JPS5818966U - スパツタリング装置 - Google Patents

スパツタリング装置

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JPS5818966U
JPS5818966U JP11125381U JP11125381U JPS5818966U JP S5818966 U JPS5818966 U JP S5818966U JP 11125381 U JP11125381 U JP 11125381U JP 11125381 U JP11125381 U JP 11125381U JP S5818966 U JPS5818966 U JP S5818966U
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JP
Japan
Prior art keywords
sputtering equipment
target surface
glow discharge
sputtering
magnet
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Pending
Application number
JP11125381U
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高橋 正長
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【図面の簡単な説明】
第1図は従来のスパッタリング装置の構造を示す説明図
、第2図は本考案によるスパッタリング装置の構造を示
す説明図である。 尚1、図において、1・・・・・・チャンバー、2・・
間排気系、3・・・・・・スパッタリング電源、4・・
曲陰極、5・・・・・・ターゲット、6・・・・・・磁
石、7・・・・・・陽極、8・・・・・・基板ホルダー
、9・・・・・・基板、1o・・曲ガス流量調節装置、
11・・・・・・グロー放電検知手段、12・・・・・
・トリガーガス導入装置である。

Claims (1)

    【実用新案登録請求の範囲】
  1. 磁界方向が電界方向と直交し、かつ陰極部分に磁石を設
    けることにより電極空間においてターゲ゛ ット表面よ
    りターゲット表面に磁力線を発生せしめるスパッタリン
    グ装置において、グ冶−放電を開始させるためのトリガ
    ーガス導入手段及びグ吊−放電が開始されたことを確認
    するためのグロー放電検知手段とを具備したことを特徴
    とするスパッタリング装置。
JP11125381U 1981-07-27 1981-07-27 スパツタリング装置 Pending JPS5818966U (ja)

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JP11125381U JPS5818966U (ja) 1981-07-27 1981-07-27 スパツタリング装置

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JPS5818966U true JPS5818966U (ja) 1983-02-05

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ID=29905592

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