JPH11500479A - 第４級化ポリジメチルシロキサンおよび非イオン性界面活性剤からなる清浄組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 表面を清浄にすると共に、該表面上に引き続いて付着された汚れの放出を助勢する陽イオン性界面活性剤の層を該表面上に付着すると信じられる、界面活性剤含有改善組成物であって、該界面活性剤がａ）総界面活性剤に基づいて少なくとも６５重量％の非イオン性界面活性剤、ｂ）総界面活性剤に基づいて１重量％未満の陰イオン性界面活性剤、およびｃ）総界面活性剤に基づいて０．１〜３５重量％の第４級化ポリジメチルシロキサン好ましくは一般式［Ｒ₁Ｒ₂Ｒ₃Ｎ−Ｚ−［Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−Ｏ］_nＳｉ（ＣＨ₃）₂−Ｚ−ＮＲ₄Ｒ₅Ｒ₆］²⁺〔ここで、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆は独立的にアルキルまたは水素であり、Ｚは−ＣＨ₂−ＣＨＯＨ−ＣＨ₂Ｏ−（ＣＨ₂）₃−であり、そしてｎは１〜２００である。〕の陽イオンからなるものからなる上記改善組成物。

Description

【発明の詳細な説明】第４級化ポリジメチルシロキサンおよび非イオン性界面活性剤からなる清浄組成 物 技術分野 本発明は、第４級化ポリジメチルシロキサンおよび非イオン性界面活性剤の両 者を含む硬質表面用清浄組成物に関する。本発明の背景 木材、施釉タイル、塗装金属等のような硬質表面の伝統的清浄において、界面 活性剤または溶媒を基剤とした組成物を用いる汚れの除去に続いて、該表面を封 鎖して保護するように並びに汚れの再付着速度を減じるように別個の操作として ラッカー、ワックスまたは艶出剤を施用することが知られている。この二工程の 清浄および封鎖の操作は、時間がかかりかつ複雑である。 界面活性剤を基剤とした組成物中に成分を混入して、表面上へのかかる成分の 付着により一工程清浄操作で保護層が与えられるようにする、ことが知られてい る。 ＵＳ３６７９５９２（１９７２）は、界面活性剤および１〜１０重量％特に４ ％の、５００〜１００，０００の範囲の分子量を有する特定構造の薄膜形成性成 分を含んでなるアルカリ性 の清浄・汚れ保護組成物を開示する。使用の際、該組成物は、染みの付着を阻止 しかつ汚れの除去を助勢すると言われる。 ＧＢ１５２８５９２（１９７８）は、８．５またはそれ以上のｐＨを有する水 溶液に可溶である１００，０００〜２，５００，０００の範囲の分子量を有する 有機ポリカルボン酸コポリマーを含んでなるアルカリ性床清浄組成物を開示する 。これらのポリマーは、商業的量にて容易に入手できる。 ＧＢ１５３４７２２（１９７８）は、界面活性剤および“汚れ除去改善混合物 ”としてポリビニルアルコールまたはピロリドンとバイオポリサッカライドから なる粒状硬質表面清浄組成物を開示する。これらのポリマーは、約５０００〜約 ３６０，０００の範囲の分子量を有しかつ工業的に有用な量にて入手できる。該 組成物は、アルカリ性溶液を形成する。 ＵＳ０７／２９７８０７は、ＥＰ０４６７４７２Ａ２（コルゲート・パルモリ ーブ）に記載されているように、硬質表面清浄用混合非イオン性界面活性剤系に ２．３％の、陽イオン性ポリマーポリ［ベータ（メチルジエチルアンモニウム） エチル−メタクリレート］の１５〜２０％水溶液を混入すると、先に汚されそし て清浄にされたセラミックタイルの引き続く再清浄の 容易性の有意的改善がもたらされることになることを実証している。 ＥＰ０４６７４７２Ａ２は、陽イオン性ポリ［ベータ（メチルジエチルアンモ ニウム）エチル−メタクリレート］のようなしかしこれに限定されない汚れ放出 促進性ポリマーはまた陰イオン性および陽イオン性界面活性剤と組み合わせて有 効であることを開示する。