JPH09265156A - ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 - Google Patents
ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法Info
- Publication number
- JPH09265156A JPH09265156A JP7228196A JP7228196A JPH09265156A JP H09265156 A JPH09265156 A JP H09265156A JP 7228196 A JP7228196 A JP 7228196A JP 7228196 A JP7228196 A JP 7228196A JP H09265156 A JPH09265156 A JP H09265156A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- silver halide
- halide photographic
- sensitive material
- general formula
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- -1 Silver halide Chemical class 0.000 title claims abstract description 261
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 97
- 239000004332 silver Substances 0.000 title claims abstract description 97
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 68
- 238000003672 processing method Methods 0.000 title description 8
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 claims abstract description 54
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 claims abstract description 49
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims abstract description 39
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 claims abstract description 15
- 239000007787 solid Substances 0.000 claims abstract description 14
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 52
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 42
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims description 42
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 39
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 35
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 35
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 claims description 30
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 claims description 28
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 claims description 27
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 21
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 claims description 20
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 claims description 18
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 18
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical class C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 claims description 16
- 125000004093 cyano group Chemical group *C#N 0.000 claims description 13
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 13
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims description 11
- 150000002429 hydrazines Chemical class 0.000 claims description 10
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 9
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 claims description 7
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 claims description 7
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 claims description 7
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 claims description 7
- CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N D-araboascorbic acid Natural products OC[C@@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-DUZGATOHSA-N 0.000 claims description 6
- 235000010350 erythorbic acid Nutrition 0.000 claims description 6
- 239000004318 erythorbic acid Substances 0.000 claims description 6
- 229940026239 isoascorbic acid Drugs 0.000 claims description 6
- 229910052755 nonmetal Chemical group 0.000 claims description 6
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000005205 dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 claims description 5
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims description 5
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000011651 chromium Substances 0.000 claims description 4
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 4
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 claims description 4
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 claims description 3
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 claims description 3
- MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N pyrazolo[3,4-d]triazole Chemical compound N1=NN=C2N=NC=C21 MCSKRVKAXABJLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 125000003831 tetrazolyl group Chemical group 0.000 claims description 3
- KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N Ruthenium Chemical compound [Ru] KJTLSVCANCCWHF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 230000003213 activating effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052741 iridium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N iridium atom Chemical compound [Ir] GKOZUEZYRPOHIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052702 rhenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N rhenium atom Chemical compound [Re] WUAPFZMCVAUBPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052707 ruthenium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000002245 particle Substances 0.000 abstract description 28
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 82
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 59
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 58
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 54
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 36
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 36
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 36
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 36
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 36
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 36
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 36
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 31
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 28
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 20
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 20
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 20
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 17
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 16
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 238000011161 development Methods 0.000 description 15
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 15
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 15
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 14
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 14
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 12
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 12
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 12
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 11
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 10
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 10
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 10
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 10
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 10
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 10
- 125000000565 sulfonamide group Chemical group 0.000 description 10
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 description 9
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 9
- 125000000113 cyclohexyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 9
- 125000001624 naphthyl group Chemical group 0.000 description 9
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 9
- 125000001797 benzyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])* 0.000 description 8
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 8
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 8
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N Furan Chemical group C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N Morpholine Chemical group C1COCCN1 YNAVUWVOSKDBBP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N Pyrrolidine Chemical group C1CCNC1 RWRDLPDLKQPQOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 7
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 7
- 125000004104 aryloxy group Chemical group 0.000 description 7
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 7
- 125000002843 carboxylic acid group Chemical group 0.000 description 7
- 125000001511 cyclopentyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C1([H])[H] 0.000 description 7
- 125000001559 cyclopropyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C1([H])* 0.000 description 7
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 7
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N hydrogen iodide Chemical compound I XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 7
- 230000008569 process Effects 0.000 description 7
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 7
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 7
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 7
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 7
- 125000000094 2-phenylethyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000004442 acylamino group Chemical group 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- 125000004414 alkyl thio group Chemical group 0.000 description 6
- 150000001450 anions Chemical class 0.000 description 6
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000004051 hexyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 6
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 6
- GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L sodium sulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])=O GEHJYWRUCIMESM-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 6
- HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N sulfolane Chemical group O=S1(=O)CCCC1 HXJUTPCZVOIRIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 6
- RYSSHRPXAZAOPU-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-tris(4-methylphenyl)-1h-tetrazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(C)=CC=C1N1N(C=2C=CC(C)=CC=2)N=C(C=2C=CC(C)=CC=2)[NH2+]1 RYSSHRPXAZAOPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- KIGKDDXZZMHYRT-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(3-methylphenyl)-5-phenyl-1h-tetrazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CC1=CC=CC(N2N(N=C([NH2+]2)C=2C=CC=CC=2)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 KIGKDDXZZMHYRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenesulfonic acid Chemical compound OS(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 AGBXYHCHUYARJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- 229940090898 Desensitizer Drugs 0.000 description 5
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N Thiazole Chemical group C1=CSC=N1 FZWLAAWBMGSTSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000738 acetamido group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)N([H])[*] 0.000 description 5
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 5
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 5
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 5
- 125000005110 aryl thio group Chemical group 0.000 description 5
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 5
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 5
- 230000006911 nucleation Effects 0.000 description 5
- 238000010899 nucleation Methods 0.000 description 5
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical class O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000168 pyrrolyl group Chemical group 0.000 description 5
- 239000001397 quillaja saponaria molina bark Substances 0.000 description 5
- 229930182490 saponin Natural products 0.000 description 5
- 150000007949 saponins Chemical class 0.000 description 5
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 5
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 5
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M toluene-4-sulfonate Chemical compound CC1=CC=C(S([O-])(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000002699 waste material Substances 0.000 description 5
- IYIJNMGGEGVHKF-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(4-methylphenyl)-5-phenyl-1h-tetrazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(C)=CC=C1N1N(C=2C=CC(C)=CC=2)N=C(C=2C=CC=CC=2)[NH2+]1 IYIJNMGGEGVHKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N Benzamide Chemical compound NC(=O)C1=CC=CC=C1 KXDAEFPNCMNJSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N Benzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KHBQMWCZKVMBLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O ammonium group Chemical group [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 4
- 125000005161 aryl oxy carbonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000006165 cyclic alkyl group Chemical group 0.000 description 4
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N glyoxal Chemical compound O=CC=O LEQAOMBKQFMDFZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010931 gold Substances 0.000 description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002883 imidazolyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 4
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 4
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 4
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 4
- 125000001160 methoxycarbonyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC(*)=O 0.000 description 4
- 125000001570 methylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])[*:2] 0.000 description 4
- 125000004170 methylsulfonyl group Chemical group [H]C([H])([H])S(*)(=O)=O 0.000 description 4
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000002347 octyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 125000003170 phenylsulfonyl group Chemical group C1(=CC=CC=C1)S(=O)(=O)* 0.000 description 4
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M potassium bromide Chemical compound [K+].[Br-] IOLCXVTUBQKXJR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 239000003755 preservative agent Substances 0.000 description 4
- 125000001325 propanoyl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 4
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 4
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 4
- WJBOXEGAWJHKIM-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzoxazole-5-carboxylic acid Chemical group OC(=O)C1=CC=C2OC=NC2=C1 WJBOXEGAWJHKIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000355 1,3-benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 3
- 125000006017 1-propenyl group Chemical group 0.000 description 3
- NOZHYDNCKJJAFH-UHFFFAOYSA-N 2,3-bis(4-methoxyphenyl)-5-phenyl-1h-tetrazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(OC)=CC=C1N1N(C=2C=CC(OC)=CC=2)N=C(C=2C=CC=CC=2)[NH2+]1 NOZHYDNCKJJAFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000954 2-hydroxyethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])O[H] 0.000 description 3
- 125000004200 2-methoxyethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylbuta-1,3-diene;styrene Chemical compound CC(=C)C=C.C=CC1=CC=CC=C1 ROGIWVXWXZRRMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000006024 2-pentenyl group Chemical group 0.000 description 3
- DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(CO)CN1C1=CC=CC=C1 DSVIHYOAKPVFEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004070 6 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 3
- CUXGDKOCSSIRKK-UHFFFAOYSA-N 7-methyloctyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)CCCCCCOC(=O)C=C CUXGDKOCSSIRKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XIBHHWBJHOTHGZ-KODRXGBYSA-N 9-[(2r,3s,4r)-2,3,4,5-tetrahydroxypentyl]-3,7-dihydropurine-2,6,8-trione Chemical compound N1C(=O)NC(=O)C2=C1N(C[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO)C(=O)N2 XIBHHWBJHOTHGZ-KODRXGBYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M Bromide Chemical compound [Br-] CPELXLSAUQHCOX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical group [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N EDTA Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KCXVZYZYPLLWCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N Pyrimidine Chemical group C1=CN=CN=C1 CZPWVGJYEJSRLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N Thiophene Chemical group C=1C=CSC=1 YTPLMLYBLZKORZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 3
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 3
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 3
- IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N benzothiazole Chemical class C1=CC=C2SC=NC2=C1 IOJUPLGTWVMSFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 3
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 3
- OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N butane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCS(N)(=O)=O OVIZSQRQYWEGON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DHNRXBZYEKSXIM-UHFFFAOYSA-N chloromethylisothiazolinone Chemical compound CN1SC(Cl)=CC1=O DHNRXBZYEKSXIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VZWXIQHBIQLMPN-UHFFFAOYSA-N chromane Chemical group C1=CC=C2CCCOC2=C1 VZWXIQHBIQLMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 3
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000000586 desensitisation Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 125000004185 ester group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 3
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 3
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 3
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 3
- HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N methanesulfonimidic acid Chemical compound CS(N)(=O)=O HNQIVZYLYMDVSB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 3
- 229910000510 noble metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 125000001400 nonyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- QWOKKHXWFDAJCZ-UHFFFAOYSA-N octane-1-sulfonamide Chemical compound CCCCCCCCS(N)(=O)=O QWOKKHXWFDAJCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 3
- RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N oxiran-2-ylmethyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OCC1CO1 RPQRDASANLAFCM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 3
- 125000001147 pentyl group Chemical group C(CCCC)* 0.000 description 3
- 125000003356 phenylsulfanyl group Chemical group [*]SC1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 3
- 125000004193 piperazinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003386 piperidinyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 3
- 125000004076 pyridyl group Chemical group 0.000 description 3
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 3
- 235000010265 sodium sulphite Nutrition 0.000 description 3
- BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M sulfonate Chemical compound [O-]S(=O)=O BDHFUVZGWQCTTF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 3
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 3
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 3
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 3
- JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N urethane group Chemical group NC(=O)OCC JOYRKODLDBILNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 1-Phenyl-5-mercaptotetrazole Chemical compound SC1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 GGZHVNZHFYCSEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 2-nitro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC([N+](=O)[O-])=NC2=C1 KRTDQDCPEZRVGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNHFAGRBSMMFKL-UHFFFAOYSA-N 2-sulfanylidene-3,7-dihydropurin-6-one Chemical compound O=C1NC(=S)NC2=C1NC=N2 XNHFAGRBSMMFKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 4-aminophenol Chemical compound NC1=CC=C(O)C=C1 PLIKAWJENQZMHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1h-1,2,3-benzotriazole Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=NNN=C12 UTMDJGPRCLQPBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002373 5 membered heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- VYDWQPKRHOGLPA-UHFFFAOYSA-N 5-nitroimidazole Chemical group [O-][N+](=O)C1=CN=CN1 VYDWQPKRHOGLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZXQHSPWBYMLHLB-BXTVWIJMSA-M 6-ethoxy-1-methyl-2-[(e)-2-(3-nitrophenyl)ethenyl]quinolin-1-ium;methyl sulfate Chemical compound COS([O-])(=O)=O.C1=CC2=CC(OCC)=CC=C2[N+](C)=C1\C=C\C1=CC=CC([N+]([O-])=O)=C1 ZXQHSPWBYMLHLB-BXTVWIJMSA-M 0.000 description 2
- LVDKZNITIUWNER-UHFFFAOYSA-N Bronopol Chemical compound OCC(Br)(CO)[N+]([O-])=O LVDKZNITIUWNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004648 C2-C8 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N Glutaraldehyde Chemical compound O=CCCCC=O SXRSQZLOMIGNAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N N,N-bis{2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl}glycine Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(=O)O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O QPCDCPDFJACHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N Pyrazine Chemical compound C1=CN=CC=N1 KYQCOXFCLRTKLS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 2
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SRNKZYRMFBGSGE-UHFFFAOYSA-N [1,2,4]triazolo[1,5-a]pyrimidine Chemical compound N1=CC=CN2N=CN=C21 SRNKZYRMFBGSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 2
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 2
- 125000003302 alkenyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005529 alkyleneoxy group Chemical group 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N ammonium thiosulfate Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])(=O)=S XYXNTHIYBIDHGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N benzenesulfinic acid Chemical compound O[S@@](=O)C1=CC=CC=C1 JEHKKBHWRAXMCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N benzotriazole Chemical compound C1=CC=C2N[N][N]C2=C1 QRUDEWIWKLJBPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012964 benzotriazole Substances 0.000 description 2
- 125000004106 butoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 2
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 2
- 239000002738 chelating agent Substances 0.000 description 2
- 125000001309 chloro group Chemical group Cl* 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 2
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical group C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000332 coumarinyl group Chemical group O1C(=O)C(=CC2=CC=CC=C12)* 0.000 description 2
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N cyclopentanone Chemical compound O=C1CCCC1 BGTOWKSIORTVQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 2
- 125000003438 dodecyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 125000000816 ethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 2
- 229940015043 glyoxal Drugs 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N hydrazine Substances NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- 125000005029 naphthylthio group Chemical group C1(=CC=CC2=CC=CC=C12)S* 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 2
- 125000003452 oxalyl group Chemical group *C(=O)C(*)=O 0.000 description 2
- 125000005740 oxycarbonyl group Chemical group [*:1]OC([*:2])=O 0.000 description 2
- 239000006174 pH buffer Substances 0.000 description 2
- 230000036961 partial effect Effects 0.000 description 2
- 229960003330 pentetic acid Drugs 0.000 description 2
- 125000000951 phenoxy group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(O*)C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 2
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 230000002335 preservative effect Effects 0.000 description 2
- 230000002265 prevention Effects 0.000 description 2
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 2
- WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N pyrogallol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1O WQGWDDDVZFFDIG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 description 2
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 2
- 238000011160 research Methods 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 2
- SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N silver(1+) nitrate Chemical compound [Ag+].[O-]N(=O)=O SQGYOTSLMSWVJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M sodium bromide Chemical compound [Na+].[Br-] JHJLBTNAGRQEKS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 2
- 230000006641 stabilisation Effects 0.000 description 2
- 238000011105 stabilization Methods 0.000 description 2
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 2
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 2
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000003464 sulfur compounds Chemical class 0.000 description 2
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 2
- 125000003396 thiol group Chemical group [H]S* 0.000 description 2
- 150000004764 thiosulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 2
- UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N thiourea Chemical compound NC(N)=S UMGDCJDMYOKAJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N toluquinol Chemical compound CC1=CC(O)=CC=C1O CNHDIAIOKMXOLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004417 unsaturated alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N (e)-2,3-dichloro-4-oxobut-2-enoic acid Chemical compound OC(=O)C(\Cl)=C(/Cl)C=O LUMLZKVIXLWTCI-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 1,2,3-thiadiazole Chemical group C1=CSN=N1 UGUHFDPGDQDVGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 1,3-benzothiazole-2-thiol Chemical class C1=CC=C2SC(S)=NC2=C1 YXIWHUQXZSMYRE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 1,3-dihydrobenzimidazole-2-thione Chemical class C1=CC=C2NC(S)=NC2=C1 YHMYGUUIMTVXNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KCOPAESEGCGTKM-UHFFFAOYSA-N 1,3-oxazol-4-one Chemical compound O=C1COC=N1 KCOPAESEGCGTKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 1,4-dihydropyrazol-5-one Chemical compound O=C1CC=NN1 ZRHUHDUEXWHZMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- YLVACWCCJCZITJ-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxane-2,3-diol Chemical compound OC1OCCOC1O YLVACWCCJCZITJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 1-(hydroxymethyl)-5,5-dimethylhydantoin Chemical compound CC1(C)N(CO)C(=O)NC1=O SIQZJFKTROUNPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 1-[3,5-di(prop-2-enoyl)-1,3,5-triazinan-1-yl]prop-2-en-1-one Chemical compound C=CC(=O)N1CN(C(=O)C=C)CN(C(=O)C=C)C1 FYBFGAFWCBMEDG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-2,4-dioxo-1,3-diazinane-5-carboximidamide Chemical compound CN1CC(C(N)=N)C(=O)NC1=O IXPNQXFRVYWDDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 1-naphthol Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1 KJCVRFUGPWSIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IYPXPGSELZFFMI-UHFFFAOYSA-N 1-phenyltetrazole Chemical group C1=NN=NN1C1=CC=CC=C1 IYPXPGSELZFFMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 1H-tetrazole Substances C=1N=NNN=1 KJUGUADJHNHALS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 1h-tetrazol-1-ium-5-thiolate Chemical compound SC1=NN=NN1 JAAIPIWKKXCNOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 1h-triazine-6-thione Chemical class SC1=CC=NN=N1 HAZJTCQWIDBCCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PJZUHDNFFKKYGX-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-tris(4-methoxyphenyl)-1h-tetrazol-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC(OC)=CC=C1N1N(C=2C=CC(OC)=CC=2)N=C(C=2C=CC(OC)=CC=2)[NH2+]1 PJZUHDNFFKKYGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dichlorobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1Cl DBCKMJVEAUXWJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXRMONLWGVERSU-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethyl-6-nitro-1,3-benzothiazol-3-ium Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C2[N+](C)=C(C)SC2=C1 KXRMONLWGVERSU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GPASWZHHWPVSRG-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylbenzene-1,4-diol Chemical compound CC1=CC(O)=C(C)C=C1O GPASWZHHWPVSRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 2,6-dichloro-1h-1,3,5-triazin-4-one Chemical compound OC1=NC(Cl)=NC(Cl)=N1 YKUDHBLDJYZZQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQRQFLMLMSIRPO-UHFFFAOYSA-N 2-(4-aminophenyl)-1,3-dihydropyrazol-5-amine Chemical compound N1C(N)=CCN1C1=CC=C(N)C=C1 UQRQFLMLMSIRPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 2-(methylamino)phenol Chemical compound CNC1=CC=CC=C1O JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 2-Isopropyl-1,4-benzenediol Chemical compound CC(C)C1=CC(O)=CC=C1O HIGSPBFIOSHWQG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIFUHBCTWDDLGY-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(4-nitrophenyl)ethenyl]quinoline Chemical compound C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1C=CC1=CC=C(C=CC=C2)C2=N1 PIFUHBCTWDDLGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KHJWSKNOMFJTDN-UHFFFAOYSA-N 2-[2-[bis(carboxymethyl)amino]ethyl-(carboxymethyl)amino]acetic acid;sodium Chemical compound [Na].OC(=O)CN(CC(O)=O)CCN(CC(O)=O)CC(O)=O KHJWSKNOMFJTDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMZYMAFXGOVIHW-UHFFFAOYSA-N 2-[4-(methylamino)phenyl]-1,3-dihydropyrazol-5-amine Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1N1NC(N)=CC1 CMZYMAFXGOVIHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Br)=NC2=C1 PHPYXVIHDRDPDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzene-1,4-diol Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Br)=C1 REFDOIWRJDGBHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 2-chloro-1h-benzimidazole Chemical class C1=CC=C2NC(Cl)=NC2=C1 AYPSHJCKSDNETA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WIJHIIGSROSLEP-UHFFFAOYSA-N 2-dodecyloxirane propanethioamide Chemical compound C(CC)(=S)N.C(CCCCCCCCCCC)C1CO1 WIJHIIGSROSLEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003504 2-oxazolinyl group Chemical group O1C(=NCC1)* 0.000 description 1
- ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 2-propan-2-ylnaphthalene-1-sulfonic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(S(O)(=O)=O)C(C(C)C)=CC=C21 ZTFYJIXFKGPCHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 2h-triazol-4-amine Chemical class NC1=CNN=N1 JSIAIROWMJGMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 2h-triazolo[4,5-c]pyridazine Chemical class N1=NC=CC2=C1N=NN2 CBHTTYDJRXOHHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WITVSXXDJMKFFE-UHFFFAOYSA-N 3,3-dimethyl-1,2-dihydroindene-5,6-diol Chemical compound OC1=C(O)C=C2C(C)(C)CCC2=C1 WITVSXXDJMKFFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 3,5-dihydro-4H-imidazol-4-one Chemical compound O=C1CNC=N1 CAAMSDWKXXPUJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GCABLKFGYPIVFC-UHFFFAOYSA-N 3-(1-benzofuran-2-yl)-3-oxopropanenitrile Chemical compound C1=CC=C2OC(C(CC#N)=O)=CC2=C1 GCABLKFGYPIVFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KZJQRISMKCAJAM-UHFFFAOYSA-N 3-(tetrazol-1-yl)benzenesulfonic acid Chemical group OS(=O)(=O)C1=CC=CC(N2N=NN=C2)=C1 KZJQRISMKCAJAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PHBQDVOLZRHPOJ-UHFFFAOYSA-N 3-ethenylsulfonyl-n-[(3-ethenylsulfonylpropanoylamino)methyl]propanamide Chemical compound C=CS(=O)(=O)CCC(=O)NCNC(=O)CCS(=O)(=O)C=C PHBQDVOLZRHPOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTURATSJVPIURD-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-benzo[g]indazole Chemical compound C1=CC2=CC=CC=C2C2=C1C([N+](=O)[O-])=NN2 JTURATSJVPIURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 3-nitro-1h-indazole Chemical class C1=CC=C2C([N+](=O)[O-])=NNC2=C1 OWIRCRREDNEXTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRZDIHADHZSFBB-UHFFFAOYSA-N 3-oxo-n,3-diphenylpropanamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)CC(=O)C1=CC=CC=C1 XRZDIHADHZSFBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 3h-1,3-thiazole-2-thione Chemical class SC1=NC=CS1 OCVLSHAVSIYKLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 4,4-difluorocyclohexan-1-one Chemical compound FC1(F)CCC(=O)CC1 NYYSPVRERVXMLJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 4,4-dimethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)(C)CN1C1=CC=CC=C1 SJSJAWHHGDPBOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQQGQVUWBXURTA-UHFFFAOYSA-N 4-ethyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(CC)CN1C1=CC=CC=C1 FQQGQVUWBXURTA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004172 4-methoxyphenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(OC([H])([H])[H])=C([H])C([H])=C1* 0.000 description 1
- ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound N1C(=O)C(C)CN1C1=CC=CC=C1 ZZEYCGJAYIHIAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 4-methylaminophenol Chemical compound CNC1=CC=C(O)C=C1 ZFIQGRISGKSVAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBTVZVUYPVQEIF-UHFFFAOYSA-N 4-nitro-1h-indazole Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC=CC2=C1C=NN2 WBTVZVUYPVQEIF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 5-methyl-1-phenylpyrazolidin-3-one Chemical compound CC1CC(=O)NN1C1=CC=CC=C1 FIARATPVIIDWJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-1h-indazole Chemical group [O-][N+](=O)C1=CC=C2NN=CC2=C1 WSGURAYTCUVDQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 5-nitro-2h-benzotriazole Chemical group C1=C([N+](=O)[O-])C=CC2=NNN=C21 AOCDQWRMYHJTMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIQKIFWTIQDQMM-UHFFFAOYSA-N 5h-1,3-oxazole-2-thione Chemical compound S=C1OCC=N1 GIQKIFWTIQDQMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 102000009027 Albumins Human genes 0.000 description 1
- 108010088751 Albumins Proteins 0.000 description 1
- 240000002234 Allium sativum Species 0.000 description 1
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920002134 Carboxymethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002085 Dialdehyde starch Polymers 0.000 description 1
- PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N Diammonium sulfite Chemical compound [NH4+].[NH4+].[O-]S([O-])=O PQUCIEFHOVEZAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004354 Hydroxyethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920000663 Hydroxyethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- WFKPHYKFAOXUTI-UHFFFAOYSA-N NP-101A Chemical compound CC(=O)NC1=CC=CC=C1C(N)=O WFKPHYKFAOXUTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N Nitrate Chemical compound [O-][N+]([O-])=O NHNBFGGVMKEFGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000047703 Nonion Species 0.000 description 1
- JQIZFAZDGDIWSW-FPLPWBNLSA-N O(C1=CC=CC=C1)C(/C(=C(C(=O)O)/Cl)/Cl)=O Chemical compound O(C1=CC=CC=C1)C(/C(=C(C(=O)O)/Cl)/Cl)=O JQIZFAZDGDIWSW-FPLPWBNLSA-N 0.000 description 1
- ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N Oxazole Chemical compound C1=COC=N1 ZCQWOFVYLHDMMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N Phenazine Natural products C1=CC=CC2=NC3=CC=CC=C3N=C21 PCNDJXKNXGMECE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 1
- 229920002845 Poly(methacrylic acid) Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229920000388 Polyphosphate Polymers 0.000 description 1
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N Propyl levulinate Chemical compound CCCOC(=O)CCC(C)=O QOSMNYMQXIVWKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M Sodium acetate Chemical compound [Na+].CC([O-])=O VMHLLURERBWHNL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L Sulfate Chemical compound [O-]S([O-])(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N Tartaric acid Natural products [H+].[H+].[O-]C(=O)C(O)C(O)C([O-])=O FEWJPZIEWOKRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M Thiocyanate anion Chemical compound [S-]C#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 241001061127 Thione Species 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Natural products NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N [Ag].BrCl Chemical compound [Ag].BrCl SJOOOZPMQAWAOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000274 adsorptive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 1
