JPS5859980A - カルボスチリル誘導体 - Google Patents
カルボスチリル誘導体Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
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Description
【発明の詳細な説明】
本発明は新規なカルボスチリル誘導体、さらに詳しくは
、下記一般式(I)で表わされるカルボスチリル誘導体
およびその塩に関する。
、下記一般式(I)で表わされるカルボスチリル誘導体
およびその塩に関する。
■
〔式中、kは水酸基、低級アルコキシ基、低級アルカノ
イルオキシ基、フェニル低級アルコキシ基またはベンゾ
イルオキシ基、Aは低級アルキレン基を示す。また、カ
ルボスチリル骨格の3位と4位の炭素結合は一重結合ま
たは二重結合を示す〕上記一般式(I)で表わされるカ
ルボスチリル誘導体およびその塩は、優れた血小板凝集
抑制作用、ホスホジェステラーゼ阻害作用、トロンボキ
サンシンセターゼ阻害作用、抗潰瘍作用、強心作用、消
炎作用、降圧作用、抗ヒスタミン作用および抗アレルギ
ー作用などを有し、血栓症の予防・治療剤、消炎剤、抗
潰瘍剤、抗喘息剤、高血圧、狭心症、心筋梗塞などの虚
血性心疾患、脳卒中、一過性虚血性発作、偏頭痛などの
脳疾患などの予防・治療剤、さらに抗ヒスタミン剤、抗
アレルギー剤などとして有用である。
イルオキシ基、フェニル低級アルコキシ基またはベンゾ
イルオキシ基、Aは低級アルキレン基を示す。また、カ
ルボスチリル骨格の3位と4位の炭素結合は一重結合ま
たは二重結合を示す〕上記一般式(I)で表わされるカ
ルボスチリル誘導体およびその塩は、優れた血小板凝集
抑制作用、ホスホジェステラーゼ阻害作用、トロンボキ
サンシンセターゼ阻害作用、抗潰瘍作用、強心作用、消
炎作用、降圧作用、抗ヒスタミン作用および抗アレルギ
ー作用などを有し、血栓症の予防・治療剤、消炎剤、抗
潰瘍剤、抗喘息剤、高血圧、狭心症、心筋梗塞などの虚
血性心疾患、脳卒中、一過性虚血性発作、偏頭痛などの
脳疾患などの予防・治療剤、さらに抗ヒスタミン剤、抗
アレルギー剤などとして有用である。
本明細書において、kおよびAで示される各基はより具
体的には夫々つぎのものが挙げられる。
体的には夫々つぎのものが挙げられる。
低級アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数1〜
6個のアルコキシ基、低級アルカノイルオキシ基として
は、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオ
キシ、イソ−プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イ
ソブチリルオキシ、バレリルオキシ、ヘキサノイルオキ
シなどの炭素数1〜6個のアルカノイルオキシ基、さら
にフェニル低級アルコキシ基としては、ベンジルオキシ
、2−フェニルエトキシ、1−フェニルエトキシ、1−
フェニルプロポキシ、2−フェニルプロポキシ、3−フ
ェニルプロポキシ、1−フェニルブトキシ、2−フェニ
ルブトキシ、3−フェニルブトキシ、4−フェニルブト
キシ、1.1−ジメチル−2−フェニルエトキシ、5−
フェニルペンチルオキシ、6−フエニルヘキジルオキシ
、2−メチル−3−フェニルプロポキシなどのアルコキ
シ部分の炭素数が1〜6個のフェニルアルコキシ基が例
示される。
ポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、tert−ブトキ
シ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシなどの炭素数1〜
6個のアルコキシ基、低級アルカノイルオキシ基として
は、ホルミルオキシ、アセチルオキシ、プロピオニルオ
キシ、イソ−プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、イ
ソブチリルオキシ、バレリルオキシ、ヘキサノイルオキ
シなどの炭素数1〜6個のアルカノイルオキシ基、さら
にフェニル低級アルコキシ基としては、ベンジルオキシ
、2−フェニルエトキシ、1−フェニルエトキシ、1−
フェニルプロポキシ、2−フェニルプロポキシ、3−フ
ェニルプロポキシ、1−フェニルブトキシ、2−フェニ
ルブトキシ、3−フェニルブトキシ、4−フェニルブト
キシ、1.1−ジメチル−2−フェニルエトキシ、5−
フェニルペンチルオキシ、6−フエニルヘキジルオキシ
、2−メチル−3−フェニルプロポキシなどのアルコキ
シ部分の炭素数が1〜6個のフェニルアルコキシ基が例
示される。
また低級アルキレン基としては、メチレン、エチレン、
トリメチレン、1〜メチルトリメチレン、2−メチルメ
チレン、2,2−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンなどの炭素数が1
〜6個のアルキレン基が例示される。なお式(、I )
中の〜にはシスまたはトランス、あるいはそれらの混合
形を示す。
トリメチレン、1〜メチルトリメチレン、2−メチルメ
チレン、2,2−ジメチルトリメチレン、テトラメチレ
ン、ペンタメチレン、ヘキサメチレンなどの炭素数が1
〜6個のアルキレン基が例示される。なお式(、I )
中の〜にはシスまたはトランス、あるいはそれらの混合
形を示す。
本発明の化合物は各種の方法で製造できるが、例えば、
つぎの反応式−1で示す方法によシ製造できる。
つぎの反応式−1で示す方法によシ製造できる。
〔反応式−1〕
〔■〕
〔式中、Xはハロゲン原子を示し、KおよびAは前記と
同じ〕。
同じ〕。
上記反応式−1で示されるように、本発明のカルボスチ
リル誘導体〔I〕は、ヒドロキシカルポスチリ・ル(I
Dとテトラゾール誘導体[N)とを常法により脱ハロゲ
ン化水素反応に付して製造される。式[1[E中のハロ
ゲン原子としてはフッ素、臭素、塩素、ヨウ素が挙げら
れる。この脱ハロゲン化水素反応は塩基性化合物を脱ハ
ロゲン化水素剤として用いて行なわれる。塩基性化合物
としては公知のものを広く使用でき、例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀
などの無機塩基、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ
金属、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラートな
どのアルコラード、トリエチルアミン、ピリジン、N、
N−ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、4−ジ
メチルアミノピリジン、1,5−ジアザビシクロ(4,
3,0〕ノネン−5(DBN)、1,5−ジアザビシク
ロ(5,4,03ウンデセン−5(DBU)、1,4−
ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)
、などの有機塩基が挙げられる。該反応は無溶媒でもあ
るいは溶媒の存在下で′も行なわれ、溶媒としては反応
に悪影響を与えない不活性のものがすべて用いられ、例
えばメタノール、エタノール、プロパツール、ブタノー
ル、エチレングリコールなどのアルコール類、ジメチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグラ
イム、ジグライムなどのエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトンナトノケトン類、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチ
ルなどのエステル類、N、N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキサイド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ドなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。また
該反応はヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなどの金属
ヨウ化物の存在下に行なうのが有利である。
リル誘導体〔I〕は、ヒドロキシカルポスチリ・ル(I
Dとテトラゾール誘導体[N)とを常法により脱ハロゲ
ン化水素反応に付して製造される。式[1[E中のハロ
ゲン原子としてはフッ素、臭素、塩素、ヨウ素が挙げら
れる。この脱ハロゲン化水素反応は塩基性化合物を脱ハ
ロゲン化水素剤として用いて行なわれる。塩基性化合物
としては公知のものを広く使用でき、例えば、水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリ
ウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸銀
などの無機塩基、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ
金属、ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラートな
どのアルコラード、トリエチルアミン、ピリジン、N、
N−ジメチルアニリン、N−メチルモルホリン、4−ジ
メチルアミノピリジン、1,5−ジアザビシクロ(4,
3,0〕ノネン−5(DBN)、1,5−ジアザビシク
ロ(5,4,03ウンデセン−5(DBU)、1,4−
ジアザビシクロ[2,2,2]オクタン(DABCO)
、などの有機塩基が挙げられる。該反応は無溶媒でもあ
るいは溶媒の存在下で′も行なわれ、溶媒としては反応
に悪影響を与えない不活性のものがすべて用いられ、例
えばメタノール、エタノール、プロパツール、ブタノー
ル、エチレングリコールなどのアルコール類、ジメチル
エーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、モノグラ
イム、ジグライムなどのエーテル類、アセトン、メチル
エチルケトンナトノケトン類、ベンゼン、トルエン、キ
シレンなどの芳香族炭化水素類、酢酸メチル、酢酸エチ
ルなどのエステル類、N、N−ジメチルホルムアミド、
ジメチルスルホキサイド、ヘキサメチルリン酸トリアミ
ドなどの非プロトン性極性溶媒などが挙げられる。また
該反応はヨウ化ナトリウム、ヨウ化カリウムなどの金属
ヨウ化物の存在下に行なうのが有利である。
上記方法におけるヒドロキシカルボスチリル〔■〕とテ
トラゾール誘導体CI[]との使使用割合は。
トラゾール誘導体CI[]との使使用割合は。
とくに限定されず、広範囲の中から適宜に選択されるが
、通常、前者に対して後者を等モル−5倍モル、好まし
くは等モル−2倍モル量にて用いるのが望ましい。まだ
、その反応温度もとくに限定されないが、通常、室温〜
200’C1好ましくは50〜150℃で行なわれる。
、通常、前者に対して後者を等モル−5倍モル、好まし
くは等モル−2倍モル量にて用いるのが望ましい。まだ
、その反応温度もとくに限定されないが、通常、室温〜
200’C1好ましくは50〜150℃で行なわれる。
反応時間は通常1〜30時間、好ましくは1〜15時間
である。
である。
上記の方法で用いられる一方の出発原料であるヒドロキ
シカルボスチリル−(II)は公知化合物であるが、他
方の出発原料であるテトラゾール誘導体[1[[)は来
知化合物であり、例えば下記反応式−2で示される方法
によシ製造される。
シカルボスチリル−(II)は公知化合物であるが、他
方の出発原料であるテトラゾール誘導体[1[[)は来
知化合物であり、例えば下記反応式−2で示される方法
によシ製造される。
反応式−2=
〔■〕
〔式中、Xはブッ素、塩素、臭素およびヨウ素などのハ
ロゲン原子を示し、RおよびAは前記に同じ〕。
ロゲン原子を示し、RおよびAは前記に同じ〕。
すなわち、公知のもしくは公知と同様の方法で製造され
る一般式CIV)で表わされるハロアミドにPCl5を
反応させてハロイミン誘導体CVIとし、これを単離す
ることなくアジ化水素酸()′lN5)を反応させてテ
トラゾール誘導体〔■〕を得る。
る一般式CIV)で表わされるハロアミドにPCl5を
反応させてハロイミン誘導体CVIとし、これを単離す
ることなくアジ化水素酸()′lN5)を反応させてテ
トラゾール誘導体〔■〕を得る。
ハロアミド(IVIとPCl5の反応は一般に溶媒中で
行なわれる。使用される溶媒としては反応に悪影響を与
えない不活性のものがすべて用いられ、例、t ハベン
ゼン、キシレン、トルエンなどの芳香族炭化水素m、ク
ロルベンゼン、フロモベンゼンなどのイ10ゲン化芳香
族度化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサンなどのエ
ーテル類、n−ヘキサン、n−ヘプタンなどの炭化水素
類が挙げられる。ハロアミド〔■〕とPCl5の使用割
合は通常、前者に対して後者を等モル−2倍モル、好ま
しくは等モル−1,2倍モル使用するのが望ましい。ま
たその反応温度は通常−20〜50℃、好ましくは0〜
25℃であシ、また反応時間は30分〜5時間、好まし
くは1〜3時間である。
行なわれる。使用される溶媒としては反応に悪影響を与
えない不活性のものがすべて用いられ、例、t ハベン
ゼン、キシレン、トルエンなどの芳香族炭化水素m、ク
ロルベンゼン、フロモベンゼンなどのイ10ゲン化芳香
族度化水素類、ジエチルエーテル、ジオキサンなどのエ
ーテル類、n−ヘキサン、n−ヘプタンなどの炭化水素
類が挙げられる。ハロアミド〔■〕とPCl5の使用割
合は通常、前者に対して後者を等モル−2倍モル、好ま
しくは等モル−1,2倍モル使用するのが望ましい。ま
たその反応温度は通常−20〜50℃、好ましくは0〜
25℃であシ、また反応時間は30分〜5時間、好まし
くは1〜3時間である。
以上のようにして得られたハロイミン誘導体〔V〕は単
離することなく、HN3(通常は、ベンゼン、キシレン
、ジエチルエーテル、n−ヘキサンなどの溶液として使
用する)と反応させる。ハロイミン誘導体〔v〕とHN
3との使用割合は、通常、前者に対して後者を等モル−
5倍1モル、好ましくは等モル−3倍モル、の範囲から
選ばれる。また、その反応温度は0〜150°Cであり
、反応時間はQi間〜2日間である。
離することなく、HN3(通常は、ベンゼン、キシレン
、ジエチルエーテル、n−ヘキサンなどの溶液として使
用する)と反応させる。ハロイミン誘導体〔v〕とHN
3との使用割合は、通常、前者に対して後者を等モル−
5倍1モル、好ましくは等モル−3倍モル、の範囲から
選ばれる。また、その反応温度は0〜150°Cであり
、反応時間はQi間〜2日間である。
また、一般式[”I]のカルボスチリル誘導体のうち、
Rが水酸基である化合物は、対応するKが?エニル低級
アルコキシ基または低級アルコキシ基である化合物を、
適当な溶媒、例えば水、メタノール、エタノール、イソ
プロパツールなどの低級アルコール類、ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸などの溶媒、
もしくはそれらの混合溶媒中で、パラジウム−炭素、パ
ラジウム−黒などの接触還元触媒の存在下に、0〜10
0°C付近にて、水素圧1〜10気圧で0.5〜3時間
程度処理するか、または臭化水素酸水溶液中で加熱処理
することにより、脱フェニルアルキル(例えば脱ベンジ
ル)または脱アルキル化することによっても製造できる
。
Rが水酸基である化合物は、対応するKが?エニル低級
アルコキシ基または低級アルコキシ基である化合物を、