この公開された出願において、「該吸着されたポリマ ーは該表面上で該汚れ放出促進性ポリマーの残留防汚性親水性層を形成し、それ により該表面上に引き続いて付着された汚れの除去は該残留層の不存在下におい てよりも少ない仕事しか要求されない」と述べられている。ポリマーの分子量範 囲は４，０００〜１００，０００の範囲になるけれども、５０，０００を越える 分子量を有するポリマーの使用は、溶解性の理由のために思い止まらせられる。 ＥＰ０３７９２５６は、上記の文献と同様な組成物であって、２重量％までの 随意的な、２，０００〜５００，０００の範囲の分子量の第４級化帯電防止性ポ リマーを有し、かつ２〜４の酸性ｐＨおよび２〜４重量％の非イオン性界面活性 剤系により特徴づけられる組成物を開示する。特定の例は、２．５のｐＨ を有し、かつ２．２重量％の混合非イオン性系および０．０７％の上記の特定の 陽イオン性ポリマーを含む組成物に関する。上記の変性ポリマーもまた、汚れ放 出剤として機能すると言われる。 上記のことに加えて、噴霧付与・拭き取り型のガラス清浄組成物においてビル ダーとして低分子量ポリアクリル樹脂を用いることが、ＵＳ４６０６８４２から 公知である。ＵＳ４６９０７７９においてベーカー等は、硬質表面清浄組成物に おける、５０００未満の分子量を有するポリアクリル酸のポリマーと或る非イオ ン性界面活性剤との組合わせの使用を開示する。これらの系における該ポリマー の主機能は、ビルダーとしてである。 上記のことから、一般にアルカリ性の硬質表面清浄組成物に或るポリマーを含 めて、該組成物が最初に該表面上に用いられるとき一次的清浄有益性をあるいは 汚れの付着を阻止するようもしくはそうでなければ反復清浄を容易にするよう該 表面の変性による二次的清浄有益性を得るようにすることが公知である、という ことが分かり得る。 特定の陽イオン性洗浄剤を含めて他の表面処理剤にいくらかの注意が払われた 。 ＷＯ９１／０９９３０（クエス・インダストリーズ）は、アルミニウム例えば 車両に見られるもののような金属表面に対して“エソクァット（ＥＴＨＯＱＵＡ Ｔ）”（商標）の使用を開示する。本発明の簡単な記載 我々は、表面を清浄にすると共に、該表面上に引き続いて付着された汚れの放 出を助勢する陽イオン性界面活性剤の層を該表面上に付着すると信じられる改善 組成物を案出した。 従って本発明は、界面活性剤を含んでなる水性硬質表面清浄組成物であって、 該界面活性剤が ａ）総界面活性剤に基づいて少なくとも６５重量％の非イオン性界面活性剤、 ｂ）総界面活性剤に基づいて１重量％未満の陰イオン性界面活性剤、および ｃ）総界面活性剤に基づいて０．１〜３５重量％の実質的に水溶性の第４級化ポ リジメチルシロキサン からなる上記組成物を提供する。本発明の詳細な記載 典型的には、陽イオン性界面活性剤は、一般式 ［Ｒ₁Ｒ₂Ｒ₃ Ｎ−Ｚ−［Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−Ｏ］_nＳｉ（ＣＨ₃）₂−Ｚ−ＮＲ₄Ｒ₅ Ｒ₆］²⁺ 〔ここで、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆は独立的にアルキルまたは水素で あり、Ｚは結合基であり、そしてｎは１〜２００である。〕 の陽イオンからなる。 適当な陽イオン性界面活性剤は、ＵＳ４８９１１６６に開示されている。 好ましくは、Ｒ₁およびＲ₆は、＞Ｃ６のアルキルである。 好ましくは、Ｚは、酸素原子により中断されていてもよい少なくとも４個の炭 素原子を有する二価炭化水素基である。好ましくは、Ｚは、−ＣＨ₂−ＣＨＯＨ −ＣＨ₂Ｏ−（ＣＨ₂）₃−である。 好ましくは、Ｒ_{2 〜3}およびＲ_{4 〜5}は、独立的にＣ_{1 〜6}アルキルまたは水素であ る。