JPH10105942A

JPH10105942A - 磁気記録媒体

Info

Publication number: JPH10105942A
Application number: JP25192796A
Authority: JP
Inventors: Hirohide Mizunoya; 博英水野谷; Noriyuki Kitaori; 典之北折; Akira Shiga; 章志賀
Original assignee: Kao Corp
Current assignee: Kao Corp
Priority date: 1996-09-24
Filing date: 1996-09-24
Publication date: 1998-04-24

Abstract

(57)【要約】【課題】厚さが４．５μｍ以下の薄いベースフィルム
を磁気記録媒体の非磁性支持体として使用する際にも、
カッピングを防止し、走行性に優れ、良好なヘッドタッ
チを実現する磁気記録媒体を提供する。【解決手段】非磁性支持体上に蒸着により形成された
一層あるいは二層以上の同一方向に傾斜するコラム構造
を持つ磁性層を有する磁気記録媒体において、非磁性支
持体の磁性層とは反対の面に蒸着により少なくとも一層
のバックコート層を形成し、かつそのバックコート層が
磁性層のコラムの傾斜と反対の方向に傾斜するコラムよ
りなる薄膜から形成されていることを特徴とする磁気記
録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は蒸着型の磁気記録媒
体、特にバックコート層に関するものである。より詳し
くは、バックコート層を形成する薄膜を斜め蒸着により
構造を制御して形成することにより、磁気気記録媒体の
カッピングを防止でき、良好な走行性とヘッドタッチを
維持できる磁気記録媒体に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来より非磁性支持体の磁性層と反対の
面には、次に挙げる三点の役割を持たせるためにバック
コート層が形成されている。（１）導電性を持たせることにより、帯電防止効果でゴ
ミの付着を防止する。（２）表面性（摩擦係数）を制御することにより走行安
定性を得る。（３）硬さ等の観点より、磁性層のある表面とバックコ
ート層のある裏面のバランスをとり反りの発生を防止す
る。

【０００３】バックコート層の形成方法としては、粒径
１０〜１００ｎｍの炭素をバインダー（塩ビ系、ウレタ
ン系、硝化綿系等を単独または混合して用いる）中に分
散させ、グラビア法またはリバース法、ダイ塗工法によ
り乾燥後の厚さが０．４〜１．０μｍとなるように塗布
する方法あるいは真空容器中で金属または半金属を蒸着
する方法が従来より行われてきた。バックコート層を塗
布によって形成する方法においては、（１）に対しては
カーボンの導電性により、（２）に対してはカーボンの
粒径と塗布工程の制御により、（３）に対してはバイン
ダーと塗布厚の制御により、それぞれを満足させてい
た。しかしバインダーの存在によりバックコート層は十
分な導電性を得ることができず、またバインダーの溶剤
の影響によりバックコート層を塗布する際に一度大気中
に媒体を取り出す必要があったため磁性層が傷ついた
り、汚れたり、ゴミが付着したりしてドロップアウト検
査においてドロップアウト数が増加するという問題があ
った。

【０００４】一方真空中で金属を蒸着する方法において
は、バインダーの影響を回避することができるためバッ
クコート層の導電性を改善することができ、またドロッ
プアウト数を減少させることができた。しかし半金属を
蒸着する場合には十分な導電性を得ることができない、
また金属を蒸着する場合にもバックコート層表面が平滑
になりすぎる、バックコート層に十分な硬度を持たせる
ことが難しい、媒体の端面が波状に変形するといった点
が問題となっていた。以上のような問題点に対して本件
出願人により、半金属と不純物を真空蒸着することによ
りバックコート層の導電性を改善する提案が特開平７−
９８８３０号に、バックコート層を金属あるいは半金属
の二層以上の膜とすることにより適度な表面性と弾力性
を付与する提案が特開平７−９８８５３号に、炭素系の
膜によりバックコート層を形成することによってバック
コート層に十分な硬度を待たせる提案が特開平８−１０
２０４４号に、バックコート層上にダイヤモンドライク
カーボン層を形成することにより磁気記録媒体の端面の
変形を抑える提案が特開平８−１０２０５１号にされて
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】今後より一層、高品質
の磁気記録媒体を高い生産性で製造することが望まれる
が、上述のようにバックコート層を塗布により形成する
方法では、十分な導電性を得にくい、ドロップアウト数
を減少させることができない、といった点で不利であっ
た。また蒸着する方法においても上記提案によりバック
コート層の表面性あるいは硬さは改善されたが、さらな
るカッピングの抑制、走行安定性とヘッドタッチの向上
が望まれるため、なお一層バックコート層の表面性ある
いは硬さの改善が望まれていた。さらに今後は、決めら
れた大きさの容器により多くの情報を入れるために磁気
記録媒体の厚さはより薄くなる傾向にあり、非磁性支持
体上に形成された磁性層およびバックコート層により磁
気記録媒体に適度な硬さを持たせる必要が生じてきた。
そこで本発明においては、以上のような従来の問題点に
鑑み、また将来に向けて、斜め蒸着により形成した磁性
層を有する磁気記録媒体において、バックコート層をな
す薄膜の構造を制御することによりカッピングの発生の
防止、高い走行安定性および良好なヘッドタッチが実現
される磁気記録媒体を得ることを目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このため本発明者らは、
斜め蒸着により形成されたコラム構造を有する磁性層を
持つ磁気記録媒体において、非磁性支持体上の磁性層と
は反対の面に構造を制御して斜め蒸着したコラム構造を
有するバックコート層を形成することにより、前記の目
的を達成できることを見出し、本発明を完成するに至っ
た。

