JPS58172B2 - サンカブツジセイハクマクノセイゾウホウホウ - Google Patents
サンカブツジセイハクマクノセイゾウホウホウInfo
- Publication number
- JPS58172B2 JPS58172B2 JP4690775A JP4690775A JPS58172B2 JP S58172 B2 JPS58172 B2 JP S58172B2 JP 4690775 A JP4690775 A JP 4690775A JP 4690775 A JP4690775 A JP 4690775A JP S58172 B2 JPS58172 B2 JP S58172B2
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- thin film
- iron
- oxide
- titanium
- aluminum
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
- Thin Magnetic Films (AREA)
- Compounds Of Iron (AREA)
- Lubricants (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は、酸化物磁性薄膜の製造方法特にファイルメモ
リや磁気ディスクに使用できる基板との密着性のよい、
表面あらさの良好な機械的強度の大きい膜厚２μｍ以下
の酸化物磁性薄膜の製造方法に関するものである。
リや磁気ディスクに使用できる基板との密着性のよい、
表面あらさの良好な機械的強度の大きい膜厚２μｍ以下
の酸化物磁性薄膜の製造方法に関するものである。
従来磁気ディスクに用いられる酸化物磁性薄膜の製造方
法としては、粉体塗布法、鉄の溶融塩塗布法、スパッタ
リング雰囲気制御による鉄と酸化鉄の交互形成法、およ
びアルカリ化成法などがある。
法としては、粉体塗布法、鉄の溶融塩塗布法、スパッタ
リング雰囲気制御による鉄と酸化鉄の交互形成法、およ
びアルカリ化成法などがある。
前記粉体塗布法においては酸化物微粒子と基板との密着
性および微粒子相互の結合性を高めるために結合剤を用
いている。
性および微粒子相互の結合性を高めるために結合剤を用
いている。
それ故に、得られる薄膜に占める磁性酸化物の密度は低
くなり、磁気ディスクの高記録密度化には不適当である
。
くなり、磁気ディスクの高記録密度化には不適当である
。
例えば、米国特許３６２０８４１号参照。
また、鉄の溶融塩塗布法においては１回に塗布できる膜
厚さは少ないので塗布−乾燥工程を複数回くりかえさな
ければならず、作業性に劣る欠点がある。
厚さは少ないので塗布−乾燥工程を複数回くりかえさな
ければならず、作業性に劣る欠点がある。
さらにスパッタリング雰囲気制御による鉄と酸化鉄との
交互形成法においては（特開昭４８−４９９６参照）、
スパッタリング工程中に酸素分圧の制御装置を必要とす
ること、および薄膜の保磁力を高め、かつ一定に保つた
めに、鉄と酸化鉄の厚さの絶対値を制御しなくてはなら
ないなど、高級な装置および高度の技術を必要とする欠
点がある。
交互形成法においては（特開昭４８−４９９６参照）、
スパッタリング工程中に酸素分圧の制御装置を必要とす
ること、および薄膜の保磁力を高め、かつ一定に保つた
めに、鉄と酸化鉄の厚さの絶対値を制御しなくてはなら
ないなど、高級な装置および高度の技術を必要とする欠
点がある。
アルカリ化成法を利用した製造方法（特公昭５１−９１
５６号公報および特公昭５４−３８６１０号公報）にお
いては酸化物磁性薄膜を形成する基板に制限があり、耐
アルカリ性の基板以外は適用できない欠点がある。
５６号公報および特公昭５４−３８６１０号公報）にお
いては酸化物磁性薄膜を形成する基板に制限があり、耐
アルカリ性の基板以外は適用できない欠点がある。
本発明はこれらの欠点を解決するため鉄または鉄合金薄
膜上に酸素親和力の高いアルミニウムまたはチタンを極
めて薄く形成し、ひきつづき焼結、還元することにより
アルミニウムまたはチタンの固溶した、微細化したスピ
ネル相を析出させることにより、均質な高保磁力磁性媒
体を作業性よくかつ容易に製造することを目的とする。
膜上に酸素親和力の高いアルミニウムまたはチタンを極
めて薄く形成し、ひきつづき焼結、還元することにより
アルミニウムまたはチタンの固溶した、微細化したスピ
ネル相を析出させることにより、均質な高保磁力磁性媒
体を作業性よくかつ容易に製造することを目的とする。
本発明の酸化物磁性薄膜の製造方法は、さきに特公昭５
１−９１５６号公報および特公昭５４−３８６１０号公
報に開示した酸化物磁性薄膜の製造方法を改良さらに鋭
