JPH1087643A - 環状アミンにより置換されたフェニルアルキルケトンおよび該化合物の製造方法 - Google Patents
環状アミンにより置換されたフェニルアルキルケトンおよび該化合物の製造方法Info
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- JPH1087643A JPH1087643A JP9127945A JP12794597A JPH1087643A JP H1087643 A JPH1087643 A JP H1087643A JP 9127945 A JP9127945 A JP 9127945A JP 12794597 A JP12794597 A JP 12794597A JP H1087643 A JPH1087643 A JP H1087643A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 環状アミンにより置換されたフェニルアルキ
ルケトンおよび該化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】 次式（Ｉ） 【化１】 で表される化合物例えば１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン、および次式（ＩＩ） 【化２】 で表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン例えば１−
（４−ブロモフェニル）ブタン−１−オンを、次式（Ｉ
ＩＩ） 【化３】 で表される環状アミン例えばモルフォリンと水中でアミ
ノリシスすることからなる式（Ｉ）で表される化合物の
製造方法。
ルケトンおよび該化合物の製造方法を提供する。 【解決手段】 次式（Ｉ） 【化１】 で表される化合物例えば１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オン、および次式（ＩＩ） 【化２】 で表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン例えば１−
（４−ブロモフェニル）ブタン−１−オンを、次式（Ｉ
ＩＩ） 【化３】 で表される環状アミン例えばモルフォリンと水中でアミ
ノリシスすることからなる式（Ｉ）で表される化合物の
製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は環状アミンによって
置換された新規フェニルアルキルケトン、その新規製造
の方法、エチレン性不飽和化合物の光重合のための光開
始剤を製造するためのそれらの利用、およびそのような
光開始剤からなる光重合組成物に関する。
置換された新規フェニルアルキルケトン、その新規製造
の方法、エチレン性不飽和化合物の光重合のための光開
始剤を製造するためのそれらの利用、およびそのような
光開始剤からなる光重合組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】ＥＰ−Ｂ−０２８４５６１は光開始剤と
して用いられるα−アミノアセトフェノンを開示してい
る。これらの化合物類は、芳香族アミンの場合、常にｐ
−フルオロフェニルアルキレン−１−オンの誘導体から
出発し、合成の最終段階においてｐ位に存在するフッ素
原子がアミノ基と置換されるという一連の方法により製
造される。該置換は炭酸カリウムの存在下でジメチルホ
ルムアミドまたはジメチルスルホキシドのような有機溶
媒中で実施される。
して用いられるα−アミノアセトフェノンを開示してい
る。これらの化合物類は、芳香族アミンの場合、常にｐ
−フルオロフェニルアルキレン−１−オンの誘導体から
出発し、合成の最終段階においてｐ位に存在するフッ素
原子がアミノ基と置換されるという一連の方法により製
造される。該置換は炭酸カリウムの存在下でジメチルホ
ルムアミドまたはジメチルスルホキシドのような有機溶
媒中で実施される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】本発明の１つの目的
は、なかんずく、一方で環境的に問題があり望ましくな
い廃棄物処理が必要となる理由、および相対的に高い反
応性のためにアミンに対して敏感であるという理由のた
めにフッ素化芳香族の使用を避ける反応を開発するこ
と、および他方では有機溶媒中での反応が例えば低純度
生成物や低収率のような副生成物によって多かれ少なか
れ黒色の生成物をもたらす理由のために有機溶媒の使用
を逃れることにある。
は、なかんずく、一方で環境的に問題があり望ましくな
い廃棄物処理が必要となる理由、および相対的に高い反
応性のためにアミンに対して敏感であるという理由のた
めにフッ素化芳香族の使用を避ける反応を開発するこ
と、および他方では有機溶媒中での反応が例えば低純度
生成物や低収率のような副生成物によって多かれ少なか
れ黒色の生成物をもたらす理由のために有機溶媒の使用
を逃れることにある。
【０００４】ｐ−位にハロゲン原子を含有するフェニル
アルキルケトンにおいて、フェニル核中のハロゲン原
子、特にフッ素原子または塩素原子がアミン基によって
置換される文献記載の既知の方法は： ａ）有機溶媒中［例えばＥＰ−Ｂ−０１３８７５４によ
るジメチルスルホキシド中での１−（４−フルオロフェ
ニル）−２−メチルプロパン−１−オンとピペリジンの
反応、ＣＨ ２００３６５による触媒としての銅粉末存
在下におけるエタノール中でのｐ−クロロステアロフェ
ノンとジメチルアミンとの反応、Ｔ．Ｉｂａｔａ，Ｙ．
Ｉｓｏｇａｍｉ，Ｊ．Ｔｏｙｏｄａ，Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．６４（１）４２−４９（１９９
１）による超高圧（７．２ｋｂａｒ）を用いたテトラヒ
ドロフラン中でのクロロアセトフェノンとピロリジンの
反応、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．３１（７），２３１９−
２１（１９６６）によるジメチルホルムアミドまたはジ
メチルスルホキシド中での、１−（４−フルオロフェニ
ル）プロパン−１−オンとピペリジンのようなアリサイ
クリックアミンとの反応。］で実施されるか、または ｂ）溶媒無し［例えばＢ．Ｇ．Ｋｒｅｓｚｅ ａｎｄ
Ｈ．Ｇｏｅｔｚ，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒｃｈｔｅ ９０，２
１６１，２１７４（１９５７）による収率１９％の１−
（４−ピペリジノフェニル）エタノンをもたらすｐ−ブ
ロモアセトフェノンとピペリジンの還流下での反応、 ｃ）水中［例えばＴ．Ｌｕｎｄｓｔｅｄｔ，Ｐ．Ｔｈｏ
ｒｅｎ，Ｒ．Ｃａｒｌｓｏｎ，Ａｃｔａ Ｃｈｅｍｉｃ
ａ Ｓｃａｎｄ．Ｂ３８，１９８４ Ｎｏ．８ Ｓ．７
１７−７１９による加圧下で水中でのｐ−クロロアセト
フェノンのジメチルアミンとの反応、ＵＳ−Ａ−１９４
６０５８による触媒としての銅酸化物の存在下における
水中で加圧下でのｐ−クロロアセトフェノンのアンモニ
ア水溶液との反応、ＪＰ ７８−４０４０４による水中
で加圧下で触媒としての銅粉末存在下でのｐ−クロロア
セトフェノンのモノまたはジアルキルアミンとの反応
（一方では爆発が起こり、他方では収率が８０％に満た
ない反応）。］で実施される。
アルキルケトンにおいて、フェニル核中のハロゲン原
子、特にフッ素原子または塩素原子がアミン基によって
置換される文献記載の既知の方法は： ａ）有機溶媒中［例えばＥＰ−Ｂ−０１３８７５４によ
るジメチルスルホキシド中での１−（４−フルオロフェ
ニル）−２−メチルプロパン−１−オンとピペリジンの
反応、ＣＨ ２００３６５による触媒としての銅粉末存
在下におけるエタノール中でのｐ−クロロステアロフェ
ノンとジメチルアミンとの反応、Ｔ．Ｉｂａｔａ，Ｙ．
Ｉｓｏｇａｍｉ，Ｊ．Ｔｏｙｏｄａ，Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．６４（１）４２−４９（１９９
１）による超高圧（７．２ｋｂａｒ）を用いたテトラヒ
ドロフラン中でのクロロアセトフェノンとピロリジンの
反応、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．３１（７），２３１９−
２１（１９６６）によるジメチルホルムアミドまたはジ
メチルスルホキシド中での、１−（４−フルオロフェニ
ル）プロパン−１−オンとピペリジンのようなアリサイ
クリックアミンとの反応。］で実施されるか、または ｂ）溶媒無し［例えばＢ．Ｇ．Ｋｒｅｓｚｅ ａｎｄ
Ｈ．Ｇｏｅｔｚ，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒｃｈｔｅ ９０，２
１６１，２１７４（１９５７）による収率１９％の１−
（４−ピペリジノフェニル）エタノンをもたらすｐ−ブ
ロモアセトフェノンとピペリジンの還流下での反応、 ｃ）水中［例えばＴ．Ｌｕｎｄｓｔｅｄｔ，Ｐ．Ｔｈｏ
ｒｅｎ，Ｒ．Ｃａｒｌｓｏｎ，Ａｃｔａ Ｃｈｅｍｉｃ
ａ Ｓｃａｎｄ．Ｂ３８，１９８４ Ｎｏ．８ Ｓ．７
１７−７１９による加圧下で水中でのｐ−クロロアセト
フェノンのジメチルアミンとの反応、ＵＳ−Ａ−１９４
６０５８による触媒としての銅酸化物の存在下における
水中で加圧下でのｐ−クロロアセトフェノンのアンモニ
ア水溶液との反応、ＪＰ ７８−４０４０４による水中
で加圧下で触媒としての銅粉末存在下でのｐ−クロロア
セトフェノンのモノまたはジアルキルアミンとの反応
（一方では爆発が起こり、他方では収率が８０％に満た
ない反応）。］で実施される。
【０００５】驚くべきことに、現在では特殊な条件下に
おけるｐ−ハロフェニルアルキルケトン、特に相当する
ｐ−ブロモ化合物およびｐ−クロロ化合物とアミン、特
に環状アミンとの水中での反応は非常に選択的におよび
よく進行し高い収率を与える反応であることが明らかに
なった。
おけるｐ−ハロフェニルアルキルケトン、特に相当する
ｐ−ブロモ化合物およびｐ−クロロ化合物とアミン、特
に環状アミンとの水中での反応は非常に選択的におよび
よく進行し高い収率を与える反応であることが明らかに
なった。
【０００６】環状アミンによってフェニル核のｐ−位が
置換されおよびさらにケト基のα位に遊離メチレン基を
持つようなわずかなフェニルアルキルケトンが知られて
いる；参考文献はなかんずく、ＥＰ−Ｂ−０１３８７５
４［２−メチル−１（４−ピペリジノフェニル）プロパ
ン−１−オン］；ＣＨ ２００３６５［ｐ−ジメチルア
ミノステアロフォン（ここで記述されるジメチルアミノ
基は具体的な例は与えられていないがピペリジンとも置
換されてもよいとされる）］；Ｇ．Ｋｒｅｓｚｅ ａｎ
ｄ Ｈ．Ｇｏｅｔｚ，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ９
０，２１６１，２１７４（１９５７）［１−（４−ピペ
リジノフェニル）エタノン］；Ｔ．Ｉｂａｔａ，Ｙ．Ｉ
ｓｏｇａｍｉ，Ｊ．Ｔｏｙｏｄａ，Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．６４（１），４２−４９（１９９
１）［１−（４−ピロリドン）アセトフェノン］；およ
びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．３１（７），２３１９−２１
（１９６６），［１−（４−ピペリジノフェニル）プロ
パン−１−オン］で与えられる。
置換されおよびさらにケト基のα位に遊離メチレン基を
持つようなわずかなフェニルアルキルケトンが知られて
いる；参考文献はなかんずく、ＥＰ−Ｂ−０１３８７５
４［２−メチル−１（４−ピペリジノフェニル）プロパ
ン−１−オン］；ＣＨ ２００３６５［ｐ−ジメチルア
ミノステアロフォン（ここで記述されるジメチルアミノ
基は具体的な例は与えられていないがピペリジンとも置
換されてもよいとされる）］；Ｇ．Ｋｒｅｓｚｅ ａｎ
ｄ Ｈ．Ｇｏｅｔｚ，Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒｉｃｈｔｅ ９
０，２１６１，２１７４（１９５７）［１−（４−ピペ
リジノフェニル）エタノン］；Ｔ．Ｉｂａｔａ，Ｙ．Ｉ
ｓｏｇａｍｉ，Ｊ．Ｔｏｙｏｄａ，Ｂｕｌｌ．Ｃｈｅ
ｍ．Ｓｏｃ．Ｊｐｎ．６４（１），４２−４９（１９９
１）［１−（４−ピロリドン）アセトフェノン］；およ
びＪ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．３１（７），２３１９−２１
（１９６６），［１−（４−ピペリジノフェニル）プロ
パン−１−オン］で与えられる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明と同時に与えられ
た問題への解決は、なかんずく、特殊な光開始剤を製造
するための新規中間体として使用することのできるｐ位
が環状アミンによって置換されている新規フェニルアル
キルケトン、およびこの中間体の製造のための新規な方
法に関する。環状アミンによってｐ置換された新規フェ
ニルアルキルケトンは次式Ｉ
た問題への解決は、なかんずく、特殊な光開始剤を製造
するための新規中間体として使用することのできるｐ位
が環状アミンによって置換されている新規フェニルアル
キルケトン、およびこの中間体の製造のための新規な方
法に関する。環状アミンによってｐ置換された新規フェ
ニルアルキルケトンは次式Ｉ
【化１８】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個またはそれ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置
換された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表
し、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置換さ
れた炭素原子数２ないし２０のアルキル基を表し、Ｒ4
は水素原子、直鎖のまたは分岐した炭素原子数１ないし
３のアルキル基、直鎖のまたは分岐した炭素原子数３な
いし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアル
キル基またはフェニル基を表すか、Ｒ1 およびＲ2 が一
緒になって未置換のテトラメチレン基を表す場合には、
Ｒ3は未置換の炭素原子数６のアルキル基を表す。］で
表される化合物である。
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置
換された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表
し、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置換さ
れた炭素原子数２ないし２０のアルキル基を表し、Ｒ4
は水素原子、直鎖のまたは分岐した炭素原子数１ないし
３のアルキル基、直鎖のまたは分岐した炭素原子数３な
いし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアル
キル基またはフェニル基を表すか、Ｒ1 およびＲ2 が一
緒になって未置換のテトラメチレン基を表す場合には、
Ｒ3は未置換の炭素原子数６のアルキル基を表す。］で
表される化合物である。
【０００８】Ｒ1 およびＲ2 が一緒になって炭素原子数
３ないし２０のアルキレン基を表す場合には、該基は窒
素原子に結合するのために複素環系となる。該Ｎ−複素
環系は−Ｏ−、−Ｓ−および／または−Ｎ（Ｒ4 ）基の
ような１個またはそれ以上のさらなるヘテロ原子によっ
て中断されれてもよくおよび１回または数回にわたりさ
らに置換されてもよい。
３ないし２０のアルキレン基を表す場合には、該基は窒
素原子に結合するのために複素環系となる。該Ｎ−複素
環系は−Ｏ−、−Ｓ−および／または−Ｎ（Ｒ4 ）基の
ような１個またはそれ以上のさらなるヘテロ原子によっ
て中断されれてもよくおよび１回または数回にわたりさ
らに置換されてもよい。
【０００９】適した炭素原子数３ないし２０のアルキレ
ン基は、直鎖のおよび分岐したアルキレン基並びに例え
ば水酸基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ヒド
ロキシメチル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシメ
チル基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
基またはフェニル基で置換されてもよい置換体であるで
ある。
ン基は、直鎖のおよび分岐したアルキレン基並びに例え
ば水酸基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、ヒド
ロキシメチル基、炭素原子数１ないし４のアルコキシメ
チル基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）
基またはフェニル基で置換されてもよい置換体であるで
ある。
【００１０】直鎖のまたは分岐した炭素原子数３ないし
２０のアルキレン基は代表的にはトリ、テトラ、ペン
タ、ヘキサ、ヘプタ、オクタ、デカ、ドデカまたはオク
タデカメチレン並びに２，２−ジメチルトリメチレンま
たは１，３，３−トリメチルテトラメチレンである。
２０のアルキレン基は代表的にはトリ、テトラ、ペン
タ、ヘキサ、ヘプタ、オクタ、デカ、ドデカまたはオク
タデカメチレン並びに２，２−ジメチルトリメチレンま
たは１，３，３−トリメチルテトラメチレンである。
【００１１】酸素原子、硫黄原子または−Ｎ（Ｒ4 ）−
によって中断されている炭素原子数３ないし２０のアル
キレン基は１回または数回にわたり中断されることがで
き、代表的には、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3 ）−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ3 ）
−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2
−）2 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −
（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）3 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）4 −Ｏ−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −Ｃ
Ｈ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）2 −ＮＨ
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −
ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）2 −ＮＨ−（ＣＨ2
−ＣＨ2 −Ｏ−）2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −Ｃ
Ｈ2 −Ｓ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｎ（ＣＨ3 ）
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2 −ＮＨ
−ＣＨ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｎ
Ｈ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −
（ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2
−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −（ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）4
−ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −または−ＣＨ2 −ＣＨ2 −
ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2
−ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −である。
によって中断されている炭素原子数３ないし２０のアル
キレン基は１回または数回にわたり中断されることがで
き、代表的には、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ
2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ（ＣＨ3 ）−Ｏ−ＣＨ（ＣＨ3 ）
−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2
−）2 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −
（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）3 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）4 −Ｏ−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −Ｃ
Ｈ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）2 −ＮＨ
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −
ＣＨ2 −（Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）2 −ＮＨ−（ＣＨ2
−ＣＨ2 −Ｏ−）2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −Ｃ
Ｈ2 −Ｓ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｎ（ＣＨ3 ）
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2 −ＮＨ
−ＣＨ（ＣＨ3 ）−ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −Ｎ
Ｈ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −
（ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2
−、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −（ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −）4
−ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −、−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−
ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ
−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −または−ＣＨ2 −ＣＨ2 −
ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2
−ＣＨ2 −ＮＨ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＣＨ2 −である。
【００１２】Ｒ1 およびＲ2 はそれらが結合している窒
素原子と一緒になって代表的には下記の複素環基を表
す。
素原子と一緒になって代表的には下記の複素環基を表
す。
【化１９】
【００１３】６員環系複素環基は次式で表される６位が
置換されていなくてもよい。
置換されていなくてもよい。
【化２０】
【００１４】６員環系、とりわけモルフォリノ基が好ま
しい。
しい。
【００１５】Ｒ3 は直鎖のまたは分岐してよい未置換の
または置換された炭素原子数２ないし２０のアルキル基
と定義される。その説明的な例は下記のアルキル基であ
る；エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、第２
ブチル基、イソブチル基、第３ブチル基、２−エチルブ
チル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，
３−ジメチルブチル基、１−メチルヘキシル基、イソヘ
プチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、
２，２，４，４−テトラメチルブチル基、１−メチルヘ
プチル基、３−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル
基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，
３−テトラメチルペンチル基、イソデシル基、１−メチ
ルウンデシル基または１，１，３，３，５，５−ヘキサ
メチルヘキシル基。
または置換された炭素原子数２ないし２０のアルキル基
と定義される。その説明的な例は下記のアルキル基であ
る；エチル基、プロピル基、ｎ−ブチル基、ペンチル
基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、
デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、
テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基、ヘ
プタデシル基、オクタデシル基、イソプロピル基、第２
ブチル基、イソブチル基、第３ブチル基、２−エチルブ
チル基、イソペンチル基、１−メチルペンチル基、１，
３−ジメチルブチル基、１−メチルヘキシル基、イソヘ
プチル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、
２，２，４，４−テトラメチルブチル基、１−メチルヘ
プチル基、３−メチルヘプチル基、２−エチルヘキシル
基、１，１，３−トリメチルヘキシル基、１，１，３，
３−テトラメチルペンチル基、イソデシル基、１−メチ
ルウンデシル基または１，１，３，３，５，５−ヘキサ
メチルヘキシル基。
【００１６】これらの炭素原子数２ないし２０のアルキ
ル基は、例えばシクロヘキシル基、フェニル基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基またはフェノキシ基によ
って１回または数回にわたってさらに置換されてもよ
い。
ル基は、例えばシクロヘキシル基、フェニル基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基またはフェノキシ基によ
って１回または数回にわたってさらに置換されてもよ
い。
【００１７】この場合、Ｒ3 基は代表的には：２−メト
キシエチル基、３−ブトキシプロピル基、２−イソプロ
ポキシエチル基、４−フェニノキシブチル基、２−フェ
ニルエチル基または３−フェニルプロピル基である。
キシエチル基、３−ブトキシプロピル基、２−イソプロ
ポキシエチル基、４−フェニノキシブチル基、２−フェ
ニルエチル基または３−フェニルプロピル基である。
【００１８】特に好ましいアルキル基Ｒ3 は２ないし１
０個の炭素原子を含有する、好ましくは２ないし７個の
炭素原子を含有する、特に好ましくはエチルまたはプロ
ピルのように２ないし５個の炭素原子を含有する未置換
の直鎖または分岐したアルキル基である。
０個の炭素原子を含有する、好ましくは２ないし７個の
炭素原子を含有する、特に好ましくはエチルまたはプロ
ピルのように２ないし５個の炭素原子を含有する未置換
の直鎖または分岐したアルキル基である。
【００１９】炭素原子数１ないし３のアルキル基と定義
されるＲ4 は直鎖または分岐してよく代表的にはメチル
基、エチル基、ｎ−およびイソプロピル基である。
されるＲ4 は直鎖または分岐してよく代表的にはメチル
基、エチル基、ｎ−およびイソプロピル基である。
【００２０】炭素原子数３ないし５のアルケニル基と定
義されるＲ4 は直鎖または分岐したアルケニル基、代表
的にはプロペニル基またはアリル基、２−ブテニル基、
３−ブテニル基およびイソブテニル基のようなブテニル
基並びにｎ−２，４−ペンタジエニル基のようなペンテ
ニル基である。
義されるＲ4 は直鎖または分岐したアルケニル基、代表
的にはプロペニル基またはアリル基、２−ブテニル基、
３−ブテニル基およびイソブテニル基のようなブテニル
基並びにｎ−２，４−ペンタジエニル基のようなペンテ
ニル基である。
【００２１】炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基と定義されるＲ4 は代表的にはベンジル基、α−メチ
ルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基または２−
フェニルエチル基である。
基と定義されるＲ4 は代表的にはベンジル基、α−メチ
ルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基または２−
フェニルエチル基である。
【００２２】炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキ
ル基と定義されるＲ4 は代表的には２−ヒドロキシエチ
ル基、２−ヒドロキシプロピル基または２−ヒドロキシ
イソブチル基である。
ル基と定義されるＲ4 は代表的には２−ヒドロキシエチ
ル基、２−ヒドロキシプロピル基または２−ヒドロキシ
イソブチル基である。
【００２３】式Ｉで表される好ましい化合物中で、Ｒ4
は水素原子、炭素原子数１ないし３のアルキル基、アリ
ル基、ベンジル基または炭素原子数２ないし３のヒドロ
キシアルキル基および、好ましくは水素原子またはメチ
ル基である。
は水素原子、炭素原子数１ないし３のアルキル基、アリ
ル基、ベンジル基または炭素原子数２ないし３のヒドロ
キシアルキル基および、好ましくは水素原子またはメチ
ル基である。
【００２４】好ましい化合物は式Ｉ［式中、Ｒ1 および
Ｒ2 は一緒になって未置換のまたは水酸基、炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基、ヒドロキシメチル基、炭素
原子数１ないし４のアルコキシメチル基、−ＣＯＯ（炭
素原子数１ないし４のアルキル）基またはフェニル基に
よって置換されたおよび１個またはそれ以上の−Ｏ−、
−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されてもよい
炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表し、Ｒ3 は
未置換のまたは、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、フェノキシ基、シクロヘキシル基またはフェニル基
によって置換された炭素原子数２ないし２０のアルキル
基を表し、およびＲ4 は水素原子、炭素原子数１ないし
３のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル
基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素
原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基またはフェニ
ル基を表す。］で表される化合物で、特に［式中、Ｒ1
およびＲ2 は一緒になって１個の−Ｏ−、−Ｓ−または
−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されてよい直鎖のまたは分
岐した炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表し、
Ｒ3 は炭素原子数２ないし１０のアルキル基を表し、お
よびＲ4 は水素原子、炭素原子数１ないし３のアルキル
基、アリル基、ベンジル基または炭素原子数２ないし３
のヒドロキシアルキル基を表す。］で表される化合物ま
たは、［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個の−
Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されて
よい６員環を形成する直鎖のまたは分岐した炭素原子数
４ないし８のアルキレン基を表し、Ｒ3 は炭素原子数２
ないし７のアルキル基を表し、およびＲ4 は水素原子ま
たはメチル基を表す。］で表される化合物、および好ま
しくは［式中、Ｒ1 およびＲ2 はそれらが結合した窒素
原子とともにさらに１個の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ
（Ｒ4 ）基によって中断されてよい６員環を表す。］で
表される化合物または、［式中、Ｒ1 およびＲ2 はそれ
らが結合した窒素原子とともにモルフォリニル基、ジメ
チルモルフォリニル基、ピペラジニル基、Ｎ−メチルピ
ペラジニル基または２，５−ジメチルピペラジニル基、
特にＲ1 およびＲ2 はそれらが結合している窒素原子と
一緒になってモルフォリニルラジカルを表す。］で表さ
れる化合物である。
Ｒ2 は一緒になって未置換のまたは水酸基、炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基、ヒドロキシメチル基、炭素
原子数１ないし４のアルコキシメチル基、−ＣＯＯ（炭
素原子数１ないし４のアルキル）基またはフェニル基に
よって置換されたおよび１個またはそれ以上の−Ｏ−、
−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されてもよい
炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表し、Ｒ3 は
未置換のまたは、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、フェノキシ基、シクロヘキシル基またはフェニル基
によって置換された炭素原子数２ないし２０のアルキル
基を表し、およびＲ4 は水素原子、炭素原子数１ないし
３のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル
基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素
原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基またはフェニ
ル基を表す。］で表される化合物で、特に［式中、Ｒ1
およびＲ2 は一緒になって１個の−Ｏ−、−Ｓ−または
−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されてよい直鎖のまたは分
岐した炭素原子数４ないし１２のアルキレン基を表し、
Ｒ3 は炭素原子数２ないし１０のアルキル基を表し、お
よびＲ4 は水素原子、炭素原子数１ないし３のアルキル
基、アリル基、ベンジル基または炭素原子数２ないし３
のヒドロキシアルキル基を表す。］で表される化合物ま
たは、［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個の−
Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されて
よい６員環を形成する直鎖のまたは分岐した炭素原子数
４ないし８のアルキレン基を表し、Ｒ3 は炭素原子数２
ないし７のアルキル基を表し、およびＲ4 は水素原子ま
たはメチル基を表す。］で表される化合物、および好ま
しくは［式中、Ｒ1 およびＲ2 はそれらが結合した窒素
原子とともにさらに１個の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ
（Ｒ4 ）基によって中断されてよい６員環を表す。］で
表される化合物または、［式中、Ｒ1 およびＲ2 はそれ
らが結合した窒素原子とともにモルフォリニル基、ジメ
チルモルフォリニル基、ピペラジニル基、Ｎ−メチルピ
ペラジニル基または２，５−ジメチルピペラジニル基、
特にＲ1 およびＲ2 はそれらが結合している窒素原子と
一緒になってモルフォリニルラジカルを表す。］で表さ
れる化合物である。
【００２５】次式Ｉで表される化合物の製造は本発明に
関した異なった方面からの新規な方法により行われる。
次式Ｉ
関した異なった方面からの新規な方法により行われる。
次式Ｉ
【化２１】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個またはそれ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置
換された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表
し、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置換さ
れた炭素原子数２ないし２０のアルキル基を表し、Ｒ4
は水素原子、直鎖のまたは分岐した炭素原子数１ないし
３のアルキル基、直鎖のまたは分岐した炭素原子数３な
いし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアル
キル基またはフェニル基を表す。］で表される化合物の
製造の新規な方法は、次式ＩＩ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置
換された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表
し、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置換さ
れた炭素原子数２ないし２０のアルキル基を表し、Ｒ4
は水素原子、直鎖のまたは分岐した炭素原子数１ないし
３のアルキル基、直鎖のまたは分岐した炭素原子数３な
いし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニ
ルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアル
キル基またはフェニル基を表す。］で表される化合物の
製造の新規な方法は、次式ＩＩ
【化２２】 で表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトンを次式ＩＩ
Ｉ
Ｉ
【化２３】 で表される環状アミン［各式中、Ｘはハロゲン原子を表
しおよびＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 は式Ｉの定義と同じであ
る。］と水中で少なくとも１３０℃の温度でアミノリシ
スすることからなる。
しおよびＲ1 、Ｒ2 およびＲ3 は式Ｉの定義と同じであ
る。］と水中で少なくとも１３０℃の温度でアミノリシ
スすることからなる。
【００２６】式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキ
ルケトンは好ましくはＸが臭素原子および塩素原子を表
すものである。
ルケトンは好ましくはＸが臭素原子および塩素原子を表
すものである。
【００２７】式ＩＩＩで表される環状アミンは、好まし
くは式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン
に基づいて過剰に存在する。この過剰量は好ましくは約
２．５ないし２０モル当量、より好ましくは２．５ない
し１２モル当量である。
くは式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン
に基づいて過剰に存在する。この過剰量は好ましくは約
２．５ないし２０モル当量、より好ましくは２．５ない
し１２モル当量である。
【００２８】水は式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルア
ルキルケトン１モル当量に基づいて、約１ないし１００
モル当量、好ましくは２ないし２０モル当量およびより
好ましくは２．５ないし１０モル当量の量で存在する。
しかしながら大量の水もまた致命的ではない。
ルキルケトン１モル当量に基づいて、約１ないし１００
モル当量、好ましくは２ないし２０モル当量およびより
好ましくは２．５ないし１０モル当量の量で存在する。
しかしながら大量の水もまた致命的ではない。
【００２９】反応は都合よく加圧下（３ないし３０ｂａ
ｒ）で加圧反応器、好ましくはスクリュー攪拌器、圧力
計および熱電対を装備した鋼鉄製高圧反応器中で実施さ
れる。しかしながら加圧反応器なしに還流下（１０５℃
ないし１１０℃の温度）で反応を実施することもまた可
能である。
ｒ）で加圧反応器、好ましくはスクリュー攪拌器、圧力
計および熱電対を装備した鋼鉄製高圧反応器中で実施さ
れる。しかしながら加圧反応器なしに還流下（１０５℃
ないし１１０℃の温度）で反応を実施することもまた可
能である。
【００３０】温度は都合よく１４０℃ないし２４０℃の
温度、好ましくは１５０℃ないし２３０℃の温度範囲で
ある。式ＩＩで表されるｐ−ブロモフェニルアルキルケ
トンとの反応時は、温度は１４０℃ないし２００℃、好
ましくは１６０℃ないし１８０℃の温度範囲でありおよ
び式ＩＩで表されるｐ−クロロフェニルアルキルケトン
との反応時は、温度は１８０℃ないし２４０℃、好まし
くは２００℃ないし２３０℃の温度範囲である。
温度、好ましくは１５０℃ないし２３０℃の温度範囲で
ある。式ＩＩで表されるｐ−ブロモフェニルアルキルケ
トンとの反応時は、温度は１４０℃ないし２００℃、好
ましくは１６０℃ないし１８０℃の温度範囲でありおよ
び式ＩＩで表されるｐ−クロロフェニルアルキルケトン
との反応時は、温度は１８０℃ないし２４０℃、好まし
くは２００℃ないし２３０℃の温度範囲である。
【００３１】触媒は、強制ではないが添加されてもよ