【０００７】本発明によって得られるバックコート層
は、非磁性支持体上に斜め蒸着により形成された同一方
向に傾斜を持つコラム構造を持った磁性層と反対の面に
形成され、かつ磁性層のコラムとは反対方向に傾斜する
コラム構造を有する薄膜よりなることを特徴とする。こ
こで非磁性支持体長手方向に平行かつ非磁性支持体表面
に垂直な面の構造解析は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）
写真による観察あるいは電子線回折により評価が行われ
る。またバックコート層は、真空チャンバ内で金属ある
いは半金属に電子ビームを照射することにより蒸発さ
せ、非磁性支持体上に付着させることにより得られる金
属あるいは半金属もしくはそれらの酸化物、窒化物、炭
化物により形成される。バックコート層として付着する
金属は種々考えられるが、Ａｌ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｎ
ｉ、Ａｇ等およびこれらの合金が用いられ、特に価格、
付着速度、酸化後の安定性の点からはＣｕ−Ａｌ合金が
好ましい。またバックコート層として付着する半金属
は、Ｓｉ、Ｇｅ、Ａｓ、Ｓｃ、Ｓｂ等が用いられ、特に
価格と付着速度の点からＳｉが好ましい。さらにこれら
金属または半金属を蒸着する際に酸化、窒化、炭化のう
ちいずれか一つの反応を同時に行い酸化膜、窒化膜、炭
化膜とすることも好ましい。バックコート層は、非磁性
支持体のバックコート層と反対の面に形成される磁性層
との剛性の釣り合いを考慮して、その厚さが磁性層の膜
厚よりも２０００Å薄い厚さから磁性層の膜厚よりも２
０００Å厚い厚さとなるように形成される。以上のバッ
クコート層が非磁性支持体上に形成されるのは、非磁性
支持体上に磁性層および保護層が形成される前でも後で
もどちらでも良い。

【０００８】本発明に使用される非磁性支持体は、ポリ
エチレンテレフタレート（ＰＥＴ）が価格の点からは好
ましい。しかし他にもポリエチレンナフタレートのよう
なポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポ
リオレフィン、セルローストリアセテート、セルロース
ジアセテート等のセルロース誘導体、ポリカーボネー
ト、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、芳香族ポリアミド等
のプラスチック等を使用できる。これら非磁性支持体の
厚さは一般に５０μｍ程度の厚さのものまで考えられる
が、今後の実用的な観点からは４．５μｍ以下であるこ
とが好ましく、磁気記録媒体とした後の厚さは非磁性支
持体の厚さと構成する各層の厚さから６．０μｍ以下で
あることが好ましい。

