JPH1039344A - 全固体型エレクトロクロミック素子 - Google Patents
全固体型エレクトロクロミック素子Info
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- JPH1039344A JPH1039344A JP8214098A JP21409896A JPH1039344A JP H1039344 A JPH1039344 A JP H1039344A JP 8214098 A JP8214098 A JP 8214098A JP 21409896 A JP21409896 A JP 21409896A JP H1039344 A JPH1039344 A JP H1039344A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 全固体型エレクトロクロミック素子におい
て、印加電圧を高くした時の画像のにじみを防止し、コ
ントラストの高い表示を実現する。 【解決手段】 基板１上に、所定のパターン形状の透明
電極２と、同じパターン形状のエレクトロクロミック層
３を形成し、固体電解質層４を積層した後、上記パター
ンの存在しない非パターン領域に対応するパターン形状
を有する絶縁体層５を形成し、さらにエレクトロクロミ
ック層６と透明電極７を形成し、封止基板９と接着剤８
により周囲を封止する。
て、印加電圧を高くした時の画像のにじみを防止し、コ
ントラストの高い表示を実現する。 【解決手段】 基板１上に、所定のパターン形状の透明
電極２と、同じパターン形状のエレクトロクロミック層
３を形成し、固体電解質層４を積層した後、上記パター
ンの存在しない非パターン領域に対応するパターン形状
を有する絶縁体層５を形成し、さらにエレクトロクロミ
ック層６と透明電極７を形成し、封止基板９と接着剤８
により周囲を封止する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、表示素子等として
利用される全固体型エレクトロクロミック素子に関する
ものである。
利用される全固体型エレクトロクロミック素子に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の全固体型エレクトロクロミック素
子（以下、「ＥＣＤ」と記す）としては、米国特許第３
５２１９４１号明細書に記載されているような、ネサガ
ラス（ＳｎＯ2 透明電極）上にａ−ＷＯ3 膜、ＳｉＯ2
又はＣａＦ2 などの絶縁層、Ａｕ電極を順次形成した４
層構成、或いは、特公昭６０−３１３５５号公報に記載
されているように、応答速度、繰り返し駆動時の電圧や
その時の光量変化等を改善した、ガラス等の透明基板上
に、順次、三酸化インジウム透明電極、水酸化イリジウ
ムからなる酸化発色性薄膜、五酸化タンタルからなる絶
縁性薄膜、酸化タングステンからなる還元発色性薄膜、
三酸化インジウム透明電極を形成した５層構成が知られ
ている。
子（以下、「ＥＣＤ」と記す）としては、米国特許第３
５２１９４１号明細書に記載されているような、ネサガ
ラス（ＳｎＯ2 透明電極）上にａ−ＷＯ3 膜、ＳｉＯ2
又はＣａＦ2 などの絶縁層、Ａｕ電極を順次形成した４
層構成、或いは、特公昭６０−３１３５５号公報に記載
されているように、応答速度、繰り返し駆動時の電圧や
その時の光量変化等を改善した、ガラス等の透明基板上
に、順次、三酸化インジウム透明電極、水酸化イリジウ
ムからなる酸化発色性薄膜、五酸化タンタルからなる絶
縁性薄膜、酸化タングステンからなる還元発色性薄膜、
三酸化インジウム透明電極を形成した５層構成が知られ
ている。
【０００３】ＥＣＤは、Ｓ．Ｋ．Ｄｅｂ：Ｐｈｉｌ．Ｍ
ａｇ．２７（１９７３）８０１．，松久、増田：真空．
１１（１９８０）ｐｐ．５０３〜５１４，及び特公平４
−３５７３５号公報に記載されているように、外界の湿
度の影響を受け易く、特に真空中では全く着消色を示さ
ないことが知られている。
ａｇ．２７（１９７３）８０１．，松久、増田：真空．
１１（１９８０）ｐｐ．５０３〜５１４，及び特公平４
−３５７３５号公報に記載されているように、外界の湿
度の影響を受け易く、特に真空中では全く着消色を示さ