適当な溶媒、例えば水、メタノール、エタノール、イソ
プロパツールなどの低級アルコール類、ジオキサン、テ
トラヒドロフランなどのエーテル類、酢酸などの溶媒、
もしくはそれらの混合溶媒中で、パラジウム−炭素、パ
ラジウム−黒などの接触還元触媒の存在下に、0〜10
0°C付近にて、水素圧1〜10気圧で0.5〜3時間
程度処理するか、または臭化水素酸水溶液中で加熱処理
することにより、脱フェニルアルキル(例えば脱ベンジ
ル)または脱アルキル化することによっても製造できる
。
さらに、kが低級アルカノイルオキシ基またはベンゾイ
ルオキシ基のものは、対応するkが水酸基である化合物
をアシル化、すなわち低級アルカノイル化またはベンゾ
イル化することによっても製造できる。
ルオキシ基のものは、対応するkが水酸基である化合物
をアシル化、すなわち低級アルカノイル化またはベンゾ
イル化することによっても製造できる。
用いられる低級アルカノイル化剤としては、例えば、酢
酸、プロピオン酸などの低級アルカン酸、無水酢酸など
の低級アルカン酸無水物、アセチルクロライド、プロピ
オニルブロマイドなどの低級アルカン酸ハライドなどが
挙げられ、ベンゾイル化剤としては、ベンゾイルクロラ
イド、べtジイルブロマイドなどの安息香酸ハライド、
安肛香酸無水物、安息香酸などが挙げられる。該アシル
化剤として酸無水物または酸ハライドを用いる場合には
、アシル化反応は塩基性化合物の存在下に行なわれる。
酸、プロピオン酸などの低級アルカン酸、無水酢酸など
の低級アルカン酸無水物、アセチルクロライド、プロピ
オニルブロマイドなどの低級アルカン酸ハライドなどが
挙げられ、ベンゾイル化剤としては、ベンゾイルクロラ
イド、べtジイルブロマイドなどの安息香酸ハライド、
安肛香酸無水物、安息香酸などが挙げられる。該アシル
化剤として酸無水物または酸ハライドを用いる場合には
、アシル化反応は塩基性化合物の存在下に行なわれる。
使用される塩基性化合物としては例えば金属ナトリウム
、金属カリウムなどのアルカリ金属およびこれらアルカ
リ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩あるいはピリジン
、ピペリジンなどの芳香族アミン化合物などが挙げられ
る、該反応は無溶媒もしくは溶媒中のいずれでも進行す
るが、通常は適当な溶媒を用いて行なわれる。溶媒とし
ては例えばアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類、エーテル、ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン
、トルエン、キシレンナトノ芳香族炭化水素類、水、ピ
リジンなどが挙げられる。
、金属カリウムなどのアルカリ金属およびこれらアルカ
リ金属の水酸化物、炭酸塩、重炭酸塩あるいはピリジン
、ピペリジンなどの芳香族アミン化合物などが挙げられ
る、該反応は無溶媒もしくは溶媒中のいずれでも進行す
るが、通常は適当な溶媒を用いて行なわれる。溶媒とし
ては例えばアセトン、メチルエチルケトンなどのケトン
類、エーテル、ジオキサンなどのエーテル類、ベンゼン
、トルエン、キシレンナトノ芳香族炭化水素類、水、ピ
リジンなどが挙げられる。
アシル化剤は原料化合物に対して少なくとも等モル用い
られるが、一般には等モル−大過剰量用いるのがよい。
られるが、一般には等モル−大過剰量用いるのがよい。
また該反応は0〜150°Cで進行するが、一般には0
〜80°Cで行なうのがよい。
〜80°Cで行なうのがよい。
反応時間は、0.5に10時間程度で終了する。
またアシル化剤として低級アルカン酸または安息香酸の
ような酸を使用する場合、反応系内に脱水剤として硫酸
、塩酸などの鉱酸類やパラトルエンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、エタンスルホン酸などのスルホン酸類を
添加し、好ましくは50〜120°Cに反応温度を維持
することによジアシル化反応は有利に進行する。
ような酸を使用する場合、反応系内に脱水剤として硫酸
、塩酸などの鉱酸類やパラトルエンスルホン酸、ベンゼ
ンスルホン酸、エタンスルホン酸などのスルホン酸類を
添加し、好ましくは50〜120°Cに反応温度を維持
することによジアシル化反応は有利に進行する。
一般式(I)で表わされる本発明の化合物のり。
ちRが水酸基を示す化合物は、対応するRが低級アルカ
ノイルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を示す化合物
をそれぞれ加水分解することによっても製造される。こ
の加水分解は適当な溶媒中酸または塩基性化合物の存在
下にて行なわれる。溶媒としては例えば水、メタノール
、エタノール、イソプロパツールなどの低級アルコール
類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類
、これらの混合溶媒などを挙げることができる。酸とし
ては例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸などの鉱酸類を、ま
た塩基性化合物としては例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウムなどの金属水酸化物など
をそれぞれ挙げることができる。該反応は通常室温〜1
50°C1好ましくは80〜120℃にて好適に進行し
、一般に1〜15時間程時間路了する。
ノイルオキシ基またはベンゾイルオキシ基を示す化合物
をそれぞれ加水分解することによっても製造される。こ
の加水分解は適当な溶媒中酸または塩基性化合物の存在
下にて行なわれる。溶媒としては例えば水、メタノール
、エタノール、イソプロパツールなどの低級アルコール
類、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル類
、これらの混合溶媒などを挙げることができる。酸とし
ては例えば塩酸、硫酸、臭化水素酸などの鉱酸類を、ま
た塩基性化合物としては例えば水酸化ナトリウム、水酸
化カリウム、水酸化カルシウムなどの金属水酸化物など
をそれぞれ挙げることができる。該反応は通常室温〜1
50°C1好ましくは80〜120℃にて好適に進行し
、一般に1〜15時間程時間路了する。
さらに、一般式〔I〕のカルボスチリル誘導体のうち、
kがフェニル低級アルコキシ基の化合物は、対応するk
が水酸基の化合物を、フェニル低級アルキルハライド(
例えば、ベンジルクロライド、ベンジルブロマイドなど
)にてフェニル低級アルコキシ化することによっても製
造される。この反応は前記一般式〔■〕と〔■〕で示さ
れる化合物の反応における場合と同様の反応条件下に行
なうことができる。
kがフェニル低級アルコキシ基の化合物は、対応するk
が水酸基の化合物を、フェニル低級アルキルハライド(
例えば、ベンジルクロライド、ベンジルブロマイドなど
)にてフェニル低級アルコキシ化することによっても製
造される。この反応は前記一般式〔■〕と〔■〕で示さ
れる化合物の反応における場合と同様の反応条件下に行
なうことができる。
また、kが低級アルコキシ基の化合物は、対応するRが
水酸基の化合物をアルキル化することによっても得るこ
とが出来る。この方法で用いられるアルキル化剤として
は、メチル アイオダイド、エチルクロライド、ter
t−ブチWブロマイドなどの低級アルキルハライドある
いは硫酸ジメチル、硫酸ジエチルなどが挙げられ、その
他ジアゾメタンなどのアルキル化剤を使用することも出
来る。
水酸基の化合物をアルキル化することによっても得るこ
とが出来る。この方法で用いられるアルキル化剤として
は、メチル アイオダイド、エチルクロライド、ter
t−ブチWブロマイドなどの低級アルキルハライドある
いは硫酸ジメチル、硫酸ジエチルなどが挙げられ、その