【０００９】本発明において金属薄膜型磁性層は通常の
蒸着やスパッタ等の方法により形成される。金属薄膜型
磁性層を形成する磁性材料としては、通常の金属薄膜型
の磁気記録媒体の製造に用いられる強磁性金属材料が挙
げられる。例えばＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ等の強磁性金属ある
いはＦｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ
−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ｃｕ、Ｃｏ−Ａｕ、Ｃｏ−
Ｙ、Ｃｏ−Ｌａ、Ｃｏ−Ｐｒ、Ｃｏ−Ｇｄ、Ｃｏ−Ｓ
ｍ、Ｃｏ−Ｐｔ、Ｎｉ−Ｃｕ、Ｍｎ−Ｂｉ、Ｍｎ−Ｓ
ｂ、Ｍｎ−Ａｌ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃ
ｒ、Ｆｅ−Ｃｏ−Ｃｒ、Ｎｉ−Ｃｏ−Ｃｒ等の強磁性合
金が挙げられる。特に磁気記録媒体に使用する磁性材料
の磁気特性の点からはＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅを主体とする強
磁性合金およびこれらの窒化物もしくは炭化物から選ば
れる少なくとも一種類が好ましい。蒸着の際に酸化性ガ
スを導入して磁性層表面に酸化物層を形成することによ
り磁性層の耐久性向上を図ることができる。蒸着による
磁性層は一層でも二層以上の多層でも良いが、高密度記
録のためには多層とすることが好ましく、実用的な範囲
としては２〜３層が適当である。また非磁性支持体上に
斜め蒸着により磁気記録媒体の磁性層が形成されること
が好ましく、磁性層が多層の場合においては各磁性層を
形成するコラムの傾きは同じ方向に向くように形成され
る。斜め蒸着の方法は特に限定されず、従来よりの公知
の方法に準ずる。金属薄膜型磁性層の厚さは限定されな
いが、５００〜５０００Åが好ましく、特に実用範囲と
しては８００〜３０００Åが好ましい。なお二層の場合
には、下層が２００〜２０００Å程度、上層が１００〜
１０００Å程度が好ましく、三層の場合には、下層が２
００〜２０００Å程度、中層が２００〜２０００Å程
度、上層が１００〜１０００Å程度が好ましい。

【００１０】また磁気記録媒体の耐久性および耐食性を
向上させる目的で、磁性層およびバックコート層の上に
高硬度薄膜の保護層を設けることができる。このような
保護層は、例えばダイヤモンドライクカーボン、炭化ホ
ウ素、炭化珪素、窒化ホウ素、窒化珪素、酸化珪素、酸
化アルミニウム等の炭化物、窒化物、酸化物のような非
磁性材料からなり、ＣＶＤ法やＰＶＤ法により成膜され
る。

【００１１】磁性層上の保護層およびバックコート層の
上あるいは磁性層上の保護層およびバックコート層上の
保護層の上には、適当な潤滑剤からなる潤滑層を形成し
ても良い。潤滑層は、潤滑剤を適当な溶剤に溶解させた
ものを塗布して形成しても良いし、真空中で潤滑剤を噴
霧する方法により形成しても良い。潤滑剤としては、塗
布あるいは噴霧いずれの場合にも、パーフルオロポリエ
ーテル等のフッ素系潤滑剤が潤滑性の点から好ましく、
例えばパーフルオロポリエーテルとしては分子量２００
０〜５０００のものが好適である。潤滑剤の塗布量ある
いは噴霧量は、磁気記録媒体の用途や潤滑剤の種類によ
り適宜決定されるが、形成される潤滑層の厚さは５〜１
００Å程度である。

【００１２】

【発明の実施の形態】図１は、本発明の磁気記録媒体を
製造するに適した蒸着装置１の一例を示している。ここ
には図示しない真空排気装置に接続された真空チャンバ
２と、真空チャンバ２内に設けられた冷却キャンロール
３と、この冷却キャンロール３上でＰＥＴフィルム等の
非磁性支持体４を走行させるための巻き出しロールおよ
び巻き取りロールを含んでいる。冷却キャンロール３の
下方には蒸発源としてルツボ７が配置され、このルツボ
７内にバックコート形成材料、例えばＣｕ−Ａｌ合金が
収容される。真空チャンバ２には電子銃８が配置され、
ルツボ７に向け電子ビームを照射し、ルツボ７内のＣｕ
−Ａｌ合金を蒸発するようになっている。ルツボ７の上
方には、電子ビームにより蒸発したルツボ７から冷却キ
ャンロール３へ向かうＣｕ−Ａｌ合金蒸気の非磁性支持
体４への入射角度を限定するための防着板９および９’
が斜め蒸着の行えるように配置されている。また防着板
９および９’の直上には酸素ガスを供給するためのノズ
ル１０および１０’がそれぞれ配置されている。