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005133 alkynyloxy group Chemical group 0.000 description 1
- 229940037003 alum Drugs 0.000 description 1
- AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N alumane Chemical class [AlH3] AZDRQVAHHNSJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011126 aluminium potassium sulphate Nutrition 0.000 description 1
- DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H aluminium sulfate (anhydrous) Chemical compound [Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O DIZPMCHEQGEION-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- XIWMTQIUUWJNRP-UHFFFAOYSA-N amidol Chemical compound NC1=CC=C(O)C(N)=C1 XIWMTQIUUWJNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N ammonium thiocyanate Chemical compound [NH4+].[S-]C#N SOIFLUNRINLCBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002490 anilino group Chemical group [H]N(*)C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 238000005349 anion exchange Methods 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000002518 antifoaming agent Substances 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 150000003851 azoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000003796 beauty Effects 0.000 description 1
- 125000003785 benzimidazolyl group Chemical group N1=C(NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 125000001164 benzothiazolyl group Chemical group S1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 150000001565 benzotriazoles Chemical class 0.000 description 1
- 125000004541 benzoxazolyl group Chemical group O1C(=NC2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000004061 bleaching Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001661 cadmium Chemical class 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000001768 carboxy methyl cellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010948 carboxy methyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000008112 carboxymethyl-cellulose Substances 0.000 description 1
- 239000005018 casein Substances 0.000 description 1
- BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N casein, tech. Chemical compound NCCCCC(C(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CC(C)C)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(C(C)O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=O)N=C(O)C(COP(O)(O)=O)N=C(O)C(CCC(O)=N)N=C(O)C(N)CC1=CC=CC=C1 BECPQYXYKAMYBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021240 caseins Nutrition 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920006217 cellulose acetate butyrate Polymers 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N chloric acid Chemical compound OCl(=O)=O XTEGARKTQYYJKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940005991 chloric acid Drugs 0.000 description 1
- AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N chlorohydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C(Cl)=C1 AJPXTSMULZANCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000068 chlorophenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000001844 chromium Chemical class 0.000 description 1
- WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K chromium(3+);triacetate Chemical compound [Cr+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O WYYQVWLEPYFFLP-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229940125898 compound 5 Drugs 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 1
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002704 decyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000007857 degradation product Substances 0.000 description 1
- 238000011033 desalting Methods 0.000 description 1
- BUACSMWVFUNQET-UHFFFAOYSA-H dialuminum;trisulfate;hydrate Chemical compound O.[Al+3].[Al+3].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O BUACSMWVFUNQET-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 150000001991 dicarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 150000005690 diesters Chemical class 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 125000002147 dimethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002012 dioxanes Chemical class 0.000 description 1
- FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L dipotassium;dioxido-oxo-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])(=O)=S FGRVOLIFQGXPCT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N dodecyl hydrogen sulfate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOS(O)(=O)=O MOTZDAYCYVMXPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043264 dodecyl sulfate Drugs 0.000 description 1
- 238000004043 dyeing Methods 0.000 description 1
- 230000005611 electricity Effects 0.000 description 1
- 125000006575 electron-withdrawing group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007515 enzymatic degradation Effects 0.000 description 1
- 125000003754 ethoxycarbonyl group Chemical group C(=O)(OCC)* 0.000 description 1
- 125000006627 ethoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000031 ethylamino group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])N([H])[*] 0.000 description 1
- 125000004705 ethylthio group Chemical group C(C)S* 0.000 description 1
- 238000005562 fading Methods 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 description 1
- 125000002541 furyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000004611 garlic Nutrition 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 1
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 1
- 150000002344 gold compounds Chemical class 0.000 description 1
- 229920000578 graft copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229940093915 gynecological organic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- 150000002366 halogen compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N hydrogen thiocyanate Natural products SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N hydroquinone methyl ether Natural products COC1=CC=C(O)C=C1 NWVVVBRKAWDGAB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N hydroxy-oxo-phenyl-sulfanylidene-$l^{6}-sulfane Chemical compound SS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 AKCUHGBLDXXTOM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 235000019447 hydroxyethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 125000004464 hydroxyphenyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005462 imide group Chemical group 0.000 description 1
- QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N indan-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)CCC2=C1 QNXSIUBBGPHDDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LOCAIGRSOJUCTB-UHFFFAOYSA-N indazol-3-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N=NC2=C1 LOCAIGRSOJUCTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003453 indazolyl group Chemical group N1N=C(C2=C1C=CC=C2)* 0.000 description 1
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M iodide Chemical compound [I-] XMBWDFGMSWQBCA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 150000002503 iridium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003253 isopropoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(O*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 150000002545 isoxazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000003446 ligand Substances 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- 125000006626 methoxycarbonylamino group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000000250 methylamino group Chemical group [H]N(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000002816 methylsulfanyl group Chemical group [H]C([H])([H])S[*] 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N mucochloric acid Natural products OC1OC(=O)C(Cl)=C1Cl ZAKLKBFCSHJIRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YYAQOJILQOVUSK-UHFFFAOYSA-N n,n'-diphenylpropanediamide Chemical compound C=1C=CC=CC=1NC(=O)CC(=O)NC1=CC=CC=C1 YYAQOJILQOVUSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000740 n-pentyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 229910001120 nichrome Inorganic materials 0.000 description 1
- MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N nitrilotriacetic acid Chemical compound OC(=O)CN(CC(O)=O)CC(O)=O MGFYIUFZLHCRTH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 150000002843 nonmetals Chemical group 0.000 description 1
- LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N octadecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O LYRFLYHAGKPMFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 125000001741 organic sulfur group Chemical group 0.000 description 1
- 150000002907 osmium Chemical class 0.000 description 1
- 229910052762 osmium Inorganic materials 0.000 description 1
- SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N osmium atom Chemical compound [Os] SYQBFIAQOQZEGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoyttriooxy)yttrium Chemical compound O=[Y]O[Y]=O SIWVEOZUMHYXCS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001820 oxy group Chemical group [*:1]O[*:2] 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N oxymethurea Chemical compound OCNC(=O)NCO QUBQYFYWUJJAAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950005308 oxymethurea Drugs 0.000 description 1
- 125000003854 p-chlorophenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(*)=C([H])C([H])=C1Cl 0.000 description 1
- 125000001037 p-tolyl group Chemical group [H]C1=C([H])C(=C([H])C([H])=C1*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 description 1
- 239000006179 pH buffering agent Substances 0.000 description 1
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004115 pentoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000006678 phenoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 125000005544 phthalimido group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920000191 poly(N-vinyl pyrrolidone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002006 poly(N-vinylimidazole) polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 239000001205 polyphosphate Substances 0.000 description 1
- 235000011176 polyphosphates Nutrition 0.000 description 1
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 1
- 229920001021 polysulfide Polymers 0.000 description 1
- 239000005077 polysulfide Substances 0.000 description 1
- 150000008117 polysulfides Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229940050271 potassium alum Drugs 0.000 description 1
- GNHOJBNSNUXZQA-UHFFFAOYSA-J potassium aluminium sulfate dodecahydrate Chemical compound O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.O.[Al+3].[K+].[O-]S([O-])(=O)=O.[O-]S([O-])(=O)=O GNHOJBNSNUXZQA-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L potassium sulfite Chemical compound [K+].[K+].[O-]S([O-])=O BHZRJJOHZFYXTO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019252 potassium sulphite Nutrition 0.000 description 1
- ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M potassium thiocyanate Chemical compound [K+].[S-]C#N ZNNZYHKDIALBAK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940116357 potassium thiocyanate Drugs 0.000 description 1
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- 125000002572 propoxy group Chemical group [*]OC([H])([H])C(C([H])([H])[H])([H])[H] 0.000 description 1
- 235000018102 proteins Nutrition 0.000 description 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 description 1
- 102000004169 proteins and genes Human genes 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003226 pyrazolyl group Chemical group 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N pyrimidine-2-thiol Chemical class SC1=NC=CC=N1 HBCQSNAFLVXVAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000714 pyrimidinyl group Chemical group 0.000 description 1
- 229940079877 pyrogallol Drugs 0.000 description 1
- 150000003856 quaternary ammonium compounds Chemical class 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 230000008929 regeneration Effects 0.000 description 1
- 238000011069 regeneration method Methods 0.000 description 1
- 230000002441 reversible effect Effects 0.000 description 1
- 150000003283 rhodium Chemical class 0.000 description 1
- SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K rhodium(iii) chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Cl-].[Rh+3] SONJTKJMTWTJCT-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003303 ruthenium Chemical class 0.000 description 1
- SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N safranin O Chemical compound [Cl-].C12=CC(N)=CC=C2N=C2C=CC(N)=CC2=[N+]1C1=CC=CC=C1 SOUHUMACVWVDME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052711 selenium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 230000001953 sensory effect Effects 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical group [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001961 silver nitrate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 239000012748 slip agent Substances 0.000 description 1
- 239000010802 sludge Substances 0.000 description 1
- 239000001632 sodium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000017281 sodium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000661 sodium alginate Substances 0.000 description 1
- 235000010413 sodium alginate Nutrition 0.000 description 1
- 229940005550 sodium alginate Drugs 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L sodium disulfite Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S(=O)S([O-])(=O)=O HRZFUMHJMZEROT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229940001584 sodium metabisulfite Drugs 0.000 description 1
- 235000010262 sodium metabisulphite Nutrition 0.000 description 1
- VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M sodium thiocyanate Chemical compound [Na+].[S-]C#N VGTPCRGMBIAPIM-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L sodium thiosulfate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]S([O-])(=O)=S AKHNMLFCWUSKQB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000019345 sodium thiosulphate Nutrition 0.000 description 1
- MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M sodium;2-phenylethenesulfonate Chemical compound [Na+].[O-]S(=O)(=O)C=CC1=CC=CC=C1 MNCGMVDMOKPCSQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007962 solid dispersion Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 125000003107 substituted aryl group Chemical group 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L sulfite Chemical class [O-]S([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 125000000020 sulfo group Chemical group O=S(=O)([*])O[H] 0.000 description 1
- 125000004964 sulfoalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 125000006296 sulfonyl amino group Chemical group [H]N(*)S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 235000002906 tartaric acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000011975 tartaric acid Substances 0.000 description 1
- 229910052714 tellurium Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 1
- 150000003536 tetrazoles Chemical class 0.000 description 1
- 150000003475 thallium Chemical class 0.000 description 1
- JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N thiadiazole-4-thiol Chemical class SC1=CSN=N1 JJJPTTANZGDADF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003557 thiazoles Chemical class 0.000 description 1
- 239000002562 thickening agent Substances 0.000 description 1
- 125000001544 thienyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003567 thiocyanates Chemical class 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005323 thioketone group Chemical group 0.000 description 1
- 150000003585 thioureas Chemical class 0.000 description 1
- ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N thorium dioxide Chemical compound O=[Th]=O ZCUFMDLYAMJYST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003452 thorium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N toluene-4-sulfonic acid Chemical compound CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 150000003852 triazoles Chemical group 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002023 trifluoromethyl group Chemical group FC(F)(F)* 0.000 description 1
- 125000003258 trimethylene group Chemical group [H]C([H])([*:2])C([H])([H])C([H])([H])[*:1] 0.000 description 1
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 229910052720 vanadium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920001567 vinyl ester resin Polymers 0.000 description 1
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003751 zinc Chemical class 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Silver Salt Photography Or Processing Solution Therefor (AREA)
Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 明室下で取り扱い可能なハロゲン化銀写真感
光材料及びその処理方法、残色の少ないハロゲン化銀写
真感光材料及びその処理方法、及び感光材料の経時によ
る写真性能の変動の少ないハロゲン化銀写真感光材料及
びその処理方法の提供。 【解決手段】 支持体上にハロゲン化銀写真乳剤層を有
し、かつ非感光性親水性コロイド層を有するハロゲン化
銀写真感光材料において、少なくとも一層の親水性コロ
イド層に下記一般式（１）で表される染料の固体微粒子
分散体を含有するハロゲン化銀写真感光材料。 〔式中、Ｚａ、Ｚｂ及びＺｃは各々−Ｎ＝または−Ｃ
（Ｒ２）＝を表し、Ｒ１、Ｒ２は水素原子または一価の
置換基を表し、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は各々メチン基を表
し、Ｂ１は含酸素６員環を表し、ｎは０または１を表
す。〕
光材料及びその処理方法、残色の少ないハロゲン化銀写
真感光材料及びその処理方法、及び感光材料の経時によ
る写真性能の変動の少ないハロゲン化銀写真感光材料及
びその処理方法の提供。 【解決手段】 支持体上にハロゲン化銀写真乳剤層を有
し、かつ非感光性親水性コロイド層を有するハロゲン化
銀写真感光材料において、少なくとも一層の親水性コロ
イド層に下記一般式（１）で表される染料の固体微粒子
分散体を含有するハロゲン化銀写真感光材料。 〔式中、Ｚａ、Ｚｂ及びＺｃは各々−Ｎ＝または−Ｃ
（Ｒ２）＝を表し、Ｒ１、Ｒ２は水素原子または一価の
置換基を表し、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３は各々メチン基を表