い。それらは確かな範囲で反応を促進するけれども、触
媒無しでの反応は環境的問題を減じおよび添加する重金
属の重要性を減ずるという利点を示す。
い。それらは確かな範囲で反応を促進するけれども、触
媒無しでの反応は環境的問題を減じおよび添加する重金
属の重要性を減ずるという利点を示す。
【００３２】適した触媒は特に：代表的には塩化銅
（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ
Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、炭酸銅、硫酸銅（ＩＩ）、酸化
銅および銅粉末または酢酸ニッケル、酸化ニッケル、塩
化ニッケルおよび臭化ニッケルのような銅化合物または
ニッケル化合物またはそれらの塩である。
（Ｉ）、臭化銅（Ｉ）、ヨウ化銅（Ｉ）、臭化銅（Ｉ
Ｉ）、塩化銅（ＩＩ）、炭酸銅、硫酸銅（ＩＩ）、酸化
銅および銅粉末または酢酸ニッケル、酸化ニッケル、塩
化ニッケルおよび臭化ニッケルのような銅化合物または
ニッケル化合物またはそれらの塩である。
【００３３】これらの触媒は式ＩＩで表されるｐ−ハロ
フェニルアルキルケトンの重量％に基づいて０．１ない
し１５重量％、好ましくは０．５ないし５重量％の量で
使用される。
フェニルアルキルケトンの重量％に基づいて０．１ない
し１５重量％、好ましくは０．５ないし５重量％の量で
使用される。
【００３４】他の溶媒は原則的には反応を実施するため
に必要とされない、しかし付加的に用いられてもよい。
都合の良い溶媒は、代表的にはジエチレングリコール、
ジエチレングリコールモノメチルエ−テル、ジエチレン
グリドルジメチルエ−テル、ベンジルアルコール、フェ
ニルエチルアルコ−ルまたはフェノキシエタノールのよ
うな高沸点および極性を持つ溶媒であることが判明して
いる。
に必要とされない、しかし付加的に用いられてもよい。
都合の良い溶媒は、代表的にはジエチレングリコール、
ジエチレングリコールモノメチルエ−テル、ジエチレン
グリドルジメチルエ−テル、ベンジルアルコール、フェ
ニルエチルアルコ−ルまたはフェノキシエタノールのよ
うな高沸点および極性を持つ溶媒であることが判明して
いる。
【００３５】式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキ
ルケトンと式ＩＩＩで表される環状アミンとの反応は好
ましくは ａ）式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン
が水および環状アミンとともに反応容器中に入れられお
よび最終温度まで素早く加熱される方法、または ｂ）式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン
が水および環状アミンとともに反応容器中に入れられ最
終温度まで反応中数時間以上にわたり徐々に加熱される
方法、または ｃ）式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン
が反応中、好ましくは溶解した状態で反応温度まで予め
加熱させられた水および環状アミンへ添加される方法で
実施される。この方法の変化は特に超高温での自己触媒
分解の危険を減ずるまたは排除する。例えば反応容器中
に全ての成分を入れおよび式ＩＩで表されるｐ−ブロモ
フェニルアルキルケトンを約１４０℃ないし１９０℃の
温度範囲で数時間にわたり添加し、温度は徐々に約３な
いし１２時間にわたり低温から高温レベルへ昇温される
方法、または式ＩＩで表されるｐ−クロロフェニルアル
キルケトンを約１８０℃ないし２３０℃の温度範囲で数
時間にわたり添加し、温度は徐々に約３ないし１２時間
にわたり低温から高温レベルへ昇温される方法により実
施することができる。
ルケトンと式ＩＩＩで表される環状アミンとの反応は好
ましくは ａ）式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン
が水および環状アミンとともに反応容器中に入れられお
よび最終温度まで素早く加熱される方法、または ｂ）式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン
が水および環状アミンとともに反応容器中に入れられ最
終温度まで反応中数時間以上にわたり徐々に加熱される
方法、または ｃ）式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトン
が反応中、好ましくは溶解した状態で反応温度まで予め
加熱させられた水および環状アミンへ添加される方法で
実施される。この方法の変化は特に超高温での自己触媒
分解の危険を減ずるまたは排除する。例えば反応容器中
に全ての成分を入れおよび式ＩＩで表されるｐ−ブロモ
フェニルアルキルケトンを約１４０℃ないし１９０℃の
温度範囲で数時間にわたり添加し、温度は徐々に約３な
いし１２時間にわたり低温から高温レベルへ昇温される
方法、または式ＩＩで表されるｐ−クロロフェニルアル
キルケトンを約１８０℃ないし２３０℃の温度範囲で数
時間にわたり添加し、温度は徐々に約３ないし１２時間
にわたり低温から高温レベルへ昇温される方法により実
施することができる。
【００３６】安全の理由のためにｐ−ハロフェニルアル
キルケトンの堆積は適宜に調節される。
キルケトンの堆積は適宜に調節される。
【００３７】好ましい工程の方法は代表的には、式ＩＩ
で表されるｐ−ブロモフェニルアルキルケトン１部（以
下の”部”はモル量に基づく）またはｐ−クロロフェニ
ルアルキルケトン１部［式中、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐
した未置換の炭素原子数２ないし７のアルキル基を表
す。］、式ＩＩＩで表される環状アミン５部［式中、Ｒ
1 およびＲ2 は一緒になって１個の−Ｏ−、−Ｓ−また
は−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されてもよい炭素原子数
４ないし６のアルキレン基を表し、Ｒ4 は水素原子また
はメチル基を表す。］および水５部を反応容器中に入れ
および該混合物を加圧下で約１６０℃ないし１８０℃の
温度または２００℃ないし２３０℃の温度で反応させる
ことからなる、または式ＩＩＩで表される環状アミン１
０ないし２０部［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって
１個の−Ｏ−、−Ｓ−、または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって
中断されてもよい炭素原子数４ないし６のアルキレン基
を表しおよび、Ｒ4 は水素原子またはメチル基を表
す。］と水２０ないし４０部を反応容器中に入れ、式Ｉ
Ｉで表されるｐ−クロロフェニルアルキルケトン２ない
し４部［式中、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換の炭
素原子数２ないし７のアルキル基を表す。］を添加し、
および該混合物を加圧下で２１０℃ないし２３０℃の温
度で反応させることである。
で表されるｐ−ブロモフェニルアルキルケトン１部（以
下の”部”はモル量に基づく）またはｐ−クロロフェニ
ルアルキルケトン１部［式中、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐
した未置換の炭素原子数２ないし７のアルキル基を表
す。］、式ＩＩＩで表される環状アミン５部［式中、Ｒ
1 およびＲ2 は一緒になって１個の−Ｏ−、−Ｓ−また
は−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されてもよい炭素原子数
４ないし６のアルキレン基を表し、Ｒ4 は水素原子また
はメチル基を表す。］および水５部を反応容器中に入れ
および該混合物を加圧下で約１６０℃ないし１８０℃の
温度または２００℃ないし２３０℃の温度で反応させる
ことからなる、または式ＩＩＩで表される環状アミン１
０ないし２０部［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって
１個の−Ｏ−、−Ｓ−、または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって
中断されてもよい炭素原子数４ないし６のアルキレン基
を表しおよび、Ｒ4 は水素原子またはメチル基を表
す。］と水２０ないし４０部を反応容器中に入れ、式Ｉ
Ｉで表されるｐ−クロロフェニルアルキルケトン２ない
し４部［式中、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換の炭
素原子数２ないし７のアルキル基を表す。］を添加し、
および該混合物を加圧下で２１０℃ないし２３０℃の温
度で反応させることである。
【００３８】環状アミンによって置換された式Ｉで表さ
れる新規フェニルアルキルケトンの処理および精製は、
代表的には蒸留、結晶化およびろ過のような既知の方法
により実施される。
れる新規フェニルアルキルケトンの処理および精製は、
代表的には蒸留、結晶化およびろ過のような既知の方法
により実施される。
【００３９】式ＩＩＩで表される環状アミンは既知でい
くつかは市販されており、および既知の方法［例えば、
Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，Ｖｏｌ．１１／１（１９５
７）ｐ．２６−２９，３２−３３ ａｎｄ ６３−６
７；Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．３，３０
７（１９５５）；ＪＡＣＳ １０９，１４９６−１５０
２（１９８７）またはＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｖｏ
ｌ．４０，１４３３−１４５６（１９８４）］によって
製造されることができる。
くつかは市販されており、および既知の方法［例えば、
Ｈｏｕｂｅｎ−Ｗｅｙｌ，Ｖｏｌ．１１／１（１９５
７）ｐ．２６−２９，３２−３３ ａｎｄ ６３−６
７；Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．３，３０
７（１９５５）；ＪＡＣＳ １０９，１４９６−１５０
２（１９８７）またはＴｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ Ｖｏ
ｌ．４０，１４３３−１４５６（１９８４）］によって
製造されることができる。
【００４０】該環状アミンは代表的には以下の化合物で
ある：モルフォリン、ピペリジン、ピロリジン、ピペラ
ジン、Ｎ−メチルピペラジン、２，６−ジメチルモルフ
ォリン、ジメチルピペリジン、ジメチルピペラジン、チ
オモルフォリン、４−ヒドロキシピペリジン、３−エト
キシカルボニルピペリジンまたはヘキサメチレンイミ
ン。
ある：モルフォリン、ピペリジン、ピロリジン、ピペラ
ジン、Ｎ−メチルピペラジン、２，６−ジメチルモルフ
ォリン、ジメチルピペリジン、ジメチルピペラジン、チ
オモルフォリン、４−ヒドロキシピペリジン、３−エト
キシカルボニルピペリジンまたはヘキサメチレンイミ
ン。
【００４１】式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキ
ルケトンもまた既知である［例えば、フリーデル−クラ
フツおよび関連した反応、Ｅｄ．Ｃ．Ａ．Ｏｌａｈ，
Ｊ．Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｎ．Ｙ．（１９６
４）Ｖｏｌ．３，Ｐａｒｔｓ１＋２；Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｖ．５５，２２９（１９９５）；Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．
Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．３，１４（１９５５）およびＪＡＣ
Ｓ １０９，７１２２（１９８７）］。
ルケトンもまた既知である［例えば、フリーデル−クラ
フツおよび関連した反応、Ｅｄ．Ｃ．Ａ．Ｏｌａｈ，
Ｊ．Ｗｉｌｅｙ ａｎｄ Ｓｏｎｓ，Ｎ．Ｙ．（１９６
４）Ｖｏｌ．３，Ｐａｒｔｓ１＋２；Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｖ．５５，２２９（１９９５）；Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．
Ｃｏｌｌ．Ｖｏｌ．３，１４（１９５５）およびＪＡＣ
Ｓ １０９，７１２２（１９８７）］。
【００４２】個々の化合物の説明的な例は：１−（４−
ブロモフェニル）−ｎ−ブタン−１−オン、１−（４−
ブロモフェニル）−ｎ−ペンタン−１−オン、１−（４
−ブロモフェニル）−ｎ−ヘキサン−１−オン、１−
（４−ブロモフェニル）−ｎ−ヘプタン−１−オン、１
−（４−ブロモフェニル）−ｎ−オクタン−１−オン、
１−（４−ブロモフェニル）−イソノナン−１−オン、
１−（４−クロロフェニル）−ｎ−ブタン−１−オンお
よび１−（４−クロロフェニル）−ｎ−ペンタン−１−
オンである。
ブロモフェニル）−ｎ−ブタン−１−オン、１−（４−
ブロモフェニル）−ｎ−ペンタン−１−オン、１−（４
−ブロモフェニル）−ｎ−ヘキサン−１−オン、１−
（４−ブロモフェニル）−ｎ−ヘプタン−１−オン、１
−（４−ブロモフェニル）−ｎ−オクタン−１−オン、
１−（４−ブロモフェニル）−イソノナン−１−オン、
１−（４−クロロフェニル）−ｎ−ブタン−１−オンお
よび１−（４−クロロフェニル）−ｎ−ペンタン−１−
オンである。
【００４３】式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキ
ルケトンの製造は既知の方法、代表的には下記の反応図
に従ったハロベンゼンおよびアルカンカルボン酸塩化物
からのフリーデル−クラフツ反応で実施される。
ルケトンの製造は既知の方法、代表的には下記の反応図
に従ったハロベンゼンおよびアルカンカルボン酸塩化物
からのフリーデル−クラフツ反応で実施される。
【化２４】
【００４４】これらの式中でのＸはハロゲン原子、好ま
しくは塩素原子または臭素原子を表し、およびＲ3 は上
記した意味を有する。
しくは塩素原子または臭素原子を表し、およびＲ3 は上
記した意味を有する。
【００４５】ハロベンゼンおよびアルカンカルボン酸塩
化物双方の生成物（ｅｄｕｃｔｓ）は既知である。
化物双方の生成物（ｅｄｕｃｔｓ）は既知である。
【００４６】ハロベンゼンの代表的な例は好ましくはモ
ノブロモベンゼン、特にモノクロロベンゼンである。
ノブロモベンゼン、特にモノクロロベンゼンである。
【００４７】アルカンカルボン酸塩化物の代表的な例
は、例えば酪酸塩化物、イソ酪酸塩化物、ｎ−吉草酸塩
化物、イソ吉草酸塩化物、ヘキサン酸塩化物、エナント
酸塩化物、カプリル酸塩化物、ペラルゴニン酸塩化物、
カプリン酸塩化物、ラウリン酸塩化物、ミリスチン酸塩
化物、パルミチン酸塩化物、ステアリン酸塩化物、アラ
キニン酸塩化物、イコサンカルボン酸塩化物およびベヘ
ン酸塩化物である。
は、例えば酪酸塩化物、イソ酪酸塩化物、ｎ−吉草酸塩
化物、イソ吉草酸塩化物、ヘキサン酸塩化物、エナント
酸塩化物、カプリル酸塩化物、ペラルゴニン酸塩化物、
カプリン酸塩化物、ラウリン酸塩化物、ミリスチン酸塩
化物、パルミチン酸塩化物、ステアリン酸塩化物、アラ
キニン酸塩化物、イコサンカルボン酸塩化物およびベヘ
ン酸塩化物である。
【００４８】この反応によって得られる式ＩＩで表され
るｐ−ハロフェニルアルキルケトンは、式ＩＩＩで表さ
れる環状アミンとさらに反応させるために予め分離され
なければならない。
るｐ−ハロフェニルアルキルケトンは、式ＩＩＩで表さ
れる環状アミンとさらに反応させるために予め分離され
なければならない。
【００４９】式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキ
ルケトンの式ＩＩＩで表される環状アミンとの反応へ水
を添加することが有色の副生成物の生成および樹脂化を
効果的に防ぎ、純度９９．０％以上の純度の純粋で明る
い生成物を与えることは、驚くべきことでありおよび最
初に述べた文献に基づいて予見されることではなかっ
た。
ルケトンの式ＩＩＩで表される環状アミンとの反応へ水
を添加することが有色の副生成物の生成および樹脂化を
効果的に防ぎ、純度９９．０％以上の純度の純粋で明る
い生成物を与えることは、驚くべきことでありおよび最
初に述べた文献に基づいて予見されることではなかっ
た。
【００５０】ジメチルスルホキシドまたはジメチルホル
ムアミドのような有機溶媒中での処理と比較して、水中
での処理は特に大規模製造において環境的な利点があ
る。
ムアミドのような有機溶媒中での処理と比較して、水中
での処理は特に大規模製造において環境的な利点があ
る。
【００５１】式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキ
ルケトンの式ＩＩＩで表される低活性ベンゼン誘導体で
あるハロゲン置換体の環状アミンとの反応は穏やかにお
よび素早く水中で進行することもまた驚くべきことであ
る。
ルケトンの式ＩＩＩで表される低活性ベンゼン誘導体で
あるハロゲン置換体の環状アミンとの反応は穏やかにお
よび素早く水中で進行することもまた驚くべきことであ
る。
【００５２】アミノリシス反応が触媒の強制的な添加無
しに進行し８８％ないし９６％の高い収率を与えること
もまた驚くべきことであり、さらに触媒の不在は通常時
間を消費する工程を引き起こすことになる触媒を最終生
成物から除かなければならない必要性を節約する。
しに進行し８８％ないし９６％の高い収率を与えること
もまた驚くべきことであり、さらに触媒の不在は通常時
間を消費する工程を引き起こすことになる触媒を最終生
成物から除かなければならない必要性を節約する。
【００５３】次式Ｉ
【化２５】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個またはそれ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換または置換
された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表し、
Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置換された
炭素原子数２ないし２０のアルキル基を表し、およびＲ
4 は水素原子、直鎖のまたは分岐した炭素原子数１ない
し３のアルキル基、直鎖のまたは分岐した炭素原子数３
ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェ
ニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシア
ルキル基またはフェニル基を表す。］で表される化合物
または言及した新規方法によって得られる化合物は、特
に次式ＩＶ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換または置換
された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表し、
Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置換された
炭素原子数２ないし２０のアルキル基を表し、およびＲ
4 は水素原子、直鎖のまたは分岐した炭素原子数１ない
し３のアルキル基、直鎖のまたは分岐した炭素原子数３
ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェ
ニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシア
ルキル基またはフェニル基を表す。］で表される化合物
または言及した新規方法によって得られる化合物は、特
に次式ＩＶ
【化２６】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個またはそれ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよく、および／または水酸基、炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基、ヒドロキシメチル基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシメチル基、−ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）基またはフェニル基によ
って置換されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換の炭
素原子数３ないし２０のアルキレン基を表し、Ｒ3 は未
置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、フ
ェノキシ基、シクロヘキシル基またはフェニル基によっ
て置換された直鎖のまたは分岐した炭素原子数２ないし