ないことが知られている。
【０００４】このような外界の湿度の影響を防止し、Ｅ
ＣＤの耐久性を高めるべく、特公平４−３５７３５号公
報、特開昭６３−２９４５３６号公報には、エポキシ樹
脂などの封止樹脂により前記ＥＣＤをガラス板などの封
止基板で封止した構成が開示されている。
ＣＤの耐久性を高めるべく、特公平４−３５７３５号公
報、特開昭６３−２９４５３６号公報には、エポキシ樹
脂などの封止樹脂により前記ＥＣＤをガラス板などの封
止基板で封止した構成が開示されている。
【０００５】このような全固体型ＥＣＤを表示素子とし
た応用した例としては、特開昭５７−８５２４号公報に
記載されているように、電極、酸化還元反応薄膜、プロ
トン良導体の絶縁性薄膜、酸化還元反応薄膜、電極、の
５層構成の内、２つ有る酸化還元反応薄膜の一方のみを
パターニングした表示素子が知られている。
た応用した例としては、特開昭５７−８５２４号公報に
記載されているように、電極、酸化還元反応薄膜、プロ
トン良導体の絶縁性薄膜、酸化還元反応薄膜、電極、の
５層構成の内、２つ有る酸化還元反応薄膜の一方のみを
パターニングした表示素子が知られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記従
来のＥＣＤでは、着色濃度を高めるべく印加電圧を高く
すると、パターニングされていない酸化還元反応薄膜
の、当該パターニングに対応しない領域も発色してしま
う。当該領域の発色は、画像のにじみとして表示され、
またコントラストも低下してしまうため、表示素子とし
ての機能を著しく損なうという問題があった。また、一
度発色してしまった領域は、逆電圧を印加しても完全に
は消色しきれないという問題もあった。
来のＥＣＤでは、着色濃度を高めるべく印加電圧を高く
すると、パターニングされていない酸化還元反応薄膜
の、当該パターニングに対応しない領域も発色してしま
う。当該領域の発色は、画像のにじみとして表示され、
またコントラストも低下してしまうため、表示素子とし
ての機能を著しく損なうという問題があった。また、一
度発色してしまった領域は、逆電圧を印加しても完全に
は消色しきれないという問題もあった。
【０００７】本発明の目的は、上記問題を解決し、画像
のにじみがなく、コントラストの高い表示特性を示すＥ
ＣＤを提供することにある。
のにじみがなく、コントラストの高い表示特性を示すＥ
ＣＤを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明は、少なくとも一
対の透明電極間に、酸化発色性薄膜、固体電界質層、絶
縁体層、還元発色性薄膜を有し、一方の透明電極が所定
のパターン形状を有し、上記絶縁体層が該透明電極に対
応しない領域に対応するパターン形状を有していること
を特徴とする全固体型エレクトロクロミック素子であ
る。
対の透明電極間に、酸化発色性薄膜、固体電界質層、絶
縁体層、還元発色性薄膜を有し、一方の透明電極が所定
のパターン形状を有し、上記絶縁体層が該透明電極に対
応しない領域に対応するパターン形状を有していること
を特徴とする全固体型エレクトロクロミック素子であ
る。
【０００９】本発明においては、パターン形状に形成さ
れた一方の透明電極の存在しない領域（以下「非パター
ン領域」と記す）に対応したパターン形状を有する絶縁
体層を設けることによって、高い電圧を印加しても、当
該非パターン領域の着色が防止される。
れた一方の透明電極の存在しない領域（以下「非パター
ン領域」と記す）に対応したパターン形状を有する絶縁
体層を設けることによって、高い電圧を印加しても、当
該非パターン領域の着色が防止される。
【００１０】特に、本発明においては、パターン形状を
有する透明電極に接する酸化発色性薄膜或いは還元発色
性薄膜を該透明電極に対応してパターン形状にパターニ
ングすることにより、当該エレクトロクロミック層にお
ける非パターン領域の着色がなくなるため好ましい。
有する透明電極に接する酸化発色性薄膜或いは還元発色
性薄膜を該透明電極に対応してパターン形状にパターニ
ングすることにより、当該エレクトロクロミック層にお
ける非パターン領域の着色がなくなるため好ましい。