両端に第４級化窒素を有する分子は、かかる配置において高度に対称的であ る、ということが留意される。 好ましくは、ｎは、８〜１００最も好ましくは１０〜８０である。 特に好ましい陽イオン性界面活性剤物質は、上記に記載されたような陽イオン を含有すると信じられるテゴプレン（ＴＥＧＯＰＲＥＮ）６９２０（商標）、テ ゴプレン（ＴＥＧＯＰＲＥＮ）６９２２（商標）およびテゴプレン（ＴＥＧＯＰ ＲＥＮ）６９２４（商標）である。 本発明の組成物中に存在する陽イオン性界面活性剤は、該組成物が施用される 表面の表面エネルギーを改変して、この変性表面上に引き続いて付着される汚れ の接触角を上げるようにする、と信じられる。これはまた、該表面を疎水性にす る効果を有する。本発明による組成物の使用者はまた、比較的滑らかな表面に関 して、清浄中布と該表面との相互作用の改変があることを注目した。これは、“ 滑走”感または“滑動”感と述べられる。布と該表面の間の見掛け摩擦のこの低 減は、清浄操作にかなり少ない労力を要求するように思えるようにする、と信じ られる。下記に与えられた結果は労力が実際に低減されることを示す一方、使用 者は労力が多くの表面に関して更に一層低いレベルまで低減されるであろうと考 え得ると信じられる。 好ましい陽イオン性物質は、該陽イオン性物質で処理された表面に施用される 試験液の接触角に顕著な影響を及ぼす。かく して、処理されなかったガラスについて、１０マイクロリットルのドデカン液滴 の接触角は５度未満である。本発明を具現化する組成物即ち以下に更に詳細に記 載されているような５％非イオン性物質および１％陽イオン性物質の水溶液で処 理されるとき、該ドデカン液滴の接触角は典型的には２０度を越える角度に増大 される。 本発明は、正味陰電荷を有する硬質表面を清浄にする方法であって、本発明の 製品観点による組成物で該表面を処理することからなる上記方法に及ぶ。 本発明の組成物が非イオン性界面活性剤を含むことは必須である。非イオン性 界面活性剤の存在は、本発明の組成物の清浄有効性に有意的に寄与すると信じら れる。 適当な非イオン性界面活性剤化合物は、広範には、性質上親水性であるアルキ レンオキシド基と性質上脂肪族またはアルキル芳香族であり得る有機疎水性化合 物との縮合により生成される化合物と述べられ得る。 いかなる特定の疎水性基とも縮合される親水性基またはポリオキシアルキレン 基の長さは、親水性要素と疎水性要素の間の所望のバランス度を有する水溶性化 合物を生じるよう容易に調 整され得る。 特定の例は、ヤシアルコール１モル当たり２〜１５モルのエチレンオキシドを 有するヤシ油エチレンオキシド縮合物のような、直鎖または分枝鎖のいずれかの 配置の６〜２２個の炭素原子を有する脂肪族アルコールとエチレンオキシドとの 縮合生成物，アルキル基が６〜１２個の炭素原子を含有するアルキルフェノール とアルキルフェノール１モル当たり５〜２５モルのエチレンオキシドとの縮合物 ，エチレンジアミンおよびプロピレンオキシドの反応生成物とエチレンオキシド との縮合物であって、重量により４０〜８０％のポリオキシエチレン基を含有し かつ５，０００〜１１，０００の分子量を有する該縮合物，構造Ｒ₃ＮＯ（ここ で、一つの基Ｒは８〜１８個の炭素原子のアルキル基であり、そして他のものは 各々メチル、エチルまたはヒドロキシエチル基である。）の第３級アミンオキシ ド例えばジメチルドデシルアミンオキシド，構造Ｒ₃ＰＯ（ここで、一つの基Ｒ は１０〜１８個の炭素原子のアルキル基であり、そして他のものは各々１〜３個 の炭素原子のアルキルまたはヒドロキシアルキル基である。）の第３級ホスフィ ンオキシド例えばジメチルドデシルホスフィンオキシド，および構造Ｒ₂ＳＯ （ここで、一方の基Ｒは１０〜１８個の炭素原子のアルキル基であり、そして他 方のものはメチルまたはエチルである。）