２０のアルキル基を表し、Ｒ4 は水素原子、炭素原子数
１ないし３のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアル
ケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基また
はフェニル基を表し、Ｒ5 は（ａ）次式
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよく、および／または水酸基、炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基、ヒドロキシメチル基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシメチル基、−ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）基またはフェニル基によ
って置換されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換の炭
素原子数３ないし２０のアルキレン基を表し、Ｒ3 は未
置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、フ
ェノキシ基、シクロヘキシル基またはフェニル基によっ
て置換された直鎖のまたは分岐した炭素原子数２ないし
２０のアルキル基を表し、Ｒ4 は水素原子、炭素原子数
１ないし３のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアル
ケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基また
はフェニル基を表し、Ｒ5 は（ａ）次式
【化２７】 （式中、ｐは零または１を表す。）で表される基か、
（ｂ）次式
（ｂ）次式
【化２８】 （式中、ｑは零、１、２、または３を表す。）で表され
る基か、（ｃ）次式
る基か、（ｃ）次式
【化２９】 （式中、Ａｒは未置換のまたはハロゲン原子、ＯＨ、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基またはＯＨ、ハロゲ
ン原子、−Ｎ（Ｒ12）2 、炭素原子数１ないし１２のア
ルコキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアル
キル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 または
−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によっ
て置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基によっ
て、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基によって、
または−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）
基または−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 によって
置換された炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によっ
て、または−（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＨ、−（ＯＣＨ2
ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、炭素原子数１ないし８のアルキル
チオ基、フェノキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし
１８のアルキル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣ
Ｈ3 、フェニル基またはベンゾイル基によって置換され
たフェニル、ナフチル、フリル、チエニルまたはピリジ
ル基を表し、ｎは１ないし２０を表す。）で表される基
を表し、各式中Ｒ12は水素原子、炭素原子数１ないし８
のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル基、
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子
数１ないし４のヒドロキシアルキル基またはフェニル基
を表し、Ｒ8 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基またはフェニル基を表し、およびＲ9 、Ｒ10およ
びＲ11は他と互いに独立して水素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表すか、またはＲ9 およびＲ
10は一緒になってに炭素原子数３ないし７のアルキレン
基を表し、Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし１２の
アルキル基；水酸基、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、−ＣＮまたは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４の
アルキル）基によって置換された炭素原子数２ないし４
のアルキル基；炭素原子数３ないし５のアルケニル基、
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、Ｒ7 は
炭素原子数１ないし１２のアルキル基；水酸基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基、−ＣＮまたは−ＣＯＯ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって置換さ
れた炭素原子数２ないし４のアルキル基；炭素原子数３
ないし５のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアル
キル基、フェニル基またはハロゲン原子、炭素原子数１
ないし１２のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアル
コキシ基または−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアル
キル）基にっよて置換されたフェニル基を表すか、また
はＲ7 はＲ3 と一緒になって炭素原子数１ないし７のア
ルキレン基、炭素原子数７ないし１０のフェニルアルキ
レン基、ｏ−キシリレン基、２−ブテニレン基または炭
素原子数２ないし３のオキサアルキレン基またはアザア
ルキレン基を表すか、またはＲ6 およびＲ7 は一緒にな
って−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−または−Ｎ（Ｒ13）−に
よって中断されてもよく、または水酸基、炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基または−ＣＯＯ（炭素原子数１
ないし４のアルキル）基によって置換されてもよい炭素
原子数３ないし７のアルキレン基を表し、Ｒ13は水素原
子、１個またはそれ以上の−Ｏ−によって中断されても
よい炭素原子数１ないし１２のアルキル基；炭素原子数
３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフ
ェニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシ
アルキル基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯ
Ｏ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、炭素原子数
２ないし８のアルカノイル基またはベンゾイル基を表
す。］で表されるラジカル光開始剤またはそれらの酸添
加塩の製造のために使用される。
素原子数１ないし１２のアルキル基またはＯＨ、ハロゲ
ン原子、−Ｎ（Ｒ12）2 、炭素原子数１ないし１２のア
ルコキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアル
キル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 または
−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によっ
て置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基によっ
て、炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基によって、
または−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）
基または−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 によって
置換された炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によっ
て、または−（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＨ、−（ＯＣＨ2
ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、炭素原子数１ないし８のアルキル
チオ基、フェノキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし
１８のアルキル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣ
Ｈ3 、フェニル基またはベンゾイル基によって置換され
たフェニル、ナフチル、フリル、チエニルまたはピリジ
ル基を表し、ｎは１ないし２０を表す。）で表される基
を表し、各式中Ｒ12は水素原子、炭素原子数１ないし８
のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル基、
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子
数１ないし４のヒドロキシアルキル基またはフェニル基
を表し、Ｒ8 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基またはフェニル基を表し、およびＲ9 、Ｒ10およ
びＲ11は他と互いに独立して水素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表すか、またはＲ9 およびＲ
10は一緒になってに炭素原子数３ないし７のアルキレン
基を表し、Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし１２の
アルキル基；水酸基、炭素原子数１ないし４のアルコキ
シ基、−ＣＮまたは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４の
アルキル）基によって置換された炭素原子数２ないし４
のアルキル基；炭素原子数３ないし５のアルケニル基、
炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または炭素
原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、Ｒ7 は
炭素原子数１ないし１２のアルキル基；水酸基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシ基、−ＣＮまたは−ＣＯＯ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって置換さ
れた炭素原子数２ないし４のアルキル基；炭素原子数３
ないし５のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアル
キル基、フェニル基またはハロゲン原子、炭素原子数１
ないし１２のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアル
コキシ基または−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアル
キル）基にっよて置換されたフェニル基を表すか、また
はＲ7 はＲ3 と一緒になって炭素原子数１ないし７のア
ルキレン基、炭素原子数７ないし１０のフェニルアルキ
レン基、ｏ−キシリレン基、２−ブテニレン基または炭
素原子数２ないし３のオキサアルキレン基またはアザア
ルキレン基を表すか、またはＲ6 およびＲ7 は一緒にな
って−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−または−Ｎ（Ｒ13）−に
よって中断されてもよく、または水酸基、炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基または−ＣＯＯ（炭素原子数１
ないし４のアルキル）基によって置換されてもよい炭素
原子数３ないし７のアルキレン基を表し、Ｒ13は水素原
子、１個またはそれ以上の−Ｏ−によって中断されても
よい炭素原子数１ないし１２のアルキル基；炭素原子数
３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフ
ェニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシ
アルキル基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯ
Ｏ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、炭素原子数
２ないし８のアルカノイル基またはベンゾイル基を表
す。］で表されるラジカル光開始剤またはそれらの酸添
加塩の製造のために使用される。
【００５４】本発明の方法はこのようにして大規模製造
においてとても良く実現しうる簡単な方法であり、式Ｉ
Ｖで表される光開始剤の製造は、モノハロベンゼンと次
式
においてとても良く実現しうる簡単な方法であり、式Ｉ
Ｖで表される光開始剤の製造は、モノハロベンゼンと次
式
【化３０】 で表される酸塩化物の式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニ
ルアルキルケトンへのフリーデル−クラフツ反応により
出発し、および次式ＩＩＩ
ルアルキルケトンへのフリーデル−クラフツ反応により
出発し、および次式ＩＩＩ
【化３１】 で表される環状アミン（式中、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は
上記の定義と同じである。）との水中で少なくとも１３
０℃の温度での式Ｉ
上記の定義と同じである。）との水中で少なくとも１３
０℃の温度での式Ｉ
【化３２】 で表される環状アミンによって置換されたフェニルアル
キルケトンへのアミノリシス、式Ｉで表される該フェニ
ルアルキルケトン化合物のハロゲン化、次式
キルケトンへのアミノリシス、式Ｉで表される該フェニ
ルアルキルケトン化合物のハロゲン化、次式
【化３３】 で表されるアミンとの反応、引き続くＲ5 を導入する化
合物との反応および塩基性条件下でのスティーブンス転
移等の単純な方法からなる。
合物との反応および塩基性条件下でのスティーブンス転
移等の単純な方法からなる。
【００５５】式Ｉで表されるフェニルアルキルケトン化
合物のハロゲン化は例えば臭素原子または塩素原子との
氷酢酸のような溶媒中での室温におけるα−ハロゲン化
である。次式
合物のハロゲン化は例えば臭素原子または塩素原子との
氷酢酸のような溶媒中での室温におけるα−ハロゲン化
である。次式
【化３４】 で表されるアミン［式中、Ｒ6 およびＲ7 は上記の定義
と同じである（例えばジメチルアミン）。］との引き続
くアミン化は例えばメチルエチルケトンのような適した
溶媒中で実施される。アミン化の後、代表的にはＮａＯ
ＨまたはＫＯＨのような塩基性条件下での引き続くステ
ィーブンス転移とともに、代表的には臭化ベンジル、塩
化ベンジル、臭化アリルまたは塩化アリルのようなＲ5
基を導入する化合物との反応が実施される。
と同じである（例えばジメチルアミン）。］との引き続
くアミン化は例えばメチルエチルケトンのような適した
溶媒中で実施される。アミン化の後、代表的にはＮａＯ
ＨまたはＫＯＨのような塩基性条件下での引き続くステ
ィーブンス転移とともに、代表的には臭化ベンジル、塩
化ベンジル、臭化アリルまたは塩化アリルのようなＲ5
基を導入する化合物との反応が実施される。
【００５６】塩基性アミノ基の存在のために、式ＩＶで
表される光開始剤は酸の添加によって対応する酸添加塩
へと変換されてよい。これらの酸は無機または有機酸で
あることができる。そのような酸の説明的な例は、ＨＣ
ｌ、ＨＢｒ、Ｈ2 ＳＯ4 、Ｈ3 ＰＯ4 、代表的には酢
酸、オレイン酸、コハク酸、セバシン酸、酒石酸のよう
なモノまたはポリカルボン酸またはＣＦ3 ＣＯＯＨ、Ｃ
Ｈ3 ＳＯ3 Ｈ、Ｃ12Ｈ25ＳＯ3 Ｈ、ｐ−Ｃ12Ｈ25−Ｃ6
Ｈ4 −ＳＯ3 Ｈ、ｐ−ＣＨ3 −Ｃ6 Ｈ4 −ＳＯ3Ｈまた
はＣＦ3 ＳＯ3 Ｈのようなスルホン酸、アクリル酸、メ
タクリル酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸および
安息香酸である。
表される光開始剤は酸の添加によって対応する酸添加塩
へと変換されてよい。これらの酸は無機または有機酸で
あることができる。そのような酸の説明的な例は、ＨＣ
ｌ、ＨＢｒ、Ｈ2 ＳＯ4 、Ｈ3 ＰＯ4 、代表的には酢
酸、オレイン酸、コハク酸、セバシン酸、酒石酸のよう
なモノまたはポリカルボン酸またはＣＦ3 ＣＯＯＨ、Ｃ
Ｈ3 ＳＯ3 Ｈ、Ｃ12Ｈ25ＳＯ3 Ｈ、ｐ−Ｃ12Ｈ25−Ｃ6
Ｈ4 −ＳＯ3 Ｈ、ｐ−ＣＨ3 −Ｃ6 Ｈ4 −ＳＯ3Ｈまた
はＣＦ3 ＳＯ3 Ｈのようなスルホン酸、アクリル酸、メ
タクリル酸、ポリアクリル酸、ポリメタクリル酸および
安息香酸である。
【００５７】ラジカル重合できる化合物のための光開始
剤とは、短波長の光を照射した時にラジカル断片へと破
壊されおよびエチレン性不飽和化合物の重合のための実
際の開始剤となるものである。
剤とは、短波長の光を照射した時にラジカル断片へと破
壊されおよびエチレン性不飽和化合物の重合のための実
際の開始剤となるものである。
【００５８】これらの光開始剤は主に、印刷インクまた
は白色仕上剤のような光硬化着色システム、フォトレジ
ストおよびプリント板製造のための紫外線硬化性印刷イ
ンクのような光硬化非着色システム並びに昼光で表面上
で後硬化する表面ワニスのためのエチレン性不飽和化合
物またはそのような化合物を含有する混合物の光重合に
ついて使用される。
は白色仕上剤のような光硬化着色システム、フォトレジ
ストおよびプリント板製造のための紫外線硬化性印刷イ
ンクのような光硬化非着色システム並びに昼光で表面上
で後硬化する表面ワニスのためのエチレン性不飽和化合
物またはそのような化合物を含有する混合物の光重合に
ついて使用される。
【００５９】不飽和化合物は１個またはそれ以上のオレ
フィン性２重結合を含有することができ低分子（モノマ
ー）またはより高分子（オリゴマー）であってよい。２
重結合を含有するモノマーの説明的な例はアルキルアク
リレートまたはヒドロキシアルキルアクリレートまたは
アルキルメタクリレートまたはヒドロキシアルキルメタ
クリレートであり、代表的にはメチルアクリレート、エ
チルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘ
キシルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレ
ートまたはエチルメタクリレートである。更なる例はア
クリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、
Ｎ−置換（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニルのような
ビニルエステル、イソブチルビニルエーテルのようなビ
ニルエーテル、スチレン、アルキルスチレン、ハロゲン
スチレン、Ｎ−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩
化ビニリデンである。
フィン性２重結合を含有することができ低分子（モノマ
ー）またはより高分子（オリゴマー）であってよい。２
重結合を含有するモノマーの説明的な例はアルキルアク
リレートまたはヒドロキシアルキルアクリレートまたは
アルキルメタクリレートまたはヒドロキシアルキルメタ
クリレートであり、代表的にはメチルアクリレート、エ
チルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘ
キシルアクリレートまたは２−ヒドロキシエチルアクリ
レート、イソボルニルアクリレート、メチルメタクリレ