意研究した結果発明されたものである。
１−９１５６号公報および特公昭５４−３８６１０号公
報に開示した酸化物磁性薄膜の製造方法を改良さらに鋭
意研究した結果発明されたものである。
本発明に用いる基板は表面あらさ０．２〜０．０２マイ
クロメータの高純度、且微粒子より作製されたセラミッ
ク基板、たとえば、アルミナ基板、または高温まで再結
晶化せず表面精度を保ち得る金属たとえばチタンなどで
ある。
クロメータの高純度、且微粒子より作製されたセラミッ
ク基板、たとえば、アルミナ基板、または高温まで再結
晶化せず表面精度を保ち得る金属たとえばチタンなどで
ある。
この基板を３００℃に加熱して置き、真空蒸着法または
アルゴン雰囲気中でスパッタリング法により鉄または鉄
合金薄膜を２ミクロンメータ以下形成しひきつづいてア
ルミニウムまたはチタンを０．０５ミクロンメータ程度
形成させる。
アルゴン雰囲気中でスパッタリング法により鉄または鉄
合金薄膜を２ミクロンメータ以下形成しひきつづいてア
ルミニウムまたはチタンを０．０５ミクロンメータ程度
形成させる。
この後６００℃から１３００℃で大気中もしくは雰囲気
を調整して焼結を行なうと結晶度が増大し、かつ基板と
の密着性のよいヘマタイト形の酸化物薄膜を得ることが
でき、さらに還元雰囲気で還元するとヘマタイト形から
スピネル形に変換する。
を調整して焼結を行なうと結晶度が増大し、かつ基板と
の密着性のよいヘマタイト形の酸化物薄膜を得ることが
でき、さらに還元雰囲気で還元するとヘマタイト形から
スピネル形に変換する。
そして、そののち大気中で酸化することによって黒色の
酸化物磁性薄膜が得られる。
酸化物磁性薄膜が得られる。
第１図は従来酸化物磁性薄膜を製造する際、高温焼結前
に必要不可欠であるとされていたアルカリ化成処理時間
の磁性特性に対する影響を示したものである。
に必要不可欠であるとされていたアルカリ化成処理時間
の磁性特性に対する影響を示したものである。
アルカリ化成処理時間は製造される酸化物磁性薄膜の特
性には影響がなく、同処理は高温焼結の際酸素の拡散を
制御し、均一なるヘマタイト相を製造する作用を有して
いるのに過ぎない。
性には影響がなく、同処理は高温焼結の際酸素の拡散を
制御し、均一なるヘマタイト相を製造する作用を有して
いるのに過ぎない。
したがってアルカリ化成処理で鉄または鉄合金上に生成
する緻密な酸化物薄膜の作用は他の物質に置きかえ得る
ものである。
する緻密な酸化物薄膜の作用は他の物質に置きかえ得る
ものである。
アルミニウムおよびチタンはその酸化物の安定性は高く
、また生成した酸化物の緻密性もすぐれている。
、また生成した酸化物の緻密性もすぐれている。
アルミニウムの酸化物生成自由エネルギー変化は
ΔＦ°Ｔ＝−２６８２００＋５１．８９Ｔ（ｃａｌ／ｍ
ｏｌＯ２）であり、チタンのそれは ΔＦ°７＝−２２４０８０＋４１．９３Ｔ（ｃａｌ／ｍ
ｏｌＯ２）である。
ｏｌＯ２）であり、チタンのそれは ΔＦ°７＝−２２４０８０＋４１．９３Ｔ（ｃａｌ／ｍ
ｏｌＯ２）である。
いずれも金属酸化物としては極めて安定な物質である。
高温焼結する際、アルミニウムまたはチタンが酸化され
、この酸化皮膜を通して鉄または鉄合金が除々に酸化さ
れることにより鉄は均一かつ緻密なヘマタイト形の酸化
物が形成できる。
、この酸化皮膜を通して鉄または鉄合金が除々に酸化さ
れることにより鉄は均一かつ緻密なヘマタイト形の酸化
物が形成できる。
焼結時間が長くなるにしたがい、アルミニウム、チタン
は鉄酸化物の内部に拡散し固溶体を形成する。
は鉄酸化物の内部に拡散し固溶体を形成する。
この固溶体を水素還元雰囲気中にて還元するとヘマタイ
ト形からスピネル形に変換する。
ト形からスピネル形に変換する。
こうして得られたスピネル形の強磁性薄膜は、３００〜
５００エルステツドの保磁力を有する密着性のすぐれた
薄膜であり、さらに化学的、機械的安定性にもすぐれた
ものである。
５００エルステツドの保磁力を有する密着性のすぐれた
薄膜であり、さらに化学的、機械的安定性にもすぐれた
ものである。
第２図は本発明により作成した磁気ディスクの特性ａを
現用の微粒子塗布ディスクの特性すと比較したものであ
る。
現用の微粒子塗布ディスクの特性すと比較したものであ
る。
同一記録密度で比較すれば、本発明ディスクの方が、再
生出力において約２倍すぐれている。
生出力において約２倍すぐれている。
また同一再生出力で比較すれば、本発明ディスクのほう
が記録密度において、約５０％すぐれている。
が記録密度において、約５０％すぐれている。
以上説明したように、本発明は、鉄または鉄系合金の薄
膜を形成する工程と該薄膜上にアルミニウムまたはチタ