のジアルキルスルホキシド例えばメチ ルテトラデシルスルホキシド，脂肪酸アルキロールアミド，脂肪酸アルキロール アミドおよびアルキルメルカプタンのアルキレンオキシド縮合物を含む。 特に好ましい非イオン性界面活性剤は、６〜１４個の炭素および２〜９モルの エトキシ化を有するエトキシ化アルコールである。適当な物質は、平均して５モ ルのエトキシ化を有するＣ₁₀非イオン性物質であるインベンチン（ＩＭＢＥＮＴ ＩＮ）９１／３５ＯＦＡ（商標）を含む。 更に多くの非イオン性界面活性剤は、「エム・ジェイ・シック，ノニオニック ・サーファクタンツ（Ｎｏｎｉｏｎｉｃ Ｓｕｒｆａｃｔａｎｔｓ），マーセル ・デッカー（１９６７）」および同じ著作の続版に記載されているように、当業 者に公知である。 本発明の組成物において用いられるべき非イオン性界面活性剤の量は、一般に １〜３０重量％好ましくは２〜２０重量％最も好ましくは５〜１５重量％である 。 疎水性油は、本発明による組成物の随意的成分である。適当 な油は、トリグリセリドを速やかに溶解する油を含む。油が存在するとき、好ま しい油は、リモネン、パラ−シメン、ジブチルエーテルおよびブチルブチレート を含む。 本発明の組成物が低レベルの陰イオン性洗浄活性物質を含むにすぎないかある いはこれらの活性物質が実際的である限りにおいて不存在である、ことが必須で ある。陰イオン性洗浄剤の存在は陽イオン性洗浄剤と陰イオン性洗浄剤との間の 錯体の形成を引き起こし、しかしてこのことは該組成物の有効性を低減しよう。 非イオン性界面活性剤対陰イオン性および陽イオン性界面活性剤の比率は、組 成物中に存在する総界面活性剤の＞７５％が非イオン性である、ことが特に好ま しい。 本発明による組成物は、それらの清浄性能を助勢する他の成分を含有し得る。 例えば、本組成物は、炭酸塩および重炭酸塩、ニトリロトリ酢酸塩、ポリカル ボン酸塩、クエン酸塩、ジカルボン酸、水溶性リン酸塩特にポリリン酸塩、オル トおよびピロリン酸塩の混合物、ゼオライト並びにそれらの混合物のような洗浄 剤ビルダーを含有し得る。かかるビルダー特にリン酸塩および炭酸塩は また、それらの水中溶解度を越える量にて存在する場合、研磨剤として機能し得 る。しかしながら、本発明の組成物は、すすぎの困難性または表面の損傷が起こ り得る場合は研磨剤粒子を本質的に含まないとが好ましい。一般に、ビルダーは 、該組成物の０．１〜２５重量％を形成する。 エチレンジアミンテトラアセテート、アミノ−ポリホスホネート（デクェスト （ＤＥＱＵＥＳＴ）（登録商標））およびホスフェート並びに種々様々な他の多 官能性有機酸および塩のような金属イオン封鎖剤もまた、随意に用いられ得る。 本発明による組成物にとっての更なる随意的成分は泡調整物質であり、しかし て該物質は、使用の際過度の泡を生じる傾向を有するような本発明による組成物 において用いられ得る。泡調整物質の例は、有機溶媒、疎水性シリカおよびシリ コーン油または炭化水素である。 本発明による組成物はまた、既に挙げられた成分に加えて、ｐＨ調整剤、着色 剤、流動学的制御剤（ポリマーを含めて）、蛍光増白剤、汚れ懸濁剤、洗浄性酵 素、相容性漂白剤、ゲル制御剤、凍結・解凍安定剤、殺菌剤、保存剤、洗浄剤ヒ ドロトロープ、香料および不透明剤のような種々の他の随意的成分を含 有し得る。 溶媒は、本発明の組成物中に存在し得る。典型的溶媒は、アルコールおよびエ ーテル特にモノおよびジアルキルエーテル、アルキルポリエーテルおよびポリエ ーテルそれ自体並びにＮ−メチルピロリジノンを含む。溶媒は好ましくは３〜２ ０重量％のレベルにて存在し、しかして５〜１０％のレベルが特に好ましい。グ リコールエーテルおよび／または１〜５個の炭素を有する低級アルコールが溶媒 として好ましいけれども、エチルアセテートを含めて短アルキル鎖エステルの使 用もまた考慮される。 