【００１１】また、ＥＣＤにおける固体電解質層は、電
子は通過させないがイオンは通過させるイオン伝導体層
として作用するが、絶縁体層は、電子及びイオンの両方
とも通過させない不導体層として作用する。よって、本
発明において絶縁体層を固体電界質層と、所定のパター
ン形状を持たない側の透明電極との間に配置することに
より、電子及びイオンの移動を遮断して、非パターン領
域の着色防止効果を高めることができる。
子は通過させないがイオンは通過させるイオン伝導体層
として作用するが、絶縁体層は、電子及びイオンの両方
とも通過させない不導体層として作用する。よって、本
発明において絶縁体層を固体電界質層と、所定のパター
ン形状を持たない側の透明電極との間に配置することに
より、電子及びイオンの移動を遮断して、非パターン領
域の着色防止効果を高めることができる。
【００１２】さらに、本発明の全固体型ＥＣＤは、周囲
を封止基板及び接着剤により封止することにより、湿度
等外部からの影響を防止して耐久性を高めることが望ま
しい。
を封止基板及び接着剤により封止することにより、湿度
等外部からの影響を防止して耐久性を高めることが望ま
しい。
【００１３】
【発明の実施の形態】図１に本発明の一実施形態の概略
断面図を示す。図中、１はガラス等の基板、２及び７は
透明電極、３及び６はエレクトロクロミック層、４は固
体電解質層、５は絶縁体層、８は接着剤、９は封止基板
である。
断面図を示す。図中、１はガラス等の基板、２及び７は
透明電極、３及び６はエレクトロクロミック層、４は固
体電解質層、５は絶縁体層、８は接着剤、９は封止基板
である。
【００１４】本発明において、電極２はパターニングし
た透明導電膜であり、酸化スズ（ＳｎＯ2 ）、酸化イン
ジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）、酸化インジウム・スズ（ＩＴ
Ｏ）等からなる。その膜厚は１００〜５００ｎｍが好ま
しい。
た透明導電膜であり、酸化スズ（ＳｎＯ2 ）、酸化イン
ジウム（Ｉｎ2 Ｏ3 ）、酸化インジウム・スズ（ＩＴ
Ｏ）等からなる。その膜厚は１００〜５００ｎｍが好ま
しい。
【００１５】また、エレクトロクロミック層３、６は一
方が酸化発色性薄膜、他方が還元発色性薄膜である。酸
化発色性薄膜としては、水酸化イリジウム〔Ｉｒ（Ｏ
Ｈ）x〕、水酸化ニッケル〔Ｎｉ（ＯＨ）x 〕、水酸化
コバルト〔Ｃｏ（ＯＨ）x 〕からなる層、或いは、これ
らの層の上に、これらの化合物に金属酸化物として酸化
スズ、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）などを混合した層
を積層した２層構成を用いることができる。還元発色性
薄膜には、酸化タングステン（ＷＯ3 ）、酸化モリブデ
ン（ＭｏＯ3 ）、又はこれらの混合物を、好ましくは３
０〜１０００ｎｍの膜厚で用いられる。本発明において
は、パターニングされた透明電極２に接する側のエレク
トロクロミック層３は、該透明電極２のパターン形状に
合わせてパターニングされていることが好ましい。
方が酸化発色性薄膜、他方が還元発色性薄膜である。酸
化発色性薄膜としては、水酸化イリジウム〔Ｉｒ（Ｏ
Ｈ）x〕、水酸化ニッケル〔Ｎｉ（ＯＨ）x 〕、水酸化
コバルト〔Ｃｏ（ＯＨ）x 〕からなる層、或いは、これ
らの層の上に、これらの化合物に金属酸化物として酸化
スズ、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ2 ）などを混合した層
を積層した２層構成を用いることができる。還元発色性
薄膜には、酸化タングステン（ＷＯ3 ）、酸化モリブデ
ン（ＭｏＯ3 ）、又はこれらの混合物を、好ましくは３
０〜１０００ｎｍの膜厚で用いられる。本発明において
は、パターニングされた透明電極２に接する側のエレク
トロクロミック層３は、該透明電極２のパターン形状に
合わせてパターニングされていることが好ましい。
【００１６】固体電解質層４は、五酸化タンタル（Ｔａ
2 Ｏ5 ）、酸化珪素（ＳｉＯx）、酸化クロム（Ｃｒ2
Ｏ3 ）、酸化バナジウム（Ｖ2 Ｏ5 ）、酸化ニオブ（Ｎ
ｂ2Ｏ5 ）等からなり、膜厚は１５０〜５００ｎｍで用