他ジアゾメタンなどのアルキル化剤を使用することも出
来る。
該反応は、前記アシル化反応で使用される溶媒の他に、
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドなどの不活性溶媒を使用でき
、前記アシル化反応で使用される塩基性化合物の他に、
酸化銀などを触媒として使用できる。反応温度は0°C
〜溶媒の沸点の範囲で、アルキル化剤の使用割合は、一
般式CI]でKが水酸基の化合物に対して、1〜3倍モ
ル量の範囲である。反応は1〜15時間程時間路了する
。
ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキサイド、ヘキ
サメチルリン酸トリアミドなどの不活性溶媒を使用でき
、前記アシル化反応で使用される塩基性化合物の他に、
酸化銀などを触媒として使用できる。反応温度は0°C
〜溶媒の沸点の範囲で、アルキル化剤の使用割合は、一
般式CI]でKが水酸基の化合物に対して、1〜3倍モ
ル量の範囲である。反応は1〜15時間程時間路了する
。
本発明の一般式(I)で表わされるカルボスチリル誘導
体のうち酸性基を有する化合物は、医薬的に許容される
塩基性化合物を作用させることによシ容易に塩を形成さ
せることができる。該塩基性化合物としては例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素カリウムなどを挙げることがで
きる。
体のうち酸性基を有する化合物は、医薬的に許容される
塩基性化合物を作用させることによシ容易に塩を形成さ
せることができる。該塩基性化合物としては例えば水酸
化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化カルシウム、炭
酸ナトリウム、炭酸水素カリウムなどを挙げることがで
きる。
かくして製造される一般式(Illの化合物は通常の分
離手段によシ容易に単離精製できる。該分離手段として
は、例えば溶媒抽出法、溶媒希釈法、再結晶法、液体ク
ロマトグラフィーなどを例示できる。
離手段によシ容易に単離精製できる。該分離手段として
は、例えば溶媒抽出法、溶媒希釈法、再結晶法、液体ク
ロマトグラフィーなどを例示できる。
本発明のカルボスチリル誘導体〔1〕には光学異性体が
存在するtζ本発明はこれらの光学異性体も包含する。
存在するtζ本発明はこれらの光学異性体も包含する。
本発明化合物はそのままであるいは慣用の製剤担体と共
に動物および人に投与することができる。
に動物および人に投与することができる。
投与単位形態としては特に限定がなく、必要に応じ適宜
選択して使用される。かかる投与単位形態としては、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、各種経口用液剤などの経口剤
、注射剤、廃剤などの非経口剤などを例示できる。投与
されるべき有効成分の量としては特に限定がなく広い範
囲から適宜選択されるが、所期の効果を発揮するために
は1日当り一体型IKg当り0.06〜10〜とするの
がよい。
選択して使用される。かかる投与単位形態としては、錠
剤、カプセル剤、顆粒剤、各種経口用液剤などの経口剤
、注射剤、廃剤などの非経口剤などを例示できる。投与
されるべき有効成分の量としては特に限定がなく広い範
囲から適宜選択されるが、所期の効果を発揮するために
は1日当り一体型IKg当り0.06〜10〜とするの
がよい。
また、投与単位形態中に有効成分を1〜500q含有せ
しめるのがよい。
しめるのがよい。
本発明において錠剤、カプセル剤、経口用液剤などの経
口剤は常法に従って製造される。すなわち錠剤は本発明
化合物をゼラチン、澱粉、乳糖、ステアリン酸マグネシ
ウム、滑石、アラビアゴムの製剤学的7賦形剤と混合し
、賦形される。カプセル剤は、本発明化合物を不活性の
製剤充填剤もしくは希釈剤と混合し、硬質ゼラチンカプ
セル、軟質カプセルなどに充填される。経口用液剤のシ
ロップ剤およびエリキシル剤は本発明化合物をショ糖な
どの甘味剤、メチル−およびプロピルパラベン類などの
防腐剤、着色剤、調味剤などと混合して製造される。ま
た非経口剤は常法にしたがって製造され、例えば、本発
明化合物を滅菌した液状担体に溶解して製造される。好
ましい担体は水または塩水である。所望の透明度、安定
性および非経口使用の適応性を有する液剤は約1〜50
0mgの有効成分を、水および有機溶剤に溶解し、さら
に分子量200〜5000のポリエチレングリコールに
溶解して製造される。かかる液剤にはナトリウムカルボ
キシメチルセルローズ、メチルセルローズ、ポリビニル
ピロリドン、ポリビニルアルコールなどの潤滑剤が配合
されるのが好ましい。
口剤は常法に従って製造される。すなわち錠剤は本発明
化合物をゼラチン、澱粉、乳糖、ステアリン酸マグネシ
ウム、滑石、アラビアゴムの製剤学的7賦形剤と混合し
、賦形される。カプセル剤は、本発明化合物を不活性の
製剤充填剤もしくは希釈剤と混合し、硬質ゼラチンカプ
セル、軟質カプセルなどに充填される。経口用液剤のシ
ロップ剤およびエリキシル剤は本発明化合物をショ糖な
どの甘味剤、メチル−およびプロピルパラベン類などの
防腐剤、着色剤、調味剤などと混合して製造される。ま
た非経口剤は常法にしたがって製造され、例えば、本発
明化合物を滅菌した液状担体に溶解して製造される。好
ましい担体は水または塩水である。所望の透明度、安定
性および非経口使用の適応性を有する液剤は約1〜50
0mgの有効成分を、水および有機溶剤に溶解し、さら
に分子量200〜5000のポリエチレングリコールに
溶解して製造される。かかる液剤にはナトリウムカルボ
キシメチルセルローズ、メチルセルローズ、ポリビニル
ピロリドン、ポリビニルアルコールなどの潤滑剤が配合
されるのが好ましい。
さらには上記液剤中にベンジルアルコール、フェノール
、チメロサールなどの殺菌剤および防カビ剤、さらに必
要に応じ、ショ糖、塩化ナトリウムなどの等張剤、局所
麻酔剤、安定剤、緩衝剤などが含まれていてもよい。ま
た、非経口投与用薬剤は、その安定性の観点から、カプ
セルなどに充填後、冷凍し、通常の凍結乾燥技術により
水を除去し、使用直前に凍結乾燥粉末から液剤を再調製
することもできる。
、チメロサールなどの殺菌剤および防カビ剤、さらに必
要に応じ、ショ糖、塩化ナトリウムなどの等張剤、局所
麻酔剤、安定剤、緩衝剤などが含まれていてもよい。ま
た、非経口投与用薬剤は、その安定性の観点から、カプ
セルなどに充填後、冷凍し、通常の凍結乾燥技術により
水を除去し、使用直前に凍結乾燥粉末から液剤を再調製
することもできる。
つぎに本発明の化合物の薬理試験結果を示す。
血小板凝集抑制作用:
本発明の化合物の血小板凝集抑制作用をボーンの方法[
G、V、RoBorn、Nature 927〜929
頁(1962年)〕によシ測定した。
G、V、RoBorn、Nature 927〜929
頁(1962年)〕によシ測定した。
すなわち、兎から採取した血液試料をioo。
rpmで10分間遠心分離して血小板濃度の高い血清(
PRP)を得、さらに3000 rpmで15分間遠心
分離して血小板濃度の低い血清(ppp)を得る。得ら
れたPRPをPPPにて適度に希釈してアデノシン拳ジ
ホスフェート(ADP )−誘発凝集試験用PNP試料
(血小板濃度:300.Ooo/gaF)およびコラー
ゲン−誘発凝集試験用PRP試料(血小板濃度:4so
、ooo/5rj)を調製する。
PRP)を得、さらに3000 rpmで15分間遠心
分離して血小板濃度の低い血清(ppp)を得る。得ら
れたPRPをPPPにて適度に希釈してアデノシン拳ジ
ホスフェート(ADP )−誘発凝集試験用PNP試料
(血小板濃度:300.Ooo/gaF)およびコラー
ゲン−誘発凝集試験用PRP試料(血小板濃度:4so
、ooo/5rj)を調製する。
試験化合物10−4〜10−)モルを含有する溶液0.