好ましくは、溶媒は、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ジプロ ピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、プロピレングリコールモノｔ−ブチ ルエーテル、ジプロピレングリコールモノｔ−ブチルエーテル、ジエチレングリ コールヘキシルエーテル、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、 エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエー テル、Ｎ−メチルピロリジノンおよびそれらの混合物から選択される。 特に好ましい溶媒は、エタノール（好ましくは、工業用メタ ノール変性アルコールとして）、プロピレングリコールモノｎ−ブチルエーテル （“ドワノール（Ｄｏｗａｎｏｌ）ＰｎＢ”（登録商標）として入手できる。） 、Ｎ−メチルピロリジノン（そのまま入手できる。）およびジエチレングリコー ルモノブチルエーテル（“ブチルジゴール（Ｂｕｔｙｌ Ｄｉｇｏｌ）”（登録 商標）または“ブチルカービトール（Ｂｕｔｙｌ Ｃａｒｂｉｔｏｌ）”（登録 商標）として入手できる。）からなる群から選択される。これらの溶媒は、コス ト、入手性および安全性の因子に因り好ましい。我々は、溶媒のこの選択がイン キおよび染料に関して向上された清浄性能を与えることを確定した。 燃焼されたまたはそうでなければ架橋された汚れの清浄が考慮される具体的態 様においては、本組成物が１〜１０％のアルカノールアミンを含むことが特に好 ましく、しかして２〜６重量％のレベルが特に好ましい。 特に適当なアルカノールアミンは、２−アミノ−２−メチル−１−プロパノー ル、モノエタノールアミンおよびジエタノールアミンを含む。 我々は、本発明の組成物が比較的微細なミストとして噴霧さ れるとき格別微細な液滴の形成のレベルを低減するよう本発明の組成物中にポリ マーを含めることが特に有利であるということを確定した。適当なポリマーは、 市場においてポリマー（Ｐｏｌｙｍｅｒ）ＰＶＰ Ｋ−９０として入手できるポ リビニルピロリドンを含む。 ＰＶＰポリマーの適当なレベルは、５０ｐｐｍ以上の範囲にある。３００〜２ ０００ｐｐｍのレベルが特に好ましい。 本発明の組成物はアルカリ性、酸性または中性であり得るけれども、該組成物 は好ましいｐＨ＞６を有し、そして台所汚れについては該組成物は一般にアルカ リ性であることが好ましい。 特に好ましい組成物は、＞１０のｐＨを有しかつ水と混合して ａ）３〜１５％の非イオン性界面活性剤（好ましくは、Ｃ９〜Ｃ１２のＥＯ５〜 ８非イオン性界面活性剤）、 ｂ）２〜１０％の溶媒（好ましくは、ジエチレングリコールモノｎ−ブチルエー テル）、 ｃ）２〜６％のアルカノールアミン（好ましくは、２−アミノ−２−メチル−１ −プロパノール）、 ｄ）０〜５％の緩衝剤／アルカリ（好ましくは、アルカリ金属 炭酸塩）、 ｅ）０〜２０００ｐｐｍのポリマー（好ましくは、ＰＶＰ）、および ｆ）０．１〜２％の、一般式 ［Ｒ₁Ｒ₂Ｒ₃Ｎ−Ｚ−［Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−Ｏ］_nＳｉ（ＣＨ₃）₂−Ｚ−ＮＲ₄Ｒ₅Ｒ₆ ］²⁺ 〔ここで、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆は独立的にアルキルまたは水素で あり、Ｚは−ＣＨ₂−ＣＨＯＨ−ＣＨ₂Ｏ−（ＣＨ₂）₃−であり、そしてｎは１〜 ２００である。〕 の陽イオンからなる陽イオン性界面活性剤 を含み、しかも該組成物は噴霧操作当たり０．１〜１．５ｍｌの製品の噴霧を生 じかつ該噴霧が３０〜３００ミクロンの範囲の平均滴サイズを有するように適合 された容器中に包装されている。 