いられる。
2 Ｏ5 ）、酸化珪素（ＳｉＯx）、酸化クロム（Ｃｒ2
Ｏ3 ）、酸化バナジウム（Ｖ2 Ｏ5 ）、酸化ニオブ（Ｎ
ｂ2Ｏ5 ）等からなり、膜厚は１５０〜５００ｎｍで用
いられる。
【００１７】本発明にかかる絶縁体層５は、酸化珪素
（ＳｉＯ2 ）、窒化シリコン（ＳｉＮ4 ）から形成さ
れ、非パターン領域に対応するようにパターニングされ
る。また、その膜厚は、好ましくは１００〜１５００ｎ
ｍに設定される。
（ＳｉＯ2 ）、窒化シリコン（ＳｉＮ4 ）から形成さ
れ、非パターン領域に対応するようにパターニングされ
る。また、その膜厚は、好ましくは１００〜１５００ｎ
ｍに設定される。
【００１８】透明電極７はパターニングされていない透
明導電膜であり、透明電極２と同じ素材を用い、好まし
くは２００〜６００ｎｍの膜厚に形成される。
明導電膜であり、透明電極２と同じ素材を用い、好まし
くは２００〜６００ｎｍの膜厚に形成される。
【００１９】本発明において、接着剤８としては、外界
の湿度の影響を受けずに表示の品位を保つ紫外線硬化型
樹脂が好ましく用いられ、例えば主材が変性アクリレー
ト、エポキシ、シリコーンであるものが用いられる。ま
た、封止基板９としては、ガラス等透明基材が好ましく
用いられる。
の湿度の影響を受けずに表示の品位を保つ紫外線硬化型
樹脂が好ましく用いられ、例えば主材が変性アクリレー
ト、エポキシ、シリコーンであるものが用いられる。ま
た、封止基板９としては、ガラス等透明基材が好ましく
用いられる。
【００２０】本発明のＥＣＤを構成する各膜形成におい
ては、公知の真空薄膜形成方法が用いられ、また、パタ
ーニングには公知のウエット又はドライエッチング法を
用いることができる。
ては、公知の真空薄膜形成方法が用いられ、また、パタ
ーニングには公知のウエット又はドライエッチング法を
用いることができる。
【００２１】
［実施例１］本発明第１の実施例として、図１に示す断
面を有する全固体型ＥＣＤを作製した。本実施例におい
ては、基板１にガラスを用い、透明電極２、７にはＩＴ
Ｏ、エレクトロクロミック層３には酸化発色性薄膜とし
て水酸化イリジウム上に水酸化イリジウムと酸化スズと
を混合した層を積層した２層タイプ、固体電界質層４に
は五酸化タンタル、絶縁体層５には酸化珪素、エレクト
ロクロミック層６には還元発色性薄膜として酸化タング
ステン、接着剤８には変性アクリレート樹脂、封止基板
１０にはガラスをそれぞれ用いた。
面を有する全固体型ＥＣＤを作製した。本実施例におい
ては、基板１にガラスを用い、透明電極２、７にはＩＴ
Ｏ、エレクトロクロミック層３には酸化発色性薄膜とし
て水酸化イリジウム上に水酸化イリジウムと酸化スズと
を混合した層を積層した２層タイプ、固体電界質層４に
は五酸化タンタル、絶縁体層５には酸化珪素、エレクト
ロクロミック層６には還元発色性薄膜として酸化タング
ステン、接着剤８には変性アクリレート樹脂、封止基板
１０にはガラスをそれぞれ用いた。
【００２２】また、各膜の厚みは、透明電極２が１５０
ｎｍ、エレクトロクロミック層３の透明電極２側の水酸
化イリジウム層が４ｎｍ、その上の水酸化イリジウムと
酸化スズとの混合層が４０ｎｍ、固体電解質層４が３０
０ｎｍ、絶縁体層５が３００ｎｍ、エレクトロクロミッ
ク層６が１０００ｎｍ、透明電極７が３００ｎｍになる
ように形成した。
ｎｍ、エレクトロクロミック層３の透明電極２側の水酸
化イリジウム層が４ｎｍ、その上の水酸化イリジウムと
酸化スズとの混合層が４０ｎｍ、固体電解質層４が３０
０ｎｍ、絶縁体層５が３００ｎｍ、エレクトロクロミッ
ク層６が１０００ｎｍ、透明電極７が３００ｎｍになる
ように形成した。
【００２３】本実施例において、パターニング形状は、
透明電極２とエレクトロクロミック層３の線幅が１００
μｍになるようにし、該パターンの存在しない領域に対
応して、１００μｍ角の矩形状に絶縁体層５をパターニ
ングした。また、全固体型ＥＣＤの封止は、封止基板９
に接着剤８を所定量滴下した後、ＥＣＤを搭載し、公知
の紫外線照射方法により硬化させた。
透明電極２とエレクトロクロミック層３の線幅が１００
μｍになるようにし、該パターンの存在しない領域に対
応して、１００μｍ角の矩形状に絶縁体層５をパターニ