01−に、上記調製した各試料0.6 mlを加え、3
7°Cの恒温槽に1分間保持し、これにコラーゲンまた
はADP溶液0.07 Tnlを加え、透過度を測定す
る。これらの結果ならびに、別途測定したPPPおよび
PRPの透過度とより次式に従い凝集率を算出し、 式中、aHPRPの透過度 す二弐験化合物およびコラーゲンまたはADP含有液の
透過度 C: PPPの透過′度 試験化合物を加えない場合(コントロール)の凝集率に
対する阻止率C%)をもって凝集抑制作用をみた。
01−に、上記調製した各試料0.6 mlを加え、3
7°Cの恒温槽に1分間保持し、これにコラーゲンまた
はADP溶液0.07 Tnlを加え、透過度を測定す
る。これらの結果ならびに、別途測定したPPPおよび
PRPの透過度とより次式に従い凝集率を算出し、 式中、aHPRPの透過度 す二弐験化合物およびコラーゲンまたはADP含有液の
透過度 C: PPPの透過′度 試験化合物を加えない場合(コントロール)の凝集率に
対する阻止率C%)をもって凝集抑制作用をみた。
コラーゲン−誘発凝集に対する抑制作用を第1表に、A
DP−誘発凝集に対する抑制作用を第2表に示す。なお
、試験化合物は以下のとおりである。なお、対照物質と
してアセチルサリチル酸を用いた。
DP−誘発凝集に対する抑制作用を第2表に示す。なお
、試験化合物は以下のとおりである。なお、対照物質と
してアセチルサリチル酸を用いた。
1、 6−(4−[1−(24ランス−ベンジルオキシ
シクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル 2、 6−(4−(1−(2−トランス−ヒドロキシシ
クロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−
3,4−ジヒドロカルボスチリル3、 6−(4−1:
1−(4−トランス−ベンジルオキシシクロヘキシル)
テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒド
ロカルボスチリル 4、 6−(4−(1−(4−1−ランス−ヒドロキシ
シクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル第 1 表 急性毒性試験: 前記と同じ試験化合物を雄マウスに経口投与してLD5
o(11g/Kg)を測定した。その結果を第3表に示
す。
シクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル 2、 6−(4−(1−(2−トランス−ヒドロキシシ
クロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−
3,4−ジヒドロカルボスチリル3、 6−(4−1:
1−(4−トランス−ベンジルオキシシクロヘキシル)
テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒド
ロカルボスチリル 4、 6−(4−(1−(4−1−ランス−ヒドロキシ
シクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル第 1 表 急性毒性試験: 前記と同じ試験化合物を雄マウスに経口投与してLD5
o(11g/Kg)を測定した。その結果を第3表に示
す。
第3表
つぎに、参考例、実施例および製剤例を挙げて本発明を
さらに具体的に説明する。
さらに具体的に説明する。
参考例I
N−(2−)ランス−ベンゾイルシクロヘキシル) −
5−クロロバレルアミド9.51−ベンゼン90−に懸
濁し、氷水浴上冷却攪拌下に五塩化リン6.72を加え
、その後室温で1時間攪拌する。
5−クロロバレルアミド9.51−ベンゼン90−に懸
濁し、氷水浴上冷却攪拌下に五塩化リン6.72を加え
、その後室温で1時間攪拌する。
つぎに水冷攪拌下、アゾ化水素酸のベンゼン溶液(0,
345N)100WLlを滴下する。滴下後、室温で一
夜攪拌した後、溶媒を減圧留去する。残渣をクロロホル
ムに溶かし、水洗する。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ(溶出液;クロロホルム:メタノール−50:1)で
精製して、1−(2−トランス−ベンジルオキシシクロ
ヘキシル)−5−(4−クロロブチル)テトラゾール4
.87を得る。融点78.5〜79.5°C0参考例2 N−(2−)ランス−メトキシシクロヘキシル)−5−
クロロバレリルアミド7、29 ヲヘンセy90iに懸
濁し、氷水浴上冷却攪拌下に五塩化リン6.72を加え
、その後室温で1時間攪拌する。
345N)100WLlを滴下する。滴下後、室温で一
夜攪拌した後、溶媒を減圧留去する。残渣をクロロホル
ムに溶かし、水洗する。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶
媒を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ(溶出液;クロロホルム:メタノール−50:1)で
精製して、1−(2−トランス−ベンジルオキシシクロ
ヘキシル)−5−(4−クロロブチル)テトラゾール4
.87を得る。融点78.5〜79.5°C0参考例2 N−(2−)ランス−メトキシシクロヘキシル)−5−
クロロバレリルアミド7、29 ヲヘンセy90iに懸
濁し、氷水浴上冷却攪拌下に五塩化リン6.72を加え
、その後室温で1時間攪拌する。
つぎに水冷攪拌下、アゾ化水素酸のベンゼン溶液(0,
345N)100mZを滴下する。滴下後、室温で一夜
撹拌した後、溶媒を減圧留去する。残渣をクロロホルム
に溶かし、水洗する。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
(溶出液:クロロホルム:メタノール=50 : 1
)で精製して、1−(2−)ランス−メトキシシクロヘ
キシル)−5−(4−クロロブチル)テトラゾール32
を得る。
345N)100mZを滴下する。滴下後、室温で一夜
撹拌した後、溶媒を減圧留去する。残渣をクロロホルム
に溶かし、水洗する。硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒
を留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィ
(溶出液:クロロホルム:メタノール=50 : 1
)で精製して、1−(2−)ランス−メトキシシクロヘ
キシル)−5−(4−クロロブチル)テトラゾール32
を得る。
元素分析値: C12H21N40C6(M、W、 2
72.78 )計算値UC、52,,84; H,7,
76HN、 20゜54 実測値(財)C,52,64
、H,7,95iN。
72.78 )計算値UC、52,,84; H,7,
76HN、 20゜54 実測値(財)C,52,64
、H,7,95iN。
20.36
実施例1
6−ヒドロキシ−3,4−ジヒドロカルボスチリル1.