し、Ｂ１は含酸素６員環を表し、ｎは０または１を表
す。〕
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、ハロゲン化銀写真
感光材料（以下、単に感光材料ともいう）及びその処理
方法に関し、詳しくは明室下で取り扱い可能なハロゲン
化銀写真感光材料及びその処理方法に関し、更に詳しく
は、明室下で取り扱い可能な印刷製版用ハロゲン化銀写
真感光材料及びその処理方法に関する。
感光材料（以下、単に感光材料ともいう）及びその処理
方法に関し、詳しくは明室下で取り扱い可能なハロゲン
化銀写真感光材料及びその処理方法に関し、更に詳しく
は、明室下で取り扱い可能な印刷製版用ハロゲン化銀写
真感光材料及びその処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、ハロゲン化銀写真感光材料は、高
感度かつ高解像力の画像を得ることができるため広く利
用されている。一方印刷製版用においては、作業性を向
上させる観点から明室下での安全光によるかぶりを減少
させるという要望があり、特開昭５５−１２００３０
号、同５５−１５５３５０号、同５５−１５５３５１
号、同５６−１２６３９号、同６３−２７８３８号、同
６３−１９７９４３号、特開平３−１６７５４６号、同
５−１１３８２号、国際出願公開８８／０６７９４号、
欧州特許４８９９７３号、同５２４５９４号では特定の
染料を感光材料中に含有させることを提案している。し
かしながらこれらの染料を含有させることにより処理時
の残色が劣化し、また特に感光材料の長期保存後の使用
において感度等の写真性能の変動があきらかとなった。
感度かつ高解像力の画像を得ることができるため広く利
用されている。一方印刷製版用においては、作業性を向
上させる観点から明室下での安全光によるかぶりを減少
させるという要望があり、特開昭５５−１２００３０
号、同５５−１５５３５０号、同５５−１５５３５１
号、同５６−１２６３９号、同６３−２７８３８号、同
６３−１９７９４３号、特開平３−１６７５４６号、同
５−１１３８２号、国際出願公開８８／０６７９４号、
欧州特許４８９９７３号、同５２４５９４号では特定の
染料を感光材料中に含有させることを提案している。し
かしながらこれらの染料を含有させることにより処理時
の残色が劣化し、また特に感光材料の長期保存後の使用
において感度等の写真性能の変動があきらかとなった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、明室下で取り扱い可能なハロゲン化銀写真感光材料
及びその処理方法を提供することにある。本発明の第二
の目的は、残色の少ないハロゲン化銀写真感光材料及び
その処理方法を提供することにある。本発明の第三の目
的は、感光材料の経時による写真性能の変動の少ないハ
ロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法を提供するこ
とにある。
は、明室下で取り扱い可能なハロゲン化銀写真感光材料
及びその処理方法を提供することにある。本発明の第二
の目的は、残色の少ないハロゲン化銀写真感光材料及び
その処理方法を提供することにある。本発明の第三の目
的は、感光材料の経時による写真性能の変動の少ないハ
ロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法を提供するこ
とにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、以
下の構成により達成される。
下の構成により達成される。
【０００５】１．支持体上にハロゲン化銀写真乳剤層を
有し、かつ非感光性親水性コロイド層を有するハロゲン
化銀写真感光材料において、少なくとも一層の親水性コ
ロイド層に下記一般式（１）で表される染料の固体微粒
子分散体を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料。
有し、かつ非感光性親水性コロイド層を有するハロゲン
化銀写真感光材料において、少なくとも一層の親水性コ
ロイド層に下記一般式（１）で表される染料の固体微粒
子分散体を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真
感光材料。
【０００６】
【化８】
【０００７】式中、Ｚａ、Ｚｂ及びＺｃは各々−Ｎ＝ま
たは−Ｃ（Ｒ2）＝を表し、Ｒ1、Ｒ2は水素原子または
一価の置換基を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を
表し、Ｂ1は含酸素６員環を表し、ｎは０または１を表
す。
たは−Ｃ（Ｒ2）＝を表し、Ｒ1、Ｒ2は水素原子または
一価の置換基を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を
表し、Ｂ1は含酸素６員環を表し、ｎは０または１を表
す。
【０００８】２．支持体上に感光性ハロゲン化銀写真乳
剤層を有し、かつ非感光性親水性コロイド層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料において、少なくとも一層の親
水性コロイド層に下記一般式（２）又は一般式（３）で
表される染料の固体微粒子分散体を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
剤層を有し、かつ非感光性親水性コロイド層を有するハ
ロゲン化銀写真感光材料において、少なくとも一層の親
水性コロイド層に下記一般式（２）又は一般式（３）で
表される染料の固体微粒子分散体を含有することを特徴
とするハロゲン化銀写真感光材料。
【０００９】
【化９】
【００１０】式中、Ｇ1，Ｇ2はシアノ基、−ＣＯＲ3、
−ＣＯＮＲ3Ｒ4、−ＯＣＯＲ3、−ＳＯ2Ｒ3、−ＳＯ2Ｎ
Ｒ3Ｒ4を表し、Ｒ3、Ｒ4はアルキル基、アリール基、複
素環基又はアルケニル基を表わし、Ｇ1，Ｇ2は同一でも
異なっていてもよく、Ｒ3とＲ4は互いに連結して５又は
６員環を形成してもよい。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン
基を表し、Ｂ1は含酸素６員環を表し、ｎは０または１
を表す。
−ＣＯＮＲ3Ｒ4、−ＯＣＯＲ3、−ＳＯ2Ｒ3、−ＳＯ2Ｎ
Ｒ3Ｒ4を表し、Ｒ3、Ｒ4はアルキル基、アリール基、複
素環基又はアルケニル基を表わし、Ｇ1，Ｇ2は同一でも
異なっていてもよく、Ｒ3とＲ4は互いに連結して５又は
６員環を形成してもよい。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン
基を表し、Ｂ1は含酸素６員環を表し、ｎは０または１
を表す。
【００１１】
【化１０】
【００１２】式中、Ａは以下の構造を表す。下記構造の
Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14は水素原子または置換基を示す。
Ｒ12，Ｒ13は互いに連結して５又は６員環を形成しても
良い。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、Ｂ1は含酸
素６員環を表し、ｎは０または１を表す。
Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14は水素原子または置換基を示す。
Ｒ12，Ｒ13は互いに連結して５又は６員環を形成しても
良い。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、Ｂ1は含酸
素６員環を表し、ｎは０または１を表す。
【００１３】
【化１１】
【００１４】３．塩化銀含有率が７０モル％以上であ
り、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、レニウム、ク
ロミウム、オスニウム、銅から選ばれる遷移金属の塩を
ハロゲン化銀１モル当たり１×１０-9から１×１０-2モ
ル含有するハロゲン化銀写真乳剤層を少なくとも１層有
し、かつ非感光性親水性コロイド層を有する明室環境下
で使用可能なハロゲン化銀写真感光材料において、少な
くとも一層の親水性コロイド層に下記一般式（４）で表
される染料の固体微粒子分散体を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。
り、ロジウム、ルテニウム、イリジウム、レニウム、ク
ロミウム、オスニウム、銅から選ばれる遷移金属の塩を
ハロゲン化銀１モル当たり１×１０-9から１×１０-2モ
ル含有するハロゲン化銀写真乳剤層を少なくとも１層有
し、かつ非感光性親水性コロイド層を有する明室環境下
で使用可能なハロゲン化銀写真感光材料において、少な
くとも一層の親水性コロイド層に下記一般式（４）で表
される染料の固体微粒子分散体を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。
【００１５】
【化１２】
【００１６】式中、Ａ1はピラゾロトリアゾールまたは
酸性核を表す。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、
Ｂ1は含酸素６員環を表し、ｎは０または１を表す。
酸性核を表す。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、
Ｂ1は含酸素６員環を表し、ｎは０または１を表す。
【００１７】４．ヒドラジン誘導体を含有することを特
徴とする前記１、２又は３に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
徴とする前記１、２又は３に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。
【００１８】５．ピリジニウム塩誘導体を含有すること
を特徴とする前記１、２又は３に記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
を特徴とする前記１、２又は３に記載のハロゲン化銀写
真感光材料。
【００１９】６．テトラゾリウム塩誘導体を含有するこ
とを特徴とする前記１、２又は３に記載のハロゲン化銀
写真感光材料。
とを特徴とする前記１、２又は３に記載のハロゲン化銀
写真感光材料。
【００２０】７．カルボキシル基を活性化することによ
り作用する硬膜剤を含有することを特徴とする前記３、
４、５又は６に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
り作用する硬膜剤を含有することを特徴とする前記３、
４、５又は６に記載のハロゲン化銀写真感光材料。
【００２１】８．前記硬膜剤が下記一般式（５）で表さ
れることを特徴とする前記７に記載のハロゲン化銀写真
感光材料。
れることを特徴とする前記７に記載のハロゲン化銀写真
感光材料。
【００２２】
【化１３】
【００２３】式中、Ｒ6およびＲ7はアルキル基、アリー
ル基を表し、Ｒ6およびＲ7で環を形成しても良い。Ｒ8
は水素原子又は置換基を表す。Ｌ4は単結合又は２価の
基を表す。Ｘ1は単結合又は−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ9）−を表
し、Ｒ9は水素原子又はアルキル基またはアリール基を
表す。
ル基を表し、Ｒ6およびＲ7で環を形成しても良い。Ｒ8
は水素原子又は置換基を表す。Ｌ4は単結合又は２価の
基を表す。Ｘ1は単結合又は−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ9）−を表
し、Ｒ9は水素原子又はアルキル基またはアリール基を
表す。
【００２４】９．上記一般式（４）中、Ｂ1が下記一般
式（６）又は一般式（６′）で表される構造を示すこと
を特徴とする前記３に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。
式（６）又は一般式（６′）で表される構造を示すこと
を特徴とする前記３に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。
【００２５】
【化１４】
【００２６】式中、Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14は水素原子あるい
は非金属の置換基を表す。
は非金属の置換基を表す。
【００２７】１０．前記１、２、３、４、５、６、７、
８又は９に記載のハロゲン化銀写真感光材料をジヒドロ
キシベンゼン類を現像主薬としｐＨ９．５以上ｐＨが１
１．０以下の現像液で処理することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法。
８又は９に記載のハロゲン化銀写真感光材料をジヒドロ
キシベンゼン類を現像主薬としｐＨ９．５以上ｐＨが１
１．０以下の現像液で処理することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法。
【００２８】１１．前記１、２、３、４、５、６、７、
８又は９に記載のハロゲン化銀写真感光材料をアスコル
ビン酸（塩）及び／又はエリソルビン酸（塩）から選ば
れる少なくとも１種の化合物を含有し、ハイドロキノン
を含有せずｐＨがｐＨ９．５以上１１．０以下の現像液
で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
８又は９に記載のハロゲン化銀写真感光材料をアスコル
ビン酸（塩）及び／又はエリソルビン酸（塩）から選ば
れる少なくとも１種の化合物を含有し、ハイドロキノン
を含有せずｐＨがｐＨ９．５以上１１．０以下の現像液
で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
【００２９】以下、本発明について詳細に説明する。
【００３０】先ず本発明の一般式（１）で表される染料
の固体微粒子分散体について詳細に説明する。
の固体微粒子分散体について詳細に説明する。
【００３１】
【化１５】
【００３２】一般式（１）の部分構造を表す上記一般式
（７）のＺａ、Ｚｂ及びＺｃは各々−Ｎ＝または−Ｃ
（Ｒ2）＝を表し、Ｒ1、Ｒ2は水素原子または非金属の
置換基を表す。一般式（７）で表されるものの中でも、
下記一般式（７−１）〜（７−６）で表されるものが更
に好ましい。
（７）のＺａ、Ｚｂ及びＺｃは各々−Ｎ＝または−Ｃ
（Ｒ2）＝を表し、Ｒ1、Ｒ2は水素原子または非金属の
置換基を表す。一般式（７）で表されるものの中でも、
下記一般式（７−１）〜（７−６）で表されるものが更
に好ましい。
【００３３】
【化１６】
【００３４】一般式（７−１）〜（７−６）においてＲ
11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ１６は水素原子または
非金属の置換基を表す。
11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ１６は水素原子または
非金属の置換基を表す。
【００３５】一般式（７）、一般式（７−１）〜一般式
（７−６）中、Ｒ１、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、
Ｒ15、Ｒ16は水素原子又は非金属の置換基（例えば、ア
ルキル基、アルコキシ基、アリール基、複素環基、アル
ケニル基、カルボン酸基またはスルホン酸基が好まし
い。）を表わし、Ｒ11とＲ12、Ｒ13とＲ14、Ｒ14とＲ15
あるいはＲ15とＲ16は互いに連結して５又は６員環を形
成してもよい。
（７−６）中、Ｒ１、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、
Ｒ15、Ｒ16は水素原子又は非金属の置換基（例えば、ア
ルキル基、アルコキシ基、アリール基、複素環基、アル
ケニル基、カルボン酸基またはスルホン酸基が好まし
い。）を表わし、Ｒ11とＲ12、Ｒ13とＲ14、Ｒ14とＲ15
あるいはＲ15とＲ16は互いに連結して５又は６員環を形
成してもよい。
【００３６】一般式（１）中、Ｂ1は６員の含酸素複素
環を表す。
環を表す。
【００３７】一般式（７）、一般式（７−１）〜（７−
６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ
16で表されるアルキル基は、炭素数１〜１０の鎖状又は
環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ベンジ
ル、フェネチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペン
チル、ヘキシル、オクチル、ノニル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシル等の各基）が好まし
く、置換基を有していてもよい。
６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ
16で表されるアルキル基は、炭素数１〜１０の鎖状又は
環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、ベンジ
ル、フェネチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペン
チル、ヘキシル、オクチル、ノニル、シクロプロピル、
シクロペンチル、シクロヘキシル等の各基）が好まし
く、置換基を有していてもよい。
【００３８】一般式（７）、一般式（７−１）〜（７−
６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ
16で表されるアリール基は、炭素数６〜１０のアリール
基（例えば、フェニル、ナフチル等の各基）が好まし
く、置換基を有していてもよい。
６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ
16で表されるアリール基は、炭素数６〜１０のアリール
基（例えば、フェニル、ナフチル等の各基）が好まし
く、置換基を有していてもよい。
【００３９】一般式（７）、一般式（７−１）〜（７−
６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ
16で表される複素環基は、５又は６員の複素環基（例え
ば、オキサゾニル環、ベンゾオキサゾール環、チアゾー
ル環、イミダゾール環、ピリジン環、フラン環、チオフ
ェン環、スルホラン環、ビラゾール環、ピロール環、ク
ロマン環、クマリン環等の各基）が好ましく、置換基を
有していてもよい。
６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ
16で表される複素環基は、５又は６員の複素環基（例え
ば、オキサゾニル環、ベンゾオキサゾール環、チアゾー
ル環、イミダゾール環、ピリジン環、フラン環、チオフ
ェン環、スルホラン環、ビラゾール環、ピロール環、ク
ロマン環、クマリン環等の各基）が好ましく、置換基を
有していてもよい。
【００４０】一般式（７）、一般式（７−１）〜（７−
６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ 13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ
16で表されるアルケニル基は、炭素数２〜１０のアルケ
ニル基（例えば、ビニル、アリル、１−プロペニル、２
−ペンテニル、１，３−ブタジエニル等の各基）が好ま
しい。
６）中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ11、Ｒ12、Ｒ 13、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ
16で表されるアルケニル基は、炭素数２〜１０のアルケ
ニル基（例えば、ビニル、アリル、１−プロペニル、２
−ペンテニル、１，３−ブタジエニル等の各基）が好ま
しい。
【００４１】一般式（７−１）〜（７−６）中、Ｒ13、
Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16で表されるハロゲン原子としては、フ
ッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。
Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16で表されるハロゲン原子としては、フ
ッ素原子、塩素原子又は臭素原子が好ましい。
【００４２】一般式（１）中、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3で表わさ
れるメチン基は、無置換のメチン基が好ましい。
れるメチン基は、無置換のメチン基が好ましい。
【００４３】上記した各基が有していてもよい置換基
は、一般式（１）の化合物をｐＨ５〜ｐＨ７の水に溶解
させるような置換基でなけれぱ特に制限はない。例え
ば、カルボン酸基、炭素数１〜１０のスルホンアミド基
（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オクタンスルホンア
ミド等の各基）、炭素数０〜１０のスルファモイル基
（例えば、無置換のスルファモイル、メチルスルファモ
イル、フェニルスルファモイル、ブチルスルファモイル
等の各基）、炭素数２〜１０のスルホニルカルバモイル
基（例えば、メタンスルホニルカルバモイル、プロパン
スルホニルカルバモイル、ベンゼンスルホニルカルバモ
イル等の各基）、炭素数１〜１０のアシルスルファモイ
ル基（例えば、アセチルスルファモイル、プロピオニル
スルファモイル、ピバロイルスルファモイル、ベンゾイ
ルスルファモイル等の各基）、炭素数１〜８の鎖状又は
環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロ
ピル、ブチル、ヘキシル、シクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カ
ルボキシブチル、２−メトキシエチル、ベンジル、フェ
ネチル、４−カルボキシベンジル、２−ジエチルアミノ
エチル等の各基）、炭素数２〜８のアルケニル基（例え
ば、ビニル、アクリル等の各基）、炭素数１〜８のアル
コキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の
各基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等の各
原子）、炭素数０〜１０のアミノ基（例えば、無置換の
アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、カルボキシ
エチルアミノ等の各基）、炭素数２〜１０のエステル基
（例えば、メトキシカルボニル基等）、炭素数ｌ〜１０
のアミド基（例えば、アセチルアミノ、ペンズアミド等
の各基）、炭素数１〜１０のカルバモイル基（例えば、
無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカ
ルバモイル等の各基）、炭素数６〜１０のアリール基
（例えば、フェニル、ナフチル、４−カルボキシフェニ
ル、３−カルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフ
ェニル、４−メタンスルホンアミドフェニル、４−ブタ
ンスルホンアミドフェニル等の各基）、炭素数６〜１０
のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、４−カルボ
キシフェノキシ、４−メチルフェノキシ、ナフトキシ等
の各基）、炭素数１〜８のアルキルチオ基（例えば、メ
チルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等の各基）、炭素
数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、
ナフチルチオ等の各基）、炭素数１〜１０のアシル基
（例えば、アセチル、ベンゾイル、プロパノイル等の各
基）、炭素数１〜１０のスルホニル基（例えば、メタン
スルホニル、ベンゼンスルホニル等の各基）、炭素数１
〜１０のウレイド基（例えば、ウレイド、メチルウレイ
ド等の各基）、炭素数２〜１０のウレタン基（例えば、
メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ
等の各基）、シアノ基、水酸基、ニトロ基、複素環基
（例えば、５−カルボキシベンゾオキサゾール環、ピリ
ジン環、スルホラン環、フラン環、ピロール環、ピロリ
ジン環、モルホリン環、ピペラジン環、ピリミジン環等
の各基）等を挙げることができる。
は、一般式（１）の化合物をｐＨ５〜ｐＨ７の水に溶解
させるような置換基でなけれぱ特に制限はない。例え
ば、カルボン酸基、炭素数１〜１０のスルホンアミド基
（例えば、メタンスルホンアミド、ベンゼンスルホンア
ミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オクタンスルホンア
ミド等の各基）、炭素数０〜１０のスルファモイル基
（例えば、無置換のスルファモイル、メチルスルファモ
イル、フェニルスルファモイル、ブチルスルファモイル
等の各基）、炭素数２〜１０のスルホニルカルバモイル
基（例えば、メタンスルホニルカルバモイル、プロパン
スルホニルカルバモイル、ベンゼンスルホニルカルバモ
イル等の各基）、炭素数１〜１０のアシルスルファモイ
ル基（例えば、アセチルスルファモイル、プロピオニル
スルファモイル、ピバロイルスルファモイル、ベンゾイ
ルスルファモイル等の各基）、炭素数１〜８の鎖状又は
環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、イソプロ
ピル、ブチル、ヘキシル、シクロプロピル、シクロペン
チル、シクロヘキシル、２−ヒドロキシエチル、４−カ
ルボキシブチル、２−メトキシエチル、ベンジル、フェ
ネチル、４−カルボキシベンジル、２−ジエチルアミノ
エチル等の各基）、炭素数２〜８のアルケニル基（例え
ば、ビニル、アクリル等の各基）、炭素数１〜８のアル
コキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、ブトキシ等の
各基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ等の各
原子）、炭素数０〜１０のアミノ基（例えば、無置換の
アミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、カルボキシ
エチルアミノ等の各基）、炭素数２〜１０のエステル基
（例えば、メトキシカルボニル基等）、炭素数ｌ〜１０
のアミド基（例えば、アセチルアミノ、ペンズアミド等
の各基）、炭素数１〜１０のカルバモイル基（例えば、
無置換のカルバモイル、メチルカルバモイル、エチルカ
ルバモイル等の各基）、炭素数６〜１０のアリール基
（例えば、フェニル、ナフチル、４−カルボキシフェニ
ル、３−カルボキシフェニル、３，５−ジカルボキシフ
ェニル、４−メタンスルホンアミドフェニル、４−ブタ
ンスルホンアミドフェニル等の各基）、炭素数６〜１０
のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、４−カルボ
キシフェノキシ、４−メチルフェノキシ、ナフトキシ等
の各基）、炭素数１〜８のアルキルチオ基（例えば、メ
チルチオ、エチルチオ、オクチルチオ等の各基）、炭素
数６〜１０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、
ナフチルチオ等の各基）、炭素数１〜１０のアシル基
（例えば、アセチル、ベンゾイル、プロパノイル等の各
基）、炭素数１〜１０のスルホニル基（例えば、メタン
スルホニル、ベンゼンスルホニル等の各基）、炭素数１
〜１０のウレイド基（例えば、ウレイド、メチルウレイ
ド等の各基）、炭素数２〜１０のウレタン基（例えば、
メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ
等の各基）、シアノ基、水酸基、ニトロ基、複素環基
（例えば、５−カルボキシベンゾオキサゾール環、ピリ
ジン環、スルホラン環、フラン環、ピロール環、ピロリ
ジン環、モルホリン環、ピペラジン環、ピリミジン環等
の各基）等を挙げることができる。
【００４４】一般式（７−１）〜一般式（７）中、Ｒ11
とＲ12、Ｒ13とＲ14、Ｒ14とＲ15あるいはＲ15とＲ16が
互いに連結して形成される５又は６員環としては、ピロ
リジン環、ピペリジン環、ベンセン環、モルホリン環等
を挙げることができる。
とＲ12、Ｒ13とＲ14、Ｒ14とＲ15あるいはＲ15とＲ16が
互いに連結して形成される５又は６員環としては、ピロ
リジン環、ピペリジン環、ベンセン環、モルホリン環等
を挙げることができる。
【００４５】一般式（１）で特に好ましいものは、式中
に少くとも１個のカルボン酸基、スルホンアミド基、ス
ルホニルカルバモイル基又はアシルスルファモイル基を
有するものである。
に少くとも１個のカルボン酸基、スルホンアミド基、ス
ルホニルカルバモイル基又はアシルスルファモイル基を
有するものである。
【００４６】次に、前記本発明の一般式（２）及び一般
式（３）で表される染料の固体微粒子分散体について詳
細に説明する。
式（３）で表される染料の固体微粒子分散体について詳
細に説明する。
【００４７】一般式（２)及び一般式（３）において式
中、Ｇ1、Ｇ2はシアノ基、−ＣＯＲ3、−ＣＯＮ(Ｒ3)Ｒ
4、−ＯＣＯＲ3、−ＳＯ2Ｒ3、−ＳＯ2Ｎ(Ｒ3)Ｒ4を表
し、Ｒ3、Ｒ4はアルキル基、アリール基、複素環基又は
アルケニル基を表わし、Ｇ1、Ｇ2は同一でも異なってい
てもよく、Ｒ3とＲ4は互いに連結して５又は６員環を形
成してもよい。Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水素原子又は置換基
を表わす。Ｒ12とＲ13あるいはＲ13とＲ14は互いに連結
して５又は６員環を形成してもよい。
中、Ｇ1、Ｇ2はシアノ基、−ＣＯＲ3、−ＣＯＮ(Ｒ3)Ｒ
4、−ＯＣＯＲ3、−ＳＯ2Ｒ3、−ＳＯ2Ｎ(Ｒ3)Ｒ4を表
し、Ｒ3、Ｒ4はアルキル基、アリール基、複素環基又は
アルケニル基を表わし、Ｇ1、Ｇ2は同一でも異なってい
てもよく、Ｒ3とＲ4は互いに連結して５又は６員環を形
成してもよい。Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水素原子又は置換基
を表わす。Ｒ12とＲ13あるいはＲ13とＲ14は互いに連結
して５又は６員環を形成してもよい。
【００４８】Ｇ1、Ｇ2で表されるアルキル基は、炭素数
１〜１０の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチ
ル、エチル、ベンジル、フェネチル、プロピル、ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニ
ル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル
等の各基）が好ましく、置換基を有していてもよい。
１〜１０の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチ
ル、エチル、ベンジル、フェネチル、プロピル、ブチ
ル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノニ
ル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル
等の各基）が好ましく、置換基を有していてもよい。
【００４９】Ｒ3、Ｒ4で表されるアリール基は、炭素数
６〜１０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル等
の各基）が好ましく、置換基を有していてもよい。
６〜１０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル等
の各基）が好ましく、置換基を有していてもよい。
【００５０】Ｒ3、Ｒ4で表される複素環基は、５又は６
員の複素環基（例えば、オキサゾリン環、ベンゾオキサ
ゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン
環、フラン環、チオフェン環、スルホラン環、ビラゾー
ル環、ピロール環、クロマン環、クマリン環等の各基）
が好ましく、置換基を有していてもよい。
員の複素環基（例えば、オキサゾリン環、ベンゾオキサ
ゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジン
環、フラン環、チオフェン環、スルホラン環、ビラゾー
ル環、ピロール環、クロマン環、クマリン環等の各基）
が好ましく、置換基を有していてもよい。
【００５１】Ｒ3、Ｒ4で表されるアルケニル基は、炭素
数２〜１０のアルケニル基（例えば、ビニル、アリル、
１−プロペニル、２−ペンテニル、１，３−ブタジエニ
ル等の各基）が好ましい。
数２〜１０のアルケニル基（例えば、ビニル、アリル、
１−プロペニル、２−ペンテニル、１，３−ブタジエニ
ル等の各基）が好ましい。
【００５２】Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3で表わされるメチン基は、
無置換のメチン基が好ましい。Ｂ1は含酸素６員環を示
す。
無置換のメチン基が好ましい。Ｂ1は含酸素６員環を示
す。
【００５３】上記した各基が有していてもよい置換基
は、一般式（２）及び一般式（３）の化合物をｐＨ５〜
ｐＨ７の水に溶解させるような置換基でなけれぱ特に制
限はない。
は、一般式（２）及び一般式（３）の化合物をｐＨ５〜
ｐＨ７の水に溶解させるような置換基でなけれぱ特に制
限はない。
【００５４】例えば、カルボン酸基、炭素数１〜１０の
スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベ
ンゼンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オ
クタンスルホンアミド等の各基）、炭素数０〜１０のス
ルファモイル基（例えば、無置換のスルファモイル、メ
チルスルファモイル、フェニルスルファモイル、ブチル
スルファモイル等の各基）、炭素数２〜１０のスルホニ
ルカルバモイル基（例えば、メタンスルホニルカルバモ
イル、プロパンスルホニルカルバモイル、ベンゼンスル
ホニルカルバモイル等の各基）、炭素数１〜１０のアシ
ルスルファモイル基（例えば、アセチルスルファモイ
ル、プロピオニルスルファモイル、ピバロイルスルファ
モイル、ベンゾイルスルファモイル等の各基）、炭素数
１〜８の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、
エチル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２−ヒドロキ
シエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチ
ル、ベンジル、フェネチル、４−カルボキシベンジル、
２−ジエチルアミノエチル等の各基）、炭素数２〜８の
アルケニル（例えば、ビニル、アクリル等の各基）、炭
素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキ
シ、ブトキシ等の各基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、
Ｃｌ、Ｂｒ等の各原子）、炭素数０〜１０のアミノ基
（例えば、無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、カルボキシエチルアミノ等の各基）、炭素数２
〜１０のエステル基（例えば、メトキシカルボニル基
等）、炭素数１〜１０のアミド基（例えば、アセチルア
ミノ、ペンズアミド等の各基）、炭素数１〜１０のカル
バモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカ
ルバモイル、エチルカルバモイル等の各基）、炭素数６
〜１０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、４
−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、３，
５−ジカルボキシフェニル、４−メタンスルホンアミド
フェニル、４−ブタンスルホンアミドフェニル等の各
基）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、４−カルボキシフェノキシ、４−メチルフェ
ノキシ、ナフトキシ等の各基）、炭素数１〜８のアルキ
ルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチル
チオ等の各基）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例
えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等の各基）、炭素数
１〜１０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、
プロパノイル等の各基）、炭素数１〜１０のスルホニル
基（例えば、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル等
の各基）、炭素数１〜１０のウレイド基（例えば、ウレ
イド、メチルウレイド等の各基）、炭素数２〜１０のウ
レタン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキ
シカルボニルアミノ等の各基）、シアノ基、水酸基、ニ
トロ基、複素環基（例えば、５−カルボキシベンゾオキ
サゾール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、ピ
ロール環、ピロリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、ピリミジン環）等を挙げることができる。
スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベ
ンゼンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オ
クタンスルホンアミド等の各基）、炭素数０〜１０のス
ルファモイル基（例えば、無置換のスルファモイル、メ
チルスルファモイル、フェニルスルファモイル、ブチル
スルファモイル等の各基）、炭素数２〜１０のスルホニ
ルカルバモイル基（例えば、メタンスルホニルカルバモ
イル、プロパンスルホニルカルバモイル、ベンゼンスル
ホニルカルバモイル等の各基）、炭素数１〜１０のアシ
ルスルファモイル基（例えば、アセチルスルファモイ
ル、プロピオニルスルファモイル、ピバロイルスルファ
モイル、ベンゾイルスルファモイル等の各基）、炭素数
１〜８の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、
エチル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２−ヒドロキ
シエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチ
ル、ベンジル、フェネチル、４−カルボキシベンジル、
２−ジエチルアミノエチル等の各基）、炭素数２〜８の
アルケニル（例えば、ビニル、アクリル等の各基）、炭
素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキ
シ、ブトキシ等の各基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、
Ｃｌ、Ｂｒ等の各原子）、炭素数０〜１０のアミノ基
（例えば、無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、カルボキシエチルアミノ等の各基）、炭素数２
