JPS5843060Y2 - 磁気デイスクの研摩装置 - Google Patents
磁気デイスクの研摩装置Info
- Publication number
- JPS5843060Y2 JPS5843060Y2 JP10552079U JP10552079U JPS5843060Y2 JP S5843060 Y2 JPS5843060 Y2 JP S5843060Y2 JP 10552079 U JP10552079 U JP 10552079U JP 10552079 U JP10552079 U JP 10552079U JP S5843060 Y2 JPS5843060 Y2 JP S5843060Y2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- magnetic disk
- disk
- polishing
- magnetic
- hard
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired
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- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
本考案は、磁気ディスクの研摩装置に関する。
近来、磁気ディスク装置の記録密度の増加に伴ない、磁
気ディスクに対する磁気ヘッドの浮上高さは減少する傾
向にある。
気ディスクに対する磁気ヘッドの浮上高さは減少する傾
向にある。
従って、磁気ディスの表面に突起があるとヘッドと突起
が衝突し、ヘッドのコア部に損傷を与え、読み出し電圧
の低下等の特性の劣化が生じることから、磁気ディスク
の表面を平滑に研摩する必要がある。
が衝突し、ヘッドのコア部に損傷を与え、読み出し電圧
の低下等の特性の劣化が生じることから、磁気ディスク
の表面を平滑に研摩する必要がある。
従来、磁気ディスクの研摩は、１ず研摩テープによりデ
ィスク表面を研摩し、次いでアルミナセラミック等の硬
質スライダーを低浮上でディスク上を移動させることに
より、ディスク表面に突出した突起を除去する方法が採
られていた。
ィスク表面を研摩し、次いでアルミナセラミック等の硬
質スライダーを低浮上でディスク上を移動させることに
より、ディスク表面に突出した突起を除去する方法が採
られていた。
しかし、この方法を用いると、研摩に長時間を要するば
かりかディスク上の全ての突起を十分に除去できない欠
点があった。
かりかディスク上の全ての突起を十分に除去できない欠
点があった。
そこで、本考案は、適宜な支持手段により支持されるリ
テーナ−に複数の硬球を転勤自在に設け、磁気ディスク
上で前記複数の硬球を転動させることにより、ディスク
表面に突出した突起を除去し得るように構成し、もって
前述の欠点を解消した磁気ディスクの研摩装置を提供す
ることを目的とするものである。
テーナ−に複数の硬球を転勤自在に設け、磁気ディスク
上で前記複数の硬球を転動させることにより、ディスク
表面に突出した突起を除去し得るように構成し、もって
前述の欠点を解消した磁気ディスクの研摩装置を提供す
ることを目的とするものである。
以下、図面に示す一実施例に基き、本考案を具体的に説
明する。
明する。
研摩装置１ば、第１図に示すように、車輪２ａ２ａ′に
支持されるキャリッジ２を有しており、キャリッジ２に
は棒状のアーム３が設けられている。
支持されるキャリッジ２を有しており、キャリッジ２に
は棒状のアーム３が設けられている。
アーム３の先端には全体円筒形のホルダー５が固着され
ており、ホルダー５には、第２図に示すように、リテー
ナ−６が着脱自在に嵌合し、リテーナ−６には円状に等
ピッチで配列された５個の硬球１が転勤自在に支持され
ている。
ており、ホルダー５には、第２図に示すように、リテー
ナ−６が着脱自在に嵌合し、リテーナ−６には円状に等
ピッチで配列された５個の硬球１が転勤自在に支持され
ている。
一方、磁気ディスク９は全体円盤状の基板９ａを有して
かり、基板９ａの図中上下面には磁性材料からなる磁性
膜９ｂ、９ｂ’が形成されている。
かり、基板９ａの図中上下面には磁性材料からなる磁性
膜９ｂ、９ｂ’が形成されている。
本考案は、以上のような構成を有するので、研摩装置１
を用いて磁気ディスク９の研摩を行なう場合には、寸ず
ディスク゛９の表面、即ち磁性膜９ｂ、９ｂ’を研摩テ
ープにより研摩する。
を用いて磁気ディスク９の研摩を行なう場合には、寸ず
ディスク゛９の表面、即ち磁性膜９ｂ、９ｂ’を研摩テ
ープにより研摩する。
すると、磁性膜９ｂ、９ｂ’の表面は、第３図及び第４
図に示すように、ある程度は平滑な性状となるが、磁性
材料中に含１れるアルミナやジルコニア等の粒子が膜面
より突出し、多数の突起９ｃを形成する。
図に示すように、ある程度は平滑な性状となるが、磁性
材料中に含１れるアルミナやジルコニア等の粒子が膜面
より突出し、多数の突起９ｃを形成する。
次に、研摩装置１のリテーナ−６を硬球７と共にホルダ
ー５より外し、磁気ディスク９の潤滑用に塗布される潤
滑剤中に浸し、再度ホルダー５に装着する。
ー５より外し、磁気ディスク９の潤滑用に塗布される潤
滑剤中に浸し、再度ホルダー５に装着する。
次に、研摩装置１を、第１図及び第２図に示すように、
硬球７をディスク９の磁性膜９ｂと接触させる形で設置
する。
硬球７をディスク９の磁性膜９ｂと接触させる形で設置
する。
この状態で、ディスク９を第１図における矢印Ａ方向に
回転させると。
回転させると。
ディスク９の回転に伴なって硬球７もリテーナ−６中で
回転する。
回転する。
硬球Ｔが回転すると、硬球７はディスク９の磁性膜９ｂ
上を相対的に矢印Ｂ方向に転勤移動することになり、今
寸で磁性膜９ｂの表面に突出していた多数の突起９ｃば