63Fおよび水酸化カリウム0.7yをイソプロパツー
ル40m/に加え、加熱還流して溶解させる。コ(7)
溶液K、1− (2−トランス−ベンジルオキシシクロ
ヘキシル)−5−(4−クロロブチル)テトラゾール4
.57を加えて、5時間加熱還流する。反応後、減圧で
溶媒留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ(溶出液;クロロホルム:メタノール=50:l)で
精製し、クロロホルム−石油エーテルより再結晶して、
無色針状晶の6−(4−(1−(2−)ランス−ベンジ
ルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブ
トキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル2.4gを
得る。融点117〜118°C0実施例2〜16 実施例1と同様にして適当な出発物質を用いて下記の化
合物を得る。
63Fおよび水酸化カリウム0.7yをイソプロパツー
ル40m/に加え、加熱還流して溶解させる。コ(7)
溶液K、1− (2−トランス−ベンジルオキシシクロ
ヘキシル)−5−(4−クロロブチル)テトラゾール4
.57を加えて、5時間加熱還流する。反応後、減圧で
溶媒留去する。残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフ
ィ(溶出液;クロロホルム:メタノール=50:l)で
精製し、クロロホルム−石油エーテルより再結晶して、
無色針状晶の6−(4−(1−(2−)ランス−ベンジ
ルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブ
トキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル2.4gを
得る。融点117〜118°C0実施例2〜16 実施例1と同様にして適当な出発物質を用いて下記の化
合物を得る。
(2) 6− (4−CI −(4−トランス−ベン
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針
状晶、融点146.5〜148°C(クロロホルム−石
油エーテル) (3) 6− (4−1: 1− (2−シス−ベン
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針
状晶、融点133〜135°C(クロロホルム−石油ニ
ーデル) (4) 6−(4−(:1−(4−シス−ベンジルオキ
シシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、融
点149〜151°C(クロロホルム−石油エーテル) (5) 6− (4−CI −(3−トランス−ベン
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色粉
末状晶、融点132〜134°C(クロロホルム−エー
テル) (6) 6− (4−CI −(2−トランス−ベン
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
ブトキシ)カルボスチリル、缶色粉末状晶、融点181
.5〜183.5°C(含水エタノール)(7) 5
− (4−(1−(2−トランス−ベンジルオキシシク
ロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3
,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、融点16
5.5〜166°C(クロロホルム−石油エーテル) (8) 6− (4−(1−(2−1−ランス−ヒド
ロキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブト
キシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶
、融点176〜177°C(含水エタノール) (9) 6− (4−〔1−(4−トランスーヒドロ
キシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキ
シ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、
融点199〜201.5°C(含水エタノール) (10) 6− (4−(1−(2−シス−ヒドロキ
シシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、融
点158〜160℃(含水エタノール)(u) 6−
(4−(1−(4−シス−ヒドロキシシクロヘキシル
)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリル、無色粉末状晶、融点196〜19
7°C(含水エタノール)(2) 6−(4−(1−(
2−トランス−ヒドロキシシクロヘキシル)テトラゾー
ル−5−イル〕ブトキシ)カルボスチリル、無色粉末状
晶、融点203〜205°C(含水エタノール)03)
6− (4−CI −(2−1−ランス−アセチル
オキシシクロへキシル)テトラゾール−5−イル〕ブト
キシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色粉末状
晶、融点132.5〜133.5°C(含水エタノール
) OA) 6−(4−(1−(2−)ランス−メトキシ
シクロヘキシル〕テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色粉末状晶、融
点158〜159.5°C(メ、タノールーエーテル) (支)) 6−(4−[:1−(2−トランス−ベン
ゾイルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル
]ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色
粉末状晶、融点174−175.5°C(メタノール−
エーテル) (2) 5−(4−[1−(2−トランス−ヒドロキシ
シクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、融点
195〜197°C(含水エタノール) 実施例17 6−(4−C1−(2−トランス−ベンジルオキシ)シ
クロへキシルテトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3
,4−ジヒ・ドロカルボスチリルl、8グをメタノール
50−および酢酸50tnlの混合溶媒中に懸濁し、1
096パラジウムー次素触媒0.57を加え、初期圧2
気圧、60〜70°Cで接触還元する。反応後、触媒を
濾過し、炉液を濃縮し、含水エタノールより再結晶して
、無色針状晶の6−(4−(1−(2−1−ランス−ヒ
ドロキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブ
トキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル1.21を
得る。
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針
状晶、融点146.5〜148°C(クロロホルム−石
油エーテル) (3) 6− (4−1: 1− (2−シス−ベン
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針
状晶、融点133〜135°C(クロロホルム−石油ニ
ーデル) (4) 6−(4−(:1−(4−シス−ベンジルオキ
シシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、融
点149〜151°C(クロロホルム−石油エーテル) (5) 6− (4−CI −(3−トランス−ベン
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色粉
末状晶、融点132〜134°C(クロロホルム−エー
テル) (6) 6− (4−CI −(2−トランス−ベン
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
ブトキシ)カルボスチリル、缶色粉末状晶、融点181
.5〜183.5°C(含水エタノール)(7) 5
− (4−(1−(2−トランス−ベンジルオキシシク
ロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3
,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、融点16
5.5〜166°C(クロロホルム−石油エーテル) (8) 6− (4−(1−(2−1−ランス−ヒド
ロキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブト
キシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶
、融点176〜177°C(含水エタノール) (9) 6− (4−〔1−(4−トランスーヒドロ
キシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキ
シ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、
融点199〜201.5°C(含水エタノール) (10) 6− (4−(1−(2−シス−ヒドロキ
シシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ
)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、融
点158〜160℃(含水エタノール)(u) 6−
(4−(1−(4−シス−ヒドロキシシクロヘキシル
)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリル、無色粉末状晶、融点196〜19
7°C(含水エタノール)(2) 6−(4−(1−(
2−トランス−ヒドロキシシクロヘキシル)テトラゾー
ル−5−イル〕ブトキシ)カルボスチリル、無色粉末状
晶、融点203〜205°C(含水エタノール)03)
6− (4−CI −(2−1−ランス−アセチル
オキシシクロへキシル)テトラゾール−5−イル〕ブト
キシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色粉末状
晶、融点132.5〜133.5°C(含水エタノール
) OA) 6−(4−(1−(2−)ランス−メトキシ
シクロヘキシル〕テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色粉末状晶、融
点158〜159.5°C(メ、タノールーエーテル) (支)) 6−(4−[:1−(2−トランス−ベン
ゾイルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル
]ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色
粉末状晶、融点174−175.5°C(メタノール−
エーテル) (2) 5−(4−[1−(2−トランス−ヒドロキシ
シクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル、無色針状晶、融点
195〜197°C(含水エタノール) 実施例17 6−(4−C1−(2−トランス−ベンジルオキシ)シ
クロへキシルテトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3
,4−ジヒ・ドロカルボスチリルl、8グをメタノール
50−および酢酸50tnlの混合溶媒中に懸濁し、1
096パラジウムー次素触媒0.57を加え、初期圧2
気圧、60〜70°Cで接触還元する。反応後、触媒を
濾過し、炉液を濃縮し、含水エタノールより再結晶して
、無色針状晶の6−(4−(1−(2−1−ランス−ヒ
ドロキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブ
トキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリル1.21を
得る。
融点176〜177°C0
上記と同様にして下記の化合物を得る。
6−(4−(1−(2ノドランス−ヒドロキシシクロヘ
キシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4
−ジヒドロカルボスチリル、融点176〜177°C 6−(4−(1−(4−トランス−ヒドロキシシクロヘ
キシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4
−ジヒドロカルボスチリル、融点199〜201.5°
C 6−(4−(1−(2−シス−ヒドロキシシクロヘキシ
ル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル、融点158〜160’C 6−(4−[1−(4−シス−ヒドロキシシクロヘキシ
ル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル、融点196〜197℃ 6−(4−(1−(24ランス−ヒドロキシシクロヘキ
シル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)カルボスチ
リル、融点203〜205°C3−(4−(:1−(2
−トランス−ヒドロキシシクロヘキシル)テトラゾール
−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル、融点195〜197℃ 実施例18 6−(4−(1−(21ランスーヒドロキシシクロヘキ
シノ″L/)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3
,4−ジヒドロカルボスチリル200WIgにピリジン
2dおよび無水酢酸1dを加え、室温で3時間攪拌する
。反応液をクロロホルムに溶かし、有機層を5z塩酸、
水、飽和炭酸水素ナトリラム溶液、飽和硫酸水素カリウ
ム、水で洗浄する。
キシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4
−ジヒドロカルボスチリル、融点176〜177°C 6−(4−(1−(4−トランス−ヒドロキシシクロヘ
キシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4
−ジヒドロカルボスチリル、融点199〜201.5°
C 6−(4−(1−(2−シス−ヒドロキシシクロヘキシ
ル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル、融点158〜160’C 6−(4−[1−(4−シス−ヒドロキシシクロヘキシ
ル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジ
ヒドロカルボスチリル、融点196〜197℃ 6−(4−(1−(24ランス−ヒドロキシシクロヘキ
シル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)カルボスチ
リル、融点203〜205°C3−(4−(:1−(2
−トランス−ヒドロキシシクロヘキシル)テトラゾール
−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチ
リル、融点195〜197℃ 実施例18 6−(4−(1−(21ランスーヒドロキシシクロヘキ
シノ″L/)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3
,4−ジヒドロカルボスチリル200WIgにピリジン
2dおよび無水酢酸1dを加え、室温で3時間攪拌する
。反応液をクロロホルムに溶かし、有機層を5z塩酸、
水、飽和炭酸水素ナトリラム溶液、飽和硫酸水素カリウ
ム、水で洗浄する。
硫酸マグネシウムで乾燥後、溶媒を留去する。含水エタ
ノールより再結晶して、無色粉末状晶の6−(4−(1
−(2−)ランス−アセトキシシクロヘキシル)テトラ
ゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル200岬を得る。融点132.5〜133.
5°C0上記と同様にして、適当な出発原料を用いて、
下記の化合物を得る。
ノールより再結晶して、無色粉末状晶の6−(4−(1
−(2−)ランス−アセトキシシクロヘキシル)テトラ
ゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル200岬を得る。融点132.5〜133.
5°C0上記と同様にして、適当な出発原料を用いて、
下記の化合物を得る。
6−(4−1:1−(2−トランス−ベンゾイルオキシ
シクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル、融点174〜17
5.5℃。
シクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)
−3,4−ジヒドロカルボスチリル、融点174〜17
5.5℃。
実施例19
6−[4−[1−(2−1ランス−ヒドロキシシクロヘ
キシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4
−ジヒドロカルボスチリル200岬をDMF2tnlに
溶かし、酸化銀180syを加え、メチルアイオダイド
0.051nlを加え、室温で9時間攪拌する。不溶物
を枦去後、ろ液にクロロホルムを加えて水洗する。硫酸
マグネシウムで乾燥したのち、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ(溶出液;クロロホル
ム:メタノール=50:1)で精製し、メタノール−エ
ーテルより再結晶して、無色粉末状晶の6−(4−[1
−(・2−トランス−メトキシシクロヘキシル)テトラ
ゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル20ダを得る。融点158〜1159.5℃
。
キシル)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4
−ジヒドロカルボスチリル200岬をDMF2tnlに
溶かし、酸化銀180syを加え、メチルアイオダイド
0.051nlを加え、室温で9時間攪拌する。不溶物
を枦去後、ろ液にクロロホルムを加えて水洗する。硫酸
マグネシウムで乾燥したのち、溶媒を留去し、残渣をシ
リカゲルカラムクロマトグラフィ(溶出液;クロロホル
ム:メタノール=50:1)で精製し、メタノール−エ
ーテルより再結晶して、無色粉末状晶の6−(4−[1
−(・2−トランス−メトキシシクロヘキシル)テトラ
ゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒドロカル
ボスチリル20ダを得る。融点158〜1159.5℃
。
製剤例1
錠剤の調製
それぞれ5qの6−(4−[1−(2−トランス−ベン
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
フトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリルを含有す
る経口使用のための1000錠が次の処方によって調製
される。
ジルオキシシクロヘキシル)テトラゾール−5−イル〕
フトキシ)−3,4−ジヒドロカルボスチリルを含有す
る経口使用のための1000錠が次の処方によって調製
される。
配 合 量(7)6−(4−
(1−(2−トランス 一ベンジルオキシシクロヘキシル 5)テトラゾー
ル−5−イル〕ブト キシ)−3,4−ジヒドロカルボス チリル 乳糖(日本薬局方晶)50 コーンスターチ(日本薬局方晶)25 結晶セルローズ(日本薬局方晶)25 メチルセルローズ(日本薬局方晶)1.5ステアリン酸
マグネシウム(日本薬局方晶) 16−(4−[
:1−(2−トランス−ベンジルオキシシクロヘキシル
)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリル、乳糖、コーンスターチおよび結晶
セルロースヲ十分混合し、メチルセルローズの5z水溶
液で顆粒化し、200メツシユの篩に通して注意深く乾
燥する。乾燥した課粒は200メツシユの篩に通してス
テアリン酸マグネシウムと混合して錠剤にプレスされる
。
(1−(2−トランス 一ベンジルオキシシクロヘキシル 5)テトラゾー
ル−5−イル〕ブト キシ)−3,4−ジヒドロカルボス チリル 乳糖(日本薬局方晶)50 コーンスターチ(日本薬局方晶)25 結晶セルローズ(日本薬局方晶)25 メチルセルローズ(日本薬局方晶)1.5ステアリン酸
マグネシウム(日本薬局方晶) 16−(4−[
:1−(2−トランス−ベンジルオキシシクロヘキシル
)テトラゾール−5−イル〕ブトキシ)−3,4−ジヒ
ドロカルボスチリル、乳糖、コーンスターチおよび結晶
セルロースヲ十分混合し、メチルセルローズの5z水溶
液で顆粒化し、200メツシユの篩に通して注意深く乾
燥する。乾燥した課粒は200メツシユの篩に通してス
テアリン酸マグネシウムと混合して錠剤にプレスされる
。
製剤例2
注射剤の調製
非経口投与に適する殺菌゛した水溶液を下記処方に従っ
て調製する。
て調製する。
6−(4−(1−(2−)ランス
一ヒドロキシシクロヘキシル)テ 1トラゾール−
5−イル〕ブトキシ )二3,4−ジヒドロカルボスチリル 塩化す) IJウム(日本薬局方晶)0.9メタ重亜硫
酸ナトリウム 0.1メチル−パラベン(
日本薬局方晶) 0.18プロピル−パラベン(
日本薬局方晶) 0.02注射用蒸留水
1 0 0 Crd)上記パラベン類、
メタ重亜硫酸ナトリウムおよび塩化ナトリウムを攪拌し
ながら80℃で上記の゛約半量の蒸留水に溶解する。得
られた溶液を40℃まで冷却し、6−(4−1:1−(
2−)ランス−ヒドロキシシクロよキシル)テトラゾー
ル−5−イル〕ブトキシ)−3.4.−ジヒドロ力ルポ
スチル、次にポリエチレングリコールおよびポ1ノオキ
シエチレンソルビタンモノオレエートをその溶液中に溶
解する。その溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容量に
調製し、適当なフイルターペーノza−を用いて滅菌沖
過することにより滅菌して注射が1を得る。
5−イル〕ブトキシ )二3,4−ジヒドロカルボスチリル 塩化す) IJウム(日本薬局方晶)0.9メタ重亜硫
酸ナトリウム 0.1メチル−パラベン(
日本薬局方晶) 0.18プロピル−パラベン(