【００１３】こうした蒸着装置１を用いて本発明による
磁気記録媒体を製造するには以下のとおりである。すな
わち、真空排気装置により真空チャンバ２内を所定の真
空度とした後、巻き出しロールから非磁性支持体４を冷
却キャンロール３上へと走行させる。この時非磁性支持
体は、予め磁性層およびその磁性層の上に保護層を形成
したものあるいは磁性層の形成がなされていないものど
ちらでも良い。しかし予め斜め蒸着により少なくとも一
層の磁性層が形成されている場合には、非磁性支持体４
上の磁性層を形成するコラムの傾きと非磁性支持体４の
走行方向が重要である。つまり図１において冷却キャン
ロール３の回転方向は、：時計の方向と同じ方向（右
回り）に回転する、：時計の方向と反対方向（左回
り）に回転する２とおりがある。の場合非磁性支持体
４の走行方向は、非磁性支持体を下、磁性層を上とした
時に非磁性支持体上に形成されている磁性層のコラムの
傾きが、非磁性支持体４の進行方向に対して前方に傾斜
するようにしなくてはならない。またの場合には、同
様に非磁性支持体を下、磁性層を上とした時に非磁性支
持体上に形成されている磁性層のコラムの傾きが、非磁
性支持体４の進行方向に対して後方に傾斜するようにし
なくてはならない。なおの場合にはロール５が巻き出
しロール、ロール６が巻き取りロールとなり、の場合
には逆にロール６が巻き出しロール、ロール５が巻き取
りロールとなる。以上のように巻き出しロールから非磁
性支持体４を冷却キャンロール３上へと走行させる。電
子銃８からルツボ７に向け電子ビームを照射し、ルツボ
７内のＣｕ−Ａｌ合金を溶融蒸発させ、非磁性支持体４
に対して蒸着を行う。これはノズル１０および１０’よ
り供給される酸素の存在下において行われる。このよう
に処理された非磁性支持体４は巻き取りロール上に巻き
取られる。必要に応じてバックコート層の上に保護層を
形成する。保護層は、上述のとおりダイヤモンドライク
カーボン等の高硬度薄膜をＣＶＤ法やＰＶＤ法により成
膜することにより形成される。さらに予め磁性層および
磁性層の上に保護層を形成してあるものについては、必
要に応じて磁性層の上の保護層とバックコート層側の最
上層に潤滑層を直ちに形成する。また磁性層を形成して
いないものについては、磁性層のコラムの傾きがバック
コート層のコラムの傾きと反対方向となるように少なく
とも一層の磁性層を斜め蒸着により形成し、その上に保
護層を形成し、磁性層の上の保護層とバックコート層側
の最上層に潤滑層を形成する。潤滑層の形成は、上述し
たとおりフッ素系潤滑剤を大気中で塗布し、あるいは真
空中で噴霧することにより行われる。必要な各層の成膜
が終了した後、一般的な方法によりスリッティング、巻
き込み、カセット組み込み等が行われる。

【００１４】

【実施例】

実施例１厚さ４．５μｍのＰＥＴフィルム上に斜め蒸着により二
層の金属コバルト磁性層を合計の厚さ１９００Å成膜
し、その上に保護層としてダイヤモンドライクカーボン
膜を１２０Å成膜した非磁性支持体を用意した。この非
磁性支持体に対して、図１の蒸着装置を用いてバックコ
ート層を非磁性支持体の磁性層とは反対の面に成膜し
た。真空チャンバ２内を２×１０^-5Ｔｏｒｒまで真空排
気した後、電子銃８により出力２０ｋＷでルツボ７内の
Ｃｕ−Ａｌ合金に電子ビームを照射して蒸気雰囲気とし
た。非磁性支持体４はロール６から冷却キャンロール３
上を通り、ロール５へと走行させ、冷却キャンロール３
上においてバックコート層を成膜した。この時非磁性支
持体４の走行速さは毎分１０ｍとした。バックコート層
成膜時には、ノズル１０および１０’よりそれぞれ酸素
ガスを２３０ＳＣＣＭで導入した。さらに磁性層上の保
護層とバックコート層の両面にフッ素系の潤滑剤を潤滑
層の膜厚が４０Åとなるようにコーティングし潤滑層を
形成した。得られたものを８ｍｍ幅に裁断し、カセット
に装填し、８ｍｍビデオカセットを作製した。得られた
磁気記録媒体の断面およびバックコート層の構造は、Ｔ
ＥＭ写真あるいは電子線回折によれば、図２（ａ）に示
すとおりであり、バックコート層のコラムの傾きと磁性
層のコラムの傾きは反対方向となっており、かつバック
コート層のコラムの太さは非磁性支持体から離れるにつ
れ細くなっていた。バックコート層の膜厚は２０００Å
であった。