〜１０のエステル基（例えば、メトキシカルボニル基
等）、炭素数１〜１０のアミド基（例えば、アセチルア
ミノ、ペンズアミド等の各基）、炭素数１〜１０のカル
バモイル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカ
ルバモイル、エチルカルバモイル等の各基）、炭素数６
〜１０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、４
−カルボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、３，
５−ジカルボキシフェニル、４−メタンスルホンアミド
フェニル、４−ブタンスルホンアミドフェニル等の各
基）、炭素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フ
ェノキシ、４−カルボキシフェノキシ、４−メチルフェ
ノキシ、ナフトキシ等の各基）、炭素数１〜８のアルキ
ルチオ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチル
チオ等の各基）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例
えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等の各基）、炭素数
１〜１０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、
プロパノイル等の各基）、炭素数１〜１０のスルホニル
基（例えば、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル等
の各基）、炭素数１〜１０のウレイド基（例えば、ウレ
イド、メチルウレイド等の各基）、炭素数２〜１０のウ
レタン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキ
シカルボニルアミノ等の各基）、シアノ基、水酸基、ニ
トロ基、複素環基（例えば、５−カルボキシベンゾオキ
サゾール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、ピ
ロール環、ピロリジン環、モルホリン環、ピペラジン
環、ピリミジン環）等を挙げることができる。
【００５５】Ｒ12とＲ13が互いに連結して形成される５
又は６員環としては、ピロリジン環、ピペリジン環、ベ
ンセン環、モルホリン環等を挙げることができる。
又は６員環としては、ピロリジン環、ピペリジン環、ベ
ンセン環、モルホリン環等を挙げることができる。
【００５６】一般式（２）及び一般式（３）の中で特に
好ましいものは、式中に少くとも１個のカルボン酸基、
スルホンアミド基、スルホニルカルバモイル基又はアシ
ルスルファモイル基を有するものである。
好ましいものは、式中に少くとも１個のカルボン酸基、
スルホンアミド基、スルホニルカルバモイル基又はアシ
ルスルファモイル基を有するものである。
【００５７】次に本発明の前記一般式（４）で表される
染料の固体微粒子分散体について詳細に説明する。
染料の固体微粒子分散体について詳細に説明する。
【００５８】一般式（４）においてピラゾロトリアゾー
ル環残基とは前述した一般式（７）で表されるものと同
じである。
ル環残基とは前述した一般式（７）で表されるものと同
じである。
【００５９】一般式（４）において、Ａ1で表される酸
性核は環状のケトメチレン基または電子吸引基を有する
メチレン基であり、以下に具体例を示す。
性核は環状のケトメチレン基または電子吸引基を有する
メチレン基であり、以下に具体例を示す。
【００６０】
【化１７】
【００６１】上記具体例中、Ｒ10、Ｒ11はシアノ基、−
ＣＯＲ15、−ＣＯＮＲ15Ｒ16、−ＯＣＯＲ15、−ＳＯ2
Ｒ15、−ＳＯ2ＮＲ15Ｒ16を表し、Ｒ15、Ｒ16はアルキ
ル基、アリール基、複素環基又はアルケニル基を表わ
し、Ｒ10、Ｒ11は同一でも異なっていてもよく、Ｒ15と
Ｒ16は互いに連結して５又は６員環を形成してもよい。
上記具体例中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水素原子又は置換基
を表わす。Ｒ12とＲ13あるいはＲ13とＲ14は互いに連結
して５又は６員環を形成してもよい。
ＣＯＲ15、−ＣＯＮＲ15Ｒ16、−ＯＣＯＲ15、−ＳＯ2
Ｒ15、−ＳＯ2ＮＲ15Ｒ16を表し、Ｒ15、Ｒ16はアルキ
ル基、アリール基、複素環基又はアルケニル基を表わ
し、Ｒ10、Ｒ11は同一でも異なっていてもよく、Ｒ15と
Ｒ16は互いに連結して５又は６員環を形成してもよい。
上記具体例中、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14は水素原子又は置換基
を表わす。Ｒ12とＲ13あるいはＲ13とＲ14は互いに連結
して５又は６員環を形成してもよい。
【００６２】上記Ｒ15、Ｒ16で表されるアルキル基は、
炭素数１〜１０の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、
メチル、エチル、ベンジル、フェネチル、プロピル、ブ
チル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノ
ニル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル）が好ましく、置換基を有していてもよい。
炭素数１〜１０の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、
メチル、エチル、ベンジル、フェネチル、プロピル、ブ
チル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、オクチル、ノ
ニル、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシ
ル）が好ましく、置換基を有していてもよい。
【００６３】上記Ｒ15、Ｒ16で表されるアリール基は、
炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル、ナフ
チル）が好ましく、置換基を有していてもよい。
炭素数６〜１０のアリール基（例えば、フェニル、ナフ
チル）が好ましく、置換基を有していてもよい。
【００６４】上記Ｒ15、Ｒ16で表される複素環基は、５
又は６員の複素環（例えば、オキサゾニル環、ベンゾオ
キサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジ
ン環、フラン環、チオフェン環、スルホラン環、ビラゾ
ール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環等）が好
ましく、置換基を有していてもよい。
又は６員の複素環（例えば、オキサゾニル環、ベンゾオ
キサゾール環、チアゾール環、イミダゾール環、ピリジ
ン環、フラン環、チオフェン環、スルホラン環、ビラゾ
ール環、ピロール環、クロマン環、クマリン環等）が好
ましく、置換基を有していてもよい。
【００６５】上記Ｒ15、Ｒ16で表されるアルケニル基
は、炭素数２〜１０のアルケニル基（例えば、ビニル、
アリル、１−プロペニル、２−ペンテニル、１，３−ブ
タジエニル）が好ましい。Ｒ1で表わされるハロゲン原
子は、フッ素、塩素又は臭素等の各原子が好ましい。
は、炭素数２〜１０のアルケニル基（例えば、ビニル、
アリル、１−プロペニル、２−ペンテニル、１，３−ブ
タジエニル）が好ましい。Ｒ1で表わされるハロゲン原
子は、フッ素、塩素又は臭素等の各原子が好ましい。
【００６６】以下に上記具体例中の更に詳細な具体例を
以下に示すが本発明はこれらに限定されるものではな
い。
以下に示すが本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００６７】
【化１８】
【００６８】
【化１９】
【００６９】
【化２０】
【００７０】
【化２１】
【００７１】一般式（４）において、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3で
表わされるメチン基は、無置換のメチン基が好ましい。
Ｂ1は含酸素６員環を示し、好ましくは前記一般式
（６）又は一般式（６′）の構造を有する。
表わされるメチン基は、無置換のメチン基が好ましい。
Ｂ1は含酸素６員環を示し、好ましくは前記一般式
（６）又は一般式（６′）の構造を有する。
【００７２】一般式（６）及び一般式（６′）において
Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14は水素原子あるいは非金属の置換基を
表す。
Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14は水素原子あるいは非金属の置換基を
表す。
【００７３】以下に一般式（６）で表される具体例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７４】
【化２２】
【００７５】上記した各基が有していてもよい置換基
は、一般式（４）の化合物をｐＨ５〜ｐＨ７の水に溶解
させるような置換基でなければ特に制限はない。
は、一般式（４）の化合物をｐＨ５〜ｐＨ７の水に溶解
させるような置換基でなければ特に制限はない。
【００７６】例えば、カルボン酸基、炭素数１〜１０の
スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベ
ンゼンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オ
クタンスルホンアミド等の各基）、炭素数０〜１０のス
ルファモイル基（例えば、無置換のスルファモイル、メ
チルスルファモイル、フェニルスルファモイル、ブチル
スルファモイル等の各基）、炭素数２〜１０のスルホニ
ルカルバモイル基（例えば、メタンスルホニルカルバモ
イル、プロパンスルホニルカルバモイル、ベンゼンスル
ホニルカルバモイル等の各基）、炭素数１〜１０のアシ
ルスルファモイル基（例えば、アセチルスルファモイ
ル、プロピオニルスルファモイル、ピバロイルスルファ
モイル、ベンゾイルスルファモイル等の各基）、炭素数
１〜８の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、
エチル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２−ヒドロキ
シエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチ
ル、ベンジル、フェネチル、４−カルボキシベンジル、
２−ジエチルアミノエチル等の各基）、炭素数２〜８の
アルケニル（例えば、ビニル、アクリル等の各基）、炭
素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキ
シ、ブトキシ等の各基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、
Ｃｌ、Ｂｒ等の各原子）、炭素数０〜１０のアミノ基
（例えば、無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、カルボキシエチルアミノ等の各基）、炭素数２
〜１０のエステル基（例えば、メトキシカルボニル）、
炭素数ｌ〜１０のアミド基（例えば、アセチルアミノ、
ペンズアミド等の各基）、炭素数１〜１０のカルバモイ
ル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモ
イル、エチルカルバモイル等の各基）、炭素数６〜１０
のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、４−カル
ボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、３，５−ジ
カルボキシフェニル、４−メタンスルホンアミドフェニ
ル、４−ブタンスルホンアミドフェニル等の各基）、炭
素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキ
シ、４−カルボキシフェノキシ、４−メチルフェノキ
シ、ナフトキシ等の各基）、炭素数１〜８のアルキルチ
オ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ
等の各基）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ等の各基）、炭素数１
〜１０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、プ
ロパノイル等の各基）、炭素数１〜１０のスルホニル基
（例えば、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル等の
各基）、炭素数１〜１０のウレイド基（例えば、ウレイ
ド、メチルウレイド等の各基）、炭素数２〜１０のウレ
タン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシ
カルボニルアミノ等の各基）、シアノ基、水酸基、ニト
ロ基、複素環基（例えば、５−カルボキシベンゾオキサ
ゾール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、ピロ
ール環、ピロリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
ピリミジン環）等を挙げることができる。
スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ベ
ンゼンスルホンアミド、ブタンスルホンアミド、ｎ−オ
クタンスルホンアミド等の各基）、炭素数０〜１０のス
ルファモイル基（例えば、無置換のスルファモイル、メ
チルスルファモイル、フェニルスルファモイル、ブチル
スルファモイル等の各基）、炭素数２〜１０のスルホニ
ルカルバモイル基（例えば、メタンスルホニルカルバモ
イル、プロパンスルホニルカルバモイル、ベンゼンスル
ホニルカルバモイル等の各基）、炭素数１〜１０のアシ
ルスルファモイル基（例えば、アセチルスルファモイ
ル、プロピオニルスルファモイル、ピバロイルスルファ
モイル、ベンゾイルスルファモイル等の各基）、炭素数
１〜８の鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、
エチル、イソプロピル、ブチル、ヘキシル、シクロプロ
ピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、２−ヒドロキ
シエチル、４−カルボキシブチル、２−メトキシエチ
ル、ベンジル、フェネチル、４−カルボキシベンジル、
２−ジエチルアミノエチル等の各基）、炭素数２〜８の
アルケニル（例えば、ビニル、アクリル等の各基）、炭
素数１〜８のアルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキ
シ、ブトキシ等の各基）、ハロゲン原子（例えば、Ｆ、
Ｃｌ、Ｂｒ等の各原子）、炭素数０〜１０のアミノ基
（例えば、無置換のアミノ、ジメチルアミノ、ジエチル
アミノ、カルボキシエチルアミノ等の各基）、炭素数２
〜１０のエステル基（例えば、メトキシカルボニル）、
炭素数ｌ〜１０のアミド基（例えば、アセチルアミノ、
ペンズアミド等の各基）、炭素数１〜１０のカルバモイ
ル基（例えば、無置換のカルバモイル、メチルカルバモ
イル、エチルカルバモイル等の各基）、炭素数６〜１０
のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、４−カル
ボキシフェニル、３−カルボキシフェニル、３，５−ジ
カルボキシフェニル、４−メタンスルホンアミドフェニ
ル、４−ブタンスルホンアミドフェニル等の各基）、炭
素数６〜１０のアリールオキシ基（例えば、フェノキ
シ、４−カルボキシフェノキシ、４−メチルフェノキ
シ、ナフトキシ等の各基）、炭素数１〜８のアルキルチ
オ基（例えば、メチルチオ、エチルチオ、オクチルチオ
等の各基）、炭素数６〜１０のアリールチオ基（例え
ば、フェニルチオ、ナフチルチオ等の各基）、炭素数１
〜１０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、プ
ロパノイル等の各基）、炭素数１〜１０のスルホニル基
（例えば、メタンスルホニル、ベンゼンスルホニル等の
各基）、炭素数１〜１０のウレイド基（例えば、ウレイ
ド、メチルウレイド等の各基）、炭素数２〜１０のウレ
タン基（例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシ
カルボニルアミノ等の各基）、シアノ基、水酸基、ニト
ロ基、複素環基（例えば、５−カルボキシベンゾオキサ
ゾール環、ピリジン環、スルホラン環、フラン環、ピロ
ール環、ピロリジン環、モルホリン環、ピペラジン環、
ピリミジン環）等を挙げることができる。
【００７７】前記Ａ1の具体例中、Ｒ15とＲ16、Ｒ12と
Ｒ13又はＲ13とＲ14が互いに連結して形成される５又は
６員環としては、ピロリジン環、ピペリジン環、ベンセ
ン環、モルホリン環等を挙げることができる。一般式
（４）で特に好ましいものは、式中に少くとも１個のカ
ルボン酸基、スルホンアミド基、スルホニルカルバモイ
ル基又はアシルスルファモイル基を有するものである。
Ｒ13又はＲ13とＲ14が互いに連結して形成される５又は
６員環としては、ピロリジン環、ピペリジン環、ベンセ
ン環、モルホリン環等を挙げることができる。一般式
（４）で特に好ましいものは、式中に少くとも１個のカ
ルボン酸基、スルホンアミド基、スルホニルカルバモイ
ル基又はアシルスルファモイル基を有するものである。
【００７８】以下に一般式（１）（２）（３）（４）で
表わされる染料の具体例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
表わされる染料の具体例を示すが、本発明はこれらに限
定されるものではない。
【００７９】
【化２３】
【００８０】
【化２４】
【００８１】また本発明の染料は国際特許ＷＯ８８／０
４，７９４号、ヨーロッパ特許ＥＰ０，２７４，７２３
Ａ１号、同２７６，５５６号、同２９９，４３５号、特
開昭５２−９２７１６号、同５５−１５５３５０号、同
５５−１５５３５１号、同６１−２０５９３４号、同４
８−６８６２３号、米国特許２，５２７，５８３号、同
４８６，８９７号、同３，７４６，５３９号、同３，９
３３，７９８号、同４，１３０，４２９号、同４，０４
０，８４１号等に記載された方法およびその方法に準じ
た方法によって容易に合成できる。
４，７９４号、ヨーロッパ特許ＥＰ０，２７４，７２３
Ａ１号、同２７６，５５６号、同２９９，４３５号、特
開昭５２−９２７１６号、同５５−１５５３５０号、同
５５−１５５３５１号、同６１−２０５９３４号、同４
８−６８６２３号、米国特許２，５２７，５８３号、同
４８６，８９７号、同３，７４６，５３９号、同３，９
３３，７９８号、同４，１３０，４２９号、同４，０４
０，８４１号等に記載された方法およびその方法に準じ
た方法によって容易に合成できる。
【００８２】本発明の染料の微粒子分散体を含有する層
は非感光性親水性コロイド層（以下、単に親水性コロイ
ド層ともいう）に含有される。
は非感光性親水性コロイド層（以下、単に親水性コロイ
ド層ともいう）に含有される。
【００８３】本発明の染料微粒子分散体の添加量は特に
限定されないが、有効な透過濃度が０．３以上２以下と
なるような添加量が好ましい。
限定されないが、有効な透過濃度が０．３以上２以下と
なるような添加量が好ましい。
【００８４】本発明の染料微粒子分散体を含有する非感
光性親水性コロイド層は、塗布量が０．０５ｇ／ｍ2以
上０．５ｇ／ｍ2未満であることが好ましく、より好ま
しくは０．１８ｇ／ｍ2以上０．４２ｇ／ｍ2未満であ
る。また、本発明の効果をより高めるために、染料の微
粒子分散体の平均粒径と該染料が含有される親水性コロ
イド層の膜厚の比が０．２〜２．０にすることが好まし
い。 本発明において、ヒドラジン誘導体としては、下記一般
式（Ｈ）で表される化合物が好ましい。
光性親水性コロイド層は、塗布量が０．０５ｇ／ｍ2以
上０．５ｇ／ｍ2未満であることが好ましく、より好ま
しくは０．１８ｇ／ｍ2以上０．４２ｇ／ｍ2未満であ
る。また、本発明の効果をより高めるために、染料の微
粒子分散体の平均粒径と該染料が含有される親水性コロ
イド層の膜厚の比が０．２〜２．０にすることが好まし
い。 本発明において、ヒドラジン誘導体としては、下記一般
式（Ｈ）で表される化合物が好ましい。
【００８５】
【化２５】
【００８６】式中、Ｅはアリール基、又は硫黄原子また
は酸素原子を少なくとも１個を含む複素環を表し、Ｇは
−（ＣＯ）ｎ1−基、スルホニル基、スルホキシ基、−
Ｐ（＝Ｏ）Ｒ22−基、またはイミノメチレン基を表し、
ｎ1は１または２の整数を表し、Ｅ1、Ｅ2はともに水素
原子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置
換のアルキルスルホニル基、または置換もしくは無置換
のアシル基を表し、Ｒ21は水素原子、各々置換もしくは
無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アル
コキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アミノ基、カルバモイル基、またはオ
キシカルボニル基を表す。Ｒ22は各々置換もしくは無置
換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニル
オキシ基、アリールオキシ基、アミノ基等を表す。
は酸素原子を少なくとも１個を含む複素環を表し、Ｇは
−（ＣＯ）ｎ1−基、スルホニル基、スルホキシ基、−
Ｐ（＝Ｏ）Ｒ22−基、またはイミノメチレン基を表し、
ｎ1は１または２の整数を表し、Ｅ1、Ｅ2はともに水素
原子あるいは一方が水素原子で他方が置換もしくは無置
換のアルキルスルホニル基、または置換もしくは無置換
のアシル基を表し、Ｒ21は水素原子、各々置換もしくは
無置換のアルキル基、アルケニル基、アリール基、アル
コキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、ヘ
テロ環オキシ基、アミノ基、カルバモイル基、またはオ
キシカルボニル基を表す。Ｒ22は各々置換もしくは無置
換のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリー
ル基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アルキニル
オキシ基、アリールオキシ基、アミノ基等を表す。
【００８７】一般式（Ｈ）で表される化合物のうち、更
に好ましくは下記一般式（Ｈａ）で表される化合物であ
る。
に好ましくは下記一般式（Ｈａ）で表される化合物であ
る。
【００８８】
【化２６】
【００８９】式中、Ｒ23は脂肪族基（例えばオクチル
基、デシル基等）、芳香族基（例えばフェニル基、２−
ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル基等）又は複素
環基（例えばピリジル基、チエニル基、フリル基等）を
表し、これらの基はさらに適当な置換基で置換されたも
のが好ましく用いられる。更に、Ｒ23には、バラスト基
又はハロゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ含むこと
が好ましい。耐拡散基としてはカプラーなどの不動性写
真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラ
スト基としては炭素数８以上の写真性に対して比較的不
活性である、例えばアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフェノキシ基などが挙げられる。
基、デシル基等）、芳香族基（例えばフェニル基、２−
ヒドロキシフェニル基、クロロフェニル基等）又は複素
環基（例えばピリジル基、チエニル基、フリル基等）を
表し、これらの基はさらに適当な置換基で置換されたも
のが好ましく用いられる。更に、Ｒ23には、バラスト基
又はハロゲン化銀吸着促進基を少なくとも一つ含むこと
が好ましい。耐拡散基としてはカプラーなどの不動性写
真用添加剤にて常用されるバラスト基が好ましく、バラ
スト基としては炭素数８以上の写真性に対して比較的不
活性である、例えばアルキル基、アルケニル基、アルキ
ニル基、アルコキシ基、フェニル基、フェノキシ基、ア
ルキルフェノキシ基などが挙げられる。
【００９０】ハロゲン化銀吸着促進基としては、チオ尿
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭６４−９０４３９号に記載の吸
着基などが挙げられる。
素、チオウレタン基、メルカプト基、チオエーテル基、
チオン基、複素環基、チオアミド複素環基、メルカプト
複素環基、或いは特開昭６４−９０４３９号に記載の吸
着基などが挙げられる。
【００９１】一般式（Ｈａ）において、Ｘａは、フェニ
ル基に置換可能な基を表し、ｍａは０〜４の整数を表
し、ｍａが２以上の場合Ｘａは同じであっても異なって
もよい。
ル基に置換可能な基を表し、ｍａは０〜４の整数を表
し、ｍａが２以上の場合Ｘａは同じであっても異なって
もよい。
【００９２】一般式（Ｈａ）において、Ｅ3、Ｅ4は一般
式（Ｈ）におけるＥ1及びＥ2と同義であり、ともに水素
原子であることが好ましい。
式（Ｈ）におけるＥ1及びＥ2と同義であり、ともに水素
原子であることが好ましい。
【００９３】一般式（Ｈａ）において、Ｇはカルボニル
基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基または
イミノメチレン基を表すが、Ｇはカルボニル基が好まし
い。
基、スルホニル基、スルホキシ基、ホスホリル基または
イミノメチレン基を表すが、Ｇはカルボニル基が好まし
い。
【００９４】一般式（Ｈａ）において、Ｒ24としては水
素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リル基、複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、
カルバモイル基、オキシカルボニル基を表す。最も好ま
しいＲ24としては、−ＣＯＯＲ25基及び−ＣＯＮ
（Ｒ26）（Ｒ27）基が挙げられ、Ｒ25はアルキニル基ま
たは飽和複素環基を表し、Ｒ26は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複
素環基を表し、Ｒ27はアルケニル基、アルキニル基、飽
和複素環基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表す。
素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基、ア
リル基、複素環基、アルコキシ基、水酸基、アミノ基、
カルバモイル基、オキシカルボニル基を表す。最も好ま
しいＲ24としては、−ＣＯＯＲ25基及び−ＣＯＮ
（Ｒ26）（Ｒ27）基が挙げられ、Ｒ25はアルキニル基ま
たは飽和複素環基を表し、Ｒ26は水素原子、アルキル
基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基または複
素環基を表し、Ｒ27はアルケニル基、アルキニル基、飽
和複素環基、ヒドロキシ基またはアルコキシ基を表す。
【００９５】以下に一般式（Ｈ）で表される化合物の具
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。
【００９６】
【化２７】
【００９７】その他の好ましいヒドラジン誘導体の具体
例としては、米国特許５，２２９，２４８号第４カラム
〜第６０カラムに記載されている（１）〜（２５２）で
ある。
例としては、米国特許５，２２９，２４８号第４カラム
〜第６０カラムに記載されている（１）〜（２５２）で
ある。
【００９８】本発明に好ましく用いられるヒドラジン誘
導体は、公知の方法により合成することができ、例えば
米国特許５，２２９，２４８号第５９カラム〜第８０カ
ラムに記載されたような方法により合成することができ
る。
導体は、公知の方法により合成することができ、例えば
米国特許５，２２９，２４８号第５９カラム〜第８０カ
ラムに記載されたような方法により合成することができ
る。
【００９９】添加量は、硬調化させる量（硬調化量）で
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適量は異な
るが、一般的にハロゲン化銀１モル当たり１０-6〜１０
-1モルの範囲であり、好ましくは１０-5〜１０-2モルの
範囲である。
あれば良く、ハロゲン化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、
化学増感の程度、抑制剤の種類などにより最適量は異な
るが、一般的にハロゲン化銀１モル当たり１０-6〜１０
-1モルの範囲であり、好ましくは１０-5〜１０-2モルの
範囲である。
【０１００】上記ヒドラジン誘導体は、ハロゲン化銀乳
剤層及び／又はその隣接層に添加される。
剤層及び／又はその隣接層に添加される。
【０１０１】上記ヒドラジン化合物はハロゲン化銀写真
乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることができる
が、好ましくはハロゲン化銀写真乳剤層及び／又はその
隣接層に用いることが好ましい。
乳剤層側の層ならば、どの層にも用いることができる
が、好ましくはハロゲン化銀写真乳剤層及び／又はその
隣接層に用いることが好ましい。
【０１０２】また本発明においては３種類以上のヒドラ
ジン化合物を任意の層に任意の状態で含有することがで
きる。
ジン化合物を任意の層に任意の状態で含有することがで
きる。
【０１０３】本発明に好ましく用いられるピリジニウム
塩誘導体としては下記一般式（Ｐａ）、（Ｐｂ）又は
（Ｐｃ）で表される化合物があげられる。
塩誘導体としては下記一般式（Ｐａ）、（Ｐｂ）又は
（Ｐｃ）で表される化合物があげられる。
【０１０４】
【化２８】
【０１０５】式中、Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14及びＡ
15は、含窒素ヘテロ環を完成させるための非金属原子群
を表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでいても
よく、ベンゼン環は縮合しても構わない。Ａ11、Ａ12、
Ａ13、Ａ14及びＡ15で構成されるヘテロ環は置換基を有
していてもよく、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。
15は、含窒素ヘテロ環を完成させるための非金属原子群
を表し、酸素原子、窒素原子、硫黄原子を含んでいても
よく、ベンゼン環は縮合しても構わない。Ａ11、Ａ12、
Ａ13、Ａ14及びＡ15で構成されるヘテロ環は置換基を有
していてもよく、それぞれ同一でも異なっていてもよ
い。
【０１０６】置換基、置換原子としては、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カルボキ
シ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウ
レイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホニル
基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、アリールチオ基を表す。
アリール基、アラルキル基、アルケニル基、アルキニル
基、ハロゲン原子、アシル基、アルコキシカルボニル
基、アリールオキシカルボニル基、スルホ基、カルボキ
シ基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ
基、アミド基、スルファモイル基、カルバモイル基、ウ
レイド基、アミノ基、スルホンアミド基、スルホニル
基、シアノ基、ニトロ基、メルカプト基、アルキルチオ
基、アリールチオ基を表す。
【０１０７】Ａ11、Ａ12、Ａ13、Ａ14及びＡ15で構成さ
れる好ましいヘテロ環の例としては５〜６員環（例え
ば、ピリジン、イミダゾール、チアゾール、オキサゾー
ル、ピラジン、ピリミジン等の各環）を挙げることがで
き、更に好ましいヘテロ環の例としてピリジン環を挙げ
ることができる。
れる好ましいヘテロ環の例としては５〜６員環（例え
ば、ピリジン、イミダゾール、チアゾール、オキサゾー
ル、ピラジン、ピリミジン等の各環）を挙げることがで
き、更に好ましいヘテロ環の例としてピリジン環を挙げ
ることができる。
【０１０８】Ｂｐは２価の連結基を表し、２価の連結基
とはアルキレン、アリーレン、アルケニレン、（ポリ）
アルキレンオキシ、−ＳＯ2−、−ＳＯ−、−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ33）−、（Ｒ33はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す）を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。好ましい例としては、Ｂｐ
はアルキレン、アルケニレン、（ポリ）アルキレンオキ
シを挙げることができる。
とはアルキレン、アリーレン、アルケニレン、（ポリ）
アルキレンオキシ、−ＳＯ2−、−ＳＯ−、−Ｏ−、−
Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｎ（Ｒ33）−、（Ｒ33はアルキル
基、アリール基、水素原子を表す）を単独又は組み合わ
せて構成されるものを表す。好ましい例としては、Ｂｐ
はアルキレン、アルケニレン、（ポリ）アルキレンオキ
シを挙げることができる。
【０１０９】Ｒ31、Ｒ32およびＲ35は、置換或いは無置
換のアリール基、置換アルキル基を表す。Ｒ31、Ｒ32は
同一でも異なっていてもよい。置換基としてはＡ11、Ａ
12、Ａ13、Ａ14及びＡ15の置換基として挙げた基と同義
である。好ましい例としてはＲ31、Ｒ32およびＲ35はそ
れぞれ炭素数１〜２０の飽和及び不飽和のアルキル基が
挙げられる。更に好ましい例として炭素数４以上１０以
下の飽和及び不飽和のアルキル基である。
換のアリール基、置換アルキル基を表す。Ｒ31、Ｒ32は
同一でも異なっていてもよい。置換基としてはＡ11、Ａ
12、Ａ13、Ａ14及びＡ15の置換基として挙げた基と同義
である。好ましい例としてはＲ31、Ｒ32およびＲ35はそ
れぞれ炭素数１〜２０の飽和及び不飽和のアルキル基が
挙げられる。更に好ましい例として炭素数４以上１０以
下の飽和及び不飽和のアルキル基である。
【０１１０】Ｘｐ-は分子全体の電荷を均衡さすに必要
な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、ヨ
ウ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、ｐ−トルエンス
ルホナート、オキザラートイオンを表す。ｎpは分子全
体の電荷を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子
内塩の場合にはｎpは０である。
な対イオンを表し、例えば塩素イオン、臭素イオン、ヨ
ウ素イオン、硝酸イオン、硫酸イオン、ｐ−トルエンス
ルホナート、オキザラートイオンを表す。ｎpは分子全
体の電荷を均衡さすに必要な対イオンの数を表し、分子
内塩の場合にはｎpは０である。
【０１１１】以下に、ピリジニウム塩誘導体の具体的化
合物例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
合物例を示すが、本発明はこれらに限定されるものでは
ない。
【０１１２】
【化２９】
【０１１３】ピリジニウム塩誘導体の添加量はハロゲン
化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の程度、抑制
剤の種類などにより最適量は異なるが、一般的にハロゲ
ン化銀１モル当たり１０-6〜１０-1モルの範囲が好まし
く、特に１０-5〜１０-2モルの範囲が好ましい。ピリジ
ニウム塩誘導体はハロゲン化銀写真乳剤層側の層なら
ば、どの層にも用いることができるが、ハロゲン化銀写
真乳剤層及び／又はその隣接層に含有させることが好ま
しい。また本発明においては３種類以上のピリジニウム
塩誘導体を任意の層に任意の状態で含有させることがで
きる。
化銀粒子の粒径、ハロゲン組成、化学増感の程度、抑制
剤の種類などにより最適量は異なるが、一般的にハロゲ
ン化銀１モル当たり１０-6〜１０-1モルの範囲が好まし
く、特に１０-5〜１０-2モルの範囲が好ましい。ピリジ
ニウム塩誘導体はハロゲン化銀写真乳剤層側の層なら
ば、どの層にも用いることができるが、ハロゲン化銀写
真乳剤層及び／又はその隣接層に含有させることが好ま
しい。また本発明においては３種類以上のピリジニウム
塩誘導体を任意の層に任意の状態で含有させることがで
きる。
【０１１４】本発明に好ましく用いられるテトラゾリウ
ム化合物は下記一般式（Ｔ）で表すことができる。
ム化合物は下記一般式（Ｔ）で表すことができる。
【０１１５】
【化３０】
【０１１６】上記式中のＲ41、Ｒ42、Ｒ43は水素原子も
しくは電子吸引性度を示すハメットのシグマ値（σｐ）
が負又は０のものが好ましい。フェニル置換におけるハ
メットのシグマ値は多くの文献、例えばジャーナル・オ
ブ・メディカルケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
Ｍｅｄｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第２０巻、３０
４頁、１９７７年記載のＣ．ハンシュ（Ｃ．Ｈａｎｓｃ
ｈ）等の報文に見ることができ、特に好ましい負又は０
のシグマ値（下記各基の後に数値を記載する）を有する
基としては、たとえばメチル基（−０．１７）、エチル
基（−０．１５）、シクロプロピル基（−０．２１）、
ｎ−プロピル基（−０．１３）、ｉｓｏ−ブチル基（−
０．１１）、ｎ−ペンチル基（−０．１５）、シクロヘ
キシル基（−０．２２）、アミノ基（−０．６６）、ア
セチルアミノ基（０）、ヒドロキシル基（−０．３
７）、メトキシ基（−０．２７）、エトキシ基（−０．
２４）、プロポキシ基（−０．２５）、ブトキシ基（−
０．３２）、ペントキシ基（−０．３４）等が挙げら
れ、これらはいずれも一般式（Ｔ）の化合物の置換基と
して有用である。ａは１あるいは２を表し、ＸT a-で示
されるアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物
イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫
酸、化塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン
酸等の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的には
ｐ−トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベン
ゼンスルホン酸アニオン、ｐ−ドデシルベンゼンスルホ
ン酸アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニ
オン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル
硫酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等のほう
酸系アニオン、ジ−２−エチルヘキシルスルホサクシネ
ートアニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオ
ン、アセチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の
ポリエーテルアルコール硫酸エステルアニオン、ステア
リン酸アニオン等の高級脂肪族アニオン、ポリアクリル
酸アニオン等のポリマーに酸根のついたもの等を挙げる
ことができる。
しくは電子吸引性度を示すハメットのシグマ値（σｐ）
が負又は０のものが好ましい。フェニル置換におけるハ
メットのシグマ値は多くの文献、例えばジャーナル・オ
ブ・メディカルケミストリー（Ｊｏｕｒｎａｌ ｏｆ
Ｍｅｄｉｃａｌ Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ）第２０巻、３０
４頁、１９７７年記載のＣ．ハンシュ（Ｃ．Ｈａｎｓｃ
ｈ）等の報文に見ることができ、特に好ましい負又は０
のシグマ値（下記各基の後に数値を記載する）を有する
基としては、たとえばメチル基（−０．１７）、エチル
基（−０．１５）、シクロプロピル基（−０．２１）、
ｎ−プロピル基（−０．１３）、ｉｓｏ−ブチル基（−
０．１１）、ｎ−ペンチル基（−０．１５）、シクロヘ
キシル基（−０．２２）、アミノ基（−０．６６）、ア
セチルアミノ基（０）、ヒドロキシル基（−０．３
７）、メトキシ基（−０．２７）、エトキシ基（−０．
２４）、プロポキシ基（−０．２５）、ブトキシ基（−
０．３２）、ペントキシ基（−０．３４）等が挙げら
れ、これらはいずれも一般式（Ｔ）の化合物の置換基と
して有用である。ａは１あるいは２を表し、ＸT a-で示
されるアニオンとしては、例えば塩化物イオン、臭化物
イオン、ヨウ化物イオン等のハロゲンイオン、硝酸、硫
酸、化塩素酸等の無機酸の酸根、スルホン酸、カルボン
酸等の有機酸の酸根、アニオン系の活性剤、具体的には
ｐ−トルエンスルホン酸アニオン等の低級アルキルベン
ゼンスルホン酸アニオン、ｐ−ドデシルベンゼンスルホ
ン酸アニオン等の高級アルキルベンゼンスルホン酸アニ
オン、ラウリルスルフェートアニオン等の高級アルキル
硫酸エステルアニオン、テトラフェニルボロン等のほう
酸系アニオン、ジ−２−エチルヘキシルスルホサクシネ
ートアニオン等のジアルキルスルホサクシネートアニオ
ン、アセチルポリエテノキシサルフェートアニオン等の
ポリエーテルアルコール硫酸エステルアニオン、ステア
リン酸アニオン等の高級脂肪族アニオン、ポリアクリル
酸アニオン等のポリマーに酸根のついたもの等を挙げる
ことができる。
【０１１７】特に好ましいテトラゾリウム化合物を下記
に挙げるが本発明はこれらに限定されるものではない。
に挙げるが本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１８】（１）２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニ
ル）−５−フェニルテトラゾリウムクロリド （２）２，３−ジ（ｐ−メチルフェニル）−５−フェニ
ルテトラゾリウムクロリド （３）２，３−ジ（ｍ−メチルフェニル）−５−フェニ
ルテトラゾリウムクロリド （４）２，３，５−トリ（ｐ−メチルフェニル）テトラ
ゾリウムクロリド （５）２，３，５−トリ（ｐ−メトキシフェニル）テト
ラゾリウムクロリド そのほかに特公平５−５８１７５号記載のテトラゾリウ
ム化合物を使用することができる。
ル）−５−フェニルテトラゾリウムクロリド （２）２，３−ジ（ｐ−メチルフェニル）−５−フェニ
ルテトラゾリウムクロリド （３）２，３−ジ（ｍ−メチルフェニル）−５−フェニ
ルテトラゾリウムクロリド （４）２，３，５−トリ（ｐ−メチルフェニル）テトラ
ゾリウムクロリド （５）２，３，５−トリ（ｐ−メトキシフェニル）テト
ラゾリウムクロリド そのほかに特公平５−５８１７５号記載のテトラゾリウ
ム化合物を使用することができる。
【０１１９】本発明のハロゲン化銀写真感光材料では酸
化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス
化合物を含有することが好ましい。レドックス化合物
は、レドックス基としてハイドロキノン類、カテコール
類、ナフトハイドロキノン類、アミノフェノール類、ピ
ラゾリドン類、ヒドラジン類、レダクトン類などを有す
る。好ましいレドックス化合物はレドックス基として−
ＮＨＮＨ−基を有する化合物及び下記一般式（１１）、
（１２）、（１３）、（１４）、（１５）または（１
６）で表される化合物である。
化されることにより現像抑制剤を放出しうるレドックス
化合物を含有することが好ましい。レドックス化合物
は、レドックス基としてハイドロキノン類、カテコール
類、ナフトハイドロキノン類、アミノフェノール類、ピ
ラゾリドン類、ヒドラジン類、レダクトン類などを有す
る。好ましいレドックス化合物はレドックス基として−
ＮＨＮＨ−基を有する化合物及び下記一般式（１１）、
（１２）、（１３）、（１４）、（１５）または（１
６）で表される化合物である。
【０１２０】レドックス基として−ＮＨＮＨ−基を有す
る化合物としては下記の一般式（ＲＥ−ａ）または（Ｒ
Ｅ−ｂ）である。
る化合物としては下記の一般式（ＲＥ−ａ）または（Ｒ
Ｅ−ｂ）である。
【０１２１】一般式（ＲＥ−ａ） Ｔ−ＮＨＮＨＣＯ−Ｖ−（Ｔｉｍｅ）−ＰＵＧ 一般式（ＲＥ−ｂ） Ｔ−ＮＨＮＨＣＯＣＯ−Ｖ−（Ｔｉｍｅ）−ＰＵＧ 一般式（ＲＥ−ａ）及び一般式（ＲＥ−ｂ）において、
ＴおよびＶは各々置換されてもよいアリール基または置
換されてもよいアルキル基を表す。
ＴおよびＶは各々置換されてもよいアリール基または置
換されてもよいアルキル基を表す。
【０１２２】ＴおよびＶで表されるアリール基として
は、例えばベンゼン環やナフタレン環が挙げられ、これ
らの環は種々の置換基で置換されてもよく、好ましい置
換基として直鎖、分岐のアルキル基（好ましくは炭素数
２〜２０のもの例えばメチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、ドデシル基等）、アルコキシ基（好ましくは炭素
数２〜２１のもの、例えばメトキシ基、エトキシ基
等）、脂肪族アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２
１のアルキル基をもつもの、例えばアセチルアミノ基、
ヘプチルアミノ基等）、芳香族アシルアミノ基等が挙げ
られ、これらの他に例えば上記のような置換または無置
換の芳香族環が−ＣＯＮＨ−、−Ｏ−、−ＳＯ2ＮＨ
−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−のような連結基
で結合しているものも含む。
は、例えばベンゼン環やナフタレン環が挙げられ、これ
らの環は種々の置換基で置換されてもよく、好ましい置
換基として直鎖、分岐のアルキル基（好ましくは炭素数
２〜２０のもの例えばメチル基、エチル基、イソプロピ
ル基、ドデシル基等）、アルコキシ基（好ましくは炭素
数２〜２１のもの、例えばメトキシ基、エトキシ基
等）、脂肪族アシルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２
１のアルキル基をもつもの、例えばアセチルアミノ基、
ヘプチルアミノ基等）、芳香族アシルアミノ基等が挙げ
られ、これらの他に例えば上記のような置換または無置
換の芳香族環が−ＣＯＮＨ−、−Ｏ−、−ＳＯ2ＮＨ
−、−ＮＨＣＯＮＨ−、−ＮＨＣＯＯ−のような連結基
で結合しているものも含む。
【０１２３】ＰＵＧとしては、５−ニトロインダゾール
環、４−ニトロインダゾール環、１−フェニルテトラゾ
ール環、１−（３−スルホフェニル）テトラゾール環、
５−ニトロベンゾトリアゾール環、４−ニトロベンゾト
リアゾール環、５−ニトロイミダゾール環、４−ニトロ
イミダゾール環等が挙げられる。これら環の現像抑制化
合物は、Ｔ−ＮＨＮＨ−ＣＯ−のＣＯ部位にＮやＳなど
のヘテロ原子を介して直接またはアルキレン基、アリー
レン基（例えば、フェニレン基）、アラルキレン基等を
介して更にＮやＳのヘテロ原子を介して接続することが
できる。
環、４−ニトロインダゾール環、１−フェニルテトラゾ
ール環、１−（３−スルホフェニル）テトラゾール環、
５−ニトロベンゾトリアゾール環、４−ニトロベンゾト
リアゾール環、５−ニトロイミダゾール環、４−ニトロ
イミダゾール環等が挙げられる。これら環の現像抑制化
合物は、Ｔ−ＮＨＮＨ−ＣＯ−のＣＯ部位にＮやＳなど
のヘテロ原子を介して直接またはアルキレン基、アリー
レン基（例えば、フェニレン基）、アラルキレン基等を
介して更にＮやＳのヘテロ原子を介して接続することが
できる。
【０１２４】その他に、バラスト基がついたハイドロキ
ノン化合物にトリアゾール基、インダゾール基、イミダ
ゾール基、チアゾール基、チアジアゾール基などの現像
抑制基を導入したものも使用できる。
ノン化合物にトリアゾール基、インダゾール基、イミダ
ゾール基、チアゾール基、チアジアゾール基などの現像
抑制基を導入したものも使用できる。
【０１２５】例えば、２−（ドデシルエチレンオキサイ
ドチオプロピオン酸アミド）−５−（５−ニトロインダ
ゾール−２−イル）ハイドロキノン、２−（ステアリル
アミド）−５−（１−フェニルテトラゾール−５−チ
オ）ハイドロキノン、２−（２，４−ジ−ｔ−アミルフ
ェノキシプロピオン酸アミド）−５−（５−ニトロトリ
アゾール−２−イル）ハイドロキノン、２−ドデシルチ
オ−５−（２−メルカプトチオチアジアゾール−５−チ
オ）ハイドロキノン等が挙げられる。
ドチオプロピオン酸アミド）−５−（５−ニトロインダ
ゾール−２−イル）ハイドロキノン、２−（ステアリル
アミド）−５−（１−フェニルテトラゾール−５−チ
オ）ハイドロキノン、２−（２，４−ジ−ｔ−アミルフ
ェノキシプロピオン酸アミド）−５−（５−ニトロトリ
アゾール−２−イル）ハイドロキノン、２−ドデシルチ
オ−５−（２−メルカプトチオチアジアゾール−５−チ
オ）ハイドロキノン等が挙げられる。
【０１２６】レドックス化合物は、米国特許４，２６
９，９２９号に記載の合成法を参考にして合成すること
ができる。
９，９２９号に記載の合成法を参考にして合成すること
ができる。
【０１２７】レドックス化合物は乳剤層中、または乳剤
層に隣接する親水性コロイド層中、更には中間層を介し
て親水性コロイド層中に含有せしめることができる。
層に隣接する親水性コロイド層中、更には中間層を介し
て親水性コロイド層中に含有せしめることができる。
【０１２８】上記のレドックス化合物の添加は、メタノ
ールやエタノール等のアルコール類、エチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコールな
どのグリコール類、エーテル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホオキサイド、テトラヒドロフラン、酢酸
エチルなどのエステル類、アセトンやメチルエチルケト
ンなどのケトン類に溶解してから添加することができ
る。
ールやエタノール等のアルコール類、エチレングリコー
ル、トリエチレングリコール、プロピレングリコールな
どのグリコール類、エーテル、ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホオキサイド、テトラヒドロフラン、酢酸
エチルなどのエステル類、アセトンやメチルエチルケト
ンなどのケトン類に溶解してから添加することができ
る。
【０１２９】また水や有機溶媒に溶けにくいものは、高
速インペラー分散、サンドミル分散、超音波分散、ボー
ルミル分散などにより平均粒子径が０．０１から６μｍ
まで任意に分散することができる。分散には、アニオン
やノニオンなどの表面活性剤、増粘剤、ラテックスなど
を添加して分散することができる。
速インペラー分散、サンドミル分散、超音波分散、ボー
ルミル分散などにより平均粒子径が０．０１から６μｍ
まで任意に分散することができる。分散には、アニオン
やノニオンなどの表面活性剤、増粘剤、ラテックスなど
を添加して分散することができる。
【０１３０】レドックス化合物の添加量は、ハロゲン化
銀１モルあたり１０-6モルから１０-1モルまで好まし
く、さらに好ましくは１０-4モルから１０-2モルの範囲
である。
銀１モルあたり１０-6モルから１０-1モルまで好まし
く、さらに好ましくは１０-4モルから１０-2モルの範囲
である。
【０１３１】一般式（ＲＥ−ａ）または一般式（ＲＥ−
ｂ）で表される化合物のうち、特に好ましい化合物を下
記に挙げる。
ｂ）で表される化合物のうち、特に好ましい化合物を下
記に挙げる。
【０１３２】
【化３１】
【０１３３】
【化３２】
【０１３４】その他の好ましいレドックス化合物の具体
例としては、特開平４−２４５２４３号公報の２３６
（８）頁「００５３」〜２５０（２２）頁「００６８」
に記載されているＲ−１〜Ｒ−５０である。
例としては、特開平４−２４５２４３号公報の２３６
（８）頁「００５３」〜２５０（２２）頁「００６８」
に記載されているＲ−１〜Ｒ−５０である。
【０１３５】また前記一般式〔１１〕、〔１２〕、〔１
３〕、〔１４〕、〔１５〕または〔１６〕で表されるレ
ドックス化合物について説明する。
３〕、〔１４〕、〔１５〕または〔１６〕で表されるレ
ドックス化合物について説明する。
【０１３６】
【化３３】
【０１３７】一般式〔１１〕、〔１２〕、〔１３〕、
〔１４〕、〔１５〕または〔１６〕において、Ｒ51はア
ルキル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ52およ
びＲ53は水素原子、アシル基、カルバモイル基、シアノ
基、ニトロ基、スルホニル基、アリール基、オキザリル
基、複素環基、アルコキシカルボニル基またはアリール
オキシカルボニル基を表す。Ｒ54は水素原子を表す。Ｒ
55〜Ｒ59は水素原子、アルキル基、アリール基または複
素環基を表す。ｒ1、ｒ2及びｒ3はベンゼン環に置換可
能な置換基を表す。
〔１４〕、〔１５〕または〔１６〕において、Ｒ51はア
ルキル基、アリール基または複素環基を表す。Ｒ52およ
びＲ53は水素原子、アシル基、カルバモイル基、シアノ
基、ニトロ基、スルホニル基、アリール基、オキザリル
基、複素環基、アルコキシカルボニル基またはアリール
オキシカルボニル基を表す。Ｒ54は水素原子を表す。Ｒ
55〜Ｒ59は水素原子、アルキル基、アリール基または複
素環基を表す。ｒ1、ｒ2及びｒ3はベンゼン環に置換可
能な置換基を表す。
【０１３８】Ｘ11、Ｘ12はＯ又はＮＨを表わす。Ｚ1は
５〜６員の複素環を構成するのに必要な原子群を表す。
Ｗは−Ｎ（Ｒ60）Ｒ61、または−ＯＨを表し、Ｒ60及び
Ｒ61は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環
基を表す。
５〜６員の複素環を構成するのに必要な原子群を表す。
Ｗは−Ｎ（Ｒ60）Ｒ61、または−ＯＨを表し、Ｒ60及び
Ｒ61は水素原子、アルキル基、アリール基または複素環
基を表す。
【０１３９】ＣＯＵＰは芳香族第１級アミン現像主薬の
酸化体とカップリング反応を起こし得るカプラー残基を
表し、★はカプラーのカップリング部位を表す。
酸化体とカップリング反応を起こし得るカプラー残基を
表し、★はカプラーのカップリング部位を表す。
【０１４０】Ｔｍはタイミング基を表す。ｍ1及びｐ1は
０から３の整数を表す。ｑ1は０から４の整数を表す。
ｎ2は０または１を表す。ＰＵＧは現像抑制剤を表す。
０から３の整数を表す。ｑ1は０から４の整数を表す。
ｎ2は０または１を表す。ＰＵＧは現像抑制剤を表す。
【０１４１】前記一般式〔１１〕、〔１２〕、〔１
３〕、〔１４〕、〔１５〕または〔１６〕において、Ｒ
51およびＲ55〜Ｒ61で表されるアルキル基、アリール
基、複素環基として好ましくは、メチル基、ｐ−メトキ
シフェニル基、ピリジル基等が挙げられる。
３〕、〔１４〕、〔１５〕または〔１６〕において、Ｒ
51およびＲ55〜Ｒ61で表されるアルキル基、アリール
基、複素環基として好ましくは、メチル基、ｐ−メトキ
シフェニル基、ピリジル基等が挙げられる。
【０１４２】Ｒ52およびＲ53で表わされるアシル基、カ
ルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、ア
リール基、オキザリル基、複素環基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基のなかで好ましく
はアシル基、カルバモイル基、シアノ基である。これら
の基の炭素数の合計は１〜２０であることが好ましい。
ルバモイル基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、ア
リール基、オキザリル基、複素環基、アルコキシカルボ
ニル基、アリールオキシカルボニル基のなかで好ましく
はアシル基、カルバモイル基、シアノ基である。これら
の基の炭素数の合計は１〜２０であることが好ましい。
【０１４３】Ｒ51〜Ｒ61はさらに置換原子、置換基を有
していてもよく、該置換原子、該置換基として例えば、
ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロ
キシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル
基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基
（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール
基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ
−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキ
シ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基
等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シ
アノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチ
ルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリール
チオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ
基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホ
ニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレ
イド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチ
ルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチル
スルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば
メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチ
ルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチ
ルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、
アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボ
ニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニ
ル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル
基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセ
チル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基
（例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルア
ミノ基等）、ヒドロキシル基、ニトロ基、イミド基（例
えばフタルイミド基等）、複素環基（例えば、ピリジル
基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベン
ズオキサゾリル基等）が挙げられる。
していてもよく、該置換原子、該置換基として例えば、
ハロゲン原子（塩素原子、臭素原子等）、アルキル基
（例えばメチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロ
キシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル
基、ｔ−ブチル基等）、シクロアルキル基（例えばシク
ロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基
（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール
基（例えばフェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ
−クロロフェニル基等）、アルコキシ基（例えばメトキ
シ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基
等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、シ
アノ基、アシルアミノ基（例えばアセチルアミノ基、プ
ロピオニルアミノ基等）、アルキルチオ基（例えばメチ
ルチオ基、エチルチオ基、ブチルチオ基等）、アリール
チオ基（例えばフェニルチオ基等）、スルホニルアミノ
基（例えばメタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホ
ニルアミノ基等）、ウレイド基（例えば３−メチルウレ
イド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチ
ルウレイド基等）、スルファモイルアミノ基（ジメチル
スルファモイルアミノ基等）、カルバモイル基（例えば
メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチ
ルカルバモイル基等）、スルファモイル基（例えばエチ
ルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基等）、
アルコキシカルボニル基（例えばメトキシカルボニル
基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボ
ニル基（例えばフェノキシカルボニル基等）、スルホニ
ル基（例えばメタンスルホニル基、ブタンスルホニル
基、フェニルスルホニル基等）、アシル基（例えばアセ
チル基、プロパノイル基、ブチロイル基等）、アミノ基
（例えばメチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルア
ミノ基等）、ヒドロキシル基、ニトロ基、イミド基（例
えばフタルイミド基等）、複素環基（例えば、ピリジル
基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベン
ズオキサゾリル基等）が挙げられる。
【０１４４】ＣＯＵＰで表されるカプラー残基としては
以下のものを挙げることができる。
以下のものを挙げることができる。
【０１４５】シアンカプラー残基としてはフェノールカ
プラー、ナフトールカプラー等がある。マゼンタカプラ
ーとしては５−ピラゾロンカプラー、ピラゾロンカプラ
ー、シアノアセチルクマロンカプラー、開鎖アシルアセ
トニトリルカプラー、インダゾロンカプラー等がある。
イエローカプラー残基としてはベンゾイルアセトアニリ
ドカプラー、ピバロイルアセトアニリドカプラー、マロ
ンジアニリドカプラー等がある。無呈色カプラー残基と
しては開鎖または環状活性メチレン化合物（例えばイン
ダノン、シクロペンタノン、マロン酸ジエステル、イミ
ダゾリノン、オキサゾリノン、チアゾリノン等）があ
る。
プラー、ナフトールカプラー等がある。マゼンタカプラ
ーとしては５−ピラゾロンカプラー、ピラゾロンカプラ
ー、シアノアセチルクマロンカプラー、開鎖アシルアセ
トニトリルカプラー、インダゾロンカプラー等がある。
イエローカプラー残基としてはベンゾイルアセトアニリ
ドカプラー、ピバロイルアセトアニリドカプラー、マロ
ンジアニリドカプラー等がある。無呈色カプラー残基と
しては開鎖または環状活性メチレン化合物（例えばイン
ダノン、シクロペンタノン、マロン酸ジエステル、イミ
ダゾリノン、オキサゾリノン、チアゾリノン等）があ
る。
【０１４６】さらにＣｏｕｐで表されるカプラー残基の
うち本発明において好ましく用いられるものは、一般式
（Ｃｏｕｐ−１）〜一般式（Ｃｏｕｐ−８）で表すこと
ができる。
うち本発明において好ましく用いられるものは、一般式
（Ｃｏｕｐ−１）〜一般式（Ｃｏｕｐ−８）で表すこと
ができる。
【０１４７】
【化３４】
【０１４８】式中Ｒ70はアシルアミド基、アニリノ基ま
たはウレイド基を表し、Ｒ71は１個またはそれ以上のハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはシアノ基
で置換されてもよいフェニル基を表す。
たはウレイド基を表し、Ｒ71は１個またはそれ以上のハ
ロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基またはシアノ基
で置換されてもよいフェニル基を表す。
【０１４９】
【化３５】
【０１５０】一般式（Ｃｏｕｐ−２）及び一般式（Ｃｏ
ｕｐ−３）において、Ｒ72、Ｒ73はハロゲン原子、アシ
ルアミド基、アルコキシカルボニルアミド基、スルホウ
レイド基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ
基または脂肪族基を表し、Ｒ74およびＲ75はおのおの脂
肪族基、芳香族基または複素環基を表す。またＲ74およ
びＲ75の一方が水素原子であってもよい。ａは１〜４の
整数、ｂは０〜５の整数を表す。ａ、ｂが複数の場合、
Ｒ72は同一でも異なっていてもよく、またＲ73は同一で
も異なっていてもよい。
ｕｐ−３）において、Ｒ72、Ｒ73はハロゲン原子、アシ
ルアミド基、アルコキシカルボニルアミド基、スルホウ
レイド基、アルコキシ基、アルキルチオ基、ヒドロキシ
基または脂肪族基を表し、Ｒ74およびＲ75はおのおの脂
肪族基、芳香族基または複素環基を表す。またＲ74およ
びＲ75の一方が水素原子であってもよい。ａは１〜４の
整数、ｂは０〜５の整数を表す。ａ、ｂが複数の場合、
Ｒ72は同一でも異なっていてもよく、またＲ73は同一で
も異なっていてもよい。
【０１５１】
【化３６】
【０１５２】一般式（Ｃｏｕｐ−４）及び一般式（Ｃｏ
ｕｐ−５）において式中Ｒ76は３級アルキル基または芳
香族基を表し、Ｒ77は水素原子、ハロゲン原子またはア
ルコキシ基を表す。Ｒ78はアシルアミド基、脂肪族基、
アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、アルコキシ基、ハロゲン原子またはスルホンア
ミド基を表す。
ｕｐ−５）において式中Ｒ76は３級アルキル基または芳
香族基を表し、Ｒ77は水素原子、ハロゲン原子またはア
ルコキシ基を表す。Ｒ78はアシルアミド基、脂肪族基、
アルコキシカルボニル基、スルファモイル基、カルバモ
イル基、アルコキシ基、ハロゲン原子またはスルホンア
ミド基を表す。
【０１５３】
【化３７】
【０１５４】式中Ｒ79は脂肪族基、アルコキシ基、アシ
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ジ
アシルアミノ基、Ｒ80は水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基を表す。
ルアミノ基、スルホンアミド基、スルファモイル基、ジ
アシルアミノ基、Ｒ80は水素原子、ハロゲン原子、ニト
ロ基を表す。
【０１５５】
【化３８】
【０１５６】一般式（Ｃｏｕｐ−７）及び一般式（Ｃｏ
ｕｐ−８）においてＲ81、Ｒ82は水素原子、脂肪族基、
芳香族基、複素環基を表す。
ｕｐ−８）においてＲ81、Ｒ82は水素原子、脂肪族基、
芳香族基、複素環基を表す。
【０１５７】Ｚ1で表される５〜６員の複素環として
は、単環でも縮合環でもよく、Ｏ、Ｓ、及びＮ原子の少
なくとも１種を環内に有する５〜６員の複素環が挙げら
れる。これらの環上には置換基を有してもよく、具体的
には前述の置換基を挙げることができる。
は、単環でも縮合環でもよく、Ｏ、Ｓ、及びＮ原子の少
なくとも１種を環内に有する５〜６員の複素環が挙げら
れる。これらの環上には置換基を有してもよく、具体的
には前述の置換基を挙げることができる。
【０１５８】前記Ｔｍで表されるタイミング基として好
ましくは−ＯＣＨ2−又はその他の２価のタイミング
基、例えば米国特許４，２４８，９６２号、同４，４０
９，３２３号、又は同３，６７４，４７８号、Ｒｅｓｅ
ｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ２１２２８（１９８１年
１２月）、又は特開昭５７−５６８３７号、特開平４−
４３８号公報等に記載のものが挙げられる。
ましくは−ＯＣＨ2−又はその他の２価のタイミング
基、例えば米国特許４，２４８，９６２号、同４，４０
９，３２３号、又は同３，６７４，４７８号、Ｒｅｓｅ
ｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ２１２２８（１９８１年
１２月）、又は特開昭５７−５６８３７号、特開平４−
４３８号公報等に記載のものが挙げられる。
【０１５９】ＰＵＧとして好ましい現像抑制剤は、例え
ば米国特許４，４７７，５６３号、特開昭６０−２１８
６４４号、同６０−２２１７５０号、同６０−２３３６
５０号、又は同６１−１１７４３号に記載のある現像抑
制剤が挙げられる。
ば米国特許４，４７７，５６３号、特開昭６０−２１８
６４４号、同６０−２２１７５０号、同６０−２３３６
５０号、又は同６１−１１７４３号に記載のある現像抑
制剤が挙げられる。
【０１６０】以下に本発明に好ましく用いられる一般式
〔１１〕〜〔１６〕で表される化合物の具体例を列挙す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
〔１１〕〜〔１６〕で表される化合物の具体例を列挙す
るが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１６１】
【化３９】
【０１６２】本発明で好ましく用いられる一般式〔１
１〕〜〔１６〕で表される化合物は、ハロゲン化銀１モ
ル当たり１×１０-6モルから５×１０-2モル含有するの
が好ましく、特に１×１０-4モルから２×１０-2モルが
好ましい。
１〕〜〔１６〕で表される化合物は、ハロゲン化銀１モ
ル当たり１×１０-6モルから５×１０-2モル含有するの
が好ましく、特に１×１０-4モルから２×１０-2モルが
好ましい。
【０１６３】上記一般式〔１１〕〜〔１６〕で表される
化合物は適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール
類、ケトン類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミド、メチルセロソルブなどに溶解して用いることが
できる。また、既に公知のオイルを用いた乳化分散物と
して添加することもできる。さらに、固体分散法として
知られる方法によって、化合物の粉末を水のなかにボー
ルミル、コロイドミル、インペラー分散機、あるいは超
音波によって分散して用いることもできる。
化合物は適当な水混和性有機溶媒、例えばアルコール
類、ケトン類、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルム
アミド、メチルセロソルブなどに溶解して用いることが
できる。また、既に公知のオイルを用いた乳化分散物と
して添加することもできる。さらに、固体分散法として
知られる方法によって、化合物の粉末を水のなかにボー
ルミル、コロイドミル、インペラー分散機、あるいは超
音波によって分散して用いることもできる。
【０１６４】本発明で好ましく用いられるレドックス化
合物は、ハロゲン化銀写真乳剤層中、乳剤層の隣接層、
隣接層を介した他の層などに存在させることができる。
特に好ましくは、乳剤層及び／又は乳剤層に隣接する親
水性コロイド層である。最も好ましくは支持体に最も近
い乳剤層との間に親水性コロイド層を設け、該親水性コ
ロイド層に添加することである。また、レドックス化合
物は複数の異なる層に含有されてもよい。
合物は、ハロゲン化銀写真乳剤層中、乳剤層の隣接層、
隣接層を介した他の層などに存在させることができる。
特に好ましくは、乳剤層及び／又は乳剤層に隣接する親
水性コロイド層である。最も好ましくは支持体に最も近
い乳剤層との間に親水性コロイド層を設け、該親水性コ
ロイド層に添加することである。また、レドックス化合
物は複数の異なる層に含有されてもよい。
【０１６５】本発明においては、一般的に知られている
硫黄増感、還元増感及び貴金属増感法をＳｅ、Ｔｅなど
の化合物を用いた化学増感と併用してもよい。
硫黄増感、還元増感及び貴金属増感法をＳｅ、Ｔｅなど
の化合物を用いた化学増感と併用してもよい。
【０１６６】硫黄増感剤としては、ゼラチン中に含まれ
る硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸
塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィド化合物
等を用いることができる。
る硫黄化合物の他、種々の硫黄化合物、例えばチオ硫酸
塩、チオ尿素類、ローダニン類、ポリスルフィド化合物
等を用いることができる。
【０１６７】貴金属増感法のうち金増感法はその代表的
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
なもので、金化合物、主として金錯塩を用いる。金以外
の貴金属、例えば白金、パラジウム、ロジウム等の錯塩
を含有しても差支えない。
【０１６８】還元増感剤としては第一錫塩、アミン類、
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
ホルムアミジンスルフィン酸、シラン化合物などを用い
ることができる。
【０１６９】本発明において、ハロゲン化銀乳剤中のハ
ロゲン化銀のハロゲン組成は、純塩化銀、６０モル％以
上の塩化銀を含む塩臭化銀又は６０モル％以上の塩化銀
を含む塩沃臭化銀であることが好ましい。
ロゲン化銀のハロゲン組成は、純塩化銀、６０モル％以
上の塩化銀を含む塩臭化銀又は６０モル％以上の塩化銀
を含む塩沃臭化銀であることが好ましい。
【０１７０】ハロゲン化銀の平均粒径は０．７μｍ以下
であることが好ましく、特に０．５〜０．１μｍが好ま
しい。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家には常用
されており、容易に理解される用語である。
であることが好ましく、特に０．５〜０．１μｍが好ま
しい。平均粒径とは、写真科学の分野の専門家には常用
されており、容易に理解される用語である。
【０１７１】上記粒径とは、粒子が球状又は球に近似で
きる粒子の場合には粒子直径を意味する。粒子が立方体
である場合には球に換算し、その球の直径を粒径とす
る。平均粒径を求める方法の詳細については、ミース、
ジェームス：ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィ
ックプロセス（Ｃ．Ｅ．Ｍｅｅｓ＆Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ
著：Ｔｈｅ ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｏｃｅｓｓ）、第３版、３６〜４
３頁（１９６６年（マクミラン「Ｍｃｍｉｌｌａｎ」社
刊））を参照すればよい。
きる粒子の場合には粒子直径を意味する。粒子が立方体
である場合には球に換算し、その球の直径を粒径とす
る。平均粒径を求める方法の詳細については、ミース、
ジェームス：ザ・セオリー・オブ・ザ・フォトグラフィ
ックプロセス（Ｃ．Ｅ．Ｍｅｅｓ＆Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ
著：Ｔｈｅ ｔｈｅｏｒｙ ｏｆ ｔｈｅ ｐｈｏｔｏ
ｇｒａｐｈｉｃ ｐｒｏｃｅｓｓ）、第３版、３６〜４
３頁（１９６６年（マクミラン「Ｍｃｍｉｌｌａｎ」社
刊））を参照すればよい。
【０１７２】ハロゲン化銀粒子の形状には制限はなく、
平板状、球状、立方体状、１４面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒径分布は狭い方が好ま
しく、特に平均粒径の±４０％の粒径域内に全粒子数の
９０％、望ましくは９５％が入るような、いわゆる単分
散乳剤が好ましい。
平板状、球状、立方体状、１４面体状、正八面体状その
他いずれの形状でもよい。又、粒径分布は狭い方が好ま
しく、特に平均粒径の±４０％の粒径域内に全粒子数の
９０％、望ましくは９５％が入るような、いわゆる単分
散乳剤が好ましい。
【０１７３】本発明における可溶性銀塩と可溶性ハロゲ
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。粒子
を銀イオン過剰の下において形成させる方法（いわゆる
逆混合法）を用いることもできる。同時混合法の一つの
形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のｐＡｇを
一定に保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブル
ジェット法を用いることができ、この方法によると、結
晶形が規則的で粒径が均一に近いハロゲン化銀乳剤が得
られる。
ン塩を反応させる形式としては、片側混合法、同時混合
法、それらの組合せなどのいずれを用いてもよい。粒子
を銀イオン過剰の下において形成させる方法（いわゆる
逆混合法）を用いることもできる。同時混合法の一つの
形式としてハロゲン化銀の生成される液相中のｐＡｇを
一定に保つ方法、即ちいわゆるコントロールド・ダブル
ジェット法を用いることができ、この方法によると、結
晶形が規則的で粒径が均一に近いハロゲン化銀乳剤が得
られる。
【０１７４】ハロゲン化銀乳剤に用いられるハロゲン化
銀粒子は粒子を形成する過程又は成長させる過程の少な
くとも１つの過程でカドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリ
ウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩、ルテニウム塩、オ
スニウム塩あるいはこれらの元素を含む錯塩を添加する
ことが好ましい。
銀粒子は粒子を形成する過程又は成長させる過程の少な
くとも１つの過程でカドミウム塩、亜鉛塩、鉛塩、タリ
ウム塩、イリジウム塩、ロジウム塩、ルテニウム塩、オ
スニウム塩あるいはこれらの元素を含む錯塩を添加する
ことが好ましい。
【０１７５】ハロゲン化銀乳剤及びその調製方法につい
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー（Ｒｅｓ
ｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ）１７６号１７６４
３、２２〜２３頁（１９７８年１２月）に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
ては、詳しくはリサーチ・ディスクロージャー（Ｒｅｓ
ｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ）１７６号１７６４
３、２２〜２３頁（１９７８年１２月）に記載もしくは
引用された文献に記載されている。
【０１７６】本発明において、ヒドラジン誘導体を用い
る場合による硬調化を効果的に促進するために、造核促