ートまたはエチルメタクリレートである。更なる例はア
クリロニトリル、アクリルアミド、メタクリルアミド、
Ｎ−置換（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニルのような
ビニルエステル、イソブチルビニルエーテルのようなビ
ニルエーテル、スチレン、アルキルスチレン、ハロゲン
スチレン、Ｎ−ビニルピロリドン、塩化ビニルまたは塩
化ビニリデンである。
【００６０】いくつかの２重結合を含有するモノマーの
説明的な例は、エチレングリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジア
クリレートまたはビスフェノールＡジアクリレート、
４，４’−ビス（２−アクリロイルオキシエトキシ）ジ
フェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリトリトールトリアクリレートまたは
ペンタエリトリト−ルテトラアクリレート、ビニルアク
リレート、ジビニルベンゼン、コハク酸ジビニル、フタ
ル酸ジアリル、リン酸トリアリル、トリアリルイソシア
ナートまたはトリス（２−アクリロイルオキシエチル）
イソシアナートである。
説明的な例は、エチレングリコールジアクリレート、プ
ロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリ
コールジアクリレート、ヘキサメチレングリコールジア
クリレートまたはビスフェノールＡジアクリレート、
４，４’−ビス（２−アクリロイルオキシエトキシ）ジ
フェニルプロパン、トリメチロールプロパントリアクリ
レート、ペンタエリトリトールトリアクリレートまたは
ペンタエリトリト−ルテトラアクリレート、ビニルアク
リレート、ジビニルベンゼン、コハク酸ジビニル、フタ
ル酸ジアリル、リン酸トリアリル、トリアリルイソシア
ナートまたはトリス（２−アクリロイルオキシエチル）
イソシアナートである。
【００６１】より高分子（オリゴマー）なポリ不飽和化
合物の説明的な例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリ
ル化ポリエーテル、アクリル化ポリウレタンまたはアク
リル化ポリエステルである。不飽和オリゴマーの他の例
はほとんどマレイン酸、フタル酸および１個またはそれ
以上のジオールから製造され、および約５００ないし３
０００の分子量を有する不飽和ポリエステル樹脂であ
る。該不飽和オリゴマーはプレポリマーと呼ぶ事も出来
る。
合物の説明的な例は、アクリル化エポキシ樹脂、アクリ
ル化ポリエーテル、アクリル化ポリウレタンまたはアク
リル化ポリエステルである。不飽和オリゴマーの他の例
はほとんどマレイン酸、フタル酸および１個またはそれ
以上のジオールから製造され、および約５００ないし３
０００の分子量を有する不飽和ポリエステル樹脂であ
る。該不飽和オリゴマーはプレポリマーと呼ぶ事も出来
る。
【００６２】しばしば、プレポリマーとポリ不飽和モノ
マーの２成分混合物またはさらにモノ不飽和モノマーを
含有した３成分混合物が使用される。この場合プレポリ
マーは特に着色フィルムの性質において決定的であり、
それを変更する事により熟練した人は硬化フィルムの性
質に影響を及ぼすことが出来る。ポリ不飽和モノマーが
塗料フィルムを不溶化する架橋剤としてふるまう。モノ
不飽和モノマーは粘度を減少させる希釈剤として作用し
溶媒の使用を不必要にする。
マーの２成分混合物またはさらにモノ不飽和モノマーを
含有した３成分混合物が使用される。この場合プレポリ
マーは特に着色フィルムの性質において決定的であり、
それを変更する事により熟練した人は硬化フィルムの性
質に影響を及ぼすことが出来る。ポリ不飽和モノマーが
塗料フィルムを不溶化する架橋剤としてふるまう。モノ
不飽和モノマーは粘度を減少させる希釈剤として作用し
溶媒の使用を不必要にする。
【００６３】そのようなプレポリマーに基づいた２およ
び３成分系は印刷インクおよび塗料、フォトレジストま
たは他の光硬化化合物のために使用される。印刷インク
のために使用される結合剤もしばしば光硬化プレポリマ
ーに基づいた１成分系である。
び３成分系は印刷インクおよび塗料、フォトレジストま
たは他の光硬化化合物のために使用される。印刷インク
のために使用される結合剤もしばしば光硬化プレポリマ
ーに基づいた１成分系である。
【００６４】不飽和ポリエステル樹脂はほとんどモノ不
飽和モノマー、好ましくはスチレンとともに２成分系で
使用される。フォトレジストについてはポリマレイン酸
イミド、ポリカルコンまたはポリイミドのような、ＤＥ
−ＯＳ ２３０８８３０に記述されている特別な１成分
系がしばしば使用される。
飽和モノマー、好ましくはスチレンとともに２成分系で
使用される。フォトレジストについてはポリマレイン酸
イミド、ポリカルコンまたはポリイミドのような、ＤＥ
−ＯＳ ２３０８８３０に記述されている特別な１成分
系がしばしば使用される。
【００６５】不飽和化合物は非光重合性フィルム形成成
分との混合物としても使用されることが出来る。該成分
は例えば代表的にはニトロセルロースまたはアセトブチ
ル酸セルロースのような物理的に乾燥したポリマーまた
は有機溶媒中でのそれらの溶液であることが出来る。し
かしながら、それらはポリイソシアナート、ポリエポキ
シドまたはメラミン樹脂のような化学的にまたは熱的に
硬化する樹脂である事も出来る。熱硬化性樹脂のさらな
る使用は、第一段階で光重合されその後第二段階で熱後
処理により架橋されるというハイブリッドシステムと呼
ばれることにおいて重要である。
分との混合物としても使用されることが出来る。該成分
は例えば代表的にはニトロセルロースまたはアセトブチ
ル酸セルロースのような物理的に乾燥したポリマーまた
は有機溶媒中でのそれらの溶液であることが出来る。し
かしながら、それらはポリイソシアナート、ポリエポキ
シドまたはメラミン樹脂のような化学的にまたは熱的に
硬化する樹脂である事も出来る。熱硬化性樹脂のさらな
る使用は、第一段階で光重合されその後第二段階で熱後
処理により架橋されるというハイブリッドシステムと呼
ばれることにおいて重要である。
【００６６】光開始剤に加えて、光重合性混合物は異な
った添加剤を含有することができる。それらの代表的な
例はハイドロキノンまたは立体障害性フェノールのよう
な未成熟重合を防ぐための熱阻害剤である。暗所貯蔵安
定性を増加させるために例えば銅化合物、リン酸化合
物、４級アンモニウム化合物またはヒドロキシルアミン
誘導体の使用が可能である。重合中に大気中の酸素を除
去する目的で、重合の始めに表面を移動するパラフィン
または同様のワックス性物質を加える事が可能である。
光安定剤としてベンゾトリアゾール、ベンゾフェノンま
たはオキサルアニリド型のようなわずかな量の紫外線吸
収剤が加えられてもよい。さらによいのは代表的には立
体障害性アミン（ＨＡＬＳ）のような紫外線を吸収しな
い光安定剤を添加する事である。
った添加剤を含有することができる。それらの代表的な
例はハイドロキノンまたは立体障害性フェノールのよう
な未成熟重合を防ぐための熱阻害剤である。暗所貯蔵安
定性を増加させるために例えば銅化合物、リン酸化合
物、４級アンモニウム化合物またはヒドロキシルアミン
誘導体の使用が可能である。重合中に大気中の酸素を除
去する目的で、重合の始めに表面を移動するパラフィン
または同様のワックス性物質を加える事が可能である。
光安定剤としてベンゾトリアゾール、ベンゾフェノンま
たはオキサルアニリド型のようなわずかな量の紫外線吸
収剤が加えられてもよい。さらによいのは代表的には立
体障害性アミン（ＨＡＬＳ）のような紫外線を吸収しな
い光安定剤を添加する事である。
【００６７】特別な場合において、式ＩＶで表される２
またはそれ以上の光開始剤の混合物を使用する事は利点
があるかもしれない。もちろん代表的にはベンゾフェノ
ン、アセトフェノン誘導体、ベンゾインエーテル、ベン
ジルケタール、モノアクリルフォスフィンオキシドまた
はビスアシルフォスフィンオキシドのような既知の光開
始剤との混合物を使用する事も可能である。
またはそれ以上の光開始剤の混合物を使用する事は利点
があるかもしれない。もちろん代表的にはベンゾフェノ
ン、アセトフェノン誘導体、ベンゾインエーテル、ベン
ジルケタール、モノアクリルフォスフィンオキシドまた
はビスアシルフォスフィンオキシドのような既知の光開
始剤との混合物を使用する事も可能である。
【００６８】光重合を促進するためにトリエタノールア
ミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エチルｐ−ジメ
チルアミノベンゾエート、ミヒラ−ケトン（Ｍｉｃｈｌ
ｅｒ’ｓ ｋｅｔｏｎｅ）またはビスジエチルアミノベ
ンゾフェノンのようなアミンを添加することが可能であ
る。アミンの作用はベンゾフェノン型の芳香族ケトンを
添加する事によって強めることが出来る。
ミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、エチルｐ−ジメ
チルアミノベンゾエート、ミヒラ−ケトン（Ｍｉｃｈｌ
ｅｒ’ｓ ｋｅｔｏｎｅ）またはビスジエチルアミノベ
ンゾフェノンのようなアミンを添加することが可能であ
る。アミンの作用はベンゾフェノン型の芳香族ケトンを
添加する事によって強めることが出来る。
【００６９】光重合の促進はスペクトル感受性を移動さ
せるためのまたは広げるための感光剤を添加する事によ
ってなし遂げることもできる。そのような感光剤は特に
ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アント
ラキノン誘導体および３−アシルクマリン誘導体および
３−（アロイルメチレン）−チアゾニンのような芳香族
カルボニル化合物である。
せるためのまたは広げるための感光剤を添加する事によ
ってなし遂げることもできる。そのような感光剤は特に
ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、アント
ラキノン誘導体および３−アシルクマリン誘導体および
３−（アロイルメチレン）−チアゾニンのような芳香族
カルボニル化合物である。
【００７０】光開始剤の効率はＥＰ−Ａ−１２２２２
３、１８６６２６および３１８８９４に開示されている
ような、代表的には０．１ないし２０％の量のフッ素有
機基をもつチタノセン誘導体の添加により増加される。
そのようなチタノセンの説明的な例はビス−（メチルシ
クロペンタジエニル）−ビス−（２，３，６−トリフル
オロフェニル）チタニウム、ビス（シクロペンタジエニ
ル）−ビス−（４−ジブチルアミノ−２，３，５，６−
テトラフルオロフェニル）チタニウム、ビス（メチルシ
クロペンタジエニル）−２−（トリフルオロメチル）フ
ェニルチタニウムイソシアナート、ビス（シクロペンタ
ジエニル）−２−（トリフルオロメチル）フェニルチタ
ニウムトリフルオロアセテート、ビス（メチルシクロペ
ンタジエニル）−ビス（４−デシロキシ−２，３，５，
６−テトラフルオロフェニル）チタニウム、ビス（シク
ロペンタジエニル）−ビス−［２，６−ジフルオロ−３
−（ピリ−１−イル）フェニル］チタニウム、ビス（メ
チルシクロペンタジエニル）−ビス−［２，６−ジフル
オロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル］チタニウム、
ビス（シクロペンタジエニル）−ビス−［２，６−ジフ
ルオロ−３−（２，５−ジメチルピリ−１−イル）フェ
ニル］チタニウムおよびビス（メチルシクロペンタジエ
ニル）−ビス−［２，６−ジフルオロ−３−（２，５−
ジメチルピリ−１−イル）フェニル］チタニウムであ
る。液体α−アミノケトンは特にこれらの混合物につい
て安定である。
３、１８６６２６および３１８８９４に開示されている
ような、代表的には０．１ないし２０％の量のフッ素有
機基をもつチタノセン誘導体の添加により増加される。
そのようなチタノセンの説明的な例はビス−（メチルシ
クロペンタジエニル）−ビス−（２，３，６−トリフル
オロフェニル）チタニウム、ビス（シクロペンタジエニ
ル）−ビス−（４−ジブチルアミノ−２，３，５，６−
テトラフルオロフェニル）チタニウム、ビス（メチルシ
クロペンタジエニル）−２−（トリフルオロメチル）フ
ェニルチタニウムイソシアナート、ビス（シクロペンタ
ジエニル）−２−（トリフルオロメチル）フェニルチタ
ニウムトリフルオロアセテート、ビス（メチルシクロペ
ンタジエニル）−ビス（４−デシロキシ−２，３，５，
６−テトラフルオロフェニル）チタニウム、ビス（シク
ロペンタジエニル）−ビス−［２，６−ジフルオロ−３
−（ピリ−１−イル）フェニル］チタニウム、ビス（メ
チルシクロペンタジエニル）−ビス−［２，６−ジフル
オロ−３−（ピリ−１−イル）フェニル］チタニウム、
ビス（シクロペンタジエニル）−ビス−［２，６−ジフ
ルオロ−３−（２，５−ジメチルピリ−１−イル）フェ
ニル］チタニウムおよびビス（メチルシクロペンタジエ
ニル）−ビス−［２，６−ジフルオロ−３−（２，５−
ジメチルピリ−１−イル）フェニル］チタニウムであ
る。液体α−アミノケトンは特にこれらの混合物につい
て安定である。
【００７１】Ａ）少なくとも１個のエチレン性不飽和光
重合性化合物、および Ｂ）少なくとも１個の式ＩＶで表される光開始剤およ
び、 Ｃ）所望のさらなる既知のおよび慣用的な添加剤 からなる光重合組成物は種々の目的に使用することが出
来る。特に重要であるのは写真複写工程、画像記録工程
およびレリーフ像の製造のための印刷インクのような染
料または着色システムにおけるそれらの使用である。
重合性化合物、および Ｂ）少なくとも１個の式ＩＶで表される光開始剤およ
び、 Ｃ）所望のさらなる既知のおよび慣用的な添加剤 からなる光重合組成物は種々の目的に使用することが出
来る。特に重要であるのは写真複写工程、画像記録工程
およびレリーフ像の製造のための印刷インクのような染
料または着色システムにおけるそれらの使用である。
【００７２】施用の他の重要な分野は着色のまたは非着
色の表面ワニスである。ＴｉＯ2 着色された表面ワニス
であると理解される白色仕上剤の混合物は特に重要であ
る。光硬化性化合物中に存在する顔料は、代表的には２
酸化チタン（ルチルまたはアナテース）、酸化鉄黄、酸
化鉄赤、クロム黄、クロム緑、ニッケルチタン黄、群
青、コバルト青、カドミウム黄、カドミウム赤または亜
鉛白のような無機顔料であってよい。顔料は代表的には
モノアゾ顔料またはビスアゾ顔料、またはそれらの金属
複合体、フタロシアニン顔料、多環式顔料、代表的には
ペリレン、チオインディゴ、フラバントロン、クイナク
リドン、テトラクロルイソインドリノンまたはトリフェ
ニルメタン顔料のような有機顔料であってよい。しかし
ながら、顔料は炭素黒または代表的にはアルミニウム粉
末または銅粉末のような金属粉末であってもよい。顔料
は特別な色合いを得るために都合よく使用される２種ま
たはそれ以上の異なった顔料類の混合であることもでき
る。
色の表面ワニスである。ＴｉＯ2 着色された表面ワニス
であると理解される白色仕上剤の混合物は特に重要であ
る。光硬化性化合物中に存在する顔料は、代表的には２
酸化チタン（ルチルまたはアナテース）、酸化鉄黄、酸
化鉄赤、クロム黄、クロム緑、ニッケルチタン黄、群
青、コバルト青、カドミウム黄、カドミウム赤または亜
鉛白のような無機顔料であってよい。顔料は代表的には
モノアゾ顔料またはビスアゾ顔料、またはそれらの金属
複合体、フタロシアニン顔料、多環式顔料、代表的には
ペリレン、チオインディゴ、フラバントロン、クイナク
リドン、テトラクロルイソインドリノンまたはトリフェ
ニルメタン顔料のような有機顔料であってよい。しかし
ながら、顔料は炭素黒または代表的にはアルミニウム粉
末または銅粉末のような金属粉末であってもよい。顔料
は特別な色合いを得るために都合よく使用される２種ま
たはそれ以上の異なった顔料類の混合であることもでき
る。
【００７３】顔料は全体量に基づいて５ないし６０重量
％の量で存在することができる。印刷インク中では、顔
料は通常１０ないし３０％の量で存在している。
％の量で存在することができる。印刷インク中では、顔
料は通常１０ないし３０％の量で存在している。
【００７４】施用のさらなる分野はフォトレジストの照
射硬化、無銀フィルムの光架橋およびプリント板の製造
である。他の使用は表面上で昼光で後硬化する表面ワニ
スのための使用である。フォトレジストまたは複写フィ
ルムにおいて、染料もまた着色のための顔料の代わりに
しばしば使用される。これらの染料は代表的にはアゾ染
料、メチン染料、アントラキノン染料または金属複合体
染料のように種類においてとても広い変化を持つ有機染
料であってよい。使用される濃度において、これらの染
料は各々の結合剤に溶解する。慣用的な濃度は全成分に
基づいて０．１ないし２０重量％好ましくは１ないし５
重量％である。
射硬化、無銀フィルムの光架橋およびプリント板の製造
である。他の使用は表面上で昼光で後硬化する表面ワニ
スのための使用である。フォトレジストまたは複写フィ
ルムにおいて、染料もまた着色のための顔料の代わりに
しばしば使用される。これらの染料は代表的にはアゾ染
料、メチン染料、アントラキノン染料または金属複合体
染料のように種類においてとても広い変化を持つ有機染
料であってよい。使用される濃度において、これらの染
料は各々の結合剤に溶解する。慣用的な濃度は全成分に
基づいて０．１ないし２０重量％好ましくは１ないし５
重量％である。
【００７５】施用の列挙した分野において、光開始剤は
光重合性組成物に基づいて０．１ないし２０重量％、好
ましくは０．５ないし５重量％の量で都合よく使用され
る。重合は短波長の照射に富んだ光の照射による光重合
の既知の方法によって実施される。適した光源は例えば
中圧水銀灯、高圧水銀灯および低圧水銀灯、超光活性化
蛍光灯、金属ハライドランプまたは発光極大が２５０な
いし４５０ｎｍの範囲のレーザーである。感光剤または
フェロセン誘導体との組み合わせの場合には長波長光ま
たは６００ｎｍまでのレーザー光を使用することもでき
る。
光重合性組成物に基づいて０．１ないし２０重量％、好
ましくは０．５ないし５重量％の量で都合よく使用され
る。重合は短波長の照射に富んだ光の照射による光重合
の既知の方法によって実施される。適した光源は例えば
中圧水銀灯、高圧水銀灯および低圧水銀灯、超光活性化
蛍光灯、金属ハライドランプまたは発光極大が２５０な
いし４５０ｎｍの範囲のレーザーである。感光剤または
フェロセン誘導体との組み合わせの場合には長波長光ま
たは６００ｎｍまでのレーザー光を使用することもでき
る。
【００７６】
【発明の実施の形態】以下の非限定的実施例が本発明を
説明する。 実施例１：１８１．７ｇ（０．８０ｍｏｌ）の１−（４
−ブロモフェニル）ブタン−１−オン、３４８．５ｇ
（４．０ｍｏｌ）のモルフォリンプルム（ｐｕｒｕｍ）
および７２．０ｇ（４．０ｍｏｌ）の脱イオン水が１リ
ットルの高圧反応器中に入れられる。反応器は密封され
溶液は約９０分にわたり１７０℃の温度へ加熱される。
反応器中の圧力は５ないし６ｂａｒに上昇し１時間後４
ないし５ｂａｒで安定する。反応溶液は約２８時間、約
１７０℃の温度で攪拌される。その後、反応溶液は冷却
され約８０℃の温度で反応器から取り出される。反応溶
液は水を蒸留して除去するために蒸留装置中で約１０４
℃の温度へ加熱される。モルフォリンはその後弱吸引下
の蒸留によって除去される。蒸留後、１４４．０ｇ
（０．８０ｍｏｌ）のナトリウムメチレート３０％メタ
ノール溶液が添加され懸濁液は蒸留によってメタノール
を除去するために加熱される。メタノール蒸留が完了し
た後、反応溶液は真空排気されおよびモルフォリンは蒸
留によって除かれる。その後、９０ｇの脱イオン水が約
８０℃の温度で添加されおよび攪拌される。水がその後
除去される。残存相（粗収量１９６ｇ、理論量の１０５
％）が１５０ｍｌ（１１７．５ｇ）のイソプロパノール
で希釈され、冷却されおよび結晶化の種を投入される。
懸濁液は約−１０℃の温度でろ過されおよび冷却された
イソプロパノールで洗浄され、薄いベージュ色の結晶の
状態で６４．５℃ないし６５．５℃の温度の融点および
９９．０％以上の純度を持つ１４８．７ｇの１−（４−
モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン（理論量の７
９．６％）を与える。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値 ７２．０７ ８．２１ ６．００ 実測値 ７２．０３ ８．２９ ５．９２ さらに１９．８％（理論量の１０％）の１−（４−モル
フォリノフェニル）ブタン−１−オンをろ液（イソプロ
パノール）から得ることが可能である。表１に示す当量
の環状アミンおよび件に示す当量の１−（４−ブロモフ
ェニル）アルキルケトンを用いて、件に示す環状アミン
により置換されたフェニルアルキルケトン化合物を与え
る実施例１の工程が繰り返された。それらの物理分析デ
ータも件に示す。
説明する。 実施例１：１８１．７ｇ（０．８０ｍｏｌ）の１−（４
−ブロモフェニル）ブタン−１−オン、３４８．５ｇ
（４．０ｍｏｌ）のモルフォリンプルム（ｐｕｒｕｍ）
および７２．０ｇ（４．０ｍｏｌ）の脱イオン水が１リ
ットルの高圧反応器中に入れられる。反応器は密封され