日本薬局方晶) 0.02注射用蒸留水
1 0 0 Crd)上記パラベン類、
メタ重亜硫酸ナトリウムおよび塩化ナトリウムを攪拌し
ながら80℃で上記の゛約半量の蒸留水に溶解する。得
られた溶液を40℃まで冷却し、6−(4−1:1−(
2−)ランス−ヒドロキシシクロよキシル)テトラゾー
ル−5−イル〕ブトキシ)−3.4.−ジヒドロ力ルポ
スチル、次にポリエチレングリコールおよびポ1ノオキ
シエチレンソルビタンモノオレエートをその溶液中に溶
解する。その溶液に注射用蒸留水を加えて最終の容量に
調製し、適当なフイルターペーノza−を用いて滅菌沖
過することにより滅菌して注射が1を得る。
特許出願人大塚製薬株式会社
代理人弁理士青山 葆t’M11名
第1頁の続き
15100
257100 )
0発 明 者 田中達義
徳島市応神町吉成字轟21の3
0発 明 者 西孝夫
札幌市北区北16条西3丁目21番
地
■発 明 者 中用量之
徳島市川内町大松774番地の1
Claims (1)
- (1)一般式 〔式中、Kは水酸基、低級アルコキシ基、低級アルカノ
イルオキシ基、フェニル低級アルコキシ基また七ベンゾ
イルオキシ基、Aは低級アルキレン基を示す。また、カ
ルボスチリル骨格の3位と4位の炭素結合は一重結合ま
たは二重結合を示す〕で表わされるカルボスチリル誘導
体およびその塩。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15892781A JPS5859980A (ja) | 1981-10-05 | 1981-10-05 | カルボスチリル誘導体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15892781A JPS5859980A (ja) | 1981-10-05 | 1981-10-05 | カルボスチリル誘導体 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5859980A true JPS5859980A (ja) | 1983-04-09 |
| JPS64397B2 JPS64397B2 (ja) | 1989-01-06 |
Family
ID=15682373
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15892781A Granted JPS5859980A (ja) | 1981-10-05 | 1981-10-05 | カルボスチリル誘導体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5859980A (ja) |
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5008274A (en) * | 1986-04-02 | 1991-04-16 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Carbostyril derivatives and salts thereof and pharmaceutical composition for inhibiting adhesion of thrombocytes |
| US5434164A (en) * | 1986-04-02 | 1995-07-18 | Otsuka Pharmaceutical Co. Ltd. | Carbostyril derivatives and salts thereof and pharmaceutical compositions for inhibiting adhesion of thrombocytes |
| US6630590B1 (en) * | 1999-11-24 | 2003-10-07 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for producing carbostyril derivatives |
| KR20030083108A (ko) * | 2002-04-19 | 2003-10-30 | 오츠카 세이야쿠 가부시키가이샤 | 활성 산소 스캐빈저 |
| WO2004024716A1 (ja) * | 2002-09-10 | 2004-03-25 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | シロスタゾールの製造法 |
| US7399864B2 (en) * | 2001-05-02 | 2008-07-15 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for producing carbostyril derivatives |
| US7825251B2 (en) | 2001-05-02 | 2010-11-02 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for producing carbostyril derivatives |
| CN114685449A (zh) * | 2020-12-30 | 2022-07-01 | 首都医科大学附属北京天坛医院 | 氟取代西洛他唑衍生物的制备和应用 |
| CN119350296A (zh) * | 2023-07-24 | 2025-01-24 | 南京宁丹新药技术有限公司 | 一类取代的喹啉酮类衍生物及其用途 |
Families Citing this family (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH02215198A (ja) * | 1989-02-16 | 1990-08-28 | Tokyu Constr Co Ltd | シールドルームのコーナー部処理方法 |
| JPH02215197A (ja) * | 1989-02-16 | 1990-08-28 | Tokyu Constr Co Ltd | 磁気遮蔽パネル |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5535019A (en) * | 1978-09-01 | 1980-03-11 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Carbostyryl derivative |
| JPS5646810A (en) * | 1979-09-25 | 1981-04-28 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Blood platelet coagulation inhibitor |
| JPS5649378A (en) * | 1979-08-25 | 1981-05-02 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Tetrazolylalkoxycarbostyril derivative |
-
1981
- 1981-10-05 JP JP15892781A patent/JPS5859980A/ja active Granted
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5535019A (en) * | 1978-09-01 | 1980-03-11 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Carbostyryl derivative |
| JPS5649378A (en) * | 1979-08-25 | 1981-05-02 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Tetrazolylalkoxycarbostyril derivative |
| JPS5646810A (en) * | 1979-09-25 | 1981-04-28 | Otsuka Pharmaceut Co Ltd | Blood platelet coagulation inhibitor |
Cited By (10)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5008274A (en) * | 1986-04-02 | 1991-04-16 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Carbostyril derivatives and salts thereof and pharmaceutical composition for inhibiting adhesion of thrombocytes |
| US5434164A (en) * | 1986-04-02 | 1995-07-18 | Otsuka Pharmaceutical Co. Ltd. | Carbostyril derivatives and salts thereof and pharmaceutical compositions for inhibiting adhesion of thrombocytes |
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| US7399864B2 (en) * | 2001-05-02 | 2008-07-15 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for producing carbostyril derivatives |
| US7825251B2 (en) | 2001-05-02 | 2010-11-02 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for producing carbostyril derivatives |
| KR20030083108A (ko) * | 2002-04-19 | 2003-10-30 | 오츠카 세이야쿠 가부시키가이샤 | 활성 산소 스캐빈저 |
| WO2004024716A1 (ja) * | 2002-09-10 | 2004-03-25 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | シロスタゾールの製造法 |
| US7026486B2 (en) | 2002-09-10 | 2006-04-11 | Otsuka Pharmaceutical Co., Ltd. | Process for production cilostazol |
| CN114685449A (zh) * | 2020-12-30 | 2022-07-01 | 首都医科大学附属北京天坛医院 | 氟取代西洛他唑衍生物的制备和应用 |
| CN119350296A (zh) * | 2023-07-24 | 2025-01-24 | 南京宁丹新药技术有限公司 | 一类取代的喹啉酮类衍生物及其用途 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS64397B2 (ja) | 1989-01-06 |
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