進剤を用いることが好ましい。造核促進剤としては例え
ば特願平６−１０３９８２号２８頁〜２９頁に記載され
ている化合物が挙げられその具体例は例えば特願平６−
１０３９８２号３０頁〜３５頁に（Ｎａ−１）〜（Ｎａ
−２０）として記載された化合物を挙げることができる
がこれに限定されない。
る場合による硬調化を効果的に促進するために、造核促
進剤を用いることが好ましい。造核促進剤としては例え
ば特願平６−１０３９８２号２８頁〜２９頁に記載され
ている化合物が挙げられその具体例は例えば特願平６−
１０３９８２号３０頁〜３５頁に（Ｎａ−１）〜（Ｎａ
−２０）として記載された化合物を挙げることができる
がこれに限定されない。
【０１７７】以下に、前記造核促進剤の好ましいものを
挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
挙げるが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１７８】
【化４０】
【０１７９】
【化４１】
【０１８０】
【化４２】
【０１８１】感光材料中の造核促進剤の使用量は、ハロ
ゲン化銀１モル当たり５×１０-7〜５×１０-1モルであ
ることが好ましく、特に５×１０-6〜５×１０-2モルの
範囲とすることが好ましい。
ゲン化銀１モル当たり５×１０-7〜５×１０-1モルであ
ることが好ましく、特に５×１０-6〜５×１０-2モルの
範囲とすることが好ましい。
【０１８２】本発明に好ましく用いられるヒドラジン化
合物、造核促進剤はハロゲン化銀乳剤層側の任意の層、
親水性コロイド層にも用いることができるが、ハロゲン
化銀写真乳剤層及び／又はその隣接層に用いることが好
ましい。
合物、造核促進剤はハロゲン化銀乳剤層側の任意の層、
親水性コロイド層にも用いることができるが、ハロゲン
化銀写真乳剤層及び／又はその隣接層に用いることが好
ましい。
【０１８３】また、本発明の感光材料は、自動現像機を
用いて処理されることが好ましい。その際に感光材料の
面積に比例した一定量の現像液及び定着液を補充しなが
ら処理される。その現像補充量及び定着補充量は、廃液
量を少なくするために１ｍ2当たり３００ｍｌ以下であ
ることが好ましく、より好ましくは１ｍ2当たり７５〜
２００ｍｌである。
用いて処理されることが好ましい。その際に感光材料の
面積に比例した一定量の現像液及び定着液を補充しなが
ら処理される。その現像補充量及び定着補充量は、廃液
量を少なくするために１ｍ2当たり３００ｍｌ以下であ
ることが好ましく、より好ましくは１ｍ2当たり７５〜
２００ｍｌである。
【０１８４】本発明は現像時間短縮の要望から自動現像
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
（Ｄｒｙ ｔｏ Ｄｒｙ）が１０〜６０秒であることが
好ましい。ここでいう全処理時間とは、感光材料を処理
するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理に必
要な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処理、乾
燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりＤｒｙ ｔ
ｏ Ｄｒｙの時間である。
機を用いて処理する時にフィルム先端が自動現像機に挿
入されてから乾燥ゾーンから出て来るまでの全処理時間
（Ｄｒｙ ｔｏ Ｄｒｙ）が１０〜６０秒であることが
好ましい。ここでいう全処理時間とは、感光材料を処理
するのに必要な全工程時間を含み、具体的には処理に必
要な、例えば現像、定着、漂白、水洗、安定化処理、乾
燥等の工程の時間を全て含んだ時間、つまりＤｒｙ ｔ
ｏ Ｄｒｙの時間である。
【０１８５】全処理時間が１０秒未満では減感、軟調化
等で満足な写真性能が得られない。更に好ましくは全処
理時間（Ｄｒｙ ｔｏ Ｄｒｙ）が１５〜５０秒であ
る。
等で満足な写真性能が得られない。更に好ましくは全処
理時間（Ｄｒｙ ｔｏ Ｄｒｙ）が１５〜５０秒であ
る。
【０１８６】また、自動現像機には９０℃以上の伝熱体
（例えば９０℃〜１３０℃のヒートローラー等）あるい
は１５０℃以上の輻射物体（例えばタングステン、炭
素、ニクロム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・
酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素などに直接電流を通
して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギーを
銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミックなどの放射
体に伝達させて発熱させたりして赤外線を放出するも
の）で乾燥するゾーンを持つものが含まれる。
（例えば９０℃〜１３０℃のヒートローラー等）あるい
は１５０℃以上の輻射物体（例えばタングステン、炭
素、ニクロム、酸化ジルコニウム・酸化イットリウム・
酸化トリウムの混合物、炭化ケイ素などに直接電流を通
して発熱放射させたり、抵抗発熱体から熱エネルギーを
銅、ステンレス、ニッケル、各種セラミックなどの放射
体に伝達させて発熱させたりして赤外線を放出するも
の）で乾燥するゾーンを持つものが含まれる。
【０１８７】本発明の感光材料には、感光材料の製造工
程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、ある
いは写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含
有させることができる。即ちアゾール類、例えばベンゾ
チアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、ニトロベンズ
イミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、ブロモ
ベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾール類、メル
カプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダゾ
ール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノトリアゾ
ール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベンゾトリアゾ
ール類、メルカプトテトラゾール類（特に１−フェニル
−５−メルカプトテトラゾール）等；メルカプトピリミ
ジン類、メルカプトトリアジン類；例えばオキサゾリン
チオンのようなチオケト化合物；アザインデン類、例え
ばトリアザインデン類、テトラザインデン類（特に４−
ヒドロキシ置換−１，３，３ａ，７−テトラザインデン
類）、ペンタザインデン類等；ベンゼンチオスルホン
酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン酸アミド
等のようなカブリ防止剤又は安定剤として知られた多く
の化合物を加えることができる。
程、保存中あるいは写真処理中のカブリを防止し、ある
いは写真性能を安定化させる目的で、種々の化合物を含
有させることができる。即ちアゾール類、例えばベンゾ
チアゾリウム塩、ニトロインダゾール類、ニトロベンズ
イミダゾール類、クロロベンズイミダゾール類、ブロモ
ベンズイミダゾール類、メルカプトチアゾール類、メル
カプトベンゾチアゾール類、メルカプトベンズイミダゾ
ール類、メルカプトチアジアゾール類、アミノトリアゾ
ール類、ベンゾトリアゾール類、ニトロベンゾトリアゾ
ール類、メルカプトテトラゾール類（特に１−フェニル
−５−メルカプトテトラゾール）等；メルカプトピリミ
ジン類、メルカプトトリアジン類；例えばオキサゾリン
チオンのようなチオケト化合物；アザインデン類、例え
ばトリアザインデン類、テトラザインデン類（特に４−
ヒドロキシ置換−１，３，３ａ，７−テトラザインデン
類）、ペンタザインデン類等；ベンゼンチオスルホン
酸、ベンゼンスルフィン酸、ベンゼンスルホン酸アミド
等のようなカブリ防止剤又は安定剤として知られた多く
の化合物を加えることができる。
【０１８８】本発明では、金属のドーピングによる減感
の他に有機減感剤の使用による減感を併用することがで
きる。
の他に有機減感剤の使用による減感を併用することがで
きる。
【０１８９】以下に本発明に使用することのできる有機
減感剤を示す。
減感剤を示す。
【０１９０】（１）フェノサフラニン （２）ピナクリプトールグリーン （３）２，３−ジメチル−６−ニトロ−ベンゾチアゾリ
ウム・パラトルエンスルホネート （４）２−（パラニトロスチリル）キノリン・パラトル
エンスルホネート （５）１，３−ジエチル−１′−メチル−２′−フェニ
ルイミダゾ（４，５−ｂ）キノキサリン−３′−インド
ロカルボシアニン・アイオダイド （６）ピナクリプトールイエロー （７）１，１，３，３′−ヘキサメチル−５，５′−ジ
ニトロインドカルボシアニン・パラトルエンスルホネー
ト （８）５，５′−ジクロロ−３，３′−ジエチル−６，
６′−ジニトロカルボシアニン・アイオダイド （９）１，１′−ジメチル−２，２′−ジフェニル−
３．３′−インドロカルボシアニン・ブロマイド 有機減感剤の使用量は、ハロゲン化銀１モル当たり１０
ｍｇから５ｇが好ましく、より好ましくは５０ｍｇから
３ｇの範囲である。添加方法は水溶液で添加する他に有
機溶媒に溶解して添加してもよい。また、サンドミルや
ボールミル、あるいはインペラー分散により微粒子にし
て添加することができる。微粒子の大きさは０．００１
μｍから２０μｍの大きさが適当であるが、特に好まし
い条件は、０．０１μｍから１μｍである。
ウム・パラトルエンスルホネート （４）２−（パラニトロスチリル）キノリン・パラトル
エンスルホネート （５）１，３−ジエチル−１′−メチル−２′−フェニ
ルイミダゾ（４，５−ｂ）キノキサリン−３′−インド
ロカルボシアニン・アイオダイド （６）ピナクリプトールイエロー （７）１，１，３，３′−ヘキサメチル−５，５′−ジ
ニトロインドカルボシアニン・パラトルエンスルホネー
ト （８）５，５′−ジクロロ−３，３′−ジエチル−６，
６′−ジニトロカルボシアニン・アイオダイド （９）１，１′−ジメチル−２，２′−ジフェニル−
３．３′−インドロカルボシアニン・ブロマイド 有機減感剤の使用量は、ハロゲン化銀１モル当たり１０
ｍｇから５ｇが好ましく、より好ましくは５０ｍｇから
３ｇの範囲である。添加方法は水溶液で添加する他に有
機溶媒に溶解して添加してもよい。また、サンドミルや
ボールミル、あるいはインペラー分散により微粒子にし
て添加することができる。微粒子の大きさは０．００１
μｍから２０μｍの大きさが適当であるが、特に好まし
い条件は、０．０１μｍから１μｍである。
【０１９１】有機減感剤は、ポーラログラフの半端電位
で特徴付けられる。すなわちポーラログラフの陽極電位
と陰極電位の和が正である。この測定方法に関しては米
国特許３，５０１，３０７号明細書に記載されている。
で特徴付けられる。すなわちポーラログラフの陽極電位
と陰極電位の和が正である。この測定方法に関しては米
国特許３，５０１，３０７号明細書に記載されている。
【０１９２】本発明におけるハロゲン化銀写真乳剤層及
び非感光性の親水性コロイド層には無機又は有機の硬膜
剤を含有してよい。例えばクロム塩（クロム明礬、酢酸
クロム等）、アルデヒド類（ホルムアルデヒド、グリオ
キザール、グルタルアルデヒド等）、Ｎ−メチロール化
合物（ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダント
イン等）、ジオキサン誘導体（２，３−ジヒドロキシジ
オキサン等）、活性ビニル化合物（１，３，５−トリア
クリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビス（ビ
ニルスルホニル）メチルエーテル、Ｎ，Ｎ′−メチレン
ビス−〔β−（ビニルスルホニル）プロピオンアミド〕
等）、活性ハロゲン化合物（２，４−ジクロロ−６−ヒ
ドロキシ−ｓ−トリアジン等）、ムコハロゲン酸類（ム
コクロル酸、フェノキシムコクロル酸等）イソオキサゾ
ール類、ジアルデヒド澱粉、２−クロロ−６−ヒドロキ
シトリアジニル化ゼラチン等を、単独又は組み合わせて
用いることができる。
び非感光性の親水性コロイド層には無機又は有機の硬膜
剤を含有してよい。例えばクロム塩（クロム明礬、酢酸
クロム等）、アルデヒド類（ホルムアルデヒド、グリオ
キザール、グルタルアルデヒド等）、Ｎ−メチロール化
合物（ジメチロール尿素、メチロールジメチルヒダント
イン等）、ジオキサン誘導体（２，３−ジヒドロキシジ
オキサン等）、活性ビニル化合物（１，３，５−トリア
クリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビス（ビ
ニルスルホニル）メチルエーテル、Ｎ，Ｎ′−メチレン
ビス−〔β−（ビニルスルホニル）プロピオンアミド〕
等）、活性ハロゲン化合物（２，４−ジクロロ−６−ヒ
ドロキシ−ｓ−トリアジン等）、ムコハロゲン酸類（ム
コクロル酸、フェノキシムコクロル酸等）イソオキサゾ
ール類、ジアルデヒド澱粉、２−クロロ−６−ヒドロキ
シトリアジニル化ゼラチン等を、単独又は組み合わせて
用いることができる。
【０１９３】前記硬膜剤としては、前記の一般式（５）
で表される化合物が特に好ましく用いられる。
で表される化合物が特に好ましく用いられる。
【０１９４】一般式（５）において、Ｒ6及びＲ7として
は直鎖、分岐又は環状の炭素数１〜２０のアルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、シクロヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基等）、炭素
数６〜３０のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル
基等）が挙げられる。又、Ｒ6及びＲ7は置換基を有して
もよく、その置換基の例として前述した一般式（１）あ
るいは一般式（２）の各基に置換してもよい置換基とし
て挙げたものが挙げられる。
は直鎖、分岐又は環状の炭素数１〜２０のアルキル基
（例えば、メチル基、エチル基、ブチル基、シクロヘキ
シル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基等）、炭素
数６〜３０のアリール基（例えばフェニル基、ナフチル
基等）が挙げられる。又、Ｒ6及びＲ7は置換基を有して
もよく、その置換基の例として前述した一般式（１）あ
るいは一般式（２）の各基に置換してもよい置換基とし
て挙げたものが挙げられる。
【０１９５】Ｒ6及びＲ7が結合して窒素原子と共に環を
形成することも好ましく、特に好ましい例はモルホリン
環、ピロリジン環を形成する場合である。Ｒ8は水素原
子或いは置換基を表し、該置換基は上記のアリール基、
複素環に置換する置換基として挙げたものが挙げられる
が、水素原子が特に好ましい。
形成することも好ましく、特に好ましい例はモルホリン
環、ピロリジン環を形成する場合である。Ｒ8は水素原
子或いは置換基を表し、該置換基は上記のアリール基、
複素環に置換する置換基として挙げたものが挙げられる
が、水素原子が特に好ましい。
【０１９６】Ｌ4は単結合を表す他、炭素数１〜２０の
アルキレン基（例えばメチレン基、エチレン基、トリメ
チレン基、プロピレン基、プロピレン基等）、炭素数６
〜２０のアリーレン基（例えばフェニレン基）及びそれ
らを組み合わせて得られる２価の基（例えばパラキシレ
ン基）、アシルアミノ基（例えば−ＮＨＣＯＣＨ2−
基）、スルホンアミド基（例えば−ＮＨＳＯ2ＣＨ2−）
等の２価の基を表す。それらの中で好ましいものは、単
結合、メチレン基、エチレン基等のアルキレン基、アシ
ルアミノ基である。
アルキレン基（例えばメチレン基、エチレン基、トリメ
チレン基、プロピレン基、プロピレン基等）、炭素数６
〜２０のアリーレン基（例えばフェニレン基）及びそれ
らを組み合わせて得られる２価の基（例えばパラキシレ
ン基）、アシルアミノ基（例えば−ＮＨＣＯＣＨ2−
基）、スルホンアミド基（例えば−ＮＨＳＯ2ＣＨ2−）
等の２価の基を表す。それらの中で好ましいものは、単
結合、メチレン基、エチレン基等のアルキレン基、アシ
ルアミノ基である。
【０１９７】Ｘ1は単結合もしくは−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ9）
−を表し、Ｒ9は水素原子或いは炭素数１〜２０のアル
キル基（例えば、メチル基、エチル基、ベンジル基
等）、炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル基
等）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メトキ
シ基等）であるが、水素原子が特に好ましい。
−を表し、Ｒ9は水素原子或いは炭素数１〜２０のアル
キル基（例えば、メチル基、エチル基、ベンジル基
等）、炭素数６〜２０のアリール基（例えばフェニル基
等）、炭素数１〜２０のアルコキシ基（例えば、メトキ
シ基等）であるが、水素原子が特に好ましい。
【０１９８】一般式（５）で表される化合物の具体例と
しては例えば特願平６−１４４８２３号１１頁〜１３頁
に記載の（１）〜（１７）の化合物が挙げられるがこれ
らに限定されない。
しては例えば特願平６−１４４８２３号１１頁〜１３頁
に記載の（１）〜（１７）の化合物が挙げられるがこれ
らに限定されない。
【０１９９】一般式（５）で表される化合物の具体例と
しては以下のものが好ましく挙げられる。
しては以下のものが好ましく挙げられる。
【０２００】
【化４３】
【０２０１】本発明のハロゲン化銀写真乳剤及び／又は
非感光性の親水性コロイド層には、塗布助剤、帯電防
止、滑り性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良
など種々の目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよ
い。写真乳剤の結合剤又は保護コロイドとしてはゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。
非感光性の親水性コロイド層には、塗布助剤、帯電防
止、滑り性改良、乳化分散、接着防止及び写真特性改良
など種々の目的で種々の公知の界面活性剤を用いてもよ
い。写真乳剤の結合剤又は保護コロイドとしてはゼラチ
ンを用いるのが有利であるが、それ以外の親水性コロイ
ドも用いることができる。
【０２０２】例えばゼラチン誘導体、ゼラチンと他の高
分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の
蛋白質；ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、セルロース硫酸エステル類等の如きセル
ロース誘導体、アルギン酸ナトリウム、澱粉誘導体など
の糖誘導体；ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコ
ール部分アセタール、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等
の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水性高分子
物質を用いることができる。
分子とのグラフトポリマー、アルブミン、カゼイン等の
蛋白質；ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、セルロース硫酸エステル類等の如きセル
ロース誘導体、アルギン酸ナトリウム、澱粉誘導体など
の糖誘導体；ポリビニルアルコール、ポリビニルアルコ
ール部分アセタール、ポリ−Ｎ−ビニルピロリドン、ポ
リアクリル酸、ポリメタクリル酸、ポリアクリルアミ
ド、ポリビニルイミダゾール、ポリビニルピラゾール等
の単一あるいは共重合体の如き多種の合成親水性高分子
物質を用いることができる。
【０２０３】ゼラチンとしては石灰処理ゼラチンの他、
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
酸処理ゼラチンを用いてもよく、ゼラチン加水分解物、
ゼラチン酵素分解物も用いることができる。
【０２０４】本発明におけるハロゲン化銀写真乳剤に
は、寸度安定性の改良などの目的で水不溶又は難溶性合
成ポリマーの分散物を含むことができる。例えばアルキ
ル（メタ）アクリレート、アルコキシアクリル（メタ）
アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、（メ
タ）アクリルアミド、ビニルエステル（例えば酢酸ビニ
ル）、アクリロニトリル、オレフィン、スチレンなどの
単独もしくは組合せ、又はこれらとアクリル酸、メタク
リル酸、α，β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート、スルホアルキル（メタ）ア
クリレート、スチレンスルホン酸等の組合せを単量体成
分とするポリマーを用いることができる。
は、寸度安定性の改良などの目的で水不溶又は難溶性合
成ポリマーの分散物を含むことができる。例えばアルキ
ル（メタ）アクリレート、アルコキシアクリル（メタ）
アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、（メ
タ）アクリルアミド、ビニルエステル（例えば酢酸ビニ
ル）、アクリロニトリル、オレフィン、スチレンなどの
単独もしくは組合せ、又はこれらとアクリル酸、メタク
リル酸、α，β−不飽和ジカルボン酸、ヒドロキシアル
キル（メタ）アクリレート、スルホアルキル（メタ）ア
クリレート、スチレンスルホン酸等の組合せを単量体成
分とするポリマーを用いることができる。
【０２０５】本発明の感光材料には、その他の種々の添
加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑剤、滑り剤、
現像促進剤、オイル、などが挙げられる。これらの添加
剤及び前述の添加剤について、具体的には、リサーチ・
ディスクロージャー１７６号（前出）、２２〜３１頁等
に記載されたものを用いることができる。
加剤が用いられる。例えば、減感剤、可塑剤、滑り剤、
現像促進剤、オイル、などが挙げられる。これらの添加
剤及び前述の添加剤について、具体的には、リサーチ・
ディスクロージャー１７６号（前出）、２２〜３１頁等
に記載されたものを用いることができる。
【０２０６】本発明の感光材料において、乳剤層、保護
層は単層でもよいし、２層以上からなる重層でもよい。
重層の場合には間に中間層などを設けてもよい。
層は単層でもよいし、２層以上からなる重層でもよい。
重層の場合には間に中間層などを設けてもよい。
【０２０７】本発明の感光材料において、ハロゲン化銀
写真乳剤層及びその他の層は感光材料に通常用いられる
可撓性支持体の片面又は両面に塗布される。
写真乳剤層及びその他の層は感光材料に通常用いられる
可撓性支持体の片面又は両面に塗布される。
【０２０８】可撓性支持体として有用なものは、酢酸セ
ルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリスチレン、ポリエ
チレンテレフタレートの合成高分子から成るフィルム等
である。
ルロース、酢酸酪酸セルロース、ポリスチレン、ポリエ
チレンテレフタレートの合成高分子から成るフィルム等
である。
【０２０９】本発明において用いることのできる現像主
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類（例えばハイドロ
キノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノ
ン、２，３−ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、イソプロピルハイドロキノン、２，５−ジメチ
ルハイドロキノン等）、３−ピラゾリドン類（例えば１
−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メ
チル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４，４−ジメ
チル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−エチル−
３−ピラゾリドン、１−フェニル−５−メチル−３−ピ
ラゾリドン等）、アミノフェノール類（例えばｏ−アミ
ノフェノール、ｐ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−ｏ
−アミノフェノール、Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノー
ル、２，４−ジアミノフェノール等）、ピロガロール、
アスコルビン酸（塩）及び／又はエリソルビン酸
（塩）、１−アリール−３−ピラゾリン類（例えば１−
（ｐ−ヒドロキシフェニル）−３−アミノピラゾリン、
１−（ｐ−メチルアミノフェニル）−３−アミノピラゾ
リン、１−（ｐ−アミノフェニル）−３−アミノピラゾ
リン、１−（ｐ−アミノ−Ｎ−メチルフェニル）−３−
アミノピラゾリン等）、遷移金属錯塩類（Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ等の遷移金属の錯塩
であり、これらは現像液として用いるために還元力を有
する形であれば良く、例えばＴｉ3+、Ｖ2+、Ｃｒ2+、Ｆ
ｅ2+等の錯塩の形をとり、配位子としては、エチレンジ
アミン四酢酸（ＥＤＴＡ）、ジエチレントリアミン五酢
酸（ＤＴＰＡ）等のアミノポリカルボン酸およびその
塩、ヘキサメタポリリン酸、テトラポリリン酸等のリン
酸類およびその塩などが挙げられる。）などを、単独も
しくは組み合わせて使用することができるが、３−ピラ
ゾリドン類とジヒドロキシベンゼン類との組合せ、又は
アミノフェノール類とジヒドロキシベンゼン類との組合
せ或いは３−ピラゾリドン類とアスコルビン酸（塩）及
び／又はエリソルビン酸（塩）との組合せ、アミノフェ
ノール類とアスコルビン酸との組合せ、３−ピラゾリド
ン類と遷移金属錯塩類との組合せ、アミノフェノール類
と遷移金属錯塩類との組合せで使用することが好まし
い。
薬としては、ジヒドロキシベンゼン類（例えばハイドロ
キノン、クロルハイドロキノン、ブロムハイドロキノ
ン、２，３−ジクロロハイドロキノン、メチルハイドロ
キノン、イソプロピルハイドロキノン、２，５−ジメチ
ルハイドロキノン等）、３−ピラゾリドン類（例えば１
−フェニル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−メ
チル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４，４−ジメ
チル−３−ピラゾリドン、１−フェニル−４−エチル−
３−ピラゾリドン、１−フェニル−５−メチル−３−ピ
ラゾリドン等）、アミノフェノール類（例えばｏ−アミ
ノフェノール、ｐ−アミノフェノール、Ｎ−メチル−ｏ
−アミノフェノール、Ｎ−メチル−ｐ−アミノフェノー
ル、２，４−ジアミノフェノール等）、ピロガロール、
アスコルビン酸（塩）及び／又はエリソルビン酸
（塩）、１−アリール−３−ピラゾリン類（例えば１−
（ｐ−ヒドロキシフェニル）−３−アミノピラゾリン、
１−（ｐ−メチルアミノフェニル）−３−アミノピラゾ
リン、１−（ｐ−アミノフェニル）−３−アミノピラゾ
リン、１−（ｐ−アミノ−Ｎ−メチルフェニル）−３−
アミノピラゾリン等）、遷移金属錯塩類（Ｔｉ、Ｖ、Ｃ
ｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ等の遷移金属の錯塩
であり、これらは現像液として用いるために還元力を有
する形であれば良く、例えばＴｉ3+、Ｖ2+、Ｃｒ2+、Ｆ
ｅ2+等の錯塩の形をとり、配位子としては、エチレンジ
アミン四酢酸（ＥＤＴＡ）、ジエチレントリアミン五酢
酸（ＤＴＰＡ）等のアミノポリカルボン酸およびその
塩、ヘキサメタポリリン酸、テトラポリリン酸等のリン
酸類およびその塩などが挙げられる。）などを、単独も
しくは組み合わせて使用することができるが、３−ピラ
ゾリドン類とジヒドロキシベンゼン類との組合せ、又は
アミノフェノール類とジヒドロキシベンゼン類との組合
せ或いは３−ピラゾリドン類とアスコルビン酸（塩）及
び／又はエリソルビン酸（塩）との組合せ、アミノフェ
ノール類とアスコルビン酸との組合せ、３−ピラゾリド
ン類と遷移金属錯塩類との組合せ、アミノフェノール類
と遷移金属錯塩類との組合せで使用することが好まし
い。
【０２１０】また現像主薬は、通常０．０１〜１．４モ
ル／リットルの量で用いられるのが好ましい。
ル／リットルの量で用いられるのが好ましい。
【０２１１】本発明においては、銀スラッジ防止剤とし
て特公昭６２−４７０２号、特開平３−５１８４４号、
同４−２６８３８号、同４−３６２９４２号、同１−３
１９０３１号等に記載の化合物が挙げられる。
て特公昭６２−４７０２号、特開平３−５１８４４号、
同４−２６８３８号、同４−３６２９４２号、同１−３
１９０３１号等に記載の化合物が挙げられる。
【０２１２】特に下記一般式（１７）で表される化合物
が好ましい。
が好ましい。
【０２１３】
【化４４】
【０２１４】式中、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93は各々水素原子、
−ＳＭ1基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、−ＣＯ
ＯＭ2基、アミノ基、−ＳＯ3Ｍ3基又は低級アルキル基
であり、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93のうち少なくとも一つは−Ｓ
Ｍ1基を表す。Ｍ1、Ｍ2、Ｍ3は各々水素原子、アルカリ
金属原子またはアンモニウム基を表し、同じであっても
異なっても良い。Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93で表される低級アル
キル基及び低級アルコキシ基はそれぞれ炭素を１〜５個
有する基であり、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93で表されるアミノ基
は置換又は非置換のアミノ基を表し、好ましい置換基と
しては低級アルキル基である。一般式（１７）において
アンモニウム基としては置換又は無置換のアンモニウム
基であり、好ましくは無置換のアンモニウム基である。
以下に一般式（１７）で示される化合物の具体例を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
−ＳＭ1基、ヒドロキシ基、低級アルコキシ基、−ＣＯ
ＯＭ2基、アミノ基、−ＳＯ3Ｍ3基又は低級アルキル基
であり、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93のうち少なくとも一つは−Ｓ
Ｍ1基を表す。Ｍ1、Ｍ2、Ｍ3は各々水素原子、アルカリ
金属原子またはアンモニウム基を表し、同じであっても
異なっても良い。Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93で表される低級アル
キル基及び低級アルコキシ基はそれぞれ炭素を１〜５個
有する基であり、Ｒ91、Ｒ92、Ｒ93で表されるアミノ基
は置換又は非置換のアミノ基を表し、好ましい置換基と
しては低級アルキル基である。一般式（１７）において
アンモニウム基としては置換又は無置換のアンモニウム
基であり、好ましくは無置換のアンモニウム基である。
以下に一般式（１７）で示される化合物の具体例を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０２１５】
【化４５】
【０２１６】また、現像廃液は通電して再生することが
できる。具体的には、現像廃液に陰極（例えばステンレ
スウール等の電気伝導体または半導体）を、電解質溶液
に陽極（例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない
電気伝導体）を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液
槽と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再
生する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理する
こともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、ｐＨ緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用するする場合には、用い
られる現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好
ましい。
できる。具体的には、現像廃液に陰極（例えばステンレ
スウール等の電気伝導体または半導体）を、電解質溶液
に陽極（例えば炭素、金、白金、チタン等の溶解しない
電気伝導体）を入れ、陰イオン交換膜を介して現像廃液
槽と電解質溶液槽が接するようにし、両極に通電して再
生する。通電しながら本発明に係る感光材料を処理する
こともできる。その際、現像液に添加される各種の添加
剤、例えば現像液に添加することができる保恒剤、アル
カリ剤、ｐＨ緩衝剤、増感剤、カブリ防止剤、銀スラッ
ジ防止剤等を追加添加することが出来る。また、現像液
に通電しながら感光材料を処理する方法があり、その際
に上記のような現像液に添加できる添加剤を追加添加で
きる。現像廃液を再生して利用するする場合には、用い
られる現像液の現像主薬としては、遷移金属錯塩類が好
ましい。
【０２１７】本発明において保恒剤として用いる亜硫酸
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は０．２５モル／リットル以
上が好ましい。特に好ましくは０．４モル／リットル以
上である。現像液には、その他必要によりアルカリ剤
（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、ｐＨ緩衝剤
（例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞
酸、アルカノールアミン等）、溶解助剤（例えばポリエ
チレングリコール類、それらのエステル、アルカノール
アミン等）、増感剤（例えばポリオキシエチレン類を含
む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等）、
界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤（例えば臭化カリウ
ム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズ
インダゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリ
アゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾ
ール類等）、キレート化剤（例えばエチレンジアミン四
酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ
燐酸塩等）、現像促進剤（例えば米国特許２，３０４，
０２５号、特公昭４７−４５５４１号に記載の化合物
等）、硬膜剤（例えばグルタルアルデヒド又は、その重
亜硫酸塩付加物等）、あるいは消泡剤などを添加するこ
とができる。
塩、メタ重亜硫酸塩としては、亜硫酸ナトリウム、亜硫
酸カリウム、亜硫酸アンモニウム、メタ重亜硫酸ナトリ
ウムなどがある。亜硫酸塩は０．２５モル／リットル以
上が好ましい。特に好ましくは０．４モル／リットル以
上である。現像液には、その他必要によりアルカリ剤
（水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等）、ｐＨ緩衝剤
（例えば炭酸塩、燐酸塩、硼酸塩、硼酸、酢酸、枸櫞
酸、アルカノールアミン等）、溶解助剤（例えばポリエ
チレングリコール類、それらのエステル、アルカノール
アミン等）、増感剤（例えばポリオキシエチレン類を含
む非イオン界面活性剤、四級アンモニウム化合物等）、
界面活性剤、消泡剤、カブリ防止剤（例えば臭化カリウ
ム、臭化ナトリウムの如きハロゲン化物、ニトロベンズ
インダゾール、ニトロベンズイミダゾール、ベンゾトリ
アゾール、ベンゾチアゾール、テトラゾール類、チアゾ
ール類等）、キレート化剤（例えばエチレンジアミン四
酢酸又はそのアルカリ金属塩、ニトリロ三酢酸塩、ポリ
燐酸塩等）、現像促進剤（例えば米国特許２，３０４，
０２５号、特公昭４７−４５５４１号に記載の化合物
等）、硬膜剤（例えばグルタルアルデヒド又は、その重
亜硫酸塩付加物等）、あるいは消泡剤などを添加するこ
とができる。
【０２１８】現像主薬がジヒドロキシベンゼン類である
時、又現像液にアスコルビン酸（塩）及び／又はエリソ
ルビン酸（塩）から選ばれる少なくとも１種の化合物を
含有し、ハイドロキノンを含有しない時の現像液のｐＨ
は９．５以上１１．０以下である。
時、又現像液にアスコルビン酸（塩）及び／又はエリソ
ルビン酸（塩）から選ばれる少なくとも１種の化合物を
含有し、ハイドロキノンを含有しない時の現像液のｐＨ
は９．５以上１１．０以下である。
【０２１９】全処理時間（Ｄｒｙ ｔｏ Ｄｒｙ）を６
０秒以下にするには、現像液のｐＨは８．５〜１０．５
に調整されることが好ましい。
０秒以下にするには、現像液のｐＨは８．５〜１０．５
に調整されることが好ましい。
【０２２０】本発明の化合物は現像処理の特殊な形式と
して、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中に含み、
感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わせる
アクチベータ処理液に用いてもよい。このような現像処
理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組み合わ
せて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用され
ることが多く、そのような処理液に適用も可能である。
このような迅速処理の場合、本発明の効果が特に大き
い。
して、現像主薬を感光材料中、例えば乳剤層中に含み、
感光材料をアルカリ水溶液中で処理して現像を行わせる
アクチベータ処理液に用いてもよい。このような現像処
理は、チオシアン酸塩による銀塩安定化処理と組み合わ
せて、感光材料の迅速処理の方法の一つとして利用され
ることが多く、そのような処理液に適用も可能である。
このような迅速処理の場合、本発明の効果が特に大き
い。
【０２２１】定着液としては一般に用いられる組成のも
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、ｐＨは通常３．８〜５．８で
ある。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。定着液には、硬膜
剤として作用する水溶性アルミニウム塩、例えば塩化ア
ルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明礬などを加える
ことができる。
のを用いることができる。定着液は一般に定着剤とその
他から成る水溶液であり、ｐＨは通常３．８〜５．８で
ある。定着剤としては、チオ硫酸ナトリウム、チオ硫酸
カリウム、チオ硫酸アンモニウム等のチオ硫酸塩、チオ
シアン酸ナトリウム、チオシアン酸カリウム、チオシア
ン酸アンモニウム等のチオシアン酸塩の他、可溶性安定
銀錯塩を生成し得る有機硫黄化合物で定着剤として知ら
れているものを用いることができる。定着液には、硬膜
剤として作用する水溶性アルミニウム塩、例えば塩化ア