ングした。また、全固体型ＥＣＤの封止は、封止基板９
に接着剤８を所定量滴下した後、ＥＣＤを搭載し、公知
の紫外線照射方法により硬化させた。
【００２４】本実施例の全固体型ＥＣＤは、不図示の電
源より透明電極７が負になるように、透明電極２、７に
電圧を加えると、透明電極２と７に挟持された部分で酸
化還元反応が起こる。この時、非パターン領域では絶縁
体層５によって電圧が遮られるため、電子及びイオンの
移動がなされず酸化還元反応が進行せず、着色しない。
よって、印加電圧を高くしても所定のパターン通りに着
色表示され、非パターン領域の着色によるにじみ等がな
く、コントラストの高い表示が得られる。
源より透明電極７が負になるように、透明電極２、７に
電圧を加えると、透明電極２と７に挟持された部分で酸
化還元反応が起こる。この時、非パターン領域では絶縁
体層５によって電圧が遮られるため、電子及びイオンの
移動がなされず酸化還元反応が進行せず、着色しない。
よって、印加電圧を高くしても所定のパターン通りに着
色表示され、非パターン領域の着色によるにじみ等がな
く、コントラストの高い表示が得られる。
【００２５】逆に、透明電極７が正になるように、透明
電極２と７に電圧を加えると、上記とは逆向きの酸化還
元反応が起きる。この時も、絶縁体層５によって電圧が
遮られるため、電子及びイオンの移動がなく、逆向きの
酸化還元反応は進行しない。よって、前記着色表示され
た部分の消色のみが進行する。
電極２と７に電圧を加えると、上記とは逆向きの酸化還
元反応が起きる。この時も、絶縁体層５によって電圧が
遮られるため、電子及びイオンの移動がなく、逆向きの
酸化還元反応は進行しない。よって、前記着色表示され
た部分の消色のみが進行する。
【００２６】本実施例においては、接着剤８及び封止基
板９でＥＣＤを封止しているため、外界の湿度の影響を
受けず、電圧印加により常に一定した酸化還元反応が進
行し、安定した着色、消色を行なうことができる。
板９でＥＣＤを封止しているため、外界の湿度の影響を
受けず、電圧印加により常に一定した酸化還元反応が進
行し、安定した着色、消色を行なうことができる。
【００２７】［実施例２］本発明第２の実施例として、
図２に示す断面を有する全固体型ＥＣＤを作製した。
尚、図中の符号は図１と同じ部位を示す。本実施例で
は、実施例１と同様に固体電解質層４を形成した後、そ
の上に実施例１と同じエレクトロクロミック層６を形成
してから、膜厚５００ｎｍの絶縁体層５を形成し、所定
の形状にウエットエッチングによりパターニングし、そ
の上に透明電極７を４００ｎｍの厚みで形成した。ま
た、接着剤８として本実施例では紫外線硬化型のエポキ
シ樹脂を使用した。これら以外は、実施例１と同様に作
製した。
図２に示す断面を有する全固体型ＥＣＤを作製した。
尚、図中の符号は図１と同じ部位を示す。本実施例で
は、実施例１と同様に固体電解質層４を形成した後、そ
の上に実施例１と同じエレクトロクロミック層６を形成
してから、膜厚５００ｎｍの絶縁体層５を形成し、所定
の形状にウエットエッチングによりパターニングし、そ
の上に透明電極７を４００ｎｍの厚みで形成した。ま
た、接着剤８として本実施例では紫外線硬化型のエポキ
シ樹脂を使用した。これら以外は、実施例１と同様に作
製した。
【００２８】本実施例の全固体型ＥＣＤの透明電極２、
７に、透明電極７が負になるように電圧を印加すると、
実施例１と同様に、所定のパターン形状に着色表示さ
れ、逆方向に電圧を印加すると、良好に消色された。ま
た、湿度等による表示の劣化もなかった。
７に、透明電極７が負になるように電圧を印加すると、
実施例１と同様に、所定のパターン形状に着色表示さ
れ、逆方向に電圧を印加すると、良好に消色された。ま
た、湿度等による表示の劣化もなかった。
【００２９】［実施例３］透明電極２上に形成するエレ
クトロクロミック層３として、酸化タングステンからな
る膜厚８００ｎｍの還元発色性薄膜を形成し、エレクト
ロクロミック層６としては、実施例１のエレクトロクロ
ミック層３（酸化発色性薄膜）を形成する以外は、実施
例１と同様にして全固体型ＥＣＤを作製した。
クトロクロミック層３として、酸化タングステンからな