溶液は約９０分にわたり１７０℃の温度へ加熱される。
反応器中の圧力は５ないし６ｂａｒに上昇し１時間後４
ないし５ｂａｒで安定する。反応溶液は約２８時間、約
１７０℃の温度で攪拌される。その後、反応溶液は冷却
され約８０℃の温度で反応器から取り出される。反応溶
液は水を蒸留して除去するために蒸留装置中で約１０４
℃の温度へ加熱される。モルフォリンはその後弱吸引下
の蒸留によって除去される。蒸留後、１４４．０ｇ
（０．８０ｍｏｌ）のナトリウムメチレート３０％メタ
ノール溶液が添加され懸濁液は蒸留によってメタノール
を除去するために加熱される。メタノール蒸留が完了し
た後、反応溶液は真空排気されおよびモルフォリンは蒸
留によって除かれる。その後、９０ｇの脱イオン水が約
８０℃の温度で添加されおよび攪拌される。水がその後
除去される。残存相（粗収量１９６ｇ、理論量の１０５
％）が１５０ｍｌ（１１７．５ｇ）のイソプロパノール
で希釈され、冷却されおよび結晶化の種を投入される。
懸濁液は約−１０℃の温度でろ過されおよび冷却された
イソプロパノールで洗浄され、薄いベージュ色の結晶の
状態で６４．５℃ないし６５．５℃の温度の融点および
９９．０％以上の純度を持つ１４８．７ｇの１−（４−
モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン（理論量の７
９．６％）を与える。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値 ７２．０７ ８．２１ ６．００ 実測値 ７２．０３ ８．２９ ５．９２ さらに１９．８％（理論量の１０％）の１−（４−モル
フォリノフェニル）ブタン−１−オンをろ液（イソプロ
パノール）から得ることが可能である。表１に示す当量
の環状アミンおよび件に示す当量の１−（４−ブロモフ
ェニル）アルキルケトンを用いて、件に示す環状アミン
により置換されたフェニルアルキルケトン化合物を与え
る実施例１の工程が繰り返された。それらの物理分析デ
ータも件に示す。
【表１】
【表２】
【表３】
【表４】
【表５】
【表６】
【００７７】実施例２２：３９２．１ｇ（４．５０ｍｏ
ｌ）のモルフォリンプルム（ｐｕｒｕｍ）および１６
２．０ｇ（９．００ｍｏｌ）の脱イオン水が１リットル
の高圧反応器中に入れられる。反応器は密封されおよび
溶液は攪拌されつつ約１時間にわたり２２０℃の温度ヘ
加熱され、反応器中の圧力は２０ｂａｒに上昇する。そ
の後、１６４．４ｇ（０．９０ｍｏｌ）の１−（４−ク
ロロフェニル）ブタン−１−オンが５時間にわたり２２
０℃の温度で均一に添加される。添加の終了によって圧
力は約１８ｂａｒに降下し、反応はその過程の８０％以
上を終了する。反応混合物はその後さらに５時間２２０
℃の温度で攪拌され、圧力は徐々に１７ｂａｒへと降下
する。反応混合物はその後８０℃の温度まで冷却され
る。モルフォリン塩は７５．６ｇ（０．９４５ｍｏｌ）
の５０％水酸化ナトリウム溶液によって中和される。モ
ルフォリンおよび水の混合物は減圧下の８０℃ないし１
００℃の温度で蒸留される。１８０ｇの脱イオン水およ
び２０３ｇの特別な沸点を持つアルコール（１１０℃な
いし１４０℃の温度の沸騰範囲）がその後添加される。
この混合物はわずかな量の活性炭上で８０℃の温度での
ろ過によって浄化される。水相は８０℃の温度で分離さ
れる。生成物を特別な沸点を持つアルコールから結晶化
し、ろ過し乾燥すると収量２００．６ｇの１−（４−モ
ルフォリノフェニル）ブタン−１−オン（理論量の９
５．５％）の最終生成物が得られる。ベージュ色の生成
物は９９．０％以上の純度および６４．８℃の温度の融
点を持つ。生成物および抽出物（ｅｄｕｃｔ）のみがろ
液中に見出される。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値 ７２．０７ ８．２１ ６．００ 実測値 ７２．０９ ８．２６ ５．８６
ｌ）のモルフォリンプルム（ｐｕｒｕｍ）および１６
２．０ｇ（９．００ｍｏｌ）の脱イオン水が１リットル
の高圧反応器中に入れられる。反応器は密封されおよび
溶液は攪拌されつつ約１時間にわたり２２０℃の温度ヘ
加熱され、反応器中の圧力は２０ｂａｒに上昇する。そ
の後、１６４．４ｇ（０．９０ｍｏｌ）の１−（４−ク
ロロフェニル）ブタン−１−オンが５時間にわたり２２
０℃の温度で均一に添加される。添加の終了によって圧
力は約１８ｂａｒに降下し、反応はその過程の８０％以
上を終了する。反応混合物はその後さらに５時間２２０
℃の温度で攪拌され、圧力は徐々に１７ｂａｒへと降下
する。反応混合物はその後８０℃の温度まで冷却され
る。モルフォリン塩は７５．６ｇ（０．９４５ｍｏｌ）
の５０％水酸化ナトリウム溶液によって中和される。モ
ルフォリンおよび水の混合物は減圧下の８０℃ないし１
００℃の温度で蒸留される。１８０ｇの脱イオン水およ
び２０３ｇの特別な沸点を持つアルコール（１１０℃な
いし１４０℃の温度の沸騰範囲）がその後添加される。
この混合物はわずかな量の活性炭上で８０℃の温度での
ろ過によって浄化される。水相は８０℃の温度で分離さ
れる。生成物を特別な沸点を持つアルコールから結晶化
し、ろ過し乾燥すると収量２００．６ｇの１−（４−モ
ルフォリノフェニル）ブタン−１−オン（理論量の９
５．５％）の最終生成物が得られる。ベージュ色の生成
物は９９．０％以上の純度および６４．８℃の温度の融
点を持つ。生成物および抽出物（ｅｄｕｃｔ）のみがろ
液中に見出される。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値 ７２．０７ ８．２１ ６．００ 実測値 ７２．０９ ８．２６ ５．８６
【００７８】実施例２３：３９２．１ｇ（４．５０ｍｏ
ｌ）のモルフォリンプルム（ｐｕｒｕｍ）および１６
２．０ｇ（９．００ｍｏｌ）の脱イオン水が１リットル
の高圧反応器中に入れられる。反応器は密封され２１５
℃ないし２２０℃の温度まで約６０分間にわたり加熱さ
れ、圧力は１９．９ｂａｒに達する。その後、１６４．
４ｇ（０．９０ｍｏｌ）の１−（４−クロロフェニル）
ブタン−１−オンが液体の状態で圧力ポンプを使用して
添加され、温度は２１５℃ないし２２０℃の温度に保た
れる。添加の期間は３時間である。圧力は１８．５ｂａ
ｒへと降下する。攪拌がその後さらに３時間、２１５℃
ないし２２０℃の温度で継続され、圧力は１７．８ｂａ
ｒへと降下する。反応溶液はその後約８０℃の温度まで
冷却される。反応溶液は蒸留装置に移され、微粒状の３
６．０ｇ（０．９０ｍｏｌ）の水酸化ナトリウムが入れ
られる。水およびその後モルフォリンもまた７０℃ない
し９０℃の温度で減圧下での蒸留によって除去される。
最終圧力は約３０ｍｂａｒとなる。装置は窒素によって
解放されおよびその後１７１．８ｇの脱イオン水および
３０．２ｇのトルエンが約８８℃の温度で添加される。
攪拌後、水は分離されおよびトルエンは蒸留によって除
去される。暖かい反応溶液へ１５２．９ｇのイソプロパ
ノールが入れられおよびその後約６５℃の温度で圧力フ
ィルター上でのろ過によって浄化される。イソプロパノ
ール溶液は冷却されおよび結晶化の種を投入される。懸
濁液は約０℃の温度でろ過されおよびその後低温イソプ
ロパノールで洗浄され、薄いベージュ色の結晶の状態で
６４．４℃ないし６５．５℃の温度の融点を持つ１８
６．７ｇの１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−
１−オン（理論量の８８．９％）を与える。
ｌ）のモルフォリンプルム（ｐｕｒｕｍ）および１６
２．０ｇ（９．００ｍｏｌ）の脱イオン水が１リットル
の高圧反応器中に入れられる。反応器は密封され２１５
℃ないし２２０℃の温度まで約６０分間にわたり加熱さ
れ、圧力は１９．９ｂａｒに達する。その後、１６４．
４ｇ（０．９０ｍｏｌ）の１−（４−クロロフェニル）
ブタン−１−オンが液体の状態で圧力ポンプを使用して
添加され、温度は２１５℃ないし２２０℃の温度に保た
れる。添加の期間は３時間である。圧力は１８．５ｂａ
ｒへと降下する。攪拌がその後さらに３時間、２１５℃
ないし２２０℃の温度で継続され、圧力は１７．８ｂａ
ｒへと降下する。反応溶液はその後約８０℃の温度まで
冷却される。反応溶液は蒸留装置に移され、微粒状の３
６．０ｇ（０．９０ｍｏｌ）の水酸化ナトリウムが入れ
られる。水およびその後モルフォリンもまた７０℃ない
し９０℃の温度で減圧下での蒸留によって除去される。
最終圧力は約３０ｍｂａｒとなる。装置は窒素によって
解放されおよびその後１７１．８ｇの脱イオン水および
３０．２ｇのトルエンが約８８℃の温度で添加される。
攪拌後、水は分離されおよびトルエンは蒸留によって除
去される。暖かい反応溶液へ１５２．９ｇのイソプロパ
ノールが入れられおよびその後約６５℃の温度で圧力フ
ィルター上でのろ過によって浄化される。イソプロパノ
ール溶液は冷却されおよび結晶化の種を投入される。懸
濁液は約０℃の温度でろ過されおよびその後低温イソプ
ロパノールで洗浄され、薄いベージュ色の結晶の状態で
６４．４℃ないし６５．５℃の温度の融点を持つ１８
６．７ｇの１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−
１−オン（理論量の８８．９％）を与える。
【００７９】実施例２４：１６４．４ｇ（０．９０ｍｏ
ｌ）の１−（４−クロロフェニル）ブタン−１−オン、
３９２．１ｇ（４．５０ｍｏｌ）のモルフォリンプルム
（ｐｕｒｕｍ）、１６２．０ｇ（９．００ｍｏｌ）の脱
イオン水および０．８９ｇ（０．９０ｍｏｌ）の塩化銅
（Ｉ）が１リットルの高圧反応器中に入れられる。反応
器は密封され溶液は攪拌されつつ約１時間にわたり１８
０℃の温度まで加熱される。溶液はその後徐々に１時間
に約１０℃の温度昇温するようにさらに加熱される。４
時間にわたり溶液は２２０℃の温度および２０ｂａｒの
圧力に達する。溶液は２２０℃の温度でさらに５時間、
反応させられ、圧力は１７ｂａｒへと徐々に降下する。
反応溶液はその後８０℃の温度まで冷却される。モルフ
ォリン塩は７５．６ｇ（０．９４５ｍｏｌ）の５０％水
酸化ナトリウム溶液によって中和され、触媒は沈殿させ
られる。モルフォリンおよび水の混合物は減圧下で８０
℃ないし１００℃の温度で蒸留される。その後１８０ｇ
の脱イオン水および２０３ｇの特別な沸点を持つアルコ
ール（１１０℃ないし１４０℃の温度の沸騰範囲）が添
加される。混合物は触媒を除くためにわずかな量の活性
炭上で８０℃の温度でのろ過によって浄化される。水相
は８０℃の温度で分離される。生成物は特別な沸点を持
つアルコールから結晶化し、ろ過し乾燥すると収量１９
９．８ｇの１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−
１−オン（理論量の９５．２％）の最終生成物を得る。
ベージュ色の生成物は９９．０％以上の純度および６
４．８℃の温度の融点を持つ。生成物および抽出物（ｅ
ｄｕｃｔｓ）のみがろ液中に見出される。
ｌ）の１−（４−クロロフェニル）ブタン−１−オン、
３９２．１ｇ（４．５０ｍｏｌ）のモルフォリンプルム
（ｐｕｒｕｍ）、１６２．０ｇ（９．００ｍｏｌ）の脱
イオン水および０．８９ｇ（０．９０ｍｏｌ）の塩化銅
（Ｉ）が１リットルの高圧反応器中に入れられる。反応
器は密封され溶液は攪拌されつつ約１時間にわたり１８
０℃の温度まで加熱される。溶液はその後徐々に１時間
に約１０℃の温度昇温するようにさらに加熱される。４
時間にわたり溶液は２２０℃の温度および２０ｂａｒの
圧力に達する。溶液は２２０℃の温度でさらに５時間、
反応させられ、圧力は１７ｂａｒへと徐々に降下する。
反応溶液はその後８０℃の温度まで冷却される。モルフ
ォリン塩は７５．６ｇ（０．９４５ｍｏｌ）の５０％水
酸化ナトリウム溶液によって中和され、触媒は沈殿させ
られる。モルフォリンおよび水の混合物は減圧下で８０
℃ないし１００℃の温度で蒸留される。その後１８０ｇ
の脱イオン水および２０３ｇの特別な沸点を持つアルコ
ール（１１０℃ないし１４０℃の温度の沸騰範囲）が添
加される。混合物は触媒を除くためにわずかな量の活性
炭上で８０℃の温度でのろ過によって浄化される。水相
は８０℃の温度で分離される。生成物は特別な沸点を持
つアルコールから結晶化し、ろ過し乾燥すると収量１９
９．８ｇの１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−
１−オン（理論量の９５．２％）の最終生成物を得る。
ベージュ色の生成物は９９．０％以上の純度および６
４．８℃の温度の融点を持つ。生成物および抽出物（ｅ
ｄｕｃｔｓ）のみがろ液中に見出される。
【００８０】例２５： ａ）２−ブロモ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブ
タン−１−オン
タン−１−オン
【化３５】 ２．５リットルのスルホン化フラスコ中で、実施例１の
４６６．６ｇ（２ｍｏｌ）の１−（４−モルフォリノフ
ェニル）ブタン−１−オンが６００ｍｌ（１０．５ｍｏ
ｌ）の氷酢酸に溶解され、温度が５℃まで冷却される。
わずかな冷却とともに３１９．６ｇ（２ｍｏｌ）の臭素
がこの溶液に約２．５時間にわたり室温で滴下添加され
る。臭素化の終了は薄層クロマトグラフィーを使用して
検査する。その後３００ｇの氷が反応溶液に添加されお
よび１６００ｇ（１２ｍｏｌ）の水酸化ナトリウムおよ
び６００ｇの氷から製造された水酸化ナトリウム溶液が
１時間にわたりよく冷却されつつ滴下添加される。黄色
懸濁液はほぼ６のｐＨを有しおよびその後ろ過されおよ
び水で洗浄される。結晶は乾燥させられる。それらは９
９℃ないし１０２℃の温度で溶解する。収量は６３１．
２ｇの２−ブロモ−１−（４−モルフォリノフェニル）
ブタン−１−オンである。粗生成物の1 Ｈ−ＮＭＲスペ
クトルは示された構造のそれを表している。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ ％Ｂｒ 計算値 ５３．８６ ５．８１ ４．４９ ２５．５９ 実測値 ５３．２３ ５．７３ ４．２４ ２５．５０
４６６．６ｇ（２ｍｏｌ）の１−（４−モルフォリノフ
ェニル）ブタン−１−オンが６００ｍｌ（１０．５ｍｏ
ｌ）の氷酢酸に溶解され、温度が５℃まで冷却される。
わずかな冷却とともに３１９．６ｇ（２ｍｏｌ）の臭素
がこの溶液に約２．５時間にわたり室温で滴下添加され
る。臭素化の終了は薄層クロマトグラフィーを使用して
検査する。その後３００ｇの氷が反応溶液に添加されお
よび１６００ｇ（１２ｍｏｌ）の水酸化ナトリウムおよ
び６００ｇの氷から製造された水酸化ナトリウム溶液が
１時間にわたりよく冷却されつつ滴下添加される。黄色
懸濁液はほぼ６のｐＨを有しおよびその後ろ過されおよ
び水で洗浄される。結晶は乾燥させられる。それらは９
９℃ないし１０２℃の温度で溶解する。収量は６３１．
２ｇの２−ブロモ−１−（４−モルフォリノフェニル）
ブタン−１−オンである。粗生成物の1 Ｈ−ＮＭＲスペ
クトルは示された構造のそれを表している。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ ％Ｂｒ 計算値 ５３．８６ ５．８１ ４．４９ ２５．５９ 実測値 ５３．２３ ５．７３ ４．２４ ２５．５０
【００８１】ｂ）２−ジメチルアミノ−１−（４−モル
フォリノフェニル）ブタン−１−オン
フォリノフェニル）ブタン−１−オン
【化３６】 ２．５リットルのスルホン化フラスコ中で、上記ａ）記
載の３１２．２ｇ（１ｍｏｌ）の２−ブロモ−１−（４
−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オンが６００ｍ
ｌのメチルエチルケトンに入れられ、攪拌しつつ５０℃
の温度へ加熱される。２０７．３ｇ（１．５ｍｏｌ）の
炭酸カルシウムが結果としてできる溶液へ添加されおよ
びその後５６．６ｇ（１．３ｍｏｌ）のガス状のジメチ
ルアミンが懸濁液中に１．５時間にわたり５０℃の温度
で通気される。混合物はさらに４ないし５時間、薄層ク
ロマトグラフィーが抽出物（ｅｄｕｃｔ）が残っていな
いことを示すまで反応させられる。懸濁液はその後５５
０ｍｌの水に入れられおよび攪拌される。水相が分離さ
れおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モノフォリノ
フェニル）ブタン−１−オンを含有する９００ｍｌの有
機層が一切の変性無しに次の反応段階に使用される。平
行した試験において、有機相は濃縮される。そのように
して得られた結晶はヘキサンより再結晶されおよび乾燥
され、５３℃ないし５６℃の温度で融解する２３５．１
ｇの薄黄色結晶を与える。生成物、２−ジ−メチルアミ
ノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オ
ンの1 Ｈ−ＮＭＲスペクトルは示された構造のそれを表
している。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値 ６９．５３ ８．７５ １０．１４ 実測値 ６８．９１ ８．５９ ９．７４
載の３１２．２ｇ（１ｍｏｌ）の２−ブロモ−１−（４
−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オンが６００ｍ
ｌのメチルエチルケトンに入れられ、攪拌しつつ５０℃
の温度へ加熱される。２０７．３ｇ（１．５ｍｏｌ）の
炭酸カルシウムが結果としてできる溶液へ添加されおよ
びその後５６．６ｇ（１．３ｍｏｌ）のガス状のジメチ
ルアミンが懸濁液中に１．５時間にわたり５０℃の温度
で通気される。混合物はさらに４ないし５時間、薄層ク
ロマトグラフィーが抽出物（ｅｄｕｃｔ）が残っていな
いことを示すまで反応させられる。懸濁液はその後５５
０ｍｌの水に入れられおよび攪拌される。水相が分離さ
れおよび２−ジメチルアミノ−１−（４−モノフォリノ
フェニル）ブタン−１−オンを含有する９００ｍｌの有
機層が一切の変性無しに次の反応段階に使用される。平
行した試験において、有機相は濃縮される。そのように
して得られた結晶はヘキサンより再結晶されおよび乾燥
され、５３℃ないし５６℃の温度で融解する２３５．１
ｇの薄黄色結晶を与える。生成物、２−ジ−メチルアミ
ノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オ
ンの1 Ｈ−ＮＭＲスペクトルは示された構造のそれを表
している。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値 ６９．５３ ８．７５ １０．１４ 実測値 ６８．９１ ８．５９ ９．７４
【００８２】ｃ）２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−
１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン
１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン
【化３７】 ２．５リットルのスルホン化フラスコ中で、上記ｂ）記
載の２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェ
ニル）ブタン−１−オンの９００ｍｌの溶液（１ｍｏ
ｌ）が再び５０℃の温度まで加熱される。１７９．７ｇ
（１．０５ｍｏｌ）の臭化ベンゼンがその後２０分にわ
たり滴下添加される。混合物は３ないし４時間、５０℃
の温度で薄層クロマトグラフィーが抽出物（ｅｄｕｃ
ｔ）が残っていないことを示すまで攪拌される。温度は
６０℃の温度に昇温されおよびその後８０ｇ（２ｍｏ
ｌ）の水酸化ナトリウム粉末が暫時４５分にわたり添加
される。混合物はその後さらに１ないし２時間５０℃の
温度で薄層クロマトグラフィーが抽出物（ｅｄｕｃｔ）
が残っていないことを示すまで攪拌される。反応混合物
は１５０ｍｌの水を入れられ攪拌される。水相が分離さ
れおよび有機層が減圧回転蒸発器で濃縮される。１０２
℃ないし１１０℃の温度の融点を有する２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オンの３７８．３ｇの黄色の粗生成物
がフラスコ中に残留する。粗生成物は６００ｍｌのエタ
ノールに加熱溶解させられ、冷却され、結晶化され、ろ
過されおよびその後冷却されたエタノールで洗浄され
る。結晶は乾燥させられる。それらは１１４℃ないし１
１５℃の温度で融解しおよびガスクロマトグラフィーお
よび薄層クロマトグラフィーはそれらが純粋であること
を示す。収量は２９９．０ｇの２−ベンジル−２−ジメ
チルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン
−１−オンである。さらに２２．４ｇの純粋な生成物を
母液から分離するができる。純粋な生成物の1 Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトルは示された構造のそれを表している。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値 ７５．３８ ８．２５ ７．６４ 実測値 ７５．２３ ８．２１ ７．５８
載の２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェ
ニル）ブタン−１−オンの９００ｍｌの溶液（１ｍｏ
ｌ）が再び５０℃の温度まで加熱される。１７９．７ｇ
（１．０５ｍｏｌ）の臭化ベンゼンがその後２０分にわ
たり滴下添加される。混合物は３ないし４時間、５０℃
の温度で薄層クロマトグラフィーが抽出物（ｅｄｕｃ
ｔ）が残っていないことを示すまで攪拌される。温度は
６０℃の温度に昇温されおよびその後８０ｇ（２ｍｏ
ｌ）の水酸化ナトリウム粉末が暫時４５分にわたり添加
される。混合物はその後さらに１ないし２時間５０℃の
温度で薄層クロマトグラフィーが抽出物（ｅｄｕｃｔ）
が残っていないことを示すまで攪拌される。反応混合物
は１５０ｍｌの水を入れられ攪拌される。水相が分離さ
れおよび有機層が減圧回転蒸発器で濃縮される。１０２
℃ないし１１０℃の温度の融点を有する２−ベンジル−
２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニ
ル）ブタン−１−オンの３７８．３ｇの黄色の粗生成物
がフラスコ中に残留する。粗生成物は６００ｍｌのエタ
ノールに加熱溶解させられ、冷却され、結晶化され、ろ
過されおよびその後冷却されたエタノールで洗浄され
る。結晶は乾燥させられる。それらは１１４℃ないし１
１５℃の温度で融解しおよびガスクロマトグラフィーお
よび薄層クロマトグラフィーはそれらが純粋であること
を示す。収量は２９９．０ｇの２−ベンジル−２−ジメ
チルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン
−１−オンである。さらに２２．４ｇの純粋な生成物を
母液から分離するができる。純粋な生成物の1 Ｈ−ＮＭ
Ｒスペクトルは示された構造のそれを表している。 元素分析 ％Ｃ ％Ｈ ％Ｎ 計算値 ７５．３８ ８．２５ ７．６４ 実測値 ７５．２３ ８．２１ ７．５８
フロントページの続き (72)発明者 ルドルフ シュワベ スイス国 3076 ウォルフ ブルグレンシ ュトラーセ 11 (72)発明者 レト ルイソリ スイス国 4434 ホルスタイン ストゥツ リング ３
Claims (21)
- 【請求項１】 次式（Ｉ） 【化１】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個またはそれ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置
換された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表
し、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置換さ
れた炭素原子数２ないし２０のアルキル基を表し、およ
びＲ4 は水素原子、直鎖のまたは分岐した炭素原子数１
ないし３のアルキル基、直鎖のまたは分岐した炭素原子
数３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキ
シアルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ1 およびＲ2
が一緒になって未置換のテトラメチレン基を表す場合に
は、Ｒ3は未置換の炭素原子数６のアルキル基を表
す。］で表される化合物。 - 【請求項２】 Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個また
はそれ以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によ
って中断されてもよい、未置換のまたは、水酸基、炭素
原子数１ないし４のアルコキシ基、ヒドロキシメチル
基、炭素原子数１ないし４のアルコキシメチル基、−Ｃ
ＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基またはフェ
ニル基によって置換された炭素原子数３ないし２０のア
ルキレン基を表し、Ｒ3 は未置換のまたは、炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基、フェノキシ基、シクロヘキ
シル基、またはフェニル基によって置換された炭素原子
数２ないし２０のアルキル基を表し、およびＲ4 は水素
原子、炭素原子数１ないし３のアルキル基、炭素原子数
３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフ
ェニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシ
アルキル基またはフェニル基を表す請求項１記載の式Ｉ
で表される化合物。 - 【請求項３】 Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個の−
Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されて
もよい直鎖のまたは分岐した炭素原子数４ないし１２の
アルキレン基を表し、Ｒ3 は炭素原子数２ないし１０の
アルキル基を表し、およびＲ4 は水素原子、炭素原子数
１ないし３のアルキル基、アリル基、ベンジル基、また
は炭素原子数２ないし３のヒドロキシアルキル基を表す
請求項１記載の式Ｉで表される化合物。 - 【請求項４】 Ｒ1 およびＲ2 はそれらが結合している
窒素原子と一緒になってさらに１個の−Ｏ−、−Ｓ−ま
たは−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されてもよい６員環を
表し、およびＲ3 およびＲ4 は請求項１の定義と同じで
ある請求項１記載の式Ｉで表される化合物。 - 【請求項５】 Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個の−
Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されて
もよい炭素原子数４ないし６のアルキレン基を表し、Ｒ
3 は直鎖のまたは分岐した未置換の炭素原子数２ないし
７のアルキル基を表し、Ｒ4 は水素原子またはメチル基
を表す請求項１記載の式Ｉで表される化合物。 - 【請求項６】 Ｒ1 およびＲ2 はそれらが結合している
窒素原子と一緒になってモルフォリニル基を表し、およ
びＲ3 は未置換の炭素原子数２ないし１０のアルキル基
を表す請求項１記載の式Ｉで表される化合物。 - 【請求項７】 次式 【化２】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個のまたはそ
れ以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって
中断されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換のまたは
置換された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表
し、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置換さ
れた炭素原子数２ないし２０のアルキル基を表し、およ
びＲ4 は水素原子、直鎖のまたは分岐した炭素原子数１
ないし３のアルキル基、直鎖のまたは分岐した炭素原子
数３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキ
シアルキル基またはフェニル基を表す。］で表される化
合物の製造方法であって次式（ＩＩ） 【化３】 で表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトンを次式（Ｉ
ＩＩ） 【化４】 で表される環状アミン［各式中、Ｘはハロゲン原子を表
し、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は式Ｉの定義と同じであ
る。］を用いた水中で、少なくとも１３０℃の温度でア
ミノリシスすることからなる方法。 - 【請求項８】 Ｘは塩素原子または臭素原子を表し、Ｒ
3 は式Ｉの定義と同じである式ＩＩで表されるｐ−ハロ
フェニルアルキルケトンを使用する請求項７記載の方
法。 - 【請求項９】 式ＩＩＩで表される環状アミンの量が式
ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトンに基づ
いて、約２．５ないし１２モル当量である請求項７また
は８記載の方法。 - 【請求項１０】 水の量が式ＩＩで表されるｐ−ハロフ
ェニルアルキルケトンに基づいて約１ないし１００モル
当量である請求項７ないし９のいずれかの１項に記載の
方法。 - 【請求項１１】 反応を加圧容器中、加圧下で実施する
ことからなる請求項７ないし１０のいずれかの１項に記
載の方法。 - 【請求項１２】 温度が約１４０℃ないし２４０℃の範
囲内である請求項７ないし１１のいずれかの１項に記載
の方法。 - 【請求項１３】 式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルア
ルキルケトンを水および環状アミンと共に反応容器中に
入れ、反応中に最終温度に達するまで素早くまたは徐々
に加熱することからなる請求項７ないし１２のいずれか
の１項に記載の方法。 - 【請求項１４】 式ＩＩで表されるｐ−ハロフェニルア
ルキルケトンを反応温度まで予め加熱された水および環
状アミン中に反応中に添加することからなる請求項７な
いし１２のいずれかの１項に記載の方法。 - 【請求項１５】 式ＩＩ［式中、Ｒ3 は直鎖のまたは分
岐した未置換の炭素原子数２ないし７のアルキル基を表
す。］で表されるｐ−ブロモフェニルアルキルケトン１
部またはｐ−クロロフェニルアルキルケトン１部を、式
ＩＩＩ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個の−
Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中断されて
もよい炭素原子数４ないし６のアルキレン基を表し、お
よびＲ4 は水素原子またはメチル基を表す。］で表され
る環状アミン５部および水５部とともに反応容器中に入
れ、この混合物を加圧下でｐ−ブロモフェニルアルキル
ケトンの場合約１６０℃ないし１８０℃の温度で、また
ｐ−クロロフェニルアルキルケトンの場合約２００℃な
いし２３０℃の温度で反応させることからなる請求項７
記載の方法。 - 【請求項１６】 式ＩＩＩ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は
一緒になって１個の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）
基によって中断されてもよい炭素原子数４ないし６のア
ルキレン基を表し、およびＲ4 は水素原子またはメチル
基を表す。］で表される環状アミン１０ないし２０部を
水２０ないし４０部と共に反応容器中に入れ、式ＩＩ
［Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換の炭素原子数２な
いし７のアルキル基を表す。］で表されるｐ−クロロフ
ェニルアルキルケトン２ないし４部を添加し、この混合
物を加圧下で約２１０℃ないし２３０℃の温度で反応さ
せる請求項７記載の方法。 - 【請求項１７】 次式Ｉ 【化５】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個またはそれ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置
換された炭素原子数３ないし２０のアルキレン基を表
し、Ｒ3 は直鎖のまたは分岐した未置換のまたは置換さ
れた炭素原子数２ないし２０のアルキル基を表し、およ
びＲ4 は水素原子、直鎖のまたは分岐した炭素原子数１
ないし３のアルキル基、直鎖のまたは分岐した炭素原子
数３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキ
シアルキル基またはフェニル基を表す。］で表される化
合物または請求項１３ないし２３のいずれかの１項に記
載される方法によって得られる化合物を、次式ＩＶ 【化６】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個またはそれ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよいおよび／または水酸基、炭素原子数１な
いし４のアルコキシ基、ヒドロキシメチル基、炭素原子
数１ないし４のアルコキシメチル基、−ＣＯＯ（炭素原
子数１ないし４のアルキル）基またはフェニル基によっ
て置換されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換の炭素
原子数３ないし２０のアルキレン基を表し、Ｒ3 は未置
換のまたは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、フェ
ノキシ基、シクロヘキシル基またはフェニル基によって
置換された直鎖のまたは分岐した炭素原子数２ないし２
０のアルキル基を表し、Ｒ4 は水素原子、炭素原子数１
ないし３のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケ
ニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、
炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基またはフ
ェニル基を表し、Ｒ5 は、（ａ）次式 【化７】 （式中、ｐは零または１をあらわす。）で表される基か
（ｂ）次式 【化８】 （式中、ｑは零、１、２、または３を表す。）で表され
る基か（ｃ）次式 【化９】 （式中、Ａｒは未置換のまたはハロゲン原子、ＯＨ、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基またはＯＨ、ハロゲ
ン原子、−Ｎ（Ｒ12）2 、炭素原子数１ないし１２のア
ルコキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアル
キル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 または
−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によっ
て置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基によっ
て；炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基によって；
または−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）
基または−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 によって
置換された炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によっ
て；または−（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＨ、−（ＯＣＨ2
ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、炭素原子数１ないし８のアルキル
チオ基、フェノキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし
１８のアルキル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣ
Ｈ3 、フェニル基またはベンゾイル基によって置換され
たフェニル、ナフチル、フリル、チエニルまたはピリジ
ル基を表し、式中、ｎは１ないし２０を表す。）で表さ
れる基を表し、各式中Ｒ12は水素原子、炭素原子数１な
いし８のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニ
ル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭
素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基またはフェ
ニル基を表し、Ｒ8 は水素原子、炭素原子数１ないし８
のアルキル基またはフェニル基を表し、およびＲ9 、Ｒ
10およびＲ11は他と互いに独立して水素原子または炭素
原子数１ないし４のアルキル基を表すか、またはＲ9 お
よびＲ10は一緒になって炭素原子数３ないし７のアルキ
レン基を表し、Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし１
２のアルキル基；水酸基、炭素原子数１ないし４のアル
コキシ基、−ＣＮまたは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし
４のアルキル）基によって置換された炭素原子数２ない
し４のアルキル基；炭素原子数３ないし５のアルケニル
基、炭素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、Ｒ
7 は炭素原子数１ないし１２のアルキル基；水酸基、炭
素原子数１ないし４のアルコキシ基、−ＣＮまたは−Ｃ
ＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって置
換された炭素原子数２ないし４のアルキル基；炭素原子
数３ないし５のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２
のシクロアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニル
アルキル基、フェニル基またはハロゲン原子、炭素原子
数１ないし１２のアルキル基、炭素原子数１ないし４の
アルコキシ基または−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４の
アルキル）基にっよて置換されたフェニル基を表すか、
またはＲ7 はＲ3 と一緒になって炭素原子数１ないし７
のアルキレン基、炭素原子数７ないし１０のフェニルア
ルキレン基、ｏ−キシリレン基、２−ブテニレン基また
は炭素原子数２ないし３のオキサアルキレン基またはア
ザアルキレン基を表すか、またはＲ6 およびＲ7 は一緒
になって−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−または−Ｎ（Ｒ13）
−によって中断されてもよいまたは水酸基、炭素原子数
１ないし４のアルコキシ基または−ＣＯＯ（炭素原子数
１ないし４のアルキル）基によって置換されてもよい炭
素原子数３ないし７のアルキレン基を表し、Ｒ13は水素
原子、１個またはそれ以上の−Ｏ−によって中断されて
もよい炭素原子数１ないし１２のアルキル基；炭素原子
数３ないし５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９の
フェニルアルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキ
シアルキル基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＣＨ2 ＣＨ2 Ｃ
ＯＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基、炭素原子
数２ないし８のアルカノイル基またはベンゾイル基を表
す。］で表されるラジカル光開始剤またはその酸付加塩
の製造のために使用する方法。 - 【請求項１８】 次式ＩＶ 【化１０】 ［式中、Ｒ1 およびＲ2 は一緒になって１個またはそれ
以上の−Ｏ−、−Ｓ−または−Ｎ（Ｒ4 ）基によって中
断されてもよく、および／または水酸基、炭素原子数１
ないし４のアルコキシ基、ヒドロキシメチル基、炭素原
子数１ないし４のアルコキシメチル基、−ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）基またはフェニル基によ
って置換されてもよい直鎖のまたは分岐した未置換の炭
素原子数３ないし２０のアルキレン基を表し；Ｒ3 は未
置換のまたは炭素原子数１ないし４のアルコキシ基、フ
ェノキシ基、シクロヘキシル基またはフェニル基によっ
て置換された直鎖のまたは分岐した炭素原子数２ないし
２０のアルキル基を表し、Ｒ4 は水素原子、炭素原子数
１ないし３のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアル
ケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル
基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル基また
はフェニル基を表し；Ｒ5 は(a) 次式 【化１１】 （式中、ｐは零または１をあらわす。）で表される基か
(b) 次式 【化１２】 （式中、ｑは零、１、２、または３を表す。）で表され
る基か(c) 次式 【化１３】 （式中、Ａｒは未置換のまたはハロゲン原子、ＯＨ、炭