ルミニウム、硫酸アルミニウム、カリ明礬などを加える
ことができる。
【０２２２】定着液には、所望により、保恒剤（例えば
亜硫酸塩、重亜硫酸塩）、ｐＨ緩衡剤（例えば酢酸）、
ｐＨ調整剤（例えば硫酸）、硬水軟化能のあるキレート
剤等の化合物を含むことができる。
亜硫酸塩、重亜硫酸塩）、ｐＨ緩衡剤（例えば酢酸）、
ｐＨ調整剤（例えば硫酸）、硬水軟化能のあるキレート
剤等の化合物を含むことができる。
【０２２３】現像液は、固体成分の混合物でも、グリコ
ールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘度の高い半練
り状態の粘稠液体でもよい。又、使用時に希釈して用い
てもよいし、あるいはそのまま用いてもよい。
ールやアミンを含む有機性水溶液でも、粘度の高い半練
り状態の粘稠液体でもよい。又、使用時に希釈して用い
てもよいし、あるいはそのまま用いてもよい。
【０２２４】本発明の現像処理に際しては、現像温度を
２０〜３０℃の通常の温度範囲に設定することもできる
し、３０〜４０℃の高温処理の範囲に設定することもで
きる。
２０〜３０℃の通常の温度範囲に設定することもできる
し、３０〜４０℃の高温処理の範囲に設定することもで
きる。
【０２２５】
【実施例】以下、本発明の効果を実施例によって具体的
に説明するが、本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。
に説明するが、本発明はこれらによって限定されるもの
ではない。
【０２２６】実施例１ ＜ゼラチン下層塗布液Ｕ１の調製＞ ゼラチン１２％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２５０ｍｌ サポニン３３％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １０ｍｌ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２０％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １０ｍｌ スチレンスルホン酸とマレイン酸の水溶性コポリマー４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２０ｍｌ 上記添加剤を添加後、後記するように比較用及び本発明
の染料化合物の微粒子分散液２５０ｍｌまたはゼラチン
液Ｇ２５０ｍｌを表１及び表２の組み合わせになるよう
に添加し、総量が１４１４ｍｌになるよう純水で調整し
て、ゼラチン下層塗布液を調製した。
の染料化合物の微粒子分散液２５０ｍｌまたはゼラチン
液Ｇ２５０ｍｌを表１及び表２の組み合わせになるよう
に添加し、総量が１４１４ｍｌになるよう純水で調整し
て、ゼラチン下層塗布液を調製した。
【０２２７】＜ハロゲン化銀乳剤Ｅ１の調製＞温度４０
℃、ｐＨ３．０の硝酸酸性雰囲気下で銀電位ＥＡｇを１
Ｎ・ＮａＣ１で１７０ｍＶに保持しながら下記溶液Ａに
溶液Ｂと溶液Ｃをダブルジェット法で１１分間で混合し
た。
℃、ｐＨ３．０の硝酸酸性雰囲気下で銀電位ＥＡｇを１
Ｎ・ＮａＣ１で１７０ｍＶに保持しながら下記溶液Ａに
溶液Ｂと溶液Ｃをダブルジェット法で１１分間で混合し
た。
【０２２８】 溶液Ａ ゼラチン ５．６ｇ ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｎ（ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｍＨ （但しｎ＋ｍ＝６）の１０％エタノール溶液 ０．５６ｍｌ 塩化ナトリウム ０．１２ｇ 濃硝酸 ０．４３ｍｌ 蒸留水 ４４５ｍｌ 溶液Ｂ 硝酸銀 ６０ｇ 濃硝酸 ０．２０８ｍｌ 蒸留水 ８５．２ｍｌ 溶液Ｃ ゼラチン ３．０ｇ ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｎ（ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｍＨ （但しｎ＋ｍ＝６）の１０％エタノール溶液 ０．３ｍｌ 塩化ナトリウム ２０．２ｇ ６塩化ロジウム錯体 ロジウムが８×１０-5モル／Ａｇモルとなるような量 蒸留水 ８５．６１ｍｌ 溶液Ｄ ゼラチン １．４ｇ ＨＯ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｎ（ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）17（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）ｍＨ （但しｎ＋ｍ＝６）の１０％エタノール溶液 ０．１４ｍｌ 蒸留水 ４８．８ｍｌ 得られたハロゲン化銀粒子の平均粒径は０．１２μｍ
で、単分散度は８〜１５％であった。このようにして調
製した乳剤に溶液Ｄを添加し、炭酸ナトリウムでｐＨを
６．０に調整し、ついで４−ヒドロキシ−６−メチル−
１，３，３ａ，７−テトラザインデンを２００ｍｇ加え
た。その後、各ハロゲン化銀乳剤を常法に従って水洗、
脱塩し、防腐剤として下記の溶液Ｊを加えた。
で、単分散度は８〜１５％であった。このようにして調
製した乳剤に溶液Ｄを添加し、炭酸ナトリウムでｐＨを
６．０に調整し、ついで４−ヒドロキシ−６−メチル−
１，３，３ａ，７−テトラザインデンを２００ｍｇ加え
た。その後、各ハロゲン化銀乳剤を常法に従って水洗、
脱塩し、防腐剤として下記の溶液Ｊを加えた。
【０２２９】 溶液Ｊ ２−メチル−５−クロロイソチアゾール−３−オン １５ｍｇ 純水 ０．３ｍｌ 上記乳剤に安定剤として４−ヒドロキシ−６−メチル−
１，３，３ａ，７−テトラザインデンを２００ｍｇとゼ
ラチン８．６ｇを加え、ハロゲン化銀乳剤Ｅ１とした。
更に、下記塗布用添加剤を加え、露光可視画像形成用ハ
ロゲン化銀乳剤塗布液Ｅ２を調製した。
１，３，３ａ，７−テトラザインデンを２００ｍｇとゼ
ラチン８．６ｇを加え、ハロゲン化銀乳剤Ｅ１とした。
更に、下記塗布用添加剤を加え、露光可視画像形成用ハ
ロゲン化銀乳剤塗布液Ｅ２を調製した。
【０２３０】 ゼラチン１２％水溶液 ２２０ｍｌ サポニン３３％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ７．６ｍｌ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム２０％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ７．６ｍｌ １−デシル−２−（３−イソペンチル）サクシネート−２− スルホン酸ナトリウム ４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １．０ｍｌ ポリマーラテックス（平均粒径０．２５μｍのシクロヘキシル− メタクリレート、イソノニルアクリレート、グリシジル−アクリレートとスチ レン−イソプレンスルホン酸のコポリマー）２０％（Ｗ／Ｖ） エマルジョン液 １１１ｍｌ クエン酸７％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １．３ｍｌ スチレンスルホン酸とマレイン酸の水溶性コポリマー４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １４ｍｌ ２−メチル−５−クロロイソチアゾール−３−オン ５％（Ｗ／Ｖ）メタノール溶液 ０．４ｍｌ なお添加剤を添加後、塗布液の総量が１０５７ｍｌにな
るよう純水で調整し乳剤塗布液とした。
るよう純水で調整し乳剤塗布液とした。
【０２３１】＜画像形成層用ハロゲン化銀写真乳剤塗布
液Ｅ３の調製＞前記ハロゲン化銀乳剤Ｅ１に無機イオウ
とカリウムクロロオーレートを加えて、化学増感を施
し、下記添加剤を加え、塗布液の総量が３０３ｍｌにな
るよう純水で調整し、画像形成層用ハロゲン化銀写真乳
剤塗布液Ｅ３を調製した。
液Ｅ３の調製＞前記ハロゲン化銀乳剤Ｅ１に無機イオウ
とカリウムクロロオーレートを加えて、化学増感を施
し、下記添加剤を加え、塗布液の総量が３０３ｍｌにな
るよう純水で調整し、画像形成層用ハロゲン化銀写真乳
剤塗布液Ｅ３を調製した。
【０２３２】 サポニン３３％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２．２ｍｌ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２０％（Ｗ／Ｖ）水溶液２．２ｍｌ １−デシル−２−（３−イソペンチル）サクシネート−２− スルホン酸ナトリウム ４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ０．３ｍｌ ポリマーラテックス （平均粒径０．２５μｍのシクロヘキシル− メタクリレート、イソノニルアクリレート、グリシジル−アクリレートと スチレン−イソプレンスルホン酸のコポリマー）２０％（Ｗ／Ｖ）エマルジョ ン液 ３１．８ｍｌ （Ｈ）ヒドラジン誘導体 ２％（Ｗ／Ｖ）メタノール溶液 ７．７ｍｌ （Ｎ）アミン化合物 ５％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ４ｍｌ クエン酸７％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ０．４ｍｌ （Ｓ−１）２％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２６．５ｍｌ ２−メルカプトヒポキサンチン０．５％（Ｗ／Ｖ）アルカリ水溶液 ４ｍｌ エチレンジアミン４酢酸ナトリウム５％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １０ｍｌ スピロビス（３，３−ジメチル−５，６−ジヒドロキシインダン） ５％（Ｗ／Ｖ）メタノール溶液 １．５ｍｌ ハイドロキノン２０％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２．５ｍｌ スチレンスルホン酸とマレイン酸の水溶性コポリマー４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ４ｍｌ ２−メチル−５−クロロイソチアゾール−３−オン ５％（Ｗ／Ｖ）メタノール溶液 ０．４ｍｌ ＜中間層用塗布液Ｍ１の調製＞ ゼラチン１２％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２５０ｍｌ サポニン３３％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １１ｍｌ ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム ２０％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １０ｍｌ クエン酸 ７％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ３ｍｌ ジメゾンＳ ２％（Ｗ／Ｖ）メタノール溶液 ２０ｍｌ レゾルシン ２０％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ４０ｍｌ ガーリック酸プロピルエステル １０％メタノール溶液 ６０ｍｌ （染料Ｆ）２％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ７００ｍｌ スチレンスルホン酸とマレイン酸の水溶性コポリマー４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２２．７ｍｌ ２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール ０．１％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ６ｍｌ 上記添加剤を添加後、後記するように比較用及び本発明
の染料化合物の微粒子分散液２５０ｍｌまたはゼラチン
液Ｇ２５０ｍｌを表１及び表２の組み合わせになるよう
に添加し、総量が１４１４ｍｌになるよう純水で調整し
て中間層用塗布液を調製した。
の染料化合物の微粒子分散液２５０ｍｌまたはゼラチン
液Ｇ２５０ｍｌを表１及び表２の組み合わせになるよう
に添加し、総量が１４１４ｍｌになるよう純水で調整し
て中間層用塗布液を調製した。
【０２３３】 ＜保護層用塗布液Ｐ１の調製＞ ゼラチン１２％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２５０ｍｌ １−デシル−２−（３−イソペンチル）サクシネート−２− スルホン酸ナトリウム ４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ５０ｍｌ ＮａＣｌ １０％水溶液 ２２ｍｌ 不定型シリカ（平均粒径３．５μｍ） ２ｇ 不定型シリカ（平均粒径６μｍ） ４ｇ （Ｓ−２）０．０８％（Ｗ／Ｖ）メタノール溶液 ７０ｍｌ クエン酸７％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ５．１ｍｌ ジメゾンＳ ２％（Ｗ／Ｖ）メタノール溶液 ２０ｍｌ （染料Ｆ） ２％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ７００ｍｌ スチレンスルホン酸とマレイン酸の水溶性コポリマー ４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２２．７ｍｌ ２−ブロモ−２−ニトロ−１，３−プロパンジオール ０．１％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ６ｍｌ 上記添加剤を添加混合後、染料化合物の下記微粒子分散
液またはゼラチン液Ｇを表１及び表２の組み合わせにな
るように添加し、総量が１４１４ｍｌになるよう純水で
調整して保護層用塗布液を調製した。
液またはゼラチン液Ｇを表１及び表２の組み合わせにな
るように添加し、総量が１４１４ｍｌになるよう純水で
調整して保護層用塗布液を調製した。
【０２３４】 ＜中間層インライン添加用硬膜剤液ＭＨ１の調製＞ 硬膜剤Ｈ−１の１０％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ３００ｍｌ ＜保護層インライン添加用硬膜剤液ＰＨ１の調製＞ 硬膜剤Ｈ−２の２．５％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １８７ｍｌ 純水 １１３ｍｌ 上記添加剤を混合して保護層塗布液に塗布直前にインラ
インで混合添加する硬膜剤液ＰＨ１を３００ｍｌ調製し
た。
インで混合添加する硬膜剤液ＰＨ１を３００ｍｌ調製し
た。
【０２３５】＜染料微粒子分散液の調製＞比較化合物−
１、比較化合物−２、本発明の例示化合物Ｄ−８、Ｄ−
１０、Ｄ−３８、Ｄ−４０、Ｄ−４１、Ｄ−４８、Ｄ−
４９、Ｄ−５２、Ｄ−６０、Ｄ−６３、Ｄ−６７、Ｄ−
７１、Ｄ−７３、Ｄ−７７、Ｄ−７９、Ｄ−８１を各々
表１及び表２の塗布付き量になる量とゼラチン３０ｇ、
クエン酸１４７ｍｇ、イソプロピルナフタレンスルホン
酸４００ｍｇ及びフェノール３ｇを純水で２４０ｍｌに
溶解した液をサンドミルの容器に入れ、１ｍｍφのＺｒ
Ｏ2ビーズにて１０時間分散し、純水で２５０ｍｌに仕
上げ後、冷却セットして染料平均粒径０．２０μｍの染
料微粒子分散液を調製した。
１、比較化合物−２、本発明の例示化合物Ｄ−８、Ｄ−
１０、Ｄ−３８、Ｄ−４０、Ｄ−４１、Ｄ−４８、Ｄ−
４９、Ｄ−５２、Ｄ−６０、Ｄ−６３、Ｄ−６７、Ｄ−
７１、Ｄ−７３、Ｄ−７７、Ｄ−７９、Ｄ−８１を各々
表１及び表２の塗布付き量になる量とゼラチン３０ｇ、
クエン酸１４７ｍｇ、イソプロピルナフタレンスルホン
酸４００ｍｇ及びフェノール３ｇを純水で２４０ｍｌに
溶解した液をサンドミルの容器に入れ、１ｍｍφのＺｒ
Ｏ2ビーズにて１０時間分散し、純水で２５０ｍｌに仕
上げ後、冷却セットして染料平均粒径０．２０μｍの染
料微粒子分散液を調製した。
【０２３６】＜ゼラチン液Ｇの調製＞上記染料微粒子分
散液の調製と同様であるが、染料を除いてゼラチン液Ｇ
を調製した。
散液の調製と同様であるが、染料を除いてゼラチン液Ｇ
を調製した。
【０２３７】 ＜バッキング層用塗布液ＢＣ１の調製＞ ゼラチン ３２．４ｇ 純水 ６９６ｍｌ （染料Ｃ）６％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ６４ｍｌ （染料Ｄ）５％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２４ｍｌ サポニン３３％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ６．６ｍｌ ポリマーラテックス（平均粒径０．１０μｍのシクロヘキシル− メタクリレート、イソノニルアクリレート、グリシジル−アクリレートと スチレン−イソプレンスルホン酸のコポリマー）２０％（Ｗ／Ｖ） エマルジョン液 ３３．６ｍｌ 酸化亜鉛の１０％（Ｗ／Ｖ）固体微粒子（平均粒径０．１５μｍ）分散液 １０ｍｌ （Ｋ）の固体微粒子（平均粒径０．１μｍ）分散液 １０ｍｌ クエン酸７％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ３．８ｍｌ スチレンスルホン酸ナトリウム４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ２３ｍｌ 上記添加剤を添加混合後、総量が８９５ｍｌになるよう
純水で調整してバッキング層塗布液ＢＣ１を調製した。
純水で調整してバッキング層塗布液ＢＣ１を調製した。
【０２３８】 ＜バッキング保護膜層用塗布液ＢＰ１の調製＞ ゼラチン ２４．９ｇ 純水 ６０５ｍｌ メタクリル酸メチル（平均粒径７μ）の２％（Ｗ／Ｖ）分散液 ７２ｍｌ １−デシル−２−（３−イソペンチル）サクシネート−２−スルホン酸 ナトリウム４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 １１ｍｌ グリオキザール４％（Ｗ／Ｖ）水溶液 ４ｍｌ 上記添加剤を添加混合後、総量が７１１ｍｌになるよう
純水で調整してバッキング保護層用塗布液ＢＰ１を調製
した。
純水で調整してバッキング保護層用塗布液ＢＰ１を調製
した。
【０２３９】 ＜バッキング層インライン添加用硬膜剤液ＢＨ１の調製＞ 純水 ２７．２２ｍｌ メタノール １．５ｍｌ Ｈ−３ 硬膜剤 １．２８ｍｌ ＮａＣｌ ０．００５ｇ 上記添加剤を混合して保護層塗布液に塗布直前にインラ
インで混合添加する硬膜剤液ＢＨ１を３０ｍｌ添加し
た。
インで混合添加する硬膜剤液ＢＨ１を３０ｍｌ添加し
た。
【０２４０】（試料Ｎｏ．１−１〜１−６０の作成）予
め下引加工を両面に施した１００μｍ厚のポリエチレン
テレフタレート透明支持体の片面に支持体に近い方から
表１及び表２の組み合わせになるよう、ゼラチン下層塗
布液をゼラチン乾燥重量０．５ｇ／ｍ2、上記画像形成
層用乳剤塗布液Ｅ３をゼラチン乾燥重量１．０ｇ／
ｍ2、銀付量３．５ｇ／ｍ2になるように中間層用塗布液
をゼラチン乾燥重量０．３ｇ／ｍ2、露光可視画像形成
層用乳剤液をゼラチン乾燥重量０．４ｇ／ｍ2、銀付量
０．４ｇ／ｍ2になるように、保護膜層用塗布液をゼラ
チン乾燥重量０．３ｇ／ｍ2になるように同時重層塗布
した。
め下引加工を両面に施した１００μｍ厚のポリエチレン
テレフタレート透明支持体の片面に支持体に近い方から
表１及び表２の組み合わせになるよう、ゼラチン下層塗
布液をゼラチン乾燥重量０．５ｇ／ｍ2、上記画像形成
層用乳剤塗布液Ｅ３をゼラチン乾燥重量１．０ｇ／
ｍ2、銀付量３．５ｇ／ｍ2になるように中間層用塗布液
をゼラチン乾燥重量０．３ｇ／ｍ2、露光可視画像形成
層用乳剤液をゼラチン乾燥重量０．４ｇ／ｍ2、銀付量
０．４ｇ／ｍ2になるように、保護膜層用塗布液をゼラ
チン乾燥重量０．３ｇ／ｍ2になるように同時重層塗布
した。
【０２４１】その際、中間層インライン添加用硬膜剤液
ＭＨ１、及ぴ保護層インライン添加用硬膜剤液ＰＨ１を
主液（Ｐ１）とのＭＩＸ比率を前記記載の仕上げ比率で
それぞれの主液に塗布直前混合して塗設した。同時に支
持体の反対側にバッキング層用塗布液ＢＣ１をバッキン
グ層インライン添加用硬膜剤液ＢＨ１と前記記載の仕上
げ比率で塗布直前に混合しながらゼラチン乾燥重量が
１．８ｇ／ｍ2になるように、バッキング保護層用塗布
液ＢＰ１をゼラチン乾燥重量が０．５ｇ／ｍ2になるよ
うに重層塗布した。全ての塗布液を３５℃の塗布液温度
で塗布後、５℃の冷風で６秒間処理しセットさせ、乾燥
温度３５℃以下、フイルム表面温度２０℃以下を保つ条
件を順次コントロールして両面の塗布層を２分間で乾燥
し、乾燥終了後２０秒以内に乾燥温度５０℃、露点−５
℃で５０秒間処理して表１及び表２の試料を作成した。
ＭＨ１、及ぴ保護層インライン添加用硬膜剤液ＰＨ１を
主液（Ｐ１）とのＭＩＸ比率を前記記載の仕上げ比率で
それぞれの主液に塗布直前混合して塗設した。同時に支
持体の反対側にバッキング層用塗布液ＢＣ１をバッキン
グ層インライン添加用硬膜剤液ＢＨ１と前記記載の仕上
げ比率で塗布直前に混合しながらゼラチン乾燥重量が
１．８ｇ／ｍ2になるように、バッキング保護層用塗布
液ＢＰ１をゼラチン乾燥重量が０．５ｇ／ｍ2になるよ
うに重層塗布した。全ての塗布液を３５℃の塗布液温度
で塗布後、５℃の冷風で６秒間処理しセットさせ、乾燥
温度３５℃以下、フイルム表面温度２０℃以下を保つ条
件を順次コントロールして両面の塗布層を２分間で乾燥
し、乾燥終了後２０秒以内に乾燥温度５０℃、露点−５
℃で５０秒間処理して表１及び表２の試料を作成した。
【０２４２】（評価方法）上記の方法で得られた試料を
用いて以下の評価を行い、得られた結果を表１及び表２
に示した。
用いて以下の評価を行い、得られた結果を表１及び表２
に示した。
【０２４３】（感度の評価）大日本スクリーン（株）製
明室ＵＶプリンターＰ−６２７ＦＡを用い、原稿として
１００μｍ厚の５０％ハードドット網点透過フィルム原
稿を用いて試料の支持体に対し乳剤層塗設側を原稿に吸
引密着しながら露光し、下記処理条件で処理後５０％に
返る露光秒数の逆数の常用対数値をＳｅｃ（ＬｏｇＥ）
とした。
明室ＵＶプリンターＰ−６２７ＦＡを用い、原稿として
１００μｍ厚の５０％ハードドット網点透過フィルム原
稿を用いて試料の支持体に対し乳剤層塗設側を原稿に吸
引密着しながら露光し、下記処理条件で処理後５０％に
返る露光秒数の逆数の常用対数値をＳｅｃ（ＬｏｇＥ）
とした。
【０２４４】処理条件 現像条件 ３４℃ １２秒 定着条件 ３２℃ １２秒 水洗条件 常温 １０秒 乾燥条件 ４０℃ １０秒 現像液処方 純水 ２０５．７ｍｌ ジエチレントリアミン−５−酢酸 ３．６３ｇ 亜硫酸ナトリウム ５２．５８ｇ ほう酸 ８．０ｇ ＫＢｒ ４．０ｇ 炭酸カリウム（４９％（Ｗ／Ｖ）水溶液） １１２．２４ｇ ２−メルカプトヒポキサンチン ０．０７ｇ ジエチレングリコール ４０ｇ ベンゾトリアゾール ０．２１ｇ ハイドロキノン ２０ｇ ジメゾンＳ ０．８５ｇ １−フェニル−５−メルカプトテトラゾール ０．０３ｇ 水酸化カリウム（４８．５５％（Ｗ／Ｖ）水溶液） １４ｍｌ 使用時に、水を加え１リッターに仕上げて自動現像機に
セットし使用した。ｐＨは１０．４であった。
セットし使用した。ｐＨは１０．４であった。
【０２４５】 定着液処方 チオ硫酸アンモニウム（７０％（Ｗ／Ｖ）水溶液） ２６２ｇ 純水 ７９ｍｌ 亜硫酸ナトリウム ２２ｍｌ ほう酸 ９．７８ｍｌ 酢酸ナトリウム ３８．５ｇ 酢酸（９０％（Ｗ／Ｖ）水溶液） １３．２８ｇ 酒石酸（５０％（Ｗ／Ｖ）水溶液） ７．２７ｇ 硫酸アルミニウム（Ａｌ２Ｏ３換算含量が８．１％（Ｗ／Ｗ）水溶液） ２６．５ｇ 使用時に水を加え１リッターに仕上げて自動現像機にセ
ットし使用した。ｐＨは４．８５であった。
ットし使用した。ｐＨは４．８５であった。
【０２４６】（γの評価）大日本スクリーン（株）製明
室ＵＶプリンターＰ−６２７ＦＡを用い、原稿として１
００μｍ厚のステップウェッジフィルムを用いて試料の
支持体に対し乳剤層塗設側を原稿に吸引密着しながら露
光し、前記処理条件で処理後、濃度0.05が得られた露光
量の逆数の対数値をＥ（０．０５）とし、濃度２．５が
得られた露光量の逆数の対数値をＥ（２．５）としてγ
を下記式で求めた。
室ＵＶプリンターＰ−６２７ＦＡを用い、原稿として１
００μｍ厚のステップウェッジフィルムを用いて試料の
支持体に対し乳剤層塗設側を原稿に吸引密着しながら露
光し、前記処理条件で処理後、濃度0.05が得られた露光
量の逆数の対数値をＥ（０．０５）とし、濃度２．５が
得られた露光量の逆数の対数値をＥ（２．５）としてγ
を下記式で求めた。
【０２４７】 γ＝２．４５／（Ｅ（０．０５）−Ｅ（２．５）） （セーフライト耐久性の評価）東芝（株）製退色防止灯
をセーフライト光源とし、各試験試料を支持体に対し乳
剤側をセーフライト光源方向に置き３００Ｌｕｘのセー
フライト光量で照射時間を変化させ「感度の評価」と同
様の処理条件に従って処理後カブリ濃度が＋０．０００
３５上昇する時間をＴ（分）とした。
をセーフライト光源とし、各試験試料を支持体に対し乳
剤側をセーフライト光源方向に置き３００Ｌｕｘのセー
フライト光量で照射時間を変化させ「感度の評価」と同
様の処理条件に従って処理後カブリ濃度が＋０．０００
３５上昇する時間をＴ（分）とした。
【０２４８】（残色汚染の評価）未露光の試料を「感度
の評価」と同様の処理条件に従って処理後５枚重ね、目
視にて５段階で官能評価した。「５」が最も優れ「１」
が最も劣り、「３」以上が実用しうるレベルである。
の評価」と同様の処理条件に従って処理後５枚重ね、目
視にて５段階で官能評価した。「５」が最も優れ「１」
が最も劣り、「３」以上が実用しうるレベルである。
【０２４９】以上の結果を表１及び表２に示す。
【０２５０】（写真性能評価方法） 貼り込み跡 図１において貼り込み用ベース３、５上に網点画像フィ
ルム２を載せて、更に該網点画像フィルムの周辺を透明
な製版用スコッチテープで固定しておき、露光現像処理
した後このテープ跡（貼り込み跡）がない時を「５」、
跡が目立ちもっとも悪いレベルを「１」として５段階評
価をした。尚、図１中の１は返し用感光材料（試料）を
示し、５は線画ポジ画像フィルム、６はガットマスクフ
ィルムを示す。
ルム２を載せて、更に該網点画像フィルムの周辺を透明
な製版用スコッチテープで固定しておき、露光現像処理
した後このテープ跡（貼り込み跡）がない時を「５」、
跡が目立ちもっとも悪いレベルを「１」として５段階評
価をした。尚、図１中の１は返し用感光材料（試料）を
示し、５は線画ポジ画像フィルム、６はガットマスクフ
ィルムを示す。
【０２５１】
【化４６】
【０２５２】
【化４７】
【０２５３】
【化４８】
【０２５４】
【表１】
【０２５５】
【表２】
【０２５６】表１及び表２から明らかなように、本発明
は明室下での取り扱い性が改良され迅速処理に際しても
残色汚染が無く、かつガンマ（γ）の劣化がないハロゲ
ン化銀写真感光材料を得られることが分かる。
は明室下での取り扱い性が改良され迅速処理に際しても
残色汚染が無く、かつガンマ（γ）の劣化がないハロゲ
ン化銀写真感光材料を得られることが分かる。
【０２５７】実施例２ 実施例１で得られた試料を実施例１に記載の方法で処理
し、網点及び保存性の評価を行い、結果を表３及び表４
にまとめた。評価項目及び評価基準は以下の通りであ
る。
し、網点及び保存性の評価を行い、結果を表３及び表４
にまとめた。評価項目及び評価基準は以下の通りであ
る。
【０２５８】（網点品質）網点面積９０％となるように
網がけ露光をした後処理し、網点品質を１０段階に分け
て、各試料をルーペ（×１００）で目視評価した。網点
品質最良を１０とし、１をきわめて悪いレベルとし、５
以上を実用可能なレベルとした。
網がけ露光をした後処理し、網点品質を１０段階に分け
て、各試料をルーペ（×１００）で目視評価した。網点
品質最良を１０とし、１をきわめて悪いレベルとし、５
以上を実用可能なレベルとした。
【０２５９】（保存安定性）得られた試料を温度２３
℃、ＲＨ５０％にて調湿した後、乳剤層面側とバッキン
グ層面側を接触させて重ね密封した。この試料を温度５
０℃、ＲＨ２０％の条件かで５日間保存し、保存前の試
料の感度を１００とした保存後の試料の感度を求めた。
ここに感度は濃度２．５を得るのに必要な露光量の逆数
を用いた。
℃、ＲＨ５０％にて調湿した後、乳剤層面側とバッキン
グ層面側を接触させて重ね密封した。この試料を温度５
０℃、ＲＨ２０％の条件かで５日間保存し、保存前の試
料の感度を１００とした保存後の試料の感度を求めた。
ここに感度は濃度２．５を得るのに必要な露光量の逆数
を用いた。
【０２６０】
【表３】
【０２６１】
【表４】
【０２６２】表３及び表４から明らかなように本発明の
試料２−１〜２−６０は網点品質がよく、保存安定性も
優れていることがわかる。
試料２−１〜２−６０は網点品質がよく、保存安定性も
優れていることがわかる。
【０２６３】又、実施例１の現像液中のハイドロキノン
２０ｇの替わりにアスコルビン酸４０ｇ、エリソルビン
酸４０ｇを用いて、実施例１で得られた試料を用いて実
施例２と同様の処理を行い、同様の評価を行った所、実
施例２と同様な効果が得られた。
２０ｇの替わりにアスコルビン酸４０ｇ、エリソルビン
酸４０ｇを用いて、実施例１で得られた試料を用いて実
施例２と同様の処理を行い、同様の評価を行った所、実
施例２と同様な効果が得られた。
【０２６４】
【発明の効果】本発明によれば、実施例で実証した如
く、セーフライト耐性が優れ、明室下での取り扱い性が
改良され迅速処理に際しても残色汚染が無く、かつコン
トラストの劣化がなく、更に保存安定性に優れたハロゲ
ン化銀写真感光材料及びその処理方法が得られた。
く、セーフライト耐性が優れ、明室下での取り扱い性が
改良され迅速処理に際しても残色汚染が無く、かつコン
トラストの劣化がなく、更に保存安定性に優れたハロゲ
ン化銀写真感光材料及びその処理方法が得られた。
【図１】貼り込み跡評価の露光方法の概要を示す断面図
である。
である。
１ 返し用感光材料（試料） ２ 網点画像フィルム ３ 貼り込み用ベース ４ 貼り込み用ベース ５ 線画ポジ画像フィルム ６ ガットマスクフィルム
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｇ０３Ｃ 5/29 ５０１ Ｇ０３Ｃ 5/29 ５０１ 5/30 5/30
Claims (11)
- 【請求項１】 支持体上にハロゲン化銀写真乳剤層を有
し、かつ非感光性親水性コロイド層を有するハロゲン化
銀写真感光材料において、少なくとも一層の親水性コロ
イド層に下記一般式（１）で表される染料の固体微粒子
分散体を含有することを特徴とするハロゲン化銀写真感
光材料。 【化１】 〔式中、Ｚａ、Ｚｂ及びＺｃは各々−Ｎ＝または−Ｃ
（Ｒ2）＝を表し、Ｒ1、Ｒ2は水素原子または一価の置
換基を表し、Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、Ｂ1
は含酸素６員環を表し、ｎは０または１を表す。〕 - 【請求項２】 支持体上に感光性ハロゲン化銀写真乳剤
層を有し、かつ非感光性親水性コロイド層を有するハロ
ゲン化銀写真感光材料において、少なくとも一層の親水
性コロイド層に下記一般式（２）又は一般式（３）で表
される染料の固体微粒子分散体を含有することを特徴と
するハロゲン化銀写真感光材料。 【化２】 〔式中、Ｇ1，Ｇ2はシアノ基、−ＣＯＲ3、−ＣＯＮＲ3
Ｒ4、−ＯＣＯＲ3、−ＳＯ2Ｒ3、−ＳＯ2ＮＲ3Ｒ4を表
し、Ｒ3、Ｒ4はアルキル基、アリール基、複素環基又は
アルケニル基を表わし、Ｇ1，Ｇ2は同一でも異なってい
てもよく、Ｒ3とＲ4は互いに連結して５又は６員環を形
成してもよい。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、
Ｂ1は含酸素６員環を表し、ｎは０または１を表す。〕 【化３】 〔式中、Ａは以下の構造を表す。下記構造のＲ12，
Ｒ13，Ｒ14は水素原子または置換基を示す。Ｒ12，Ｒ13
は互いに連結して５又は６員環を形成しても良い。
Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、Ｂ1は含酸素６員
環を表し、ｎは０または１を表す。〕 【化４】 - 【請求項３】 塩化銀含有率が７０モル％以上であり、
ロジウム、ルテニウム、イリジウム、レニウム、クロミ
ウム、オスニウム、銅から選ばれる遷移金属の塩をハロ
ゲン化銀１モル当たり１×１０-9から１×１０-2モル含
有するハロゲン化銀写真乳剤層を少なくとも１層有し、
かつ非感光性親水性コロイド層を有する明室環境下で使
用可能なハロゲン化銀写真感光材料において、少なくと
も一層の親水性コロイド層に下記一般式（４）で表され
る染料の固体微粒子分散体を含有することを特徴とする
ハロゲン化銀写真感光材料。 【化５】 〔式中、Ａ1はピラゾロトリアゾールまたは酸性核を表
す。Ｌ1、Ｌ2、Ｌ3は各々メチン基を表し、Ｂ1は含酸素
６員環を表し、ｎは０または１を表す。〕 - 【請求項４】 ヒドラジン誘導体を含有することを特徴
とする請求項１、２又は３に記載のハロゲン化銀写真感
光材料。 - 【請求項５】 ピリジニウム塩誘導体を含有することを
特徴とする請求項１、２又は３に記載のハロゲン化銀写
真感光材料。 - 【請求項６】 テトラゾリウム塩誘導体を含有すること
を特徴とする請求項１、２又は３に記載のハロゲン化銀
写真感光材料。 - 【請求項７】 カルボキシル基を活性化することにより
作用する硬膜剤を含有することを特徴とする請求項３、
４、５又は６に記載のハロゲン化銀写真感光材料。 - 【請求項８】 前記硬膜剤が下記一般式（５）で表され
ることを特徴とする請求項７に記載のハロゲン化銀写真
感光材料。 【化６】 〔式中、Ｒ6およびＲ7はアルキル基、アリール基を表
し、Ｒ6およびＲ7で環を形成しても良い。Ｒ8は水素原
子又は置換基を表す。Ｌ4は単結合又は２価の基を表
す。Ｘ1は単結合又は−Ｏ−、−Ｎ（Ｒ9）−を表し、Ｒ
9は水素原子又はアルキル基またはアリール基を表
す。〕 - 【請求項９】 上記一般式（４）中、Ｂ1が下記一般式
（６）又は一般式（６′）で表される構造を示すことを
特徴とする請求項３に記載のハロゲン化銀写真感光材
料。 【化７】 〔式中、Ｒ12，Ｒ13，Ｒ14は水素原子あるいは非金属の
置換基を表す。〕 - 【請求項１０】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
８又は９に記載のハロゲン化銀写真感光材料をジヒドロ
キシベンゼン類を現像主薬としｐＨ９．５以上ｐＨが１
１．０以下の現像液で処理することを特徴とするハロゲ
ン化銀写真感光材料の処理方法。 - 【請求項１１】 請求項１、２、３、４、５、６、７、
８又は９に記載のハロゲン化銀写真感光材料をアスコル
ビン酸（塩）及び／又はエリソルビン酸（塩）から選ば
れる少なくとも１種の化合物を含有し、ハイドロキノン
を含有せずｐＨがｐＨ９．５以上１１．０以下の現像液
で処理することを特徴とするハロゲン化銀写真感光材料
の処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7228196A JPH09265156A (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7228196A JPH09265156A (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH09265156A true JPH09265156A (ja) | 1997-10-07 |
Family
ID=13484752
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7228196A Pending JPH09265156A (ja) | 1996-03-27 | 1996-03-27 | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH09265156A (ja) |
-
1996
- 1996-03-27 JP JP7228196A patent/JPH09265156A/ja active Pending
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JP2522644B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料 | |
| JPH0816777B2 (ja) | 画像形成方法 | |
| JPH08220666A (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JPH09265156A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 | |
| JPH09160176A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料およびその処理方法 | |
| USH1508H (en) | Image-forming process | |
| JPH09218481A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JP3448722B2 (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成方法 | |
| JP3548633B2 (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
| JPH08201957A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び画像形成方法 | |
| JPH09160163A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JPH1138543A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその画像形成方法と現像処理方法 | |
| JPH10123666A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JPH08297344A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び画像形成方法 | |
| JPH10246934A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JPH08201958A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び画像形成方法 | |
| JP2001022019A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料、その製造方法及び処理方法 | |
| JPH09258356A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JPH08314055A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及びそれを用いる画像形成方法 | |
| JPH10175946A (ja) | 新規ヒドラジン化合物とハロゲン化銀写真感光材料及びその処理方法 | |
| JP2002131875A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料の処理方法 | |
| JPH10301223A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料及び現像処理方法 | |
| JPH08339046A (ja) | 黒白ハロゲン化銀写真感光材料およびそれを用いた画像形成方法 | |
| JP2000181013A (ja) | ハロゲン化銀写真感光材料、その処理方法及び画像形成方法 | |
| JPH07159942A (ja) | 画像形成方法 |