る膜厚８００ｎｍの還元発色性薄膜を形成し、エレクト
ロクロミック層６としては、実施例１のエレクトロクロ
ミック層３（酸化発色性薄膜）を形成する以外は、実施
例１と同様にして全固体型ＥＣＤを作製した。
【００３０】本実施例の全固体型ＥＣＤの透明電極２、
７に、透明電極２が負になるように電圧を印加すると、
実施例１と同様に、所定のパターン形状に着色表示さ
れ、逆方向に電圧を印加すると、良好に消色された。ま
た、湿度等による表示の劣化もなかった。
７に、透明電極２が負になるように電圧を印加すると、
実施例１と同様に、所定のパターン形状に着色表示さ
れ、逆方向に電圧を印加すると、良好に消色された。ま
た、湿度等による表示の劣化もなかった。
【００３１】［実施例４］透明電極２上に形成するエレ
クトロクロミック層３として、酸化タングステンからな
る膜厚８００ｎｍの還元発色性薄膜を形成し、エレクト
ロクロミック層６としては、実施例２のエレクトロクロ
ミック層３（酸化発色性薄膜）を形成する以外は、実施
例２と同様にして全固体型ＥＣＤを作製した。
クトロクロミック層３として、酸化タングステンからな
る膜厚８００ｎｍの還元発色性薄膜を形成し、エレクト
ロクロミック層６としては、実施例２のエレクトロクロ
ミック層３（酸化発色性薄膜）を形成する以外は、実施
例２と同様にして全固体型ＥＣＤを作製した。
【００３２】本実施例の全固体型ＥＣＤの透明電極２、
７に、透明電極２が負になるように電圧を印加すると、
実施例２と同様に、所定のパターン形状に着色表示さ
れ、逆方向に電圧を印加すると、良好に消色された。ま
た、湿度等による表示の劣化もなかった。
７に、透明電極２が負になるように電圧を印加すると、
実施例２と同様に、所定のパターン形状に着色表示さ
れ、逆方向に電圧を印加すると、良好に消色された。ま
た、湿度等による表示の劣化もなかった。
【００３３】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の全固体型
ＥＣＤは、電圧を高くしてコントラストを高くしても、
着色部分と非着色部分とが明瞭に区別され、にじみのな
い鮮明な表示が実現し、特に、本発明のＥＣＤを利用し
てマトリクス駆動を行なう場合には、精細な表示を行な
うことができ、非常に有用である。
ＥＣＤは、電圧を高くしてコントラストを高くしても、
着色部分と非着色部分とが明瞭に区別され、にじみのな
い鮮明な表示が実現し、特に、本発明のＥＣＤを利用し
てマトリクス駆動を行なう場合には、精細な表示を行な
うことができ、非常に有用である。
【００３４】また、エレクトロクロミック層は多孔質膜
であるが故にエッチングにより剥離し易い。しかしなが
ら、本発明の構成では基板側のエレクトロクロミック層
のみがエッチングされるため、エッチングにおけるパタ
ーン形成で封止基板側のエレクトロクロミック層がダメ
ージを直接受けなくなるため、製造歩留が高く、量産性
が良い。
であるが故にエッチングにより剥離し易い。しかしなが
ら、本発明の構成では基板側のエレクトロクロミック層
のみがエッチングされるため、エッチングにおけるパタ
ーン形成で封止基板側のエレクトロクロミック層がダメ
ージを直接受けなくなるため、製造歩留が高く、量産性
が良い。
【００３５】さらに、本発明の全固体型ＥＣＤは、周囲
を封止することによって、外界の湿度の影響が防止さ
れ、安定した品位の高い表示を行なうことができる。
を封止することによって、外界の湿度の影響が防止さ
れ、安定した品位の高い表示を行なうことができる。
【図１】本発明の一実施形態の全固体型ＥＣＤの概略断
面図である。
面図である。
【図２】本発明第２の実施例の全固体型ＥＣＤの概略断
面図である。
面図である。
１ 基板 ２、７ 透明電極 ３、６ エレクトロクロミック層 ４ 固体電解質層 ５ 絶縁体層 ８ 接着剤 ９ 封止基板
Claims (4)
- 【請求項１】 少なくとも一対の透明電極間に、酸化発
色性薄膜、固体電界質層、絶縁体層、還元発色性薄膜を
有し、一方の透明電極が所定のパターン形状を有し、上
記絶縁体層が該透明電極に対応しない領域に対応するパ
ターン形状を有していることを特徴とする全固体型エレ
クトロクロミック素子。 - 【請求項２】 上記所定のパターン形状を有する透明電