【００１５】実施例２実施例１と同じ非磁性支持体に対して、図１の蒸着装置
を用いてバックコート層を非磁性支持体の磁性層とは反
対の面に成膜した。真空チャンバ２内を２×１０^-5Ｔｏ
ｒｒまで真空排気した後、電子銃８により出力１５ｋＷ
でルツボ７内の金属Ａｌに電子ビームを照射して蒸気雰
囲気とした。非磁性支持体４はロール５から冷却キャン
ロール３上を通り、ロール６へと走行させ、冷却キャン
ロール３上においてバックコート層を成膜した。この時
非磁性支持体４の走行速さは毎分１２ｍとした。バック
コート層成膜時には、ノズル１０および１０’よりそれ
ぞれ酸素ガスを１８０ＳＣＣＭで導入した。二層のバッ
クコート層を形成するため、同じ条件におけるバックコ
ート成膜工程を二回行った。さらに磁性層上の保護層と
バックコート層の両面にフッ素系の潤滑剤を潤滑層の膜
厚が４０Åとなるようにコーティングし潤滑層を形成し
た。得られたものを８ｍｍ幅に裁断し、カセットに装填
し、８ｍｍビデオカセットを作製した。得られた磁気記
録媒体の断面およびバックコート層の構造は、ＴＥＭ写
真あるいは電子線回折によれば、図２（ｂ）に示すとお
りであり、二層の薄膜より形成されるバックコート層の
それぞれのコラムの傾きと磁性層のコラムの傾きは反対
方向となっており、かつバックコート層のコラムの太さ
は非磁性支持体から離れるにつれ太くなっていた。バッ
クコート層の膜厚は２６００Åであった。

【００１６】実施例３実施例１と同じ非磁性支持体に対して、図３の蒸着装置
１１を用いてバックコート層を非磁性支持体の磁性層と
は反対の面に成膜した。真空チャンバ１２内を２×１０
^-5Ｔｏｒｒまで真空排気した後、電子銃１８により出力
２０ｋＷでルツボ１７内のＣｕ−Ａｌ合金に電子ビーム
を照射して蒸気雰囲気とした。非磁性支持体４は巻き出
しロール１５から案内ロール１３、１３’を経て巻き取
りロール１６へと走行させ、案内ロール１３と１３’の
間においてバックコート層を成膜した。非磁性支持体４
の走行速さは毎分９ｍとした。バックコート成膜時に
は、ノズル２０および２０’よりそれぞれ酸素ガスを２
１０ＳＣＣＭで導入した。さらに磁性層上の保護層とバ
ックコート層の両面にフッ素系の潤滑剤を潤滑層の膜厚
が４０Åとなるようにコーティングし潤滑層を形成し
た。得られたものを８ｍｍ幅に裁断し、カセットに装填
し、８ｍｍビデオカセットを作製した。得られた磁気記
録媒体の断面およびバックコート層の構造は、ＴＥＭ写
真あるいは電子線回折によれば、図２（ｃ）に示すとお
りであり、バックコート層のコラムの傾きと磁性層のコ
ラムの傾きは反対方向となっており、かつバックコート
層のコラムの太さは非磁性支持体から離れても一定の太
さとなっていた。バックコート層の膜厚は２５００Åで
あった。

【００１７】比較例１実施例１と同じ非磁性支持体に対して、図４の蒸着装置
２１を用いてバックコート層を非磁性支持体の磁性層と
は反対の面に成膜した。真空チャンバ２２内を２×１０
^-5Ｔｏｒｒまで真空排気した後、電子銃２８により出力
１１ｋＷでルツボ２７内の金属Ａｌに電子ビームを照射
して蒸気雰囲気とした。非磁性支持体４は巻き出しロー
ル２５から冷却キャンロール２３を通り、巻き取りロー
ル２６へと走行させ、冷却キャンロール２３上において
バックコート層を成膜した。非磁性支持体４の走行速さ
は毎分１６ｍとした。バックコート成膜時には、ノズル
３０より酸素ガスを１２０ＳＣＣＭで導入した。さらに
磁性層上の保護層とバックコート層の両面にフッ素系の
潤滑剤を潤滑層の膜厚が４０Åとなるようにコーティン
グし潤滑層を形成した。得られたものを８ｍｍ幅に裁断
し、カセットに装填し、８ｍｍビデオカセットを作製し
た。得られた磁気記録媒体の断面およびバックコート層
の構造は、ＴＥＭ写真あるいは電子線回折によれば、図
５に示すとおりであり、バックコート層は明確な構造を
有しない薄膜より形成されていた。バックコート層の膜
厚は２０００Åであった。