、硬球γが突起９ｃ上を転動することにより、第５図に
示すように基板９ａ側に押し込められ、表面粗さも第６
図に示すように、第４図のテープ研摩後の粗さと比較し
て極めて平滑な面となる。
上を相対的に矢印Ｂ方向に転勤移動することになり、今
寸で磁性膜９ｂの表面に突出していた多数の突起９ｃば
、硬球γが突起９ｃ上を転動することにより、第５図に
示すように基板９ａ側に押し込められ、表面粗さも第６
図に示すように、第４図のテープ研摩後の粗さと比較し
て極めて平滑な面となる。
研摩はキャリッジ２を、第２図における矢印Ｃ，Ｄ方向
に適宜移動させてディスク９の磁性膜９ｂの全面にわた
り行ない、次いでディスク９を裏返して磁性膜９ ｂ’
側についても同様に行なう。
に適宜移動させてディスク９の磁性膜９ｂの全面にわた
り行ない、次いでディスク９を裏返して磁性膜９ ｂ’
側についても同様に行なう。
なお、硬球７は潤滑剤の作用によりリテーナ−６に対し
て円滑に回転することから、硬球７の回転の不具合から
磁性膜９ｂ、９ｂ’に損傷を与えることもなく、更に潤
滑剤が硬球７から磁性膜９ｂ、９ｂ′上に付着したとし
ても、研摩後の磁性膜９ｂ、９ｂ’上には同一の潤滑剤
が塗布されることから問題はない。
て円滑に回転することから、硬球７の回転の不具合から
磁性膜９ｂ、９ｂ’に損傷を与えることもなく、更に潤
滑剤が硬球７から磁性膜９ｂ、９ｂ′上に付着したとし
ても、研摩後の磁性膜９ｂ、９ｂ’上には同一の潤滑剤
が塗布されることから問題はない。
以上説明したように、本考案によれば、磁気ディスク９
の表面、即ち磁性膜９ｂ、９ｂ’上を硬球γが転動し、
ディスク表面に突出した突起９ｃをディスク９の内面側
、即ち基板９ａ側に押し込めるので、磁性膜９ｂ、９ｂ
’の表面の突起をほぼ完全に除去することが可能となる
。
の表面、即ち磁性膜９ｂ、９ｂ’上を硬球γが転動し、
ディスク表面に突出した突起９ｃをディスク９の内面側
、即ち基板９ａ側に押し込めるので、磁性膜９ｂ、９ｂ
’の表面の突起をほぼ完全に除去することが可能となる
。
また、研摩は硬球７を磁性膜９ｂ９９ｂ’上で転動させ
るだけの簡単なものなので、研摩作業に手間がかからず
、短時間で能率よく作業を行なうことができる。
るだけの簡単なものなので、研摩作業に手間がかからず
、短時間で能率よく作業を行なうことができる。
第１図は本考案による磁気ディスクの研摩装置の一実施
例を示す斜視図、第２図は第１図の研摩装置の要部を示
す正断面図、第３図はテープ研摩後の磁気ディスクの状
態を示す拡大断面図、第４図はテープ研摩後の磁気ディ
スクの表面粗さを示すチャート図、第５図は本考案によ
る研摩装置を用いて研摩した後の磁気ディスクの状態を
示す拡大断面図、第６図は本考案による研摩装置を用い
て研摩した後の磁気ディスクの表面粗さを示すチャート
図である。 １・・・研摩装置、２・・・支持手段（キャリッジ）、
３・・・支持手段（アーム）、５・・・支持手段（ホル
ダー）、６・・・リテーナ−７・・・硬球、９・・・磁
気ディスク、９ｃ・・・突起。
例を示す斜視図、第２図は第１図の研摩装置の要部を示
す正断面図、第３図はテープ研摩後の磁気ディスクの状
態を示す拡大断面図、第４図はテープ研摩後の磁気ディ
スクの表面粗さを示すチャート図、第５図は本考案によ
る研摩装置を用いて研摩した後の磁気ディスクの状態を
示す拡大断面図、第６図は本考案による研摩装置を用い
て研摩した後の磁気ディスクの表面粗さを示すチャート
図である。 １・・・研摩装置、２・・・支持手段（キャリッジ）、
３・・・支持手段（アーム）、５・・・支持手段（ホル
ダー）、６・・・リテーナ−７・・・硬球、９・・・磁
気ディスク、９ｃ・・・突起。
Claims (1)
- 適宜な支持手段により支持されるリテーナ−に複数の硬
球を転勤自在に設け、磁気ディスク上で前記複数の硬球
を転動させることにより、ディスク表面に突出した突起
を除去し得るように構成したことを特徴とする磁気ディ
スクの研摩装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10552079U JPS5843060Y2 (ja) | 1979-07-31 | 1979-07-31 | 磁気デイスクの研摩装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP10552079U JPS5843060Y2 (ja) | 1979-07-31 | 1979-07-31 | 磁気デイスクの研摩装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5625329U JPS5625329U (ja) | 1981-03-07 |
| JPS5843060Y2 true JPS5843060Y2 (ja) | 1983-09-29 |
Family
ID=29338177
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP10552079U Expired JPS5843060Y2 (ja) | 1979-07-31 | 1979-07-31 | 磁気デイスクの研摩装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5843060Y2 (ja) |
-
1979
- 1979-07-31 JP JP10552079U patent/JPS5843060Y2/ja not_active Expired
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS5625329U (ja) | 1981-03-07 |
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