極に接する酸化発色性薄膜或いは還元発色性薄膜が、透
明電極と同じパターン形状を有する請求項１記載の全固
体型エレクトロクロミック素子。 - 【請求項３】 上記絶縁体層が、固体電界質層と、所定
のパターン形状を持たない側の透明電極との間に位置す
る請求項１又は２記載の全固体型エレクトロクロミック
素子。 - 【請求項４】 周囲を封止基板及び接着剤により封止し
た請求項１〜３いずれかに記載の全固体型エレクトロク
ロミック素子。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8214098A JPH1039344A (ja) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | 全固体型エレクトロクロミック素子 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP8214098A JPH1039344A (ja) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | 全固体型エレクトロクロミック素子 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1039344A true JPH1039344A (ja) | 1998-02-13 |
Family
ID=16650198
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP8214098A Withdrawn JPH1039344A (ja) | 1996-07-26 | 1996-07-26 | 全固体型エレクトロクロミック素子 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH1039344A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006323191A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Hitachi Ltd | エレクトロクロミックデバイス |
| US7184191B2 (en) | 2004-10-15 | 2007-02-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display device |
| JP2015064424A (ja) * | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 凸版印刷株式会社 | エレクトロクロミック表示パネル |
| CN108519710A (zh) * | 2018-06-11 | 2018-09-11 | 赫得纳米科技(昆山)有限公司 | 一种全固态电致变色板及其制造方法 |
-
1996
- 1996-07-26 JP JP8214098A patent/JPH1039344A/ja not_active Withdrawn
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7184191B2 (en) | 2004-10-15 | 2007-02-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Display device |
| JP2006323191A (ja) * | 2005-05-19 | 2006-11-30 | Hitachi Ltd | エレクトロクロミックデバイス |
| JP2015064424A (ja) * | 2013-09-24 | 2015-04-09 | 凸版印刷株式会社 | エレクトロクロミック表示パネル |
| CN108519710A (zh) * | 2018-06-11 | 2018-09-11 | 赫得纳米科技(昆山)有限公司 | 一种全固态电致变色板及其制造方法 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20031007 |