本発明が一層十分に理解され得るようにするために、本発明は以後例として述 べられる。例 ５％の非イオン性界面活性剤および比較的低レベルの陽イオ ン性界面活性剤を含む水性組成物を、次の物質即ち ＮＯＮＩ： インベンチン（ＩＭＢＥＮＴＩＮ）９１／３５０ＦＡ ＣＴＡＢ： セチルトリメチルアンモニウムブロマイド ｃａｔＡ： テゴプレン（ＴＥＧＯＰＲＥＮ）６９２０（ｎ＝１０） ｃａｔＢ： テゴプレン（ＴＥＧＯＰＲＥＮ）６９２２（ｎ＝３０） ｃａｔＣ： テゴプレン（ＴＥＧＯＰＲＥＮ）６９２４（ｎ＝８０） を用いて下記の第１表においてように製造した。 結果“ＥＴｈ”および“ＥＰｈ”は、下記に説明される。典型的な単鎖アルキ ル陽イオン性界面活性剤であるＣＴＡＢが対照として選択され、何故ならそれは 、ＮＯＮＩの５％水溶液中の陽イオン性物質の１％溶液で処理されたスライドガ ラス上に置かれたドデカン液滴の接触角に有意的に低い影響を及ぼすからである 。これらの接触角は、下記に“角度”評点として第１表に与えられている。 ＣＴＡＢで処理された表面の表面エネルギーガンマ_sｍＮ． ｍ^-1は２５ｍＮ．ｍ^-1程度であると信じられるのに対して、本発明の組成物にお いて用いられた陽イオン性物質の同様な溶液で処理された表面の表面エネルギー は２５ｍＮ．ｍ^-1より小さかった。 これらの例についての汚れ表面を作製するために、１００ｇの脱水ヒマシ油（ ユニケマ社製）をガラスジャー中に計り取った。これに０．２ｇのファット・レ ッド（Ｆａｔ Ｒｅｄ）（商標）染料（シムガ社製）を添加し、そしてこの混合 物をヘイドルフ（Ｈｅｉｄｏｌｐｈ）撹拌機を用いて激しく（２０００ＲＰＭ） ６時間撹拌した。撹拌されたこの混合物は、使用中にない時冷蔵された。 新しい湿ったジェイ−クロス（Ｊ−ＣＬＯＴＨ）（商標）を用いて順次ジフ・ ラック（ＪＩＦ ＬＡＣ）（商標）、商業的 に入手できるブランドの手洗い式用皿洗い液およびカルサイト粉末を用いて、ガ ラス質エナメルタイル（３８０×３００ｍｍ）を清浄にした。乾燥後、ペーパー タオルで磨くことにより残留カルサイトを除去した。 新しい湿ったジェイ−クロス（Ｊ−ＣＬＯＴＨ）を用いて１ｍｌの第１表に挙 げられている組成物を、清浄にされたタイル上に擦りつけた。これらのタイルを 水道水で１５秒間すすいで過剰の組成物を除去し、そして水切りした。これらの 前処理されたタイルに、デヴィルビス（ＤｅＶｉｌｂｉｓｓ）（商標）重力供給 スプレーガン（形式ＭＰＳ−５１４／５１５）を用いてかつ２５ｐｓｉの圧縮空 気を用いて２７ｃｍ離れて３５秒間噴霧することにより、２１５×１５０ｍｍの 面積にわたって汚した。これらの汚されたタイルを、８５摂氏の炉中に水平に置 きそして２時間熱的に老化させ（次いで一夜放置させた。）あるいは光化学的に （３〜６日間日光への暴露により）老化させた。湿ったジェイ−クロス（Ｊ−Ｃ ＬＯＴＨ）および１〜２ｍｌの、下記の第３表に与えられている処方物からなる 対照組成物を用いて、タイルを手により清浄にした。 タイルを清浄にするために要求された労力は、熱的に老化されたタイルについ ては第１表において“ＥＴｈ”としてそして光化学的に老化されたタイルについ ては“ＥＰｈ”として決定された。 新しい湿ったジェイ−クロス（Ｊ−ＣＬＯＴＨ）を用いて２ｍｌの第２表に挙 げられている組成物を、清浄にされたタイル上に擦りつけた。これらのタイルを 上記に記載されたように汚しそして老化させ、そして対照よりむしろ前処理にお いて用いられたのと同じ処方物でもって清浄にした。 第１表に示された結果から、本発明による組成物が、陽イオン性界面活性剤を 含有しないかまたは別の陽イオン性界面活性剤を含有する匹敵し得る組成物と比 較して、要求される清浄労力の顕著な低減を示す、ということが分かり得る。