
【図3】従来の製造工程を示す線図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 原料粉末の混合物を造粒して得られる造
粒物を加圧成形した後に焼成して製造するMgTiO3
−CaTiO3 系の誘電体セラミクスの製造方法であっ
て、焼成温度を1280℃〜1320℃の範囲で製造す
るようにしたことを特徴とする誘電体セラミクスの製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6207728A JPH0873265A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 誘電体セラミクスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP6207728A JPH0873265A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 誘電体セラミクスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0873265A true JPH0873265A (ja) | 1996-03-19 |
Family
ID=16544564
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP6207728A Withdrawn JPH0873265A (ja) | 1994-08-31 | 1994-08-31 | 誘電体セラミクスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0873265A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108383520A (zh) * | 2018-02-02 | 2018-08-10 | 天津大学 | 一种超低损耗型MgTiO3基微波介质陶瓷的制备方法 |
-
1994
- 1994-08-31 JP JP6207728A patent/JPH0873265A/ja not_active Withdrawn
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN108383520A (zh) * | 2018-02-02 | 2018-08-10 | 天津大学 | 一种超低损耗型MgTiO3基微波介质陶瓷的制备方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A761 | Written withdrawal of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 Effective date: 20040319 |