【００１８】性能評価実施例および比較例により得られた磁気記録媒体につい
て、市販の８ｍｍＶＴＲ装置を改造した装置を用いて出
力波形のエンベロープ特性を測定した。図６（ａ）に示
すようなエンベロープ特性波形が理想であるが、実際に
はヘッドタッチの不良等の原因により図６（ｂ）に示す
ように波形に欠けが生じてしまう。ここでは測定時に前
欠けまたは後欠けのうち欠け率の高い方を１００％から
減算してエンベロープ特性とした。これらの結果を表１
に示す。

【００１９】

【表１】

【００２０】

【発明の効果】本発明によれば、支持体のカッピングを
防止できるため従来以上に良好なヘッドタッチを実現す
ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の磁気記録媒体の製造に使用することが
できる装置の一例を示す概略図。

【図２】本発明により得られた磁気記録媒体の非磁性支
持体長手方向に平行かつ非磁性支持体表面に垂直な面の
構造を示すモデル図。

【図３】本発明の磁気記録媒体の製造に使用することが
できる装置の他の例を示す概略図。

【図４】従来の磁気記録媒体の製造に使用されていた装
置の概略図。

【図５】従来の磁気記録媒体の非磁性支持体長手方向に
平行かつ非磁性支持体表面に垂直な面の構造を示すモデ
ル図。

【図６】エンベロープ波形の欠け率を示すモデル図。

【符号の説明】

１、１１、２１真空蒸着装置２、１２、２２真空チャンバ３、２３冷却キャン４非磁性支持体５、６ロール７、１７、２７ルツボ８、１８、２８電子銃９、９’１９、１９’２９防着板１０、１０’２０、２０’３０ノズル１３、１３’ 案内ロール１５、２５巻き出しロール１６、２６巻き取りロール

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】非磁性支持体上に蒸着により形成された
一層あるいは二層以上の同一方向に傾斜するコラム構造
を持つ磁性層を有する磁気記録媒体において、非磁性支
持体の磁性層とは反対の面に真空成膜により少なくとも
一層のバックコート層を形成し、かつそのバックコート
層が磁性層のコラムの傾斜と反対の方向に傾斜するコラ
ムよりなる薄膜から形成されていることを特徴とする磁
気記録媒体。
【請求項２】前記非磁性支持体長手方向に平行かつ前
記非磁性支持体表面に垂直な面における前記バックコー
ト層のコラムの太さが、前記バックコート層表面から前
記非磁性支持体に向かう深さ方向に対して徐々に変化す
る請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】前記非磁性支持体長手方向に平行かつ前
記非磁性支持体表面に垂直な面における前記バックコー
ト層のコラムの太さが、前記バックコート層表面から前
記非磁性支持体に向かう深さ方向に対して一定である請
求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】前記バックコート層が金属あるいは半金
属である、もしくは金属あるいは半金属の酸化物、窒化
物、炭化物のうちいずれか一つである請求項１〜３のい
ずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】前記バックコート層を構成する金属がＡ
ｌを含むことを特徴とする請求項４に記載の磁気記録媒
体。
【請求項６】前記バックコート層の膜厚Ｔｂｃと前記
磁性層の膜厚Ｔｍは次式で表される関係を持つ請求項１
〜５のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。Ｔｂｃ＝Ｔｍ±２０００Å
【請求項７】前記バックコート層上に潤滑層が存在す
る請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。
【請求項８】前記バックコート層上に保護層および潤
滑層が存在する請求項１〜６のいずれか１項に記載の磁
気記録媒体。
【請求項９】非磁性支持体の厚さが４．５μｍ以下か
つ磁気記録媒体の全厚が６．０μｍ以下である請求項１
〜８のいずれか１項に記載の磁気記録媒体。