第 ２表にお ける結果から、陽イオン性第４級物質が、完全に処方された製品において、要求 される清浄労力の相対的低減を示し続ける、ということが分かり得る。 上記のことに加えて、本発明による組成物（即ち、５％インベンチン（ＩＭＢ ＥＮＴＩＮ）９１／３５ＯＦＡプラス１％テゴプレン（ＴＥＧＯＰＲＥＮ）６９ ２２）で清浄にされた鏡面タイルおよび顕微鏡スライドガラスについて、陽イオ ン性第４級物質を含有しない同等の非イオン性組成物（即ち、５％非イオン性物 質）でもって単に清浄にされた表面と比較して、表面を横切って押し進められた 乾いたティッシュペーパーに関して注目される抵抗の低減があった、ということ が注目された。 試験において注目された更なる点は、本発明による組成物で処理された表面が 清浄にしやすかった（要求される労力の点で）のみならず、より長い間より清浄 のままにあるように見えたということであった。これは処理された表面上におけ る汚れの高い接触角に因る汚れの広がりを妨げる表面変性に因り得る、と信じら れる。

【手続補正書】特許法第１８４条の８第１項 【提出日】１９９６年１０月２６日 【補正内容】 ＵＳ４００５０２８（Ｐ＆Ｇ：１９７５）およびＵＳ４００５０２４（Ｐ＆Ｇ ：１９７５）は、オルガノシラン含有清浄剤組成物であって、それらの希薄溶液 中で洗浄された硬質表面に汚れ放出有益性を付与することの可能な組成物に関す る。これらのオルガノシランは広範に定められており、そして式 （ＲＯ）−Ｓｉ（Ｒ）−（ＣＨ₃）_n−［ＯＣＨ₃−ＣＨＯＨ−ＣＨ₂］_n−ＮＲ₃ の物質を含む。 これらの物質は水の存在下で安定でなく、何故ならそれらは、表面において重 合し（ＵＳ４００５０２８の第２０欄第３０行以下参照）そして水が添加される とき反応して未特定のオリゴマーを形成する（ＵＳ４００５０２８の第１９欄第 ６１行以下参照）と信じられるからである。挙げられている唯一のシロキサンは 、第２３欄の下部において挙げられている二量体および三量体である。これらの 物質がポリジメチルシロキサンであろうということは、全く明らかでない。 ＥＰ０５３０９７４（ユニリーバ：１９９１）は、両端において機能化されて いる第４級シリコーンを含む毛髪ケア用組成物を開示する。 ＷＯ９１／０９９３０（クエス・インダストリーズ）は、アルミニウム例えば 車両に見られるもののような金属表面に対して“エソクァット（ＥＴＨＯＱＵＡ Ｔ）”（商標）の使用を開示する。本発明の簡単な記載 我々は、表面を清浄にすると共に、該表面上に引き続いて付着された汚れの放 出を助勢する陽イオン性界面活性剤の層を該表面上に付着すると信じられる改善 組成物を案出した。 従って本発明は、界面活性剤を含んでなる水性硬質表面清浄組成物であって、 該界面活性剤が ａ）総界面活性剤に基づいて少なくとも６５重量％の非イオン性界面活性剤、 ｂ）総界面活性剤に基づいて１重量％未満の陰イオン性界面活性剤、および ｃ）総界面活性剤に基づいて０．１〜３５重量％の実質的に水溶性の第４級化ポ リジメチルシロキサン からなる上記組成物を提供する。本発明の詳細な記載 典型的には、陽イオン性界面活性剤は、一般式 ［Ｒ₁Ｒ₂Ｒ₃Ｎ−Ｚ−［Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−Ｏ］_nＳｉ（ＣＨ₃）₂−Ｚ−ＮＲ₄Ｒ₅Ｒ₆ ］²⁺ 〔ここで、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆は独立的にアルキルまたは水素で あり、Ｚは結合基であり、そしてｎは１〜２００である。