素原子数１ないし１２のアルキル基またはＯＨ、ハロゲ
ン原子、−Ｎ（Ｒ12）2 、炭素原子数１ないし１２のア
ルコキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアル
キル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 または
−ＯＣＯ（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によっ
て置換された炭素原子数１ないし４のアルキル基によっ
て；炭素原子数１ないし１２のアルコキシ基によって、
または−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし１８のアルキル）
基または−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 によって
置換された炭素原子数１ないし４のアルコキシ基によっ
て；または−（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＨ、−（ＯＣＨ2
ＣＨ2 ）n ＯＣＨ3 、炭素原子数１ないし８のアルキル
チオ基、フェノキシ基、−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし
１８のアルキル）基、−ＣＯ（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）n ＯＣ
Ｈ3 、フェニル基またはベンゾイル基によって置換され
たフェニル、ナフチル、フリル、チエニルまたはピリジ
ル基を表し、ｎは１ないし２０を表す。）で表される基
を表し、各式中Ｒ12は水素原子、炭素原子数１ないし８
のアルキル基、炭素原子数３ないし５のアルケニル基、
炭素原子数７ないし９のフェニルアルキル基、炭素原子
数１ないし４のヒドロキシアルキル基またはフェニル基
を表し、Ｒ8 は水素原子、炭素原子数１ないし８のアル
キル基またはフェニル基を表し、およびＲ9 、Ｒ10およ
びＲ11は他と互いに独立して水素原子または炭素原子数
１ないし４のアルキル基を表すか、またはＲ9 およびＲ
10は一緒になって炭素原子数３ないし７のアルキレン基
を表し、Ｒ6 は水素原子、炭素原子数１ないし１２のア
ルキル基；水酸基、炭素原子数１ないし４のアルコキシ
基、−ＣＮまたは−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のア
ルキル）基によって置換された炭素原子数２ないし４の
アルキル基；炭素原子数３ないし５のアルケニル基、炭
素原子数５ないし１２のシクロアルキル基または炭素原
子数７ないし９のフェニルアルキル基を表し、Ｒ7 は炭
素原子数１ないし１２のアルキル基；水酸基、炭素原子
数１ないし４のアルコキシ基、−ＣＮまたは−ＣＯＯ
（炭素原子数１ないし４のアルキル）基によって置換さ
れた炭素原子数２ないし４のアルキル基；炭素原子数３
ないし５のアルケニル基、炭素原子数５ないし１２のシ
クロアルキル基、炭素原子数７ないし９のフェニルアル
キル基、フェニル基またはハロゲン原子、炭素原子数１
ないし１２のアルキル基、炭素原子数１ないし４のアル
コキシ基または−ＣＯＯ（炭素原子数１ないし４のアル
キル）基によって置換されたフェニル基を表すか、また
はＲ7 はＲ3 と一緒になって炭素原子数１ないし７のア
ルキレン基、炭素原子数７ないし１０のフェニルアルキ
レン基、ｏ−キシリレン基、２−ブテニレン基または炭
素原子数２ないし３のオキサアルキレン基またはアザア
ルキレン基を表すか、またはＲ6 およびＲ7 は一緒にな
って−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−または−Ｎ（Ｒ13）−に
よって中断されてもよいまたは水酸基、炭素原子数１な
いし４のアルコキシ基または−ＣＯＯ（炭素原子数１な
いし４のアルキル）基によって置換された炭素原子数３
ないし７のアルキレン基を表し、Ｒ13は水素原子、１個
またはそれ以上の−Ｏ−によって中断されてもよい炭素
原子数１ないし１２のアルキル基；炭素原子数３ないし
５のアルケニル基、炭素原子数７ないし９のフェニルア
ルキル基、炭素原子数１ないし４のヒドロキシアルキル
基、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＮ、−ＣＨ2 ＣＨ2 ＣＯＯ（炭素
原子数１ないし４のアルキル）基、炭素原子数２ないし
８のアルカノイル基またはベンゾイル基を表す。］で表
されるラジカル光開始剤またはその酸付加塩を製造する
ための方法であって、次式ＩＩ 【化１４】 で表されるｐ−ハロフェニルアルキルケトンと次式ＩＩ
Ｉ 【化１５】 で表される環状アミン［各式中、Ｘはハロゲン原子を表
し、Ｒ1 、Ｒ2 およびＲ3 は上記の定義と同じであ
る。］との、少なくとも１３０℃の温度で水中での、次
式Ｉ 【化１６】 で表される環状アミンによって置換されたフェニルアル
キルケトンへのアミノリシス、該式１で表されるフェニ
ルアルキルケトン化合物のハロゲン化、次式 【化１７】 で表されるアミンとの反応、引き続いて起こるＲ5 を導
入する化合物との反応、および塩基性条件下で行われる
スティーブンス転移による方法。 - 【請求項１９】 請求項１７記載の式ＩＶで表される光
開始剤または請求項１８記載の方法により得られる光開
始剤をエチレン性不飽和化合物の光重合のために使用す
る方法。 - 【請求項２０】 請求項１７記載の式ＩＶで表される光
開始剤または請求項１８記載の方法により得られる光開
始剤を、印刷インクまたは白色仕上剤のような光硬化着
色システム、フォトレジストおよびプリント板の製造の
ための紫外線硬化性印刷インクのような光硬化非着色シ
ステムおよび表面上で昼光で後硬化する表面ワニスのた
めに使用する方法。 - 【請求項２１】 Ａ）少なくとも１個のエチレン性不飽
和光重合化合物、および Ｂ）請求項１７記載の式ＩＶで表される少なくとも１個
の光開始剤または請求項１８記載の方法により得られる
少なくとも１個の光開始剤および、 Ｃ）所望の他の既知のおよび慣用の添加剤 からなる光重合性組成物。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CH113896 | 1996-05-03 | ||
| CH1138/96 | 1996-05-03 |
Publications (3)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH1087643A true JPH1087643A (ja) | 1998-04-07 |
| JPH1087643A5 JPH1087643A5 (ja) | 2005-03-17 |
| JP4545835B2 JP4545835B2 (ja) | 2010-09-15 |
Family
ID=4203382
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12794597A Expired - Lifetime JP4545835B2 (ja) | 1996-05-03 | 1997-05-01 | 環状アミンにより置換されたフェニルアルキルケトンおよび該化合物の製造方法 |
Country Status (14)
| Country | Link |
|---|---|
| US (3) | US5795985A (ja) |
| EP (2) | EP1468994B1 (ja) |
| JP (1) | JP4545835B2 (ja) |
| KR (2) | KR100507664B1 (ja) |
| CN (2) | CN1072662C (ja) |
| AT (2) | ATE489373T1 (ja) |
| BR (1) | BR9703050A (ja) |
| CA (1) | CA2204200C (ja) |
| DE (2) | DE59712337D1 (ja) |
| DK (2) | DK1468994T3 (ja) |
| ES (2) | ES2356448T3 (ja) |
| ID (1) | ID16845A (ja) |
| TW (1) | TW455592B (ja) |
| ZA (1) | ZA973797B (ja) |
Families Citing this family (46)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5681380A (en) | 1995-06-05 | 1997-10-28 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Ink for ink jet printers |
| JP4202423B2 (ja) * | 1996-08-05 | 2008-12-24 | バイエル・アクチエンゲゼルシヤフト | ２―および２，５―置換フェニルケトエノール |
| US6524379B2 (en) | 1997-08-15 | 2003-02-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| AU3496199A (en) * | 1998-04-17 | 1999-11-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
| SK1542000A3 (en) | 1998-06-03 | 2001-11-06 | Kimberly Clark Co | Neonanoplasts produced by microemulsion technology and inks for ink jet printing |
| SK1552000A3 (en) | 1998-06-03 | 2000-08-14 | Kimberly Clark Co | Novel photoinitiators and applications therefor |
| JP2002520470A (ja) | 1998-07-20 | 2002-07-09 | キンバリー クラーク ワールドワイド インコーポレイテッド | 改良されたインクジェットインク組成物 |
| BR9914123B1 (pt) | 1998-09-28 | 2010-11-30 | fotoiniciadores e aplicações para os mesmos. | |
| EP1144512B1 (en) | 1999-01-19 | 2003-04-23 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel colorants, colorant stabilizers, ink compositions, and improved methods of making the same |
| US6331056B1 (en) | 1999-02-25 | 2001-12-18 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Printing apparatus and applications therefor |
| US6294698B1 (en) | 1999-04-16 | 2001-09-25 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Photoinitiators and applications therefor |
| US6368395B1 (en) | 1999-05-24 | 2002-04-09 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Subphthalocyanine colorants, ink compositions, and method of making the same |
| SE0001866D0 (sv) * | 2000-05-18 | 2000-05-18 | Astrazeneca Ab | A new process |
| AU2001269905A1 (en) * | 2000-06-19 | 2002-01-08 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Novel photoinitiators and applications therefor |
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| RU2005116302A (ru) * | 2002-10-28 | 2006-01-20 | Циба Спешиалти Кемикэлз Холдинг Инк. (Ch) | Улучшение стабильности фотоинициаторов при хранении |
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| US20070048247A1 (en) * | 2005-08-31 | 2007-03-01 | Kimberly-Clark Worldwide, Inc. | Deodorizing tablets |
| CN102112497B (zh) | 2008-06-06 | 2013-04-10 | 巴斯夫欧洲公司 | 光引发剂混合物 |
| CN101792497B (zh) * | 2010-01-28 | 2013-03-13 | 四川大学 | 一种光敏剂及其光引发剂组合物 |
| CN103360272A (zh) * | 2012-04-10 | 2013-10-23 | 北京英力科技发展有限公司 | 一种季铵盐的制备方法及其用途 |
| AT514594B1 (de) | 2013-09-06 | 2015-02-15 | Durst Phototech Digital Tech | Photoinitiator |
| CN105384707B (zh) * | 2014-09-03 | 2018-04-17 | 山东久日化学科技有限公司 | 一种α‑氨基苯乙酮类光引发剂的制备方法 |
| JP6449445B2 (ja) | 2014-09-04 | 2019-01-09 | アイ ジー エム マルタ リミテッド | 多環式光開始剤 |
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- 1997-04-21 US US08/847,519 patent/US5795985A/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 DE DE59712337T patent/DE59712337D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 ES ES04102145T patent/ES2356448T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 EP EP04102145A patent/EP1468994B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 ES ES97810255T patent/ES2242974T3/es not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 DE DE59713049T patent/DE59713049D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-24 AT AT04102145T patent/ATE489373T1/de active
- 1997-04-24 DK DK04102145.2T patent/DK1468994T3/da active
- 1997-04-24 AT AT97810255T patent/ATE297387T1/de not_active IP Right Cessation
- 1997-04-24 DK DK97810255T patent/DK0805152T3/da active
- 1997-04-24 EP EP97810255A patent/EP0805152B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-29 ID IDP971429A patent/ID16845A/id unknown
- 1997-04-30 CN CN97110835A patent/CN1072662C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-04-30 CN CNB00135342XA patent/CN1168700C/zh not_active Expired - Lifetime
- 1997-05-01 CA CA002204200A patent/CA2204200C/en not_active Expired - Lifetime
- 1997-05-01 JP JP12794597A patent/JP4545835B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1997-05-01 TW TW086105781A patent/TW455592B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-05-02 ZA ZA9703797A patent/ZA973797B/xx unknown
- 1997-05-02 KR KR1019970017007A patent/KR100507664B1/ko not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| KR100507664B1 (ko) | 2005-11-22 |
| KR970074775A (ko) | 1997-12-10 |
| DK0805152T3 (da) | 2005-08-08 |
| JP4545835B2 (ja) | 2010-09-15 |
| CA2204200A1 (en) | 1997-11-03 |
| US5977357A (en) | 1999-11-02 |
| ATE297387T1 (de) | 2005-06-15 |
| EP1468994A1 (de) | 2004-10-20 |
| TW455592B (en) | 2001-09-21 |
| CN1072662C (zh) | 2001-10-10 |
| EP0805152A3 (de) | 1998-01-28 |
| ES2242974T3 (es) | 2005-11-16 |
| CN1309116A (zh) | 2001-08-22 |
| US5795985A (en) | 1998-08-18 |
| ZA973797B (en) | 1997-12-01 |
| DE59712337D1 (de) | 2005-07-14 |
| DK1468994T3 (da) | 2011-02-21 |
| BR9703050A (pt) | 1998-09-01 |
| ATE489373T1 (de) | 2010-12-15 |
| ID16845A (id) | 1997-11-13 |
| EP0805152B1 (de) | 2005-06-08 |
| EP1468994B1 (de) | 2010-11-24 |
| KR100479989B1 (ko) | 2005-03-31 |
| MX9703235A (es) | 1997-11-29 |
| CA2204200C (en) | 2007-04-10 |
| DE59713049D1 (de) | 2011-01-05 |
| US6191182B1 (en) | 2001-02-20 |
| EP0805152A2 (de) | 1997-11-05 |
| ES2356448T3 (es) | 2011-04-08 |
| CN1166487A (zh) | 1997-12-03 |
| CN1168700C (zh) | 2004-09-29 |
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| A977 | Report on retrieval |
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|
| A601 | Written request for extension of time |
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| R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
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|
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