ンの薄膜を形成する工程と前記２つの工程によって形成
された２層の薄膜をひきつづいて熱処理することにより
基板上に密着性耐摩耗性等の機械的強度が良好でかつ化
学的に安定な高保磁力の酸化物磁性薄膜を容易に得る方
法を提供できる。
膜を形成する工程と該薄膜上にアルミニウムまたはチタ
ンの薄膜を形成する工程と前記２つの工程によって形成
された２層の薄膜をひきつづいて熱処理することにより
基板上に密着性耐摩耗性等の機械的強度が良好でかつ化
学的に安定な高保磁力の酸化物磁性薄膜を容易に得る方
法を提供できる。
この製造方法は湿式１程を含んでおらず、大量生産、大
形化が可能であるから、たとえば高分解能、高出力の電
磁変換、および機械的特性に高性能が要求される磁気デ
ィスクに利用できる利点がある。
形化が可能であるから、たとえば高分解能、高出力の電
磁変換、および機械的特性に高性能が要求される磁気デ
ィスクに利用できる利点がある。
以上述べた説明では、酸素親和力の高いアルミニウム、
チタン等の実施例について論述したが、本発明では、こ
れらの材料に限られるものではなく、酸素親和力の高い
バナジン、コバルト、ニッケル等も同様に使用可能であ
ることが本発明者等により確認されているので、前記ア
ルミニウム、チタン等と同様に使用し得るものである。
チタン等の実施例について論述したが、本発明では、こ
れらの材料に限られるものではなく、酸素親和力の高い
バナジン、コバルト、ニッケル等も同様に使用可能であ
ることが本発明者等により確認されているので、前記ア
ルミニウム、チタン等と同様に使用し得るものである。
第１図は従来酸化物磁性薄膜を製造する際、高温焼結前
に必要不可欠であるとされていたアルカリ化成処理時間
と磁気特性の関係を示す。 第２図は磁気ディスクの特性を比較したものであり、ａ
は本発明により作成した磁気ディスク、ｂは磁性粉の塗
布形ディスクである。
に必要不可欠であるとされていたアルカリ化成処理時間
と磁気特性の関係を示す。 第２図は磁気ディスクの特性を比較したものであり、ａ
は本発明により作成した磁気ディスク、ｂは磁性粉の塗
布形ディスクである。
Claims (1)
- １ 基板上に鉄又は鉄にアルミニウム・チタン・バナジ
ン・コバルト・ニッケルからなる群より選ばれたすくな
くとも一つの金属元素を添加した鉄合金の薄膜を形成す
る工程と、該薄膜上にアルミニウムまたはチタンの薄膜
を形成する工程と前記２つの工程によって形成された２
層の薄膜をひきつづいて酸化雰囲気で酸化焼結した後還
元雰囲気で還元する工程からなる酸化物磁性薄膜の製造
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4690775A JPS58172B2 (ja) | 1975-04-16 | 1975-04-16 | サンカブツジセイハクマクノセイゾウホウホウ |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4690775A JPS58172B2 (ja) | 1975-04-16 | 1975-04-16 | サンカブツジセイハクマクノセイゾウホウホウ |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS51121199A JPS51121199A (en) | 1976-10-22 |
| JPS58172B2 true JPS58172B2 (ja) | 1983-01-05 |
Family
ID=12760417
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4690775A Expired JPS58172B2 (ja) | 1975-04-16 | 1975-04-16 | サンカブツジセイハクマクノセイゾウホウホウ |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58172B2 (ja) |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN101941847B (zh) * | 2010-08-10 | 2012-11-21 | 陈奇康 | 一种适用于磁吸的带磁性金属层陶瓷板 |
-
1975
- 1975-04-16 JP JP4690775A patent/JPS58172B2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS51121199A (en) | 1976-10-22 |
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