〕 の陽イオンからなる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＤＥ， ＤＫ，ＥＳ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，Ｍ Ｃ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ， ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＺ，Ｕ Ｇ)，ＵＡ(ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ )，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ， ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＨＵ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，Ｋ Ｐ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ， ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，Ｓ Ｋ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＺ，ＶＮ

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １． 界面活性剤を含んでなる水性硬質表面清浄組成物であって、該界面活性剤 が ａ）総界面活性剤に基づいて少なくとも６５重量％の非イオン性界面活性剤、 ｂ）総界面活性剤に基づいて１重量％未満の陰イオン性界面活性剤、および ｃ）総界面活性剤に基づいて０．１〜３５重量％の第４級化ポリジメチルシロキ サン からなる上記組成物。 ２． 該第４級化ポリジメチルシロキサンが一般式 ［Ｒ₁Ｒ₂Ｒ₃Ｎ−Ｚ−［Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−Ｏ］_nＳｉ（ＣＨ₃）₂−Ｚ−ＮＲ₄Ｒ₅Ｒ₆ ］²⁺ 〔ここで、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆は独立的にアルキルまたは水素で あり、Ｚは結合基であり、そしてｎは１〜２００である。〕 の陽イオンからなる、請求の範囲第１項に記載の組成物。 ３． ｎが８〜１００である、請求の範囲第２項に記載の組成 物。 ４． 該非イオン性界面活性剤が、６〜１４個の炭素および２〜９モルのエトキ シ化を有するエトキシ化アルコールからなる、請求の範囲第１項に記載の組成物 。 ５． １〜３０重量％の非イオン性界面活性剤を含む、請求の範囲第１項に記載 の組成物。 ６． １〜１０％のアルカノールアミンを更に含む、請求の範囲第１項に記載の 組成物。 ７． 炭酸塩および重炭酸塩、ニトリロトリ酢酸塩、ポリカルボン酸塩、クエン 酸塩、ジカルボン酸、水溶性リン酸塩特にポリリン酸塩、オルトおよびピロリン 酸塩の混合物、ゼオライト並びにそれらの混合物からなる群から選択されたビル ダーを更に含む、請求の範囲第１項に記載の組成物。 ８． ＞１０のｐＨを有しかつ水と混合して ａ）３〜１５％の非イオン性界面活性剤、 ｂ）２〜１０％の溶媒、 ｃ）２〜６％のアルカノールアミン、 ｄ）０〜５％の緩衝剤／アルカリ、 ｅ）０〜２０００ｐｐｍのポリマー、および ｆ）０．１〜２％の、一般式 ［Ｒ₁Ｒ₂Ｒ₃Ｎ−Ｚ−［Ｓｉ（ＣＨ₃）₂−Ｏ］_nＳｉ（ＣＨ₃）₂−Ｚ−ＮＲ₄Ｒ₅Ｒ₆ ］²⁺ 〔ここで、Ｒ₁、Ｒ₂、Ｒ₃、Ｒ₄、Ｒ₅およびＲ₆は独立的にアルキルまたは水素で あり、Ｚは−ＣＨ₂−ＣＨＯＨ−ＣＨ₂Ｏ−（ＣＨ₂）₃−であり、そしてｎは１〜 ２００である。〕の陽イオンからなる陽イオン性界面活性剤 を含む、請求の範囲第１項に記載の組成物。 ９． 正味陰電荷を有する硬質表面を清浄にする方法であって、請求の範囲第１ 項から第８項のいずれか一項に記載の組成物で該表面を